本開示は、電源装置およびアブレーションシステムに関する。This disclosure relates to a power supply device and an ablation system.
特許文献１には、アブレーションカテーテルと、アブレーションカテーテルに電圧パルスを送達するパルス波形発生器とを備えるアブレーションシステムが開示されている。Patent Document 1 discloses an ablation system including an ablation catheter and a pulse waveform generator that delivers voltage pulses to the ablation catheter.
本発明者は鋭意検討を重ねた結果、カテーテルアブレーション術に関する新規な技術に想到した。After extensive research, the inventors have come up with a new technique for catheter ablation.
本開示はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その目的は、カテーテルアブレーション術に関する新規な技術を提供することにある。This disclosure has been made in light of these circumstances, and its purpose is to provide a new technique for catheter ablation.
本開示のある態様は、不可逆電気穿孔法を用いたアブレーションを行うための電源装置である。この電源装置は、複数の電極を有するカテーテルおよび対極板に電気的に接続され、複数の電極および対極板に電圧を印加する電源部と、電極と対極板との間に電圧を印加するモノポーラ方式印加と、電極どうしの間に電圧を印加するバイポーラ方式印加とを組み合わせて実行するよう電源部を制御する制御部と、を備える。One aspect of the present disclosure is a power supply device for performing ablation using irreversible electroporation. This power supply device is electrically connected to a catheter having multiple electrodes and a return electrode plate, and includes a power supply unit that applies voltage to the multiple electrodes and the return electrode plate, and a control unit that controls the power supply unit to perform a combination of monopolar application, which applies voltage between the electrodes and the return electrode plate, and bipolar application, which applies voltage between the electrodes.
本開示の他の態様は、不可逆電気穿孔法を用いたアブレーションを行うためのアブレーションシステムである。このアブレーションシステムは、複数の電極を有するカテーテルと、対極板と、上記態様の電源装置と、を備える。Another aspect of the present disclosure is an ablation system for performing ablation using irreversible electroporation. This ablation system includes a catheter having multiple electrodes, a return electrode plate, and the power supply device of the above aspect.
以上の構成要素の任意の組合せ、本開示の表現を方法、装置、システムなどの間で変換したものもまた、本開示の態様として有効である。Any combination of the above components, or any conversion of the expressions of this disclosure between methods, devices, systems, etc., are also valid aspects of this disclosure.
本開示によれば、カテーテルアブレーション術に関する新規な技術を提供することができる。This disclosure provides novel techniques related to catheter ablation.
以下、本開示を好適な実施の形態をもとに図面を参照しながら説明する。実施の形態は、本開示を限定するものではなく例示であって、実施の形態に記述されるすべての特徴やその組み合わせは、必ずしも本開示の本質的なものであるとは限らない。各図面に示される同一または同等の構成要素、部材、処理には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、各図に示す各部の縮尺や形状は、説明を容易にするために便宜的に設定されており、特に言及がない限り限定的に解釈されるものではない。また、本明細書または請求項中に「第１」、「第２」等の用語が用いられる場合には、特に言及がない限りこの用語はいかなる順序や重要度を表すものでもなく、ある構成と他の構成とを区別するためのものである。また、各図面において実施の形態を説明する上で重要ではない部材の一部は省略して表示する。The present disclosure will be described below based on preferred embodiments with reference to the drawings. The embodiments are illustrative and do not limit the present disclosure, and all features and combinations thereof described in the embodiments are not necessarily essential to the present disclosure. Identical or equivalent components, parts, and processes shown in each drawing will be given the same reference numerals, and redundant explanations will be omitted where appropriate. Furthermore, the scale and shape of each part shown in each drawing are set for convenience to facilitate explanation, and should not be interpreted as limiting unless otherwise specified. Furthermore, when terms such as "first" and "second" are used in this specification or claims, unless otherwise specified, these terms do not indicate any order or importance, but are intended to distinguish one configuration from another. Furthermore, some components that are not important for explaining the embodiments will be omitted from each drawing.
図１は、実施の形態に係るアブレーションシステム１の模式図である。図１では、アブレーションシステム１の構成要素の一部を機能ブロックとして描いている。これらの機能ブロックの少なくとも一部は、ハードウェア構成としてはコンピュータのＣＰＵやメモリをはじめとする素子や回路で実現され、ソフトウェア構成としてはコンピュータプログラム等によって実現可能である。これらの機能ブロックがハードウェア、ソフトウェアの組合せによっていろいろなかたちで実現できることは、当業者には理解されるところである。Figure 1 is a schematic diagram of an ablation system 1 according to an embodiment. In Figure 1, some of the components of the ablation system 1 are depicted as functional blocks. At least some of these functional blocks can be realized as a hardware configuration using elements and circuits such as a computer's CPU and memory, and as a software configuration using a computer program, etc. Those skilled in the art will understand that these functional blocks can be realized in various ways by combining hardware and software.
アブレーションシステム１は、患者の患部２に対してアブレーションを施す。患部２としては、不整脈が生じている器官等が例示される。なお、アブレーションシステム１は、他の患部２に対するアブレーションに用いることもできる。アブレーションシステム１は、カテーテル４と、対極板６と、電源装置８とを備える。The ablation system 1 performs ablation on an affected area 2 of a patient. An example of the affected area 2 is an organ experiencing arrhythmia. The ablation system 1 can also be used to ablate other affected areas 2. The ablation system 1 includes a catheter 4, a return electrode 6, and a power supply 8.
一例としてのカテーテル４は、シャフト１０と、電極アセンブリ１２と、ハンドル１４とを有する。シャフト１０は、可撓性を有する管状体で構成され、少なくとも先端側が患者の体内に挿入される。シャフト１０は、ポリオレフィン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエーテルブロックアミド、ポリアミドといった樹脂を含む、公知の可撓性材料で構成される。シャフト１０は、例えば複数のルーメンを有するマルチルーメン構造をとる。ルーメンには、導線や操作用ワイヤといった各種の細線（図示せず）や、後述するインナーチューブ２２（図２参照）等が挿通される。The catheter 4, as an example, has a shaft 10, an electrode assembly 12, and a handle 14. The shaft 10 is made of a flexible tubular body, and at least the tip end is inserted into the patient's body. The shaft 10 is made of known flexible materials, including resins such as polyolefin, polytetrafluoroethylene, polyether block amide, and polyamide. The shaft 10 has a multi-lumen structure, for example, with multiple lumens. Various thin wires (not shown), such as electrical leads and operating wires, as well as an inner tube 22 (see Figure 2), which will be described later, are inserted into the lumens.
シャフト１０の先端側には、電極アセンブリ１２が設けられる。図２は、電極アセンブリ１２の斜視図である。電極アセンブリ１２は、複数のスプライン１６と、複数の電極１８とを有する。なお、図１ではスプライン１６が畳まれた状態を図示し、図２ではスプライン１６が展開した状態を図示している。An electrode assembly 12 is provided at the tip end of the shaft 10. Figure 2 is a perspective view of the electrode assembly 12. The electrode assembly 12 has a plurality of splines 16 and a plurality of electrodes 18. Note that Figure 1 shows the splines 16 in a folded state, while Figure 2 shows the splines 16 in an unfolded state.
各スプライン１６は、シャフト１０の軸方向に延びる線状体であり、シャフト１０と同様の可撓性材料で構成される。図２に示す電極アセンブリ１２は、一例として第１スプライン１６ａ、第２スプライン１６ｂ、第３スプライン１６ｃ、第４スプライン１６ｄ、第５スプライン１６ｅおよび第６スプライン１６ｆを有するが、スプライン１６は６つに限定されず複数であればよい。本開示では、第１スプライン１６ａ～第６スプライン１６ｆを互いに区別する必要がない場合、単に「スプライン１６」と称することがある。Each spline 16 is a linear body extending in the axial direction of the shaft 10 and is made of the same flexible material as the shaft 10. The electrode assembly 12 shown in FIG. 2 has, as an example, a first spline 16a, a second spline 16b, a third spline 16c, a fourth spline 16d, a fifth spline 16e, and a sixth spline 16f, but the number of splines 16 is not limited to six and may be any number. In this disclosure, when there is no need to distinguish between the first spline 16a to the sixth spline 16f, they may be simply referred to as "splines 16."
各スプライン１６は、シャフト１０の軸周り方向に互いに間隔をあけて並ぶ。各スプライン１６の先端側は、先端チップ２０に接続される。各スプライン１６の基端側は、シャフト１０の先端側からシャフト１０内に挿入されてシャフト１０に固定される。先端チップ２０には、インナーチューブ２２の先端側が接続される。インナーチューブ２２は、シャフト１０のルーメンに通されて、基端側がハンドル１４に接続される。インナーチューブ２２は、ハンドル１４の操作によってシャフト１０の先端側および基端側に進退可能である。The splines 16 are arranged at intervals around the axis of the shaft 10. The distal end of each spline 16 is connected to a distal tip 20. The proximal end of each spline 16 is inserted into the shaft 10 from the distal end and fixed to the shaft 10. The distal end of an inner tube 22 is connected to the distal tip 20. The inner tube 22 is passed through the lumen of the shaft 10 and its proximal end is connected to the handle 14. The inner tube 22 can be advanced and retreated toward the distal and proximal ends of the shaft 10 by operating the handle 14.
