Hafnium absorberarneutroner bra och används ibland ikärnkraftverk för att absorbera neutroner. Det kan också användas i legeringar med bland annatjärn ochtitan.
Ett hafnium-baserat material är kandidat för en High-K-isolering som kommer att användas i framtida generationers processorer. High-K (kappa) = hög dielektrisk konstant (relativ permittivitet).[2]
Intel ochIBM har forskat inom området och har funnit att hafnium-baserade material är bättre isolatorer änkiseldioxid, vilket gör att man kan producera chip som är snabbare, mindre och mer energisnåla. Intel har nu börjat tillverka 45-nanometersprocessorer med hafnium.
