WO2013100656A1 - Optical information processing apparatus and method for controlling same - Google Patents

Abstract

The present invention relates to an optical information processing apparatus and to a method for controlling same. Provided is an optical information processing apparatus and a method for controlling same, the optical information processing apparatus comprising: a light source for irradiating light; an optical modulator for modulating the light irradiated from the light source; an optical system for collecting the light modulated by the optical modulator and enabling the modulated light to be incident to an optical medium; a stage on which the optical medium is placed; an optical detection unit for detecting the pattern of the light reflected from the optical medium; and a control unit for analyzing the pattern of the light detected by the optical detection unit so as to control the optical system and the location of the stage.

Description

광 정보 처리장치 및 이의 제어방법Optical information processing device and control method thereof

본 발명은 광 정보 처리장치 및 이의 제어방법에 대한 것으로, 보다 상세하게는 광학매체로 광을 조사하여 광학매체에 정보를 기록하거나, 광학매체에 기록된 정보를 읽기 위한 광 정보 처리장치 및 이의 제어방법에 관한 것이다.The present invention relates to an optical information processing apparatus and a control method thereof, and more particularly, to an optical information processing apparatus for recording information on an optical medium by reading light onto an optical medium or to read information recorded on the optical medium and a control thereof. It is about a method.

최근 들어, 디브이디(DVD: Digital Versatile Disc), HD-DVD, 블루레이디스크(BD), 근접장(near field) 광 처리장치, 홀로그래픽 광 처리장치와 같은 광 정보 처리장치에 대한 연구 개발이 활발하게 진행되고 있다.Recently, research and development on optical information processing devices such as digital versatile disc (DVD), HD-DVD, Blu-ray disc (BD), near field light processing device, and holographic light processing device have been actively conducted. It's going on.

이 중 홀로그래피를 이용한 광 정보 처리장치는 포토폴리머(photo polymer)와 같은 감광성 물질로 이루어진 광학매체 상에 집속광을 조사하여 중합 반응을 유도하여 광학매체에 정보를 기록하거나, 광학매체에 기록되어 있는 정보를 재생하는 방식으로 동작된다.Among them, the optical information processing apparatus using holography induces a polymerization reaction by irradiating a focused light onto an optical medium made of a photosensitive material such as a photopolymer to record information on the optical medium or to record information on the optical medium. It is operated by reproducing information.

이러한 광 정보 처리장치가 정상적으로 동작하기 위해서는, 광학매체 상으로 조사되는 집속광의 초점 위치, 집속광의 크기, 조사 각도 등의 광 특성이 기 설정된 기준에 부합해야만 한다. 따라서, 이러한 집속광이 광학매체 상으로 제대로 조사되는지 여부를 판단하기 위한 다양한 기술이 제안되고 있다.In order for the optical information processing apparatus to operate normally, optical characteristics such as a focal position of the focused light irradiated onto the optical medium, the size of the focused light, the irradiation angle, and the like must meet predetermined criteria. Accordingly, various techniques have been proposed for determining whether such focused light is properly irradiated onto an optical medium.

다만, 종래의 집속광의 특성을 분석하기 위한 기술은 광학매체의 측면 방향에서 집속광이 조사되는 영상을 획득하거나, 광학매체의 후측에서 집속광이 조사되는 영상을 획득하여 이를 분석하는 방식으로 진행되기 때문에, 집속광이 광학매체 상에 조사되는 모습을 정확하게 파악하는 것이 곤란하였다.However, the conventional technique for analyzing the characteristics of the focused light is to acquire an image to which the focused light is irradiated in the side direction of the optical medium, or to obtain an image to which the focused light is irradiated from the rear side of the optical medium to analyze it Therefore, it is difficult to accurately grasp the state in which the focused light is irradiated onto the optical medium.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 광학매체로 집속광이 조사되는 방향에서 광학매체 상에 집속광이 조사되는 패턴을 검출함으로써, 집속광의 패턴 정보를 정확하게 측정할 수 있는 광 정보 처리장치 및 이의 제어방법을 제공하기 위함이다.The present invention is to solve the above problems, an optical information processing apparatus capable of accurately measuring the pattern information of the focused light by detecting a pattern in which the focused light is irradiated on the optical medium in the direction in which the focused light is irradiated to the optical medium And to provide a control method thereof.

상기한 본 발명의 목적은, 광을 조사하는 광원, 상기 광원으로부터 조사된 광을 변조시키는 광 변조기, 상기 광 변조기에 의해 변조된 광을 집광시켜 광학매체로 입사시키는 위한 광학계, 상기 광학매체가 위치하는 스테이지, 상기 광학매체에서 반사되는 광의 패턴을 검출하는 광 검출부 그리고, 상기 광 검출부에서 검출된 상기 광의 패턴을 분석하여 상기 광학계 또는 상기 스테이지의 위치를 제어하는 제어부를 포함하는 광 정보 처리장치에 의해 달성될 수 있다.The above object of the present invention is to provide a light source for irradiating light, an optical modulator for modulating the light irradiated from the light source, an optical system for condensing the light modulated by the light modulator and entering the optical medium, the optical medium is located And a control unit for controlling a position of the optical system or the stage by analyzing a pattern of the light detected by the light detection unit, and a stage for detecting a pattern of light reflected by the optical medium. Can be achieved.

여기서, 광 검출부는 제1 위치 및 제2 위치에서 상기 광의 패턴을 각각 검출하고, 상기 제어부는 상기 제1 위치에서의 광의 패턴과 상기 제2 위치에서의 광의 패턴의 위치, 크기 또는 분포를 비교하여 상기 광학계 또는 상기 스테이지의 위치를 제어하고, 상기 제2 위치는 제1 위치와 비교하여 광학계의 위치가 기 설정된 간격만큼 이동하거나, 스테이지의 위치가 기 설정된 간격만큼 이동한 상태의 위치를 의미한다. 일 예로, 상기 제2 위치는 상기 제1 위치에 비해 상기 스테이지의 위치가 광의 진행 방향으로 기 설정된 간격만큼 이격될 수 있다.Herein, the light detector detects the pattern of the light at the first position and the second position, respectively, and the controller compares the position, the size, or the distribution of the pattern of the light at the first position with the pattern of the light at the second position. The position of the optical system or the stage is controlled, and the second position refers to a position where the position of the optical system is moved by a predetermined interval or the position of the stage is moved by a predetermined interval compared to the first position. For example, the position of the stage may be spaced apart from the first position by a predetermined interval in the direction of light travel.