複数のスプライン１６は、畳まれた状態と展開した状態とを切り替え可能である。各スプライン１６が畳まれた状態、言い換えれば各スプライン１６が直線状に延びた状態でインナーチューブ２２がシャフト１０の基端側に引き込まれると、先端チップ２０がシャフト１０の基端側に向かって変位する。これにより、各スプライン１６が外側に膨らむように湾曲し、展開した状態となる。複数のスプライン１６が展開した状態において、電極アセンブリ１２はバスケット形状になる。複数のスプライン１６が展開した状態でインナーチューブ２２がシャフト１０の先端側に押し出されると、先端チップ２０がシャフト１０の基端側から遠離る方向に変位する。これにより、各スプライン１６は畳まれる。なお「バスケット形状」とは、展開状態にある複数のスプライン１６の形状がバスケットボールの表面にある曲線状の模様に類似していることに由来している。The multiple splines 16 can be switched between a folded state and an unfolded state. When the inner tube 22 is retracted toward the base end of the shaft 10 with each spline 16 in a folded state, in other words, when each spline 16 is extended linearly, the distal tip 20 is displaced toward the base end of the shaft 10. This causes each spline 16 to curve and bulge outward, resulting in an unfolded state. When the multiple splines 16 are unfolded, the electrode assembly 12 assumes a basket shape. When the inner tube 22 is pushed toward the distal end of the shaft 10 with the multiple splines 16 unfolded, the distal tip 20 is displaced away from the base end of the shaft 10. This causes each spline 16 to fold. The term "basket shape" comes from the fact that the shape of the multiple splines 16 in an unfolded state resembles the curved pattern on the surface of a basketball.
各スプライン１６には、複数の電極１８が設けられる。複数の電極１８は、スプライン１６の長手方向に互いに所定の間隔をあけて配置される。各電極１８は、リング状であり、白金、金、銀、銅、アルミニウム、ステンレス鋼等の導電性の良好な金属、あるいはその合金で構成される。図２に示す電極アセンブリ１２は、一例として各スプライン１６上に第１電極１８ａ、第２電極１８ｂ、第３電極１８ｃおよび第４電極１８ｄを有するが、電極１８の個数は４つに限定されず少なくとも１つであればよい。本開示では、第１電極１８ａ～第４電極１８ｄを互いに区別する必要がない場合、単に「電極１８」と称することがある。Each spline 16 is provided with a plurality of electrodes 18. The multiple electrodes 18 are arranged at predetermined intervals along the length of the spline 16. Each electrode 18 is ring-shaped and made of a highly conductive metal such as platinum, gold, silver, copper, aluminum, or stainless steel, or an alloy thereof. The electrode assembly 12 shown in FIG. 2 has a first electrode 18a, a second electrode 18b, a third electrode 18c, and a fourth electrode 18d on each spline 16, as an example, but the number of electrodes 18 is not limited to four, as long as there is at least one. In this disclosure, when there is no need to distinguish between the first electrode 18a to the fourth electrode 18d, they may be simply referred to as "electrodes 18."
各電極１８には、導線（図示せず）の先端側が接続される。導線は、シャフト１０のルーメンに通されて、基端側が図１に示すハンドル１４のコネクタ（図示せず）に接続される。各導線には、ハンドル１４のコネクタを介して電源装置８が電気的に接続される。したがって、各電極１８は、導線およびコネクタを介して電源装置８に電気的に接続される。詳細は後述するが、電源装置８によって複数の電極１８にアブレーション用の電力が供給される。The distal end of a conductor (not shown) is connected to each electrode 18. The conductor is passed through the lumen of the shaft 10, and the proximal end is connected to a connector (not shown) on the handle 14 shown in Figure 1. The power supply 8 is electrically connected to each conductor via the connector on the handle 14. Therefore, each electrode 18 is electrically connected to the power supply 8 via the conductor and connector. As will be described in more detail below, the power supply 8 supplies power for ablation to the multiple electrodes 18.
図１に戻り、ハンドル１４は、シャフト１０の基端側に設けられ、カテーテル４の使用時に体外に配置されて操作者によって把持あるいは操作される。ハンドル１４は、操作者が把持する本体部と、インナーチューブ２２を進退させるための操作部を有する。操作部が操作されることで、インナーチューブ２２をシャフト１０に対して基端側に変位させることができる。これにより、畳まれた状態にある電極アセンブリ１２がシャフト１０の軸と交わる方向に展開する。また、操作部が操作されることで、インナーチューブ２２をシャフト１０に対して先端側に変位させることができる。これにより、展開した状態にある電極アセンブリ１２が畳まれる。コネクタは本体部に設けられる。なお、カテーテル４は、アブレーションの際に生理食塩水等の灌注用の流体を先端側から噴射する灌注機構を有してもよい。Returning to Figure 1, the handle 14 is provided on the base end side of the shaft 10, and is positioned outside the body when the catheter 4 is in use and is grasped or operated by the operator. The handle 14 has a main body portion grasped by the operator, and an operating portion for advancing and retracting the inner tube 22. By operating the operating portion, the inner tube 22 can be displaced toward the base end relative to the shaft 10. This causes the electrode assembly 12, which is in a collapsed state, to unfold in a direction intersecting the axis of the shaft 10. Furthermore, by operating the operating portion, the inner tube 22 can be displaced toward the tip end relative to the shaft 10. This causes the electrode assembly 12, which is in an expanded state, to unfold. A connector is provided on the main body portion. The catheter 4 may also have an irrigation mechanism that sprays irrigation fluid, such as saline, from the tip end during ablation.
対極板６は、アブレーションの際に患者の体表に装着される。また、対極板６は、電源装置８に電気的に接続される。詳細は後述するが、電源装置８によって対極板６にアブレーション用の電力が供給される。The return electrode 6 is attached to the patient's body surface during ablation. The return electrode 6 is also electrically connected to a power supply 8. As will be described in more detail below, the power supply 8 supplies power for ablation to the return electrode 6.
電源装置８は、入力部２４と、電源部２６と、制御部２８と、表示部３０とを備える。入力部２４は、例えばダイヤル、ボタン、タッチパネル等で構成され、アブレーションシステム１の操作者により操作される。操作者は、入力部２４を介して各種の設定値や動作を指示する信号を電源装置８に入力することができる。なお、各種の設定値は、製品の出荷時等に予め設定されて電源装置８内に保持されてもよい。設定値等を示す信号は、入力部２４から制御部２８に送られる。The power supply device 8 comprises an input unit 24, a power supply unit 26, a control unit 28, and a display unit 30. The input unit 24 is composed of, for example, a dial, buttons, or a touch panel, and is operated by the operator of the ablation system 1. The operator can input various setting values and signals instructing operations to the power supply device 8 via the input unit 24. Note that the various setting values may be set in advance, such as when the product is shipped, and stored within the power supply device 8. Signals indicating the setting values are sent from the input unit 24 to the control unit 28.
電源部２６は、制御部２８から送られる制御信号ＣＴＬに従って、複数の電極１８および対極板６にアブレーション用の電圧Ｖｏｕｔを印加する。電源部２６は、例えばスイッチングレギュレータ等の所定の電源回路で構成される。制御部２８は、電源装置８全体の動作を制御するとともに、所定の演算処理を実行する。制御部２８は、例えばマイクロコンピュータ等で構成される。制御部２８は、制御信号ＣＴＬを電源部２６に送ることで、電極１８および対極板６への電圧Ｖoutの印加を制御する。表示部３０は、各種の情報を外部に対して表示する。表示部３０は、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等で構成される。The power supply unit 26 applies an ablation voltageVout to the plurality of electrodes 18 and the return electrode 6 in accordance with a control signal CTL sent from the control unit 28. The power supply unit 26 is composed of a predetermined power supply circuit, for example, a switching regulator. The control unit 28 controls the operation of the entire power supply device 8 and executes predetermined arithmetic processing. The control unit 28 is composed of, for example, a microcomputer. The control unit 28 controls the application of the voltage Vout to the electrodes 18 and the return electrode 6 by sending the control signal CTL to the power supply unit 26. The display unit 30 displays various information to the outside. The display unit 30 is composed of a liquid crystal display, a CRT display, an organic EL display, or the like.
続いて、制御部２８が実行する制御の内容について説明する。本実施の形態のアブレーションシステム１および電源装置８は、不可逆電気穿孔法（ＩＲＥ：Irreversible electroporation）を用いて患部２にアブレーションを施す。ＩＲＥは非熱性であるため、患部２の周囲に位置する組織や神経への損傷を抑えることができる。例えば、心房細動を治療するために肺静脈解離術を施す場合、患部周囲の食道や横隔神経が損傷することを抑制することができ、食道瘻や横隔神経麻痺の併発を抑制することができる。Next, the control executed by the control unit 28 will be explained. The ablation system 1 and power supply device 8 of this embodiment perform ablation on the affected area 2 using irreversible electroporation (IRE). Because IRE is non-thermal, it is possible to reduce damage to the tissues and nerves located around the affected area 2. For example, when performing pulmonary vein dissection to treat atrial fibrillation, it is possible to reduce damage to the esophagus and phrenic nerve around the affected area, and to reduce the occurrence of complications such as esophageal fistula and phrenic nerve paralysis.
