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CPC15/35/80/120/150CIF 生产型等离子清洗机PX 1950
光刻胶 满足不同半导体制造工艺的需求PX 0
光刻配套试剂 显影液 去胶液 增粘剂PX 0
耗材工具 光刻胶瓶 晶圆盒 镊子 显影花篮PX 0
光刻胶 光刻工艺中图形转移的工艺材料PX 0
光刻配套试剂 光刻胶显影液 去胶液 增粘剂PX 0
高性能光刻胶PX 0
光刻配套试剂 去胶液 显影液 增粘剂PX 0
ASx 系列清洗设备PX 1950
CIF-TEM透射电镜样品杆清洗机PX 1950
CIF-SEM扫描电镜等离子清洗机PX 1950
UVO系列紫外臭氧清洗机PX 1950
MaskTrack Pro掩膜版清洗系统PX 1950
VGB3/3plusCIF手套箱专用等离子清洗机PX 1950
CPC-G/Gplus全新CIF 实验室型等离子清洗机PX 1950
薄膜生长设备
工艺测量和检测设备
集成电路测试与分选设备
光刻及涂胶显影设备
热工艺设备/热处理设备
硅片制备/晶体生长设备
掩模版和中间掩模版制造设备
离子注入设备
干法工艺设备
湿法工艺设备
组装与封装设备
其它半导体行业仪器设备
清洗设备
掩膜版清洗系统
紫外臭氧清洗机
扫描电镜等离子清洗机
透射电镜样品杆清洗机
CIF手套箱专用等离子清洗机
CIF 生产型等离子清洗机
全新CIF 实验室型等离子清洗机
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赛默飞色谱及质谱
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