그리고, 제어부는 상기 광 검출부에서 검출된 상기 제1 위치에서의 광의 패턴과 상기 제2 위치의 광이 패턴의 중심이 일치하면 상기 스테이지의 광축 방향 정렬이 일치하는 것으로 판단할 수 있다. 그리고, 상기 광 검출부에서 검출된 상기 제1 위치에서의 광의 패턴과 상기 제2 위치의 광의 패턴의 중심의 위치, 각 패턴에서 기 설정된 특징점의 위치 변화량을 분석하여, 상기 스테이지의 틸팅(tilting) 여부를 판단하는 것도 가능하다.The controller may determine that the optical axis direction alignment of the stage coincides when the pattern of the light at the first position detected by the light detector and the center of the pattern of the light at the second position coincide with each other. And, by analyzing the position of the center of the pattern of the light at the first position and the pattern of the light of the second position detected by the light detector, the position change amount of the predetermined feature point in each pattern, and whether the stage is tilted It is also possible to judge.

한편, 상기 광학계를 구성하는 복수개의 광학 소자 중 적어도 하나의 위치를 제어할 수 있는 제1 위치조절부 및 상기 스테이지의 경사각을 조절할 수 있는 제2 위치조절부를 더 포함할 수 있다.On the other hand, it may further include a first position adjusting unit for controlling the position of at least one of the plurality of optical elements constituting the optical system and a second position adjusting unit for adjusting the inclination angle of the stage.

그리고, 상기 제어부는 상기 제1 위치조절부 및 상기 제2 위치조절부를 제어하여, 상기 광학매체로 조사되는 광의 초점 위치, 스팟 사이즈(spot size), 조사 각도 또는 광의 세기 분포 중 적어도 어느 하나를 제어할 수 있다.The controller controls the first position adjusting unit and the second position adjusting unit to control at least one of a focus position, a spot size, an irradiation angle, or an intensity distribution of light irradiated onto the optical medium. can do.

여기서, 상기 광원으로부터 입사되는 광은 상기 광 변환부 방향으로 반사시키고, 상기 광 변환부로부터 입사되는 광은 상기 광학계 방향으로 통과시키는 제1 빔스플리터 및 상기 광학매체로 입사되는 광은 통과시키고 상기 광학매체로부터 반사되어 입사되는 광은 상기 광 검출부 방향으로 반사시키는 제2 빔 스플리터를 더 포함하여 구성될 수 있다.Here, the light incident from the light source is reflected in the direction of the light conversion unit, the light incident from the light conversion unit passes through the first beam splitter and the light incident to the optical medium to pass in the direction of the optical system and the optical The light reflected from the medium and incident may further include a second beam splitter that reflects the light toward the light detector.

한편, 상기한 본 발명의 목적은 광 변조기를 통해 변조된 광을 광학계를 통해 광학매체로 조사하는 광 조사 단계, 상기 광학매체로부터 반사된 광의 패턴을 검출하는 광 패턴 검출 단계, 상기 광 패턴 검출 단계에서 검출된 광의 패턴을 분석하는 분석 단계, 상기 분석 단계에서 분석된 정보에 따라 상기 광학계 또는 상기 광학매체의 위치를 조절하는 위치 조절 단계를 포함하는 광 정보 처리장치의 제어방법에 의해 달성될 수도 있다.Meanwhile, an object of the present invention described above is a light irradiation step of irradiating light modulated through an optical modulator to an optical medium through an optical system, a light pattern detection step of detecting a pattern of light reflected from the optical medium, and the light pattern detection step It may be achieved by a control method of the optical information processing apparatus including an analysis step of analyzing a pattern of light detected in the step, a position adjusting step of adjusting the position of the optical system or the optical medium in accordance with the information analyzed in the analysis step. .

여기서, 상기 광 패텀 검출 단계는 제1 위치에서 상기 광학매체로부터 반사된 광의 패턴을 검출하는 제1 검출 단계 및 제2 위치에서 상기 광학매체로부터 반사된 광의 패턴을 검출하는 제2 검출 단계를 포함하고, 상기 제1 위치와 상기 제2 위치는 상기 광학계 또는 상기 광학매체 중 어느 하나의 위치가 상이할 수 있다.Wherein the optical patum detection step includes a first detection step of detecting a pattern of light reflected from the optical medium at a first position and a second detection step of detecting a pattern of light reflected from the optical medium at a second position; The first position and the second position may be different from one of the optical system or the optical medium.

일 예로서, 상기 제2 검출 단계는 상기 제1 검출 단계에 비해 상기 광학매체가 광의 진행 방향으로 기 설정된 간격만큼 이동하여 위치할 수 있다.As an example, the second detection step may be located by moving the optical medium by a predetermined interval in the advancing direction of light compared to the first detection step.

그리고, 상기 분석 단계는 상기 제1 검출 단계에서 검출된 패턴 및 상기 제2 검출 단계에서 검출된 패턴의 중심이 일치하면 상기 광학매체의 광축 방향 정렬이 일치하는 것으로 판단할 수 있다.In the analyzing step, when the center of the pattern detected in the first detection step and the pattern detected in the second detection step coincide with each other, the optical axis direction alignment of the optical medium may be determined to match.

또한, 상기 분석 단계는 상기 제1 검출 단계에서 검출된 패턴 및 상기 제2 검출 단계에서 검출된 패턴에서 각각의 중심의 위치 또는 기 설정된 특징점의 위치 변화량을 분석하여, 상기 광학매체의 틸팅(tilting) 여부를 판단하는 것도 가능하다.In the analyzing step, the tilting of the optical medium is performed by analyzing a position change of each center position or a predetermined feature point in the pattern detected in the first detection step and the pattern detected in the second detection step. It is also possible to judge whether or not.

나아가, 상기 위치 조절 단계는 상기 광학계 또는 상기 광학매체의 위치를 조절하여, 상기 광학매체로 조사되는 광의 초점 위치, 스팟 사이즈(spot size), 조사 각도 또는 광의 세기 분포 중 적어도 어느 하나를 제어할 수 있다.Further, the position adjusting step may control at least one of a focus position, a spot size, an irradiation angle, or an intensity distribution of the light irradiated onto the optical medium by adjusting the position of the optical system or the optical medium. have.