ＩＲＥでは、パルス電界アブレーション（ＰＦＡ：Pulsed electric Field Ablation）が実施される。ＰＦＡは、各電極１８と対極板６との間や、電極１８どうしの間に高電圧をかけることで生じるパルス電界によって細胞を死滅させる、つまり患部２にリージョン（lesion）を形成する、アブレーション術である。電界は、組織と組織の境界において反射する傾向にある。このため、患部を焼灼した際に、隣接する組織が損傷することを抑制することができる。In IRE, pulsed electric field ablation (PFA) is performed. PFA is an ablation technique that kills cells by applying a pulsed electric field generated by applying a high voltage between each electrode 18 and the return electrode 6, or between the electrodes 18 themselves, thereby forming a lesion in the affected area 2. Electric fields tend to be reflected at the boundaries between tissues. This makes it possible to prevent damage to adjacent tissues when the affected area is cauterized.
電極アセンブリ１２が血管等を介して患者の体内に挿入され、患部２に配置された状態で、制御部２８は、以下に説明するルールに従って各電極１８や対極板６に電圧を印加するように電源部２６を制御する。すなわち、制御部２８は、モノポーラ方式印加（ユニポーラ方式印加ともいう）と、バイポーラ方式印加とを組み合わせて実行するよう電源部２６を制御する。モノポーラ方式印加では、電極１８と対極板６との間に電圧が印加される。バイポーラ方式印加では、電極１８どうしの間に電圧が印加される。したがって、モノポーラ方式印加によれば、バイポーラ方式印加よりも簡単に、組織の深部までリージョンを形成することができる。一方、バイポーラ方式印加によれば、モノポーラ方式印加よりも簡単に、組織の表面方向（つまり表面が広がる方向）で広範囲にリージョンを形成することができる。一例として制御部２８は、少なくとも第１印加モードと第２印加モードとを実行可能である。Once the electrode assembly 12 is inserted into the patient's body via a blood vessel or the like and positioned at the affected area 2, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to apply voltage to each electrode 18 and the return electrode 6 according to the rules described below. That is, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to perform a combination of monopolar application (also called unipolar application) and bipolar application. In monopolar application, a voltage is applied between the electrode 18 and the return electrode 6. In bipolar application, a voltage is applied between the electrodes 18. Therefore, monopolar application makes it easier to form a region deep in the tissue than bipolar application. On the other hand, bipolar application makes it easier to form a region over a wide area in the surface direction of the tissue (i.e., the direction in which the surface extends) than monopolar application. As an example, the control unit 28 is capable of performing at least a first application mode and a second application mode.
（第１印加モード）
図３（Ａ）および図３（Ｂ）は、第１印加モードを説明するための模式図である。第１印加モードにおいて、制御部２８は、所定のモノポーラ方式印加を実行した後に、所定のバイポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。また、このモノポーラ方式印加とバイポーラ方式印加との組み合わせが１セットとされ、制御部２８は１回のアブレーション処置において１セット以上の電圧印加を実行する。(First application mode)
3A and 3B are schematic diagrams illustrating the first application mode. In the first application mode, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to apply a predetermined monopolar voltage and then a predetermined bipolar voltage. A combination of the monopolar and bipolar voltages is considered one set, and the control unit 28 applies one or more voltages in one ablation treatment.
図３（Ａ）に示すように、第１印加モードのモノポーラ方式印加では、各スプライン１６が順番に電圧の印加対象とされ、印加対象となったスプライン１６上の第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。つまり、第１電極１８ａ～第３電極１８ｃには、電圧が同時に印加される。本開示における「同時に印加」とは、各電極１８に電圧が印加されている状態が少なくとも一時において重なることを意味する。As shown in Figure 3(A), in the monopolar application of the first application mode, each spline 16 is sequentially selected as the target of voltage application, and voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c on the target spline 16 and the return electrode 6. In other words, voltage is applied simultaneously to the first electrode 18a to the third electrode 18c. In this disclosure, "applied simultaneously" means that the states in which voltage is applied to each electrode 18 overlap at least temporarily.
一例としては、まず、第１スプライン１６ａの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。次に、第２スプライン１６ｂの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。続いて、第３スプライン１６ｃの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。続いて、第４スプライン１６ｄの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。続いて、第５スプライン１６ｅの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。続いて、第６スプライン１６ｆの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。これにより、モノポーラ方式印加が終了する。As an example, first, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the first spline 16a and the return electrode plate 6. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the second spline 16b and the return electrode plate 6. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the third spline 16c and the return electrode plate 6. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the fourth spline 16d and the return electrode plate 6. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the fifth spline 16e and the return electrode plate 6. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the sixth spline 16f and the return electrode plate 6. This completes the monopolar voltage application.
図３（Ｂ）に示すように、続くバイポーラ方式印加では、所定のスプライン１６に設けられた電極１８と、当該スプライン１６と隣り合うスプライン１６に設けられた電極１８との間に電圧が印加される。本実施の形態では、隣り合う２つのスプライン１６の組における第１電極１８ａどうしの間に電圧が印加され、次に第２電極１８ｂどうしの間に電圧が印加され、続いて第３電極１８ｃどうしの間に電圧が印加される。その後、スプライン１６の別の組について同様の電圧印加が実行される。As shown in Figure 3(B), in the subsequent bipolar voltage application, a voltage is applied between the electrode 18 provided on a given spline 16 and the electrode 18 provided on the spline 16 adjacent to that spline 16. In this embodiment, a voltage is applied between the first electrodes 18a in a pair of two adjacent splines 16, then a voltage is applied between the second electrodes 18b, and then a voltage is applied between the third electrodes 18c. Thereafter, a similar voltage application is performed on another pair of splines 16.
一例としては、まず、第１スプライン１６ａの第１電極１８ａと第２スプライン１６ｂの第１電極１８ａとの間に電圧が印加される。次に、第１スプライン１６ａの第２電極１８ｂと第２スプライン１６ｂの第２電極１８ｂとの間に電圧が印加される。続いて、第１スプライン１６ａの第３電極１８ｃと第２スプライン１６ｂの第３電極１８ｃとの間に電圧が印加される。As an example, first, a voltage is applied between the first electrode 18a of the first spline 16a and the first electrode 18a of the second spline 16b. Next, a voltage is applied between the second electrode 18b of the first spline 16a and the second electrode 18b of the second spline 16b. Next, a voltage is applied between the third electrode 18c of the first spline 16a and the third electrode 18c of the second spline 16b.
第１スプライン１６ａおよび第２スプライン１６ｂの組における電圧の印加が終了すると、第２スプライン１６ｂおよび第３スプライン１６ｃの組において同様の電圧印加が実行される。続いて、第３スプライン１６ｃおよび第４スプライン１６ｄの組において同様の電圧印加が実行される。続いて、第４スプライン１６ｄおよび第５スプライン１６ｅの組において同様の電圧印加が実行される。続いて、第５スプライン１６ｅおよび第６スプライン１６ｆの組において同様の電圧印加が実行される。続いて、第６スプライン１６ｆおよび第１スプライン１６ａの組において同様の電圧印加が実行される。これにより、バイポーラ方式印加が終了する。Once the application of voltage to the pair of first spline 16a and second spline 16b is completed, a similar voltage application is performed to the pair of second spline 16b and third spline 16c. Next, a similar voltage application is performed to the pair of third spline 16c and fourth spline 16d. Next, a similar voltage application is performed to the pair of fourth spline 16d and fifth spline 16e. Next, a similar voltage application is performed to the pair of fifth spline 16e and sixth spline 16f. Next, a similar voltage application is performed to the pair of sixth spline 16f and first spline 16a. This completes the bipolar voltage application.
（第２印加モード）
図４（Ａ）および図４（Ｂ）は、第２印加モードを説明するための模式図である。第２印加モードにおいて、制御部２８は、所定のモノポーラ方式印加を実行した後に、所定のバイポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。また、このモノポーラ方式印加とバイポーラ方式印加との組み合わせが１セットとされ、制御部２８は１回のアブレーション処置において１セット以上の電圧印加を実行する。(Second application mode)
4A and 4B are schematic diagrams illustrating the second application mode. In the second application mode, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to apply a predetermined monopolar voltage and then a predetermined bipolar voltage. A combination of the monopolar and bipolar voltages is considered to be one set, and the control unit 28 applies one or more sets of voltages in one ablation treatment.
図４（Ａ）に示すように、第２印加モードのモノポーラ方式印加では、第１印加モードと同様に、各スプライン１６が順番に電圧の印加対象とされ、印加対象となったスプライン１６上の第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。つまり、第１電極１８ａ～第３電極１８ｃには、同時に電圧が印加される。As shown in Figure 4 (A), in the monopolar application of the second application mode, as in the first application mode, each spline 16 is sequentially selected as the target of voltage application, and voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c on the target spline 16 and the return electrode 6. In other words, voltage is simultaneously applied to the first electrode 18a to the third electrode 18c.
一例としては、まず、第１スプライン１６ａの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。次に、第２スプライン１６ｂの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。続いて、第３スプライン１６ｃの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。続いて、第４スプライン１６ｄの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。続いて、第５スプライン１６ｅの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。続いて、第６スプライン１６ｆの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと対極板６との間に電圧が印加される。これにより、モノポーラ方式印加が終了する。As an example, first, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the first spline 16a and the return electrode plate 6. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the second spline 16b and the return electrode plate 6. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the third spline 16c and the return electrode plate 6. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the fourth spline 16d and the return electrode plate 6. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the fifth spline 16e and the return electrode plate 6. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the sixth spline 16f and the return electrode plate 6. This completes the monopolar voltage application.
