PMOS
Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к навигацииПерейти к поиску
pMOS — технология производстваполупроводниковых элементов. На её основе строились элементы памяти, такие, какIntel1702,К505РР1. Это серияЛИПЗ МОП с электрической записью иультрафиолетовым стиранием. ЛИПЗ —лавинный пробойp-n-перехода обратным напряжением (до 50 В). Основной носитель —электроны, так как по технологии того времени инжектировать электроны в изолированный слой было проще. Однаячейка памяти строилась на двухтранзисторах. По теоретическим данным ячейка могла хранить информацию до 10 лет.
Для улучшения этой статьижелательно:
После исправления проблемы исключите её из списка. Удалите шаблон, если устранены все недостатки. |
Скрытые категории:
- Википедия:Статьи с проблемами в оформлении
- Википедия:Очень короткие статьи
- Википедия:Статьи без ссылок на источники
- Википедия:Статьи без источников (не распределённые по типам)
- Википедия:Статьи без изображений (не распределённые по типам)
- Википедия:Стилистически некорректные статьи
- Википедия:Статьи с шаблонами недостатков по алфавиту