여기서, 상기 위치 조절 단계는 상기 분석 단계에서 얻어진 정보에 근거하여 상기 광학계를 구성하는 복수개의 광학 소자 중 적어도 하나의 위치를 제어하거나 또는 상기 광학매체가 위치하는 스테이지의 경사각을 조절할 수 있다.Here, the position adjusting step may control the position of at least one of the plurality of optical elements constituting the optical system or adjust the inclination angle of the stage on which the optical medium is located based on the information obtained in the analyzing step.

본 발명에 의할 경우, 광학매체 상에 집속광의 패턴을 집속광이 조사되는 방향에서 측정하는 것이 가능하므로, 정확한 정보를 취득하는 것이 가능하다.According to the present invention, since the pattern of the focused light can be measured on the optical medium in the direction in which the focused light is irradiated, accurate information can be obtained.

나아가, 측정된 집속광의 패턴 정보를 이용하여 광 정보 처리장치의 각 구성요소의 위치를 조절함으로써, 오류 동작을 최소화시키는 것이 가능하다.Further, by adjusting the position of each component of the optical information processing apparatus using the measured pattern information of the focused light, it is possible to minimize the error operation.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광 정보 처리장치의 구성을 도시한 블록도,1 is a block diagram showing the configuration of an optical information processing apparatus according to an embodiment of the present invention;

도 2는 도 1에서 광학매체의 이동시 광학매체 상에서 광이 조사되는 일 예를 도시한 블록도,FIG. 2 is a block diagram illustrating an example in which light is irradiated on an optical medium when the optical medium is moved in FIG. 1;

도 3은 도 2의 각 위치에서 광 검출부를 통해 검출된 광의 패턴을 도시한 평면도,3 is a plan view illustrating a pattern of light detected through the light detector at each position of FIG. 2;

도 4는 도 1에서 광학매체의 이동시 광학매체 상에서 광이 조사되는 다른 예를 도시한 블록도,4 is a block diagram illustrating another example in which light is irradiated onto the optical medium when the optical medium is moved in FIG. 1;

도 5는 도 4의 각 위치에서 광 검출부를 통해 검출된 광의 패턴을 도시한 평면도,5 is a plan view illustrating a pattern of light detected through the light detector at each position of FIG. 4;

도 6은 도 1에서 파장에 따른 광 패턴을 도시한 평면도,6 is a plan view illustrating a light pattern according to a wavelength in FIG. 1;

도 7은 도 1에서 기준광이 조사되는 모습을 도시한 평면도,7 is a plan view showing a state in which the reference light is irradiated in FIG.

도 8은 도 7에서 기준광의 조사 단면 및 광학매체에 조사되는 단면을 도시한 단면도,FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a cross section irradiated to an optical medium and an irradiation cross section of the reference light in FIG. 7;

도 9는 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치의 제어방법을 도시한 순서도이고,9 is a flowchart showing a control method of the optical information processing apparatus according to the present embodiment,

도 10은 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치의 부가적인 제어방법을 도시한 순서도이다.10 is a flowchart showing an additional control method of the optical information processing apparatus according to the present embodiment.

이하에서는 도면을 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 광 정보 처리장치 및 이의 제어방법에 대해 구체적으로 설명하도록 한다. 아래의 설명에서 각 구성요소의 위치관계는 원칙적으로 도면을 기준으로 설명한다. 그리고 도면은 설명의 편의를 위해 발명의 구조를 단순화하거나 필요할 경우 과장하여 표시될 수 있다. 따라서 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 이 이외에도 각종 장치를 부가하거나, 변경 또는 생략하여 실시할 수 있음은 물론이다.Hereinafter, an optical information processing apparatus and a control method thereof according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, the positional relationship of each component is explained based on the drawings in principle. In addition, the drawings may be displayed by simplifying the structure of the invention or by exaggerating if necessary for the convenience of description. Therefore, the present invention is not limited thereto, and various other devices may be added, modified or omitted.

본 실시예에서는 정보가 기록되어 있는 광학매체 상에 정보를 기록할 수 있는 홀로그래픽 광 정보 처리장치를 일 예로 설명하나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 광을 조사하여 광학매체 상의 정보를 재생하는 장치를 포함한 다양한 광 정보 처리장치에 적용할 수 있음을 앞서 밝혀둔다.In the present embodiment, a holographic optical information processing apparatus capable of recording information on an optical medium on which information is recorded is described as an example. However, the present invention is not limited thereto, and the information on the optical medium is reproduced by irradiating light. It is noted above that the present invention can be applied to various optical information processing devices including the device.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광 정보 처리장치의 구성을 도시한 블록도이다. 도 1에 도시된 바와 같이 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치(1)는 광원(10), 광원으로부터 입사되는 광을 변조하는 광 변조기(20), 변조된 광을 광학매체 방향으로 집광하여 입사시키는 광학계(30), 광학매체(M)가 위치하는 스테이지(40), 광학매체에서 반사되는 광의 패턴을 검출하기 위한 광 검출부(50) 그리고 검출된 광의 패턴을 분석하여 광학계 또는 광학매체의 위치를 제어하는 제어부(60)를 포함하여 구성되며, 이하에서는 도면을 참조하여 각각의 구성요소에 대해 구체적으로 설명하도록 한다.1 is a block diagram showing the configuration of an optical information processing apparatus according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the opticalinformation processing apparatus 1 according to the present exemplary embodiment includes alight source 10, anoptical modulator 20 that modulates light incident from the light source, and condenses the modulated light toward an optical medium. Theoptical system 30, the stage 40 on which the optical medium M is located, theoptical detector 50 for detecting the pattern of the light reflected from the optical medium, and the pattern of the detected light are analyzed to determine the position of the optical system or the optical medium. It is configured to include acontrol unit 60 for controlling, hereinafter will be described in detail with respect to each component with reference to the drawings.