図４（Ｂ）に示すように、続くバイポーラ方式印加では、所定のスプライン１６に設けられた電極１８と、当該スプライン１６と隣り合うスプライン１６に設けられた電極１８との間に電圧が印加される。本実施の形態では、隣り合う２つのスプライン１６の組における第１電極１８ａ～第３電極１８ｃどうしの間に電圧が印加される。つまり、第１電極１８ａ～第３電極１８ｃには、同時に電圧が印加される。その後、スプライン１６の別の組について同様の電圧印加が実行される。これにより、第１印加モードのバイポーラ方式印加のように第１電極１８ａ～第３電極１８ｃに順次に電圧が印加される場合に比べて、バイポーラ方式印加の終了までにかかる時間を短くすることができる。As shown in FIG. 4(B), in the subsequent bipolar application, a voltage is applied between the electrode 18 provided on a given spline 16 and the electrode 18 provided on the spline 16 adjacent to that spline 16. In this embodiment, a voltage is applied between the first electrodes 18a to the third electrodes 18c in a pair of two adjacent splines 16. In other words, a voltage is simultaneously applied to the first electrodes 18a to the third electrodes 18c. A similar voltage application is then performed on another pair of splines 16. This shortens the time required to complete the bipolar application compared to when a voltage is applied sequentially to the first electrodes 18a to the third electrodes 18c, as in the bipolar application of the first application mode.
一例としては、まず、第１スプライン１６ａの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと第２スプライン１６ｂの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃとの間に電圧が印加される。次に、第２スプライン１６ｂの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと第３スプライン１６ｃの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃとの間に電圧が印加される。続いて、第３スプライン１６ｃの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと第４スプライン１６ｄの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃとの間に電圧が印加される。続いて、第４スプライン１６ｄの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと第５スプライン１６ｅの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃとの間に電圧が印加される。続いて、第５スプライン１６ｅの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと第６スプライン１６ｆの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃとの間に電圧が印加される。続いて、第６スプライン１６ｆの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃと第１スプライン１６ａの第１電極１８ａ～第３電極１８ｃとの間に電圧が印加される。これにより、バイポーラ方式印加が終了する。As an example, first, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the first spline 16a and the first electrode 18a to the third electrode 18c of the second spline 16b. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the second spline 16b and the first electrode 18a to the third electrode 18c of the third spline 16c. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the third spline 16c and the first electrode 18a to the third electrode 18c of the fourth spline 16d. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the fourth spline 16d and the first electrode 18a to the third electrode 18c of the fifth spline 16e. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the fifth spline 16e and the first electrode 18a to the third electrode 18c of the sixth spline 16f. Next, a voltage is applied between the first electrode 18a to the third electrode 18c of the sixth spline 16f and the first electrode 18a to the third electrode 18c of the first spline 16a. This completes the bipolar voltage application.
本実施の形態では、各スプライン１６上の第４電極１８ｄを電圧の印加対象から外している。第４電極１８ｄは、電位計測用として、あるいはアブレーション範囲が広い場合の予備として設けられている。つまり、カテーテル４が有する電極１８の全てがアブレーション用電圧の印加対象になるとは限らない。なお、第４電極１８ｄは省略することもできる。In this embodiment, the fourth electrode 18d on each spline 16 is excluded from the targets to which voltage is applied. The fourth electrode 18d is provided for potential measurement or as a spare in case the ablation range is wide. In other words, not all of the electrodes 18 on the catheter 4 are necessarily targets to which ablation voltage is applied. The fourth electrode 18d can also be omitted.
本実施の形態の電源部２６は、二相性パルス（双極性パルス）を生成するよう各電極１８および対極板６に電圧を印加する。したがって、各電極１８および対極板６には正電圧相パルスと負電圧相パルスとが印加され、各電極１８および対極板６の極性が交互に切り替わる。電圧の振幅値Ａｍは、例えば１０００Ｖ以上４０００Ｖ以下である。パルス幅Δｐは、例えば０．１μｓ以上１００μｓ以下である。In this embodiment, the power supply unit 26 applies voltage to each electrode 18 and the return electrode 6 to generate biphasic pulses (bipolar pulses). Therefore, positive voltage phase pulses and negative voltage phase pulses are applied to each electrode 18 and the return electrode 6, and the polarity of each electrode 18 and the return electrode 6 alternates. The voltage amplitude Am is, for example, 1000 V or more and 4000 V or less. The pulse width Δp is, for example, 0.1 μs or more and 100 μs or less.
各印加モードのモノポーラ方式印加において、カテーテル４に設けられた電圧印加対象となる全ての電極１８に同時に電圧を印加するのではなく、スプライン単位で電圧の印加対象を切り替えることで、モノポーラ方式印加によって形成できるリージョンを大きくすることができる。これは、電圧印加対象となる全ての電極１８に一括して電圧を印加すると、電流が分散して流れるため電流密度が低下するが、各スプライン１６毎に電圧を順次印加すると、電流が集中して電流密度が増加するためであると考えられる。In monopolar application in each application mode, rather than simultaneously applying voltage to all of the electrodes 18 on the catheter 4 that are the target of voltage application, the region that can be formed by monopolar application can be enlarged by switching the target of voltage application on a spline-by-spline basis. This is thought to be because, when voltage is applied simultaneously to all of the electrodes 18 that are the target of voltage application, the current flows in a dispersed manner, reducing the current density, but when voltage is applied sequentially to each spline 16, the current concentrates and the current density increases.
また、上述のモノポーラ方式印加では、各スプライン１６と対極板６とを結ぶ直線上にリージョンが形成されやすく、隣り合うスプライン１６の間にはリージョンが形成されにくい傾向がある。したがって、リージョンに隙間が生じ得る。これに対し、バイポーラ方式印加によって隣り合うスプライン１６の間に電圧を印加することで、隣り合うスプライン１６の間にもリージョンを形成することができ、リージョンの隙間を埋めることができる。よって、モノポーラ方式印加とバイポーラ方式印加とを組み合わせて実行することで、広範囲に均一なリージョンを簡単に形成することができる。Furthermore, with the above-mentioned monopolar application, regions tend to form easily on the straight lines connecting each spline 16 and the return electrode 6, and regions are less likely to form between adjacent splines 16. This can result in gaps in the regions. In contrast, by applying a voltage between adjacent splines 16 using bipolar application, regions can also be formed between adjacent splines 16, and the gaps in the regions can be filled. Therefore, by combining monopolar application and bipolar application, it is possible to easily form uniform regions over a wide area.
また、各印加モードのモノポーラ方式印加と、第２印加モードのバイポーラ方式印加とでは、スプライン単位で電圧の印加対象が切り替わる。これにより、電圧の印加対象を切り替えるための電源回路を簡素化しやすくすることができる。よって、電源装置８の小型化を図ることができる。また、電極１８を増設しやすくすることができる。Furthermore, the target to which the voltage is applied switches on a spline-by-spline basis between the monopolar application of each application mode and the bipolar application of the second application mode. This makes it easier to simplify the power supply circuit for switching the target to which the voltage is applied. This allows for the miniaturization of the power supply device 8. It also makes it easier to add more electrodes 18.
各印加モードのモノポーラ方式印加およびバイポーラ方式印加における電圧印加の態様は、設計者の経験的知見または設計者による実験やシミュレーション等に基づき適宜設定することが可能である。例えば、各印加モードのモノポーラ方式印加において、電圧が印加されるスプライン１６の順番は、上述のものに限定されない。また、一部のスプライン１６は、給電対象から外してもよい。また、同時に電圧が印加される電極の組み合わせは、スプライン毎でなくてもよく、任意の２つ以上の電極１８の組み合わせであってもよいし、電圧の印加対象となる全ての電極１８であってもよい。また、電極１８の１つ１つに順次に電圧が印加されてもよい。各電極１８への給電順序は、適宜設定可能である。The manner in which voltage is applied in monopolar and bipolar application in each application mode can be set as appropriate based on the designer's empirical knowledge or on experiments and simulations conducted by the designer. For example, in monopolar application in each application mode, the order in which voltage is applied to the splines 16 is not limited to that described above. Some splines 16 may be excluded from the targets of power supply. The combination of electrodes to which voltage is simultaneously applied does not have to be for each spline, but may be a combination of any two or more electrodes 18, or may be all electrodes 18 to which voltage is to be applied. Voltage may also be applied to each electrode 18 sequentially. The order in which power is supplied to each electrode 18 can be set as appropriate.
また、各印加モードのモノポーラ方式印加において、複数のスプライン１６がスプライン１６の数未満の複数のグループに分けられて、グループ単位で電圧の印加対象が切り替えられてもよい。一例としては、第１スプライン１６ａ、第３スプライン１６ｃおよび第５スプライン１６ｅが第１グループとされ、第２スプライン１６ｂ、第４スプライン１６ｄおよび第６スプライン１６ｆが第２グループとされる。そして、第１グループに属するスプライン１６上の１以上の電極１８と対極板６との間に電圧が印加された後に、第２グループに属するスプライン１６上の１以上の電極１８と対極板６との間に電圧が印加される。なお、１つのスプライン１６のみが属するグループがあってもよいし、同じスプライン１６が異なる２以上のグループに配属されてもよい。Furthermore, in monopolar application in each application mode, the splines 16 may be divided into multiple groups, the number of which is less than the number of splines 16, and the target to which voltage is applied may be switched on a group-by-group basis. As an example, the first spline 16a, the third spline 16c, and the fifth spline 16e may be grouped as a first group, and the second spline 16b, the fourth spline 16d, and the sixth spline 16f may be grouped as a second group. Then, after a voltage is applied between one or more electrodes 18 on the splines 16 belonging to the first group and the return electrode 6, a voltage is applied between one or more electrodes 18 on the splines 16 belonging to the second group and the return electrode 6. Note that there may be a group to which only one spline 16 belongs, or the same spline 16 may be assigned to two or more different groups.