광원(10)은 광학매체(M)에 정보를 기록하거나, 정보를 재생하는데 사용되는 광을 발생시킨다. 이러한 광원(10)은 레이저와 같이 가간섭(coherent) 특성을 갖는 광을 이용할 수 있다. 광원(10)은 실시예에 따라 하나의 단색광을 발생시키도록 구성하는 것도 가능하나, 본 실시예에서는 서로 다른 파장을 갖는 복수의 광을 생성할 수 있도록 구성될 수 있다. 구체적으로, 본 실시예에서는 635~660nm의 파장을 갖는 레드 레이저(red laser), 525~540nm의 파장을 갖는 그린 레이저(green laser) 및 420~473nm의 파장을 갖는 레드 레이저(red laser)를 발생시킬 수 있도록 구성된다.Thelight source 10 generates light used for recording information on the optical medium M or reproducing the information. Thelight source 10 may use light having coherent characteristics, such as a laser. Thelight source 10 may be configured to generate one monochromatic light according to an embodiment, but in the present embodiment, thelight source 10 may be configured to generate a plurality of lights having different wavelengths. Specifically, in the present embodiment, a red laser having a wavelength of 635 to 660 nm, a green laser having a wavelength of 525 to 540 nm, and a red laser having a wavelength of 420 to 473 nm are generated. It is configured to be.

광원(10)에서 발생된 광은 제1 편광 빔 스플리터(polarizing beam splitter; PBS)(31)에 의해 반사되어 광 변조부로 입사된다. 여기서, 제1 빔 스플리터(31)는 S파의 편광 특성을 갖는 광은 반사시키고, P파의 편광 특성을 갖는 광은 통과시키는 광학 특성을 갖는다. 따라서, 도 1에는 구체적으로 도시되어 있지 않으나 광원(10)에서 발생된 광을 반파장판(미도시) 등의 광학소자를 이용하여 S파 형태로 변환시킨 후, 제1 편광 빔 스플리터(31)로 조사할 수 있다.Light generated by thelight source 10 is reflected by the first polarizing beam splitter (PBS) 31 and is incident to the light modulator. Here, thefirst beam splitter 31 has an optical characteristic that reflects light having a polarization characteristic of S wave and passes light having a polarization characteristic of P wave. Therefore, although not specifically illustrated in FIG. 1, the light generated by thelight source 10 is converted into the S-wave form by using an optical element such as a half-wave plate (not shown), and then, the firstpolarized beam splitter 31. You can investigate.

이러한 방식으로 광원에서 발생된 광은 광 변조기(20)로 조사된다. 이때, 광 변조기(20)는 입사되는 광을 변조하는 구성으로, 본 실시예에서는 실리콘 액정표시장치(LCoS, liquid crystal on silicon)를 이용하여 구성할 수 있다. 따라서, 광 변조기(20)가 정상적으로 구동되는 경우 입사된 편광의 편광 특성을 변경하여 반사시킬 수 있다. 본 실시예서는 광원(10)으로부터 입사된 광은 광 변조기(20)에 의해 반사되면서 편광 특성이 S파에서 P파로 변경된다.In this way, the light generated from the light source is irradiated to thelight modulator 20. In this case, theoptical modulator 20 is configured to modulate incident light, and in the present exemplary embodiment, theoptical modulator 20 may be configured using a liquid crystal on silicon (LCoS). Therefore, when thelight modulator 20 is normally driven, the polarization characteristics of the incident polarization may be changed and reflected. In the present embodiment, the light incident from thelight source 10 is reflected by thelight modulator 20 and the polarization characteristic is changed from S wave to P wave.

본 실시예의 광 변조기는 입사된 광을 반사시키는 구조를 이용하고 있으나, 이는 일 예이며 입사되는 광을 투과시키면서 광을 변조시키는 투과형 광 변조기를 이용하여 구성하는 것도 가능하다. 또한, 광 변조기는 광학매체에 소정의 정보를 기록하는 장치에 이용되는 경우, 광원으로부터 입사되는 광에 기록할 정보를 포함시켜 광학매체 방향으로 조사하도록 구성하는 것도 가능하다.The light modulator of the present embodiment uses a structure that reflects incident light, but this is an example and may be configured using a transmission type light modulator that modulates light while transmitting incident light. In addition, when the optical modulator is used in an apparatus for recording predetermined information on an optical medium, the optical modulator may be configured to include information to be recorded on light incident from a light source and to irradiate the optical medium in the direction of the optical medium.

한편, 광 변조기(20)로부터 반사된 광은 다시 제1 편광 빔 스플리터(31) 및 제2 편광 빔 스플리터(32) 방향으로 진행한다. 여기서, 제2 편광 빔 스플리터(32)는 제1 편광 빔 스플리터(31)와 마찬가지로 P파는 통과시키고 S파는 반사시키는 특성을 갖는다. 따라서, 광 변조기(20)에 의해 P파로 변조된 광은 제1 편광 빔 스플리터(31) 및 제2 편광 빔 스플리터(32)를 통과하여 광학계(30) 방향으로 입사된다.Meanwhile, the light reflected from thelight modulator 20 travels in the direction of the firstpolarization beam splitter 31 and the secondpolarization beam splitter 32 again. Here, the secondpolarizing beam splitter 32 has a property of passing P waves and reflecting S waves similarly to the firstpolarizing beam splitter 31. Accordingly, the light modulated by thelight modulator 20 into the P wave passes through the firstpolarization beam splitter 31 and the secondpolarization beam splitter 32 and is incident in the direction of theoptical system 30.

여기서, 광학계(30)는 광이 진행하는 경로를 형성하며, 광축 방향으로 배치되는 복수의 광학 소자를 포함하여 구성될 수 있다. 복수의 광학 소자는 광 변조기(20)로부터 입사되는 광을 집광할 수 있도록 구성되어, 광학계(30)를 통과한 빛은 광학매체(M) 상에 집광된 상태로 조사될 수 있다.Here, theoptical system 30 may form a path through which light travels, and may include a plurality of optical elements disposed in the optical axis direction. The plurality of optical elements may be configured to collect light incident from thelight modulator 20, so that light passing through theoptical system 30 may be irradiated on the optical medium M in a focused state.

이러한 광학계(30)는 광학계 전체 또는 광학계를 구성하는 복수의 광학소자 중 적어도 하나가 이동 가능하게 설치되어, 광학매체(M) 상에 조사되는 광의 초점 거리, 조사 면적, 광의 분포를 조절하도록 설치될 수 있다.Theoptical system 30 may be installed to move at least one of the optical system as a whole or a plurality of optical elements constituting the optical system to adjust the focal length, the irradiation area, and the distribution of light irradiated on the optical medium M. FIG. Can be.

구체적으로, 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치(1)는 광학계 또는 광학계를 구성하는 복수의 광학 소자 중 적어도 하나의 위치를 조절할 수 있는 제1 위치조절부(70)를 구비할 수 있다. 제1 위치조절부(70)는 광학계와 인접 설치되는 별도의 구성요소로 구성될 수도 있고, 광학계에 내장 설치된 구성일 수도 있다. 따라서, 제1 위치조절부(70)는 제어부(60)의 제어신호에 의해 광학계 전체 또는 광학계를 구성하는 일부의 광학소자의 위치를 제어함으로서, 광학매체(M) 상으로 조사되는 광의 특성을 변경시킬 수 있다.In detail, the opticalinformation processing apparatus 1 according to the present exemplary embodiment may include an optical system or a firstposition adjusting unit 70 capable of adjusting the position of at least one of the plurality of optical elements configuring the optical system. The firstposition adjusting unit 70 may be configured as a separate component that is installed adjacent to the optical system, or may be a component installed in the optical system. Therefore, the firstposition adjusting unit 70 changes the characteristics of the light irradiated onto the optical medium M by controlling the position of the whole optical system or a part of the optical elements constituting the optical system by the control signal of thecontrol unit 60. You can.

한편, 스테이지(40)는 광학매체(M)를 위치시킬 수 있는 구성으로, 광학계(30)를 기준으로 광 변조기(20)의 타측에 배치된다. 이러한 스테이지(40)는 광학매체(M)의 종류 및 광의 조사 방향에 따라 다양한 형태로 구성될 수 있으며, 구체적인 설명은 생략하도록 한다. 따라서, 광학매체(M)는 스테이지(40)에 의해 위치가 결정되며, 광학계(30)를 통해 집속된 광은 광학매체(M) 상에 조사되어 정보를 기록하거나, 광학매체(M) 상에서 반사되면서 기 저장된 정보를 취득하는 것이 가능하다.On the other hand, the stage 40 is configured to position the optical medium (M), it is disposed on the other side of theoptical modulator 20 on the basis of the optical system (30). The stage 40 may be configured in various forms according to the type of the optical medium (M) and the irradiation direction of light, and a detailed description thereof will be omitted. Accordingly, the optical medium M is positioned by the stage 40, and the light focused through theoptical system 30 is irradiated onto the optical medium M to record information or to be reflected on the optical medium M. It is possible to acquire previously stored information.

한편, 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치(1)는 스테이지(40) 상에 위치한 광학매체(M)의 위치를 조절할 수 있는 제2 위치조절부(80)를 더 포함할 수 있다. 제2 위치조절부(80)는 스테이지와 인접 설치되는 별도의 구성요소로 구성될 수도 있고, 스테이지에 내장 설치되는 구조일 수도 있다. 이러한 제2 위치조절부(80)는 광학매체(M)를 수평 또는 수직 방향으로 이동시키거나, 스테이지(40)에 설치된 광학매체(M)의 기울기를 조절하는 것도 가능하다. 따라서, 제2 위치조절부(80)는 제어부(60)의 제어신호에 의해 광학매체(M)의 위치 또는 기울기를 제어하는 것이 가능하다.On the other hand, the opticalinformation processing device 1 according to the present embodiment may further include a secondposition adjusting unit 80 that can adjust the position of the optical medium (M) located on the stage (40). The secondposition adjusting unit 80 may be configured as a separate component that is installed adjacent to the stage, or may be a structure that is installed in the stage. The secondposition adjusting unit 80 may move the optical medium M in the horizontal or vertical direction or adjust the inclination of the optical medium M installed in the stage 40. Accordingly, the secondposition adjusting unit 80 may control the position or tilt of the optical medium M by the control signal of thecontrol unit 60.

한편, 광학매체(M) 방향으로 집광되어 조사된 빛은 광학매체(M) 상에서 반사된다. 이때, 반사되는 광은 광학매체 상에서의 난반사로 인해 편광 특성이 유지되지 않으며, 이로 인해 P파 특성을 갖는 광과 S파 특성을 갖는 광을 모두 포함할 수 있다.On the other hand, the light collected and irradiated in the direction of the optical medium (M) is reflected on the optical medium (M). In this case, the reflected light does not maintain polarization characteristics due to diffuse reflection on the optical medium, and thus may include both light having P wave characteristics and light having S wave characteristics.

광학매체(M) 상에서 반사된 광은 광학매체(M) 방향으로 입사되던 광 경로와는 반대 방향으로 진행하게 된다. 따라서, 반사된 광은 광학계(30)를 다시 통과하면서 집광된 상태가 해제된 상태로 제2 편광 빔 스플리터(32)에 도달한다. 이 가운데, S파 특성을 갖는 광은 제2 편광 빔 스플리터(32)에 의해 반사되어 일측에 구비되는 광 검출부(50)로 조사될 수 있다.The light reflected on the optical medium M travels in the opposite direction to the light path that was incident in the optical medium M direction. Accordingly, the reflected light reaches the secondpolarization beam splitter 32 with the focused state released while passing through theoptical system 30 again. Among them, the light having the S-wave characteristic may be reflected by the secondpolarization beam splitter 32 and irradiated to thelight detector 50 provided at one side.

광 검출부(50)는 광학매체(M)로부터 반사된 광을 검출하기 위한 구성으로서, CCD(charged coupled device) 또는 CMOS(complementary metal-oxide semiconductor) 등의 촬상 소자로 구성될 수 있다. 따라서, 광 검출부(50)는 CCD 또는 CMOS의 표면에 결상되는 광을 검출함으로써, 광학매체(M)에서 반사된 광의 패턴을 검출하는 것이 가능하다. 여기서, 광의 패턴이라 함은 반사된 광이 광 검출부(50)에서 결상되는 모습을 의미하는 것으로, 상의 위치, 형상, 크기 및 광의 분포 등에 따라 다양한 특성을 나타낼 수 있다. 따라서, 광 검출부(50)가 광학매체(M)로부터 반사된 광의 패턴을 검출함으로써, 집속된 광이 광학매체 상에 어떤 형태로 조사되는지를 파악하는 것이 가능하다.Thelight detector 50 is configured to detect light reflected from the optical medium M, and may be configured as an imaging device such as a charged coupled device (CCD) or a complementary metal-oxide semiconductor (CMOS). Therefore, thelight detector 50 can detect the pattern of light reflected from the optical medium M by detecting light formed on the surface of the CCD or CMOS. Here, the pattern of light means that the reflected light is formed in thelight detector 50 and may exhibit various characteristics according to the position, shape, size and distribution of light. Accordingly, by detecting the pattern of the light reflected from the optical medium M, thelight detector 50 can determine how the focused light is irradiated onto the optical medium.