各印加モードのバイポーラ方式印加において、同時に電圧が印加される電極の数や組み合わせ、電圧を印加する順番等は、上述のものに限定されない。例えば、各スプライン１６上の電極１８が複数のグループに分けられて、グループ単位で電圧の印加対象が切り替えられてもよい。一例としては、各スプライン１６上の第１電極１８ａおよび第２電極１８ｂが第１グループとされ、各スプライン１６上の第２電極１８ｂおよび第３電極１８ｃが第２グループとされる。そして、隣り合うスプライン１６の第１グループどうしの間に電圧が印加された後に、第２グループどうしの間に電圧が印加されてもよい。なお、１つの電極１８のみが属するグループがあってもよいし、同じ電極１８が異なる２以上のグループに配属されてもよい。In bipolar application in each application mode, the number and combination of electrodes to which voltage is simultaneously applied, the order in which the voltage is applied, etc. are not limited to those described above. For example, the electrodes 18 on each spline 16 may be divided into multiple groups, and the target to which the voltage is applied may be switched on a group-by-group basis. As an example, the first electrode 18a and the second electrode 18b on each spline 16 may be grouped as a first group, and the second electrode 18b and the third electrode 18c on each spline 16 may be grouped as a second group. Then, after a voltage is applied between the first groups of adjacent splines 16, a voltage may be applied between the second groups. Note that there may be a group to which only one electrode 18 belongs, or the same electrode 18 may be assigned to two or more different groups.
また、各印加モードのバイポーラ方式印加において、同じスプライン１６上の２つの電極１８の間に電圧が印加されてもよい。ただし、モノポーラ方式印加で生じ得るリージョンの隙間を埋めるためにバイポーラ方式印加を実行する場合には、互いに距離が離れる傾向にある別々のスプライン１６上の電極１８どうしの間に電圧を印加することが好ましい。また、隣り合うスプライン１６上の電極１８どうしではなく、１以上のスプライン１６を間に挟んで並ぶ２つのスプライン１６上の電極１８どうしの間に電圧が印加されてもよい。ただし、モノポーラ方式印加で生じ得るリージョンの隙間をより確実に埋めるためには、隣り合うスプライン１６上の電極１８どうしの間に電圧を印加することが好ましい。Furthermore, in bipolar application in each application mode, voltage may be applied between two electrodes 18 on the same spline 16. However, when performing bipolar application to fill gaps in regions that may occur with monopolar application, it is preferable to apply voltage between electrodes 18 on separate splines 16 that tend to be spaced apart. Furthermore, voltage may be applied not between electrodes 18 on adjacent splines 16, but between electrodes 18 on two adjacent splines 16 that are separated by one or more splines 16. However, in order to more reliably fill gaps in regions that may occur with monopolar application, it is preferable to apply voltage between electrodes 18 on adjacent splines 16.
また、各印加モードのモノポーラ方式印加およびバイポーラ方式印加において、１回の電圧印加後に印加対象が切り替えられてもよいし、同じ印加対象に複数回連続で電圧が印加された後に印加対象が切り替えられてもよい。同じ電極１８に電圧を連続印加することで、１回の電圧印加毎に印加対象を切り替える場合に比べて、印加対象の切り替え回数を減らすことができる。このため、制御部２８が実行する制御の簡略化を図ることができる。本開示における「複数回連続で電圧を印加」とは、二相性パルスを同じ電極１８に、他の電極１８への印加を挟まずに複数回印加することを意味する。各電極１８に対し電圧が複数回連続で印加されていることは、例えば各電極１８にオシロスコープを接続することで確認することができる。Furthermore, in the monopolar and bipolar application modes of each application mode, the target to which voltage is applied may be switched after a single voltage application, or the target to which voltage is applied may be switched after multiple consecutive voltage applications to the same target. By continuously applying voltage to the same electrode 18, the number of times the target to which voltage is applied can be reduced compared to switching the target to each voltage application. This simplifies the control performed by the control unit 28. In this disclosure, "applying voltage multiple times consecutively" means applying a biphasic pulse to the same electrode 18 multiple times without application to another electrode 18 in between. Whether voltage is being applied multiple times consecutively to each electrode 18 can be confirmed, for example, by connecting an oscilloscope to each electrode 18.
また、各印加モードにおいて、バイポーラ方式印加の後にモノポーラ方式印加が実行されてもよい。また、各印加モードにおいて、１セットに含まれるモノポーラ方式印加およびバイポーラ方式印加の回数は１回ずつに限定されない。例えば、１回または複数回連続のモノポーラ方式印加と、１回または複数回連続のバイポーラ方式印加とで１セットが構成されてもよい。また、１回のアブレーション処置において、内容の異なる複数種類のセットが組み合わされてもよい。Furthermore, in each application mode, a monopolar application may be performed after a bipolar application. Furthermore, in each application mode, the number of monopolar applications and bipolar applications included in one set is not limited to one each. For example, one set may be composed of one or multiple consecutive monopolar applications and one or multiple consecutive bipolar applications. Furthermore, multiple types of sets with different contents may be combined in one ablation treatment.
上述した第１印加モードでは、バイポーラ方式印加において第１電極１８ａ～第３電極１８ｃに順次に電圧が印加される。一方で第２印加モードでは、バイポーラ方式印加において第１電極１８ａ～第３電極１８ｃに同時に電圧が印加される。したがって、第１印加モードと第２印加モードとでは、バイポーラ方式印加の実行時間が異なる。このため、第１印加モードでアブレーションを施す場合と、第２印加モードでアブレーションを施す場合とで、１回のアブレーション処置におけるモノポーラ方式印加の実行時間とバイポーラ方式印加の実行時間との割合が異なる。In the first application mode described above, voltage is applied sequentially to the first electrode 18a through the third electrode 18c in bipolar application. On the other hand, in the second application mode, voltage is applied simultaneously to the first electrode 18a through the third electrode 18c in bipolar application. Therefore, the execution time of bipolar application differs between the first and second application modes. As a result, the ratio of execution time of monopolar application to execution time of bipolar application in a single ablation procedure differs between when ablation is performed in the first application mode and when ablation is performed in the second application mode.
つまり、本実施の形態の制御部２８は、１回のアブレーション処置におけるモノポーラ方式印加の実行時間とバイポーラ方式印加の実行時間との割合が異なる複数の印加モードを実行可能である。このように、複数の印加モードを選択して実行可能とすることで、患部２に適したアブレーションを施すことができる。したがって、アブレーションシステム１の使い勝手を向上させることができる。なお、制御部２８は、モノポーラ方式印加およびバイポーラ方式印加の少なくとも一方における電圧の印加態様が、言い換えれば上述した実行時間の割合が第１印加モードおよび第２印加モードと異なる第ｎ印加モード（ｎは３以上の自然数）をさらに実行可能であってもよい。In other words, the control unit 28 of this embodiment can execute multiple application modes that have different ratios of monopolar application time to bipolar application time during a single ablation treatment. In this way, by being able to select and execute multiple application modes, it is possible to perform ablation that is appropriate for the affected area 2. This improves the usability of the ablation system 1. Note that the control unit 28 may also be able to execute an nth application mode (n is a natural number greater than or equal to 3) in which the voltage application mode in at least one of the monopolar application and bipolar application, in other words, the ratio of the execution time described above, is different from that of the first application mode and the second application mode.
また、制御部２８は、各スプライン１６の湾曲の程度に応じて印加方式を切り替えてもよい。図５（Ａ）および図５（Ｂ）は、スプライン１６の状態に応じた印加方式の切替制御を説明するための模式図である。なお、図５（Ａ）および図５（Ｂ）には、一例として８本のスプライン１６を有する電極アセンブリ１２を図示している。The control unit 28 may also switch the application method depending on the degree of curvature of each spline 16. Figures 5(A) and 5(B) are schematic diagrams for explaining the control of switching the application method depending on the state of the spline 16. Note that Figures 5(A) and 5(B) show an electrode assembly 12 having eight splines 16 as an example.
すなわち、制御部２８は、図５（Ａ）に示すように各スプライン１６が所定程度湾曲した第１展開状態にあるときモノポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。また、制御部２８は、図５（Ｂ）に示すように各スプライン１６が第１展開状態よりも湾曲が急である第２展開状態にあるときバイポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。各スプライン１６は、第１展開状態では第２展開状態よりも緩く湾曲し、第２展開状態では第１展開状態よりもきつく湾曲している。第２展開状態は、各スプライン１６が第１展開状態にあるときよりも曲率の大きい部分を有する状態を意味する。つまり、第２展開状態において曲率が最大となる部分の曲率は、第１展開状態において曲率が最大となる部分の曲率よりも大きい。In other words, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to apply monopolar voltage when each spline 16 is in a first deployed state in which it is curved to a predetermined degree, as shown in FIG. 5(A). The control unit 28 also controls the power supply unit 26 to apply bipolar voltage when each spline 16 is in a second deployed state in which it is curved more sharply than in the first deployed state, as shown in FIG. 5(B). In the first deployed state, each spline 16 is curved more gently than in the second deployed state, and is curved more sharply than in the first deployed state. The second deployed state means that each spline 16 has a portion with a greater curvature than in the first deployed state. In other words, the curvature of the portion with the greatest curvature in the second deployed state is greater than the curvature of the portion with the greatest curvature in the first deployed state.