따라서, 제어부(60)는 광 검출부(50)에서 검출된 광의 패턴을 분석하여, 광학매체(M)로 광이 정상적으로 조사되는지를 분석하고, 분석된 내용에 따라 제1 위치조절부(70) 및 제2 위치조절부(80)를 이용하여, 광학계(30) 또는 광학매체(M)의 위치를 조절함으로써 광학매체 상에 광이 정상적으로 조사되도록 제어할 수 있다.Accordingly, thecontroller 60 analyzes the pattern of the light detected by thelight detector 50, analyzes whether the light is normally irradiated onto the optical medium M, and according to the analyzed content, thefirst position controller 70 and By adjusting the position of theoptical system 30 or the optical medium M by using the secondposition adjusting unit 80, it is possible to control so that light is normally irradiated onto the optical medium.

이하에서는 도 2 내지 도 8을 참조하여, 광 검출기에서 검출되는 광 패턴을 분석하여, 제어부가 제어하는 예에 대해 구체적으로 설명하도록 한다.Hereinafter, an example in which the controller controls the light pattern detected by the photo detector will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 8.

전술한 바와 같이, 제어부(60)는 광 검출부(50)에서 검출된 광의 패턴을 이용하여 광학매체(M)로 조사되는 광의 특성을 분석한다. 여기서, 광 검출부(50)는 광학매체(M)를 서로 다른 위치에 위치시킨 상태에서 각각 반사되는 광의 패턴을 검출할 수 있다. 그리고, 제어부(60)는 이러한 방식으로 검출된 복수개의 광 패턴을 이용하여 광학매체(M)로 조사되는 광의 특성, 보다 구체적으로 광의 초점 위치, 스팟 사이즈(spot size), 광의 조사 각도 또는 광의 세기 분포 등에 대한 정보를 분석할 수 있다.As described above, thecontroller 60 analyzes the characteristics of the light irradiated onto the optical medium M using the pattern of the light detected by thelight detector 50. Here, thelight detector 50 may detect a pattern of reflected light in the state where the optical medium M is positioned at different positions. Then, thecontroller 60 uses the plurality of light patterns detected in this manner to characterize the light irradiated onto the optical medium M, more specifically, the focus position, the spot size, the irradiation angle of the light, or the intensity of the light. Analyze information about distribution, etc.

특히, 광학매체(M)가 광축 방향을 따라 수직 방향으로 이동하는 경우(도 1 기준으로 수직 방향), 이동 전후 광의 패턴을 분석함으로써 광학계를 통과한 광의 초점 위치 및 광학매체의 기울기 등의 정보를 확인하는 것이 가능하다.In particular, when the optical medium M moves in the vertical direction along the optical axis direction (vertical direction as shown in FIG. 1), information such as the focal position of the light passing through the optical system and the tilt of the optical medium is analyzed by analyzing the pattern of light before and after the movement. It is possible to confirm.

도 2는 도 1에서 광학매체의 이동시 광학매체 상에서 광이 조사되는 모습을 도시한 일 예이고, 도 3은 도 2의 각 위치에서 광 검출부를 통해 검출된 광의 패턴을 도시한 평면도이다.FIG. 2 is a view illustrating an example in which light is irradiated onto an optical medium when the optical medium is moved in FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view illustrating a pattern of light detected through the light detector at each position of FIG. 2.

도 2의 a는 광학매체(M)가 제1 위치에 위치한 상태를 도시한 것이다. 도 2의 a에 도시된 바와 같이, 광학매체(M)는 일정 각도(θ) 만큼 기울어진 상태로 위치하고 있다. 따라서, 수직 방향으로 집속된 광이 입사되는 경우에도, 광학매체에 의해 반사되는 광은 수직 방향에서 소정 각도(2θ)만큼 비스듬하게 진행하게 된다.2A illustrates a state in which the optical medium M is positioned at the first position. As shown in FIG. 2A, the optical medium M is inclined by a predetermined angle θ. Therefore, even when light focused in the vertical direction is incident, the light reflected by the optical medium proceeds obliquely by a predetermined angle 2θ in the vertical direction.

따라서, 도 3의 a에 도시된 바와 같이 광 검출부(50)의 표면에 결상되는 광 패턴은 광 검출부(50)의 중심부에서 일측 방향으로 치우친 상태로 형성된다. 그리고, 원형의 광을 조사하는 경우에도 도 3의 a에 도시된 바와 같이 특정 방향으로 연장되면서 타원의 형상으로 결상된다.Accordingly, as shown in FIG. 3A, the light pattern formed on the surface of thelight detector 50 is formed in a state in which the light pattern is biased in one direction from the center of thelight detector 50. And, even in the case of irradiating circular light, as shown in a of FIG. 3, it is formed in the shape of an ellipse while extending in a specific direction.

한편, 도 2의 b는 제어부(60)가 제2 위치조절부(80)를 제어하여, 광학매체(M)를 제2 위치로 이동시킨 상태를 도시한 것이다. 이때, 제2 위치는 제1 위치와 비교하여 광축 방향을 따라(수직 방향) 기 설정된 간격(d) 만큼 이격된 위치에 해당한다. 본 실시예에서는 제2 위치가 광학계(30)의 단부로부터 더 멀게 위치하고 있으나, 이는 일 예이며 광학계의 단부와 더 가깝게 상측 방향으로 이동한 위치일 수도 있다.2B illustrates a state in which thecontrol unit 60 controls the secondposition adjusting unit 80 to move the optical medium M to the second position. In this case, the second position corresponds to a position spaced apart by a predetermined interval d along the optical axis direction (vertical direction) compared to the first position. Although the second position is located farther from the end of theoptical system 30 in the present embodiment, this is an example and may be a position moved upward in a direction closer to the end of the optical system.

도 2의 b와 같이 광학매체(M)의 위치가 이동하는 경우에도, 광학매체의 기울기는 동일하게 유지된다. 따라서, 광학계(30)로부터 수직 방향으로 집속된 광이 입사되면, 도 2의 a와 마찬가지로 반사광이 수직 방향으로부터 2θ만큼 비스듬하게 진행하게 된다. 다만, 도 2의 a에 비해 광학매체(M)와 광학계(30) 사이에서 광이 진행하는 경로가 증가하게 된다. 따라서, 도 3의 b에 도시된 바와 같이, 광 검출부(50)에 결상된 광 패턴은 도 3의 a 패턴과 형상은 동일하나 일측 방향으로 보다 치우쳐 위치하게 되고, 도 3의 a 패턴보다 확대된 패턴을 갖는다.Even when the position of the optical medium M is moved as shown in b of FIG. 2, the inclination of the optical medium is kept the same. Therefore, when the light focused in the vertical direction is incident from theoptical system 30, the reflected light proceeds obliquely by 2θ from the vertical direction as in a of FIG. However, compared to a of FIG. 2, a path through which light travels between the optical medium M and theoptical system 30 increases. Thus, as shown in b of FIG. 3, the light pattern formed in thelight detector 50 has the same shape as the a pattern of FIG. 3 but is more oriented in one direction and is larger than the a pattern of FIG. 3. Has a pattern.

따라서, 제어부(60)는 광학매체(M)가 제1 위치에서 얻어지는 제1 패턴(도 3의 a 패턴)과 제2 패턴(도 3의 b 패턴)을 분석함으로써, 광학매체(M)가 기울어진 상태로 위치하는 것을 확인할 수 있다. 그리고, 정상적인 광 패턴과 제1 패턴 및 제2 패턴을 비교하여, 광학매체가 기울어진 방향 및 기울어진 각도를 산출할 수 있다(예를 들어, 정상적인 경우 원형의 광 패턴이 검출되도록 설계된 경우, 제1 패턴 또는 제2 패턴의 장축과 단축의 비율을 이용하여 경사각을 산출하는 것이 가능하다). 따라서, 제어부(60)는 제2 위치조절부(80)를 제어하여 광학매체(M)가 광축과 수직 방향을 유지하도록 위치시키는 것이 가능하다.Therefore, thecontrol unit 60 analyzes the first pattern (pattern a of FIG. 3) and the second pattern (b pattern of FIG. 3) obtained by the optical medium M at the first position, such that the optical medium M is tilted. You can see it's in the true state. In addition, by comparing the normal light pattern with the first pattern and the second pattern, the tilt direction and the tilt angle of the optical medium may be calculated (for example, when a circular light pattern is designed to detect a normal case, It is possible to calculate the inclination angle using the ratio of the long axis and short axis of one pattern or the second pattern). Accordingly, thecontroller 60 may control the secondposition adjusting unit 80 to position the optical medium M to maintain the direction perpendicular to the optical axis.

다만, 광학매체(M)가 기울어져있는 경우 정상적인 광 패턴에 비해 일측 방향으로 늘어난 형상의 광 패턴이 광 검출부(50)의 중심으로부터 일측 방향으로 치우쳐져 검출된다. 따라서, 위와 같이 2개의 위치에서 얻어진 패턴을 비교하지 않은 경우에도, 광학매체의 기울기를 예상할 수 있을 것이나, 이러한 현상이 광학계의 위치 결함에 의한 것인지, 광학매체의 위치 결함에 의한 것인지 불분명할 수 있다. 따라서, 위와 같이 서로 다른 위치에서 검출된 복수의 광 패턴을 이용하여 정렬 상태를 분석하는 것이 보다 정확할 수 있다.However, when the optical medium M is inclined, a light pattern having a shape extending in one direction compared to a normal light pattern is detected by being biased in one direction from the center of thelight detector 50. Therefore, even when the patterns obtained at the two positions are not compared as described above, the inclination of the optical medium may be expected, but it may be unclear whether such a phenomenon is caused by the position defect of the optical system or the position defect of the optical medium. have. Therefore, it may be more accurate to analyze the alignment state using a plurality of light patterns detected at different positions as described above.

한편, 도 4는 도 1에서 광학매체의 이동시 광학매체 상에서 광이 조사되는 모습을 도시한 다른 예이고, 도 5는 도 4의 각 위치에서 광 검출부를 통해 검출된 광의 패턴을 도시한 평면도이다.Meanwhile, FIG. 4 is another example illustrating a state in which light is irradiated on the optical medium when the optical medium moves in FIG. 1, and FIG. 5 is a plan view illustrating a pattern of light detected through the light detector at each position of FIG. 4.

도 4의 a는 광학매체(M)를 제1 위치에 위치시킨 상태이고, 도 4의 b는 광학매체(M)를 제2 위치에 위치시킨 상태이다. 도 4는 도 2와 비교하여 광학매체(M)가 경사지지 않고, 광축과 수직 방향으로 수평을 유지하며 위치한다.4A illustrates a state where the optical medium M is positioned at the first position, and FIG. 4B illustrates a state where the optical medium M is positioned at the second position. 4, the optical medium M is not inclined as compared with FIG. 2, and is positioned horizontally in a direction perpendicular to the optical axis.

따라서, 도 5의 a에 도시된 바와 같이, 광학매체(M)가 제1 위치에 위치한 상태의 광 패턴은 광 검출부(50)의 중심부에 원형으로 검출된다. 그리고, 도 5의 b에 도시된 바와 같이, 광학매체(M)가 제2 위치에 위치한 상태의 광 패턴은 광 검출부(50)의 중심부에 원형으로 검출되면서, 도 5의 a에 비해 확대된 형태로 검출될 수 있다.Therefore, as shown in FIG. 5A, the light pattern with the optical medium M positioned at the first position is circularly detected at the center of thelight detector 50. As shown in b of FIG. 5, the optical pattern of the optical medium M in the second position is circularly detected at the center of thelight detector 50, and is enlarged compared to a of FIG. 5. Can be detected.