複数のスプライン１６が第１展開状態にあると、電極１８を広範囲に配置することができる。よって、複数のスプライン１６が第１展開状態にあるときモノポーラ方式印加を実行することで、広範囲にリージョンを形成することができる。また、複数のスプライン１６は、第１展開状態から曲がりのきつい第２展開状態に移行するとき、シャフト１０の軸周り方向に変位する傾向にある。このため、電圧が印加される電極１８どうしの間隔を狭めることができる。したがって、複数のスプライン１６が第２展開状態にあるときバイポーラ方式印加を実行することで、より確実にリージョンの隙間を埋めることができる。第１展開状態および第２展開状態における各スプライン１６の湾曲の程度、言い換えればインナーチューブ２２の引込量は、設計者の経験的知見または設計者による実験やシミュレーション等に基づき適宜設定することが可能である。When the multiple splines 16 are in the first deployed state, the electrodes 18 can be positioned over a wide area. Therefore, by applying a monopolar voltage when the multiple splines 16 are in the first deployed state, a region can be formed over a wide area. Furthermore, when the multiple splines 16 transition from the first deployed state to the more curved second deployed state, they tend to displace around the axis of the shaft 10. This allows the spacing between the electrodes 18 to which voltage is applied to be narrowed. Therefore, by applying a bipolar voltage when the multiple splines 16 are in the second deployed state, the gaps in the region can be filled more reliably. The degree of curvature of each spline 16 in the first and second deployed states, in other words, the amount of retraction of the inner tube 22, can be set appropriately based on the designer's empirical knowledge or experiments, simulations, etc.
また、カテーテル４や電源装置８の構成は、適宜変更可能である。例えば、カテーテル４は、ハンドル１４の操作によってシャフト１０の先端側が一方向または多方向に湾曲可能であってもよい。制御部２８による電源部２６の制御は、ハードウェア（回路）で実現されてもよいし、ソフトウェア（プログラム）で実現されてもよい。ソフトウェアで実現される場合、ソフトウェアは、各機能をコンピュータにより実行させるためのプログラム群で構成される。各プログラムは、コンピュータに予め組み込まれてもよいし、ネットワークや記録媒体からコンピュータにインストールされてもよい。Furthermore, the configuration of the catheter 4 and power supply unit 8 can be modified as appropriate. For example, the distal end of the shaft 10 of the catheter 4 may be bendable in one direction or multiple directions by operating the handle 14. Control of the power supply unit 26 by the control unit 28 may be achieved by hardware (circuitry) or software (program). When achieved by software, the software is composed of a group of programs for causing a computer to execute each function. Each program may be pre-installed in the computer, or may be installed onto the computer from a network or recording medium.
また、スプライン１６および電極１８の形状や数も限定されない。また、カテーテル４がシャフト１０の先端にスプライン１６を有せず、電極１８がシャフト１０上に配置されてもよい。また、電極１８は、シャフト１０の先端側に設けられるバルーン上に配置されてもよい。また、電源部２６は、単相性パルスを生成するよう各電極１８に電圧を印加してもよい。Furthermore, the shape and number of the splines 16 and electrodes 18 are not limited. Furthermore, the catheter 4 may not have splines 16 at the tip of the shaft 10, and the electrodes 18 may be disposed on the shaft 10. Furthermore, the electrodes 18 may be disposed on a balloon provided on the tip side of the shaft 10. Furthermore, the power supply unit 26 may apply a voltage to each electrode 18 to generate a monophasic pulse.
モノポーラ方式印加とバイポーラ方式印加とのどちらを実行するかは、アブレーション用の電圧の印加対象となる電極１８を用いたインピーダンス測定の結果に基づいて決定されてもよい。以下では適宜、アブレーション用の電圧の印加対象となる電極１８を対象電極１８ｘと称する。すなわち、電極アセンブリ１２が血管等を介して患者の体内に挿入された状況において、電極１８が接触する対象としては、患部２等の生体組織と、血液とが挙げられる。また、カテーテル４の先端から灌注用の生理食塩水が噴射される場合には、電極１８が接触する対象には生理食塩水も含まれる。Whether to perform monopolar or bipolar application may be determined based on the results of impedance measurement using the electrode 18 to which the ablation voltage is applied. Hereinafter, the electrode 18 to which the ablation voltage is applied will be referred to as the target electrode 18x, where appropriate. In other words, when the electrode assembly 12 is inserted into the patient's body via a blood vessel or the like, objects that the electrode 18 comes into contact with include biological tissue such as the affected area 2 and blood. Furthermore, when saline solution for irrigation is sprayed from the tip of the catheter 4, the objects that the electrode 18 comes into contact with also include the saline solution.
生体組織は、血液や生理食塩水に比べて導電性が著しく低い。このため、対極板６と対象電極１８ｘとの間に電圧が印加されたときに生じるインピーダンスＺは、対象電極１８ｘが生体組織に接触している場合は相対的に高くなり、対象電極１８ｘが生体組織に接触していない場合は相対的に低くなる。したがって、インピーダンスＺの測定によって対象電極１８ｘが生体組織に接触しているか否かを判定することができる。Biologic tissue has significantly lower conductivity than blood or physiological saline. For this reason, the impedance Z that occurs when a voltage is applied between the return electrode 6 and the target electrode 18x is relatively high if the target electrode 18x is in contact with the biologic tissue, and is relatively low if the target electrode 18x is not in contact with the biologic tissue. Therefore, by measuring the impedance Z, it is possible to determine whether the target electrode 18x is in contact with the biologic tissue.
そこで、制御部２８は、制御信号ＣＴＬを電源部２６に送信して、インピーダンス測定用の電圧を対象電極１８ｘと対極板６との間に印加するよう電源部２６を制御する。そして、制御部２８は、当該電圧の印加で得られる電圧値や電流値などを含む情報を電源部２６を介して取得する。これにより、制御部２８は、対象電極１８ｘと対極板６との間のインピーダンスＺを測定することができる。そして、制御部２８は、測定されたインピーダンスＺと、所定の基準インピーダンスＺ０との差ΔＺが所定のしきい値Ｚｔｈ以上であるとき、対象電極１８ｘを用いてバイポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。また、制御部２８は、差ΔＺがしきい値Ｚｔｈ未満であるとき、対象電極１８ｘを用いてモノポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。The control unit 28 then sends a control signal CTL to the power supply unit 26, controlling the power supply unit 26 to apply a voltage for impedance measurement between the target electrode 18x and the return electrode 6. The control unit 28 then obtains information via the power supply unit 26, including the voltage and current values obtained by applying this voltage. This allows the control unit 28 to measure the impedance Z between the target electrode 18x and the return electrode 6. The control unit 28 then controls the power supply unit 26 to perform bipolar application using the target electrode 18x when the difference ΔZ between the measured impedance Z and a predetermined reference impedance Z0 is equal to or greater than a predetermined threshold value Zth. Furthermore, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to perform monopolar application using the target electrode 18x when the difference ΔZ is less than the threshold value Zth.
基準インピーダンスＺ０は、対象電極１８ｘの生体組織への接触を判定する際の基準点、つまりゼロ点となるインピーダンスである。一例として基準インピーダンスＺ０は、電極アセンブリ１２が患者の体内に挿入され、且つ対象電極１８ｘおよび他の電極１８が生体組織に接触していないことが保証された状態で、これら２つの電極１８の間にインピーダンス測定用の電圧を印加することで測定することができる。あるいは、電極アセンブリ１２において生体組織に接触しないことが保証される位置に基準インピーダンスＺ０の測定専用の２つの基準電極が設けられ、これら２つの基準電極を用いて基準インピーダンスＺ０が測定されてもよい。基準インピーダンスＺ０は、患者の体内で予め測定されて制御部２８内に保持される。また、しきい値Ｚｔｈは、設計者の経験的知見または設計者による実験やシミュレーション等に基づき適宜設定することが可能であり、予め設定されて制御部２８内に保持される。The reference impedance Z0 is the impedance that serves as the reference point, or zero point, when determining whether the target electrode 18x is in contact with biological tissue. As an example, the reference impedance Z0 can be measured by applying an impedance measurement voltage between the target electrode 18x and the other electrodes 18 after the electrode assembly 12 is inserted into the patient's body and it is ensured that these two electrodes 18 are not in contact with biological tissue. Alternatively, two reference electrodes dedicated to measuring the reference impedance Z0 may be provided in the electrode assembly 12 at positions that are ensured not to contact biological tissue, and the reference impedance Z0 may be measured using these two reference electrodes. The reference impedance Z0 is measured in advance inside the patient's body and stored in the control unit 28. The threshold value Zth can be set as appropriate based on the designer's empirical knowledge or experiments or simulations, and is set in advance and stored in the control unit 28.
差Δがしきい値Ｚｔｈ以上であるときは、対象電極１８ｘが生体組織に接触していると判定することができる。対象電極１８ｘが生体組織に接触している場合は、接触していない場合に比べて、バイポーラ方式印加で生体組織により確実に電界を生じさせることができる。そこで、制御部２８は、差Δがしきい値Ｚｔｈ以上であるとき、対象電極１８ｘを用いてバイポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。なお、このバイポーラ方式印加を実行する際に対象電極１８ｘの相手方となる電極１８に対してもインピーダンスＺに基づく接触判定が実施されることで、生体組織への接触が保証された電極１８のみを用いてバイポーラ方式印加を実行することができる。When the difference Δ is greater than or equal to the threshold value Zth, it can be determined that the target electrode 18x is in contact with the biological tissue. When the target electrode 18x is in contact with the biological tissue, a bipolar application can more reliably generate an electric field in the biological tissue than when the target electrode 18x is not in contact. Therefore, when the difference Δ is greater than or equal to the threshold value Zth, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to perform bipolar application using the target electrode 18x. Note that when performing this bipolar application, contact determination based on the impedance Z is also performed on the electrode 18 that is the counterpart of the target electrode 18x, so that bipolar application can be performed using only electrodes 18 that are guaranteed to be in contact with the biological tissue.
一方、差Δがしきい値Ｚｔｈ未満であるときは、対象電極１８ｘが生体組織に接触していないと判定することができる。対象電極１８ｘが生体組織に接触していない状態でのバイポーラ方式印加では、多くの電流が血液や生理食塩水中に流れてしまい、生体組織に電界を生じさせることは困難である。そこで、制御部２８は、差Δがしきい値Ｚｔｈ以上であるとき、対象電極１８ｘを用いてモノポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。モノポーラ方式印加であれば、対象電極１８ｘが生体組織に接触していなくても、バイポーラ方式印加に比べてより確実に生体組織に電界を生じさせることができる。On the other hand, when the difference Δ is less than the threshold value Zth, it can be determined that the target electrode 18x is not in contact with biological tissue. If bipolar application is performed when the target electrode 18x is not in contact with biological tissue, a large amount of current will flow into the blood or saline, making it difficult to generate an electric field in the biological tissue. Therefore, when the difference Δ is greater than or equal to the threshold value Zth, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to perform monopolar application using the target electrode 18x. With monopolar application, an electric field can be generated in the biological tissue more reliably than with bipolar application, even if the target electrode 18x is not in contact with the biological tissue.
また、生体組織に接触している他の電極１８と対象電極１８ｘとの間に電圧が印加されたときに生じるインピーダンスＺも、対象電極１８ｘが生体組織に接触している場合は相対的に高くなり、対象電極１８ｘが生体組織に接触していない場合は相対的に低くなる。そこで、制御部２８は、対象電極１８ｘと他の電極１８との間にインピーダンス測定用の電圧を印加するよう電源部２６を制御してもよい。この場合、対象電極１８ｘの相手方となる他の電極１８は、生体組織への接触が保証されていることが好ましい。これにより、対象電極１８ｘが生体組織に接触しているか否かをより正確に判定することができる。Furthermore, the impedance Z that occurs when a voltage is applied between the target electrode 18x and the other electrode 18 that is in contact with biological tissue will be relatively high if the target electrode 18x is in contact with biological tissue, and will be relatively low if the target electrode 18x is not in contact with biological tissue. Therefore, the control unit 28 may control the power supply unit 26 to apply a voltage for measuring impedance between the target electrode 18x and the other electrode 18. In this case, it is preferable that the other electrode 18 that is the counterpart of the target electrode 18x is guaranteed to be in contact with biological tissue. This makes it possible to more accurately determine whether the target electrode 18x is in contact with biological tissue.
あるいは、他の電極１８もバイポーラ方式印加に用いられる電極、つまり対象電極１８ｘであってもよい。この場合、２つの対象電極１８ｘ間のインピーダンスＺと基準インピーダンスＺ０との差Δがしきい値Ｚｔｈ以上であれば、両方の対象電極１８ｘが生体組織に接触していると判定することができる。よって、制御部２８は、これらの対象電極１８ｘを用いてバイポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。一方、差Δがしきい値Ｚｔｈ未満であれば、少なくとも一方の対象電極１８ｘが生体組織に接触していないと判定することができる。この場合、例えば制御部２８は、いずれの対象電極１８ｘについても、モノポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。Alternatively, the other electrode 18 may also be an electrode used for bipolar application, i.e., a target electrode 18x. In this case, if the difference Δ between the impedance Z between the two target electrodes 18x and the reference impedance Z0 is equal to or greater than the threshold value Zth, it can be determined that both target electrodes 18x are in contact with biological tissue. Therefore, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to perform bipolar application using these target electrodes 18x. On the other hand, if the difference Δ is less than the threshold value Zth, it can be determined that at least one target electrode 18x is not in contact with biological tissue. In this case, for example, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to perform monopolar application for both target electrodes 18x.
また、モノポーラ方式印加とバイポーラ方式印加とのどちらを実行するかは、対象電極１８ｘにかかる圧力Ｐに基づいて決定されてもよい。すなわち、対象電極１８ｘにかかる圧力Ｐが所定のしきい値Ｐｔｈ以上であるときは、対象電極１８ｘが生体組織に接触していると判定することができる。そこで、制御部２８は、圧力Ｐがしきい値Ｐｔｈ以上であるとき、対象電極１８ｘを用いてバイポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。なお、このバイポーラ方式印加を実行する際に対象電極１８ｘの相手方となる電極１８に対しても圧力Ｐに基づく接触判定が実施されることで、生体組織への接触が保証された電極１８のみを用いてバイポーラ方式印加を実行することができる。Furthermore, whether to perform monopolar or bipolar application may be determined based on the pressure P applied to the target electrode 18x. That is, when the pressure P applied to the target electrode 18x is equal to or greater than a predetermined threshold value Pth, it can be determined that the target electrode 18x is in contact with biological tissue. Therefore, when the pressure P is equal to or greater than the threshold value Pth, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to perform bipolar application using the target electrode 18x. Note that when performing this bipolar application, contact determination based on the pressure P is also performed on the electrode 18 that is the counterpart of the target electrode 18x, so that bipolar application can be performed using only electrodes 18 that are guaranteed to be in contact with biological tissue.
一方、圧力Ｐがしきい値Ｐｔｈ未満であるときは、対象電極１８ｘが生体組織に接触していないと判定することができる。そこで、制御部２８は、圧力Ｐがしきい値Ｐｔｈ未満であるとき、対象電極１８ｘを用いてモノポーラ方式印加を実行するよう電源部２６を制御する。電極１８にかかる圧力Ｐは、公知の測定方法を用いて測定することができる。例えば、公知の圧力センサを電極１８に設けることで、圧力Ｐを測定することができる。しきい値Ｐｔｈは、設計者の経験的知見または設計者による実験やシミュレーション等に基づき適宜設定することが可能であり、予め設定されて制御部２８内に保持される。On the other hand, when the pressure P is less than the threshold value Pth, it can be determined that the target electrode 18x is not in contact with biological tissue. Therefore, when the pressure P is less than the threshold value Pth, the control unit 28 controls the power supply unit 26 to perform monopolar voltage application using the target electrode 18x. The pressure P applied to the electrode 18 can be measured using a known measurement method. For example, the pressure P can be measured by providing a known pressure sensor on the electrode 18. The threshold value Pth can be set as appropriate based on the designer's empirical knowledge or experiments or simulations conducted by the designer, and is set in advance and stored in the control unit 28.
なお、複数の電極１８が複数のグループに分けられてグループ単位でモノポーラ方式印加およびバイポーラ方式印加が実行される場合、上述したインピーダンスＺや圧力Ｐに基づく対象電極１８ｘの接触判定はグループ単位で実施されてもよい。また、インピーダンスＺに基づく接触判定と圧力Ｐに基づく接触判定とが組み合わされてもよい。また、アブレーション中に定期的に接触判定が実施されて、判定の結果に応じてモノポーラ方式印加とバイポーラ方式印加とが切り替えられてもよい。また、対象電極１８ｘに電圧を印加する回数や時間、対象電極１８ｘの温度等に応じて印加方式が選択されたり切り替えられたりしてもよい。Note that when multiple electrodes 18 are divided into multiple groups and monopolar and bipolar application is performed on a group-by-group basis, the contact determination of the target electrode 18x based on the impedance Z and pressure P described above may be performed on a group-by-group basis. Also, contact determination based on impedance Z and contact determination based on pressure P may be combined. Furthermore, contact determination may be performed periodically during ablation, and switching between monopolar and bipolar application may be performed depending on the result of the determination. Furthermore, the application method may be selected or switched depending on the number of times and time that a voltage is applied to the target electrode 18x, the temperature of the target electrode 18x, etc.
以上、本開示の実施の形態について詳細に説明した。前述した実施の形態は、本開示を実施するにあたっての具体例を示したものにすぎない。実施の形態の内容は、本開示の技術的範囲を限定するものではなく、請求の範囲に規定された本開示の思想を逸脱しない範囲において、構成要素の変更、追加、削除等の多くの設計変更が可能である。設計変更が加えられた新たな実施の形態は、組み合わされる実施の形態および変形それぞれの効果をあわせもつ。前述の実施の形態では、このような設計変更が可能な内容に関して、「本実施の形態の」、「本実施の形態では」等の表記を付して強調しているが、そのような表記のない内容でも設計変更が許容される。各実施の形態に含まれる構成要素の任意の組み合わせも、本開示の態様として有効である。図面の断面に付したハッチングは、ハッチングを付した対象の材質を限定するものではない。The above provides a detailed description of the embodiments of the present disclosure. The above-described embodiments merely illustrate specific examples of how the present disclosure may be implemented. The content of the embodiments does not limit the technical scope of the present disclosure, and many design changes, such as changing, adding, or deleting components, are possible within the scope of the concept of the present disclosure as defined in the claims. A new embodiment with design changes will combine the effects of the combined embodiments and modifications. In the above-described embodiments, content for which such design changes are possible is emphasized by using notations such as "in this embodiment" or "in this embodiment," but design changes are also permitted even in content without such notation. Any combination of the components included in each embodiment is also valid as an aspect of the present disclosure. Hatching on cross sections in the drawings does not limit the material of the hatched objects.
実施の形態は、以下に記載する項目によって特定されてもよい。
［第１項目］
不可逆電気穿孔法を用いたアブレーションを行うための電源装置（８）であって、
複数の電極（１８）を有するカテーテル（４）および対極板（６）に電気的に接続され、複数の電極（１８）および対極板（６）に電圧を印加する電源部（２６）と、
電極（１８）と対極板（６）との間に電圧を印加するモノポーラ方式印加と、電極（１８）どうしの間に電圧を印加するバイポーラ方式印加とを組み合わせて実行するよう電源部（２６）を制御する制御部（２８）と、を備える、
電源装置（８）。
［第２項目］
制御部（２８）は、バイポーラ方式印加の後にモノポーラ方式印加を実行するよう電源部（２６）を制御する、
第１項目に記載の電源装置（８）。
［第３項目］
制御部（２８）は、１回のアブレーション処置におけるモノポーラ方式印加の実行時間とバイポーラ方式印加の実行時間との割合が異なる複数の印加モードを実行可能である、
第１項目または第２項目に記載の電源装置（８）。
［第４項目］
カテーテル（４）は、シャフト（１０）と、シャフト（１０）の軸周り方向に並ぶ複数のスプライン（１６）と、を有し、
各スプライン（１６）に少なくとも１つの電極（１８）が設けられ、
制御部（２８）は、バイポーラ方式印加において、所定のスプライン（１６）に設けられた電極（１８）と、当該スプライン（１６）と隣り合うスプライン（１６）に設けられた電極（１８）との間に電圧を印加するよう電源部（２６）を制御する、
第１項目乃至第３項目のいずれかに記載の電源装置（８）。
［第５項目］
カテーテル（４）は、シャフト（１０）と、シャフト（１０）の軸周り方向に並ぶ複数のスプライン（１６）と、を有し、
各スプライン（１６）に少なくとも１つの電極（１８）が設けられ、
複数のスプライン（１６）は、所定程度湾曲した第１展開状態と第１展開状態よりも湾曲が急である第２展開状態とを切り替え可能であり、
制御部（２８）は、複数のスプライン（１６）が第１展開状態にあるときモノポーラ方式印加を実行し、複数のスプライン（１６）が第２展開状態にあるときバイポーラ方式印加を実行するよう電源部（２６）を制御する、
第１項目乃至第４項目のいずれかに記載の電源装置（８）。
［第６項目］
制御部（２８）は、複数の電極（１８）のうちアブレーション用の電圧の印加対象となる対象電極（１８ｘ）と対極板（６）との間、または対象電極（１８ｘ）と他の電極（１８）との間にインピーダンス測定用の電圧を印加してインピーダンス（Ｚ）を測定し、測定したインピーダンス（Ｚ）と、対象電極（１８ｘ）の生体組織への接触を判定する際の基準点である基準インピーダンス（Ｚ０）との差（ΔＺ）が所定のしきい値（Ｚｔｈ）以上であるとき、対象電極（１８ｘ）を用いてバイポーラ方式印加を実行し、差（ΔＺ）がしきい値（Ｚｔｈ）未満であるとき、対象電極（１８ｘ）を用いてモノポーラ方式印加を実行するよう電源部（２６）を制御する、
第１項目乃至第５項目のいずれかに記載の電源装置（８）。
［第７項目］
制御部（２８）は、複数の電極（１８）のうちアブレーション用の電圧の印加対象となる対象電極（１８ｘ）にかかる圧力（Ｐ）が所定のしきい値（Ｐｔｈ）以上であるとき、対象電極（１８ｘ）を用いてバイポーラ方式印加を実行し、圧力（Ｐ）がしきい値（Ｐｔｈ）未満であるとき、対象電極（１８ｘ）を用いてモノポーラ方式印加を実行するよう電源部（２６）を制御する、
第１項目乃至第６項目のいずれかに記載の電源装置（８）。
［第８項目］
不可逆電気穿孔法を用いたアブレーションを行うためのアブレーションシステム（１）であって、
複数の電極（１８）を有するカテーテル（４）と、
対極板（６）と、
第１項目乃至第７項目のいずれかに記載の電源装置（８）と、を備える、
アブレーションシステム（１）。The embodiments may be specified by the following items.
[First item]
A power supply (8) for performing ablation using irreversible electroporation, comprising:
a power supply unit (26) electrically connected to the catheter (4) having a plurality of electrodes (18) and the return electrode plate (6), and applying a voltage to the plurality of electrodes (18) and the return electrode plate (6);
and a control unit (28) that controls the power supply unit (26) to perform a combination of monopolar application, in which a voltage is applied between the electrode (18) and the return electrode (6), and bipolar application, in which a voltage is applied between the electrodes (18).
Power supply (8).
[Second item]
the control unit (28) controls the power supply unit (26) to apply the voltage in the monopolar mode after the voltage application in the bipolar mode;
Item 1. A power supply device (8) according to item 1.
[Third item]
The control unit (28) is capable of executing a plurality of application modes having different ratios of the time during which monopolar application is performed to the time during which bipolar application is performed in one ablation treatment.
A power supply device (8) according to the first or second item.
[4th item]
The catheter (4) has a shaft (10) and a plurality of splines (16) arranged in a direction around the axis of the shaft (10),
Each spline (16) is provided with at least one electrode (18);
the control unit (28) controls the power supply unit (26) to apply a voltage between the electrode (18) provided on a predetermined spline (16) and the electrode (18) provided on the spline (16) adjacent to the predetermined spline (16) in the bipolar voltage application;
A power supply device (8) according to any one of the first to third items.
[Item 5]
The catheter (4) has a shaft (10) and a plurality of splines (16) arranged in a direction around the axis of the shaft (10),
Each spline (16) is provided with at least one electrode (18);
The plurality of splines (16) are switchable between a first deployed state in which they are curved to a predetermined degree and a second deployed state in which they are curved more sharply than the first deployed state;
The control unit (28) controls the power supply unit (26) to apply a monopolar voltage when the plurality of splines (16) are in the first deployed state, and to apply a bipolar voltage when the plurality of splines (16) are in the second deployed state.
A power supply device (8) according to any one of the first to fourth items.
[Item 6]
The control unit (28) applies a voltage for impedance measurement between a target electrode (18x) among the plurality of electrodes (18) to which an ablation voltage is to be applied and the return electrode (6), or between the target electrode (18x) and another electrode (18), to measure the impedance (Z); when a difference (ΔZ) between the measured impedance (Z) and a reference impedance (Z0) that is a reference point for determining whether the target electrode (18x) is in contact with the biological tissue is equal to or greater than a predetermined threshold value (Zth), the control unit (28) controls the power supply unit (26) to perform bipolar application using the target electrode (18x), and when the difference (ΔZ) is less than the threshold value (Zth), to perform monopolar application using the target electrode (18x).
A power supply device (8) according to any one of items 1 to 5.
[Item 7]
the control unit (28) controls the power supply unit (26) to perform bipolar voltage application using the target electrode (18x) when pressure (P) applied to the target electrode (18x) among the plurality of electrodes (18) to which a voltage for ablation is to be applied is equal to or greater than a predetermined threshold value (Pth), and to perform monopolar voltage application using the target electrode (18x) when the pressure (P) is less than the threshold value (Pth);
A power supply device (8) according to any one of items 1 to 6.
[Item 8]
An ablation system (1) for performing ablation using irreversible electroporation, comprising:
a catheter (4) having a plurality of electrodes (18);
A return electrode (6);
The power supply device (8) according to any one of items 1 to 7,
Ablation system (1).
本開示は、電源装置およびアブレーションシステムに利用することができる。This disclosure can be used in power supply devices and ablation systems.
１ アブレーションシステム、 ４ カテーテル、 ６ 対極板、 ８ 電源装置、 １０ シャフト、 １６ スプライン、 １８ 電極、 ２６ 電源部、 ２８ 制御部。1 Ablation system, 4 Catheter, 6 Patient electrode, 8 Power supply unit, 10 Shaft, 16 Spline, 18 Electrode, 26 Power supply unit, 28 Control unit.
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024034161 | 2024-03-06 | ||
| JP2024-034161 | 2024-03-06 |
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2025187117A1true WO2025187117A1 (en) | 2025-09-12 |
| WO2025187117A8 WO2025187117A8 (en) | 2025-10-02 |
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2024/038648PendingWO2025187117A1 (en) | 2024-03-06 | 2024-10-30 | Power supply device and ablation system |
| Country | Link |
|---|---|
| WO (1) | WO2025187117A1 (en) |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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