따라서, 제어부는 제1 패턴(도 5의 a) 및 제2 패턴(도 5의 b)을 분석하여, 두 개의 패턴의 형상 및 중심 위치가 동일하고, 크기만 상이한 경우 광학매체의 수평도 및 광학계의 광축 방향 정렬이 정상적으로 이루어진 것으로 판단하고, 초점 위치 및 스팟 사이즈(spot size)를 제어할 수 있다.Therefore, the controller analyzes the first pattern (a of FIG. 5) and the second pattern (b of FIG. 5), and when the two patterns have the same shape and center position and only different sizes, the horizontality and the optical system of the optical medium. It can be determined that the alignment of the optical axis direction is normally performed, and the focus position and the spot size can be controlled.

여기서, 초점 위치 및 스팟 사이즈의 제어는 기 설정된 광 패턴의 크기와 광 검출기에서 검출된 광 패턴을 일치시키는 방식으로 이루어질 수 있다. 이를 위해, 제어부(60)는 제1 위치조절부(70)를 제어하여 광학계의 일부 광학소자의 위치(예를 들어, 대물렌즈)를 광축 방향으로 이동시키거나, 제2 위치조절부(80)를 제어하여 광학매체(M)의 위치를 수직 방향으로 이동시킬 수 있다. 그리고, 각각의 위치에서 획득된 광 패턴이 기 설정된 광 패턴과 일치할 경우, 초점 위치 및 스팟 사이즈가 일치하는 상태로 파악하여 세팅을 완료하는 것이 가능하다.Here, the control of the focus position and the spot size may be performed in a manner that matches the size of the preset light pattern with the light pattern detected by the photo detector. To this end, thecontroller 60 controls the firstposition adjusting unit 70 to move the position (eg, the objective lens) of some optical elements of the optical system in the optical axis direction, or the secondposition adjusting unit 80. By controlling the position of the optical medium (M) can be moved in the vertical direction. When the light pattern acquired at each position coincides with the preset light pattern, it is possible to grasp the state where the focus position and the spot size coincide to complete the setting.

이와 같이, 본 실시예에 의할 경우, 제어부(60)는 광 검출부(50)로부터 획득되는 광 패턴의 정보를 이용하여 광학계 및 광학매체의 위치를 정렬시킬 수 있다. 다만, 위에서는 일부의 적용 예만을 설명하였으나, 광 검출부에서 얻어지는 광 패턴의 위치(중심의 위치 또는 장축 및 단축과 같은 특징점의 위치), 크기, 형상 및 광의 세기 분포에 대한 정보를 이용하여, 광의 초점 위치, 스팟 사이즈 뿐 아니라, 조사 각도 및 광의 세기 분포까지도 다양하게 정밀하게 보정하는 것이 가능하다.As described above, according to the present exemplary embodiment, thecontroller 60 may align the positions of the optical system and the optical medium by using the information of the light pattern obtained from thelight detector 50. However, although only some application examples have been described above, light information may be obtained by using information on the position of the light pattern (the position of the center or the feature points such as the major axis and the minor axis), the size, the shape, and the intensity distribution of the light obtained by the light detection unit. Not only the focus position and the spot size, but also the irradiation angle and the light intensity distribution can be variously corrected.

이하에서는 도 6 내지 도 8을 참조하여, 본 실시예에 따른 따른 활용예에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, a usage example according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 6 to 8.

우선, 도 6은 도 1에서 파장에 따른 광 패턴을 도시한 평면도이다. 앞서 설명한 바와 같이, 본 실시예에 따른 광원은 다양한 파장의 광을 조사하도록 구성될 수 있다. 그런데, 광학계를 구성하는 일부 광학소자는 진행하는 광의 파장에 따라 상이한 수차를 갖기 때문에, 광학계 및 광학매체가 동일한 위치에 있는 경우에도 광원으로부터 조사되는 광의 파장에 따라 광 검출부에서 검출되는 광 패턴은 상이할 수 있다.First, FIG. 6 is a plan view illustrating a light pattern according to a wavelength in FIG. 1. As described above, the light source according to the present embodiment may be configured to irradiate light of various wavelengths. However, since some optical elements constituting the optical system have different aberrations depending on the wavelength of the traveling light, even when the optical system and the optical medium are in the same position, the light pattern detected by the light detection unit differs depending on the wavelength of light emitted from the light source. can do.

도 6의 a는 레드 레이저를 조사한 경우 광 검출부(50)에서 얻어진 광 패턴이고, 도 6의 b는 그린 레이저를 조사한 경우 광 검출부(50)에서 얻어진 광 패턴이며, 도 6의 c는 블루 레이저를 조사한 경우 광 검출부(50)에서 얻어진 광 패턴일 수 있다.6A is a light pattern obtained by thelight detector 50 when the red laser is irradiated, b of FIG. 6 is a light pattern obtained by thelight detector 50 when the green laser is irradiated, and FIG. When irradiated, the light pattern may be a light pattern obtained by thelight detector 50.

이와 같이, 동일한 광 경로를 진행하더라도 광의 파장에 따라 검출되는 광 패턴에는 소정 간격의 오차가 발생할 수 있다. 따라서, 이 경우 제어부(60)는 각 광의 파장에 따른 광 패턴을 분석하여 파장에 따른 보정값을 산출할 수 있다. 예를 들어, 레드 레이저의 경우 (x1, y1), 그린 레이저의 경우 (x2, y2), 블루 레이저의 경우 (x3, y3)로 산출할 수 있다.As such, even if the same optical path is performed, errors of a predetermined interval may occur in the light pattern detected according to the wavelength of light. Therefore, in this case, thecontroller 60 may calculate the correction value according to the wavelength by analyzing the light pattern according to the wavelength of each light. For example, it may be calculated as (x1, y1) for a red laser, (x2, y2) for a green laser, and (x3, y3) for a blue laser.

따라서, 제어부(60)는 이러한 광의 파장별 보정값을 저장한 후, 광원에서 조사되는 광의 파장에 따라 광학계(30)를 구성하는 광학 소자의 일부의 위치를 선택적으로 제어함으로써, 광원에서 조사되는 광의 파장에 의해 발생할 수 있는 오차를 최소화시키는 것이 가능하다.Therefore, thecontrol unit 60 stores the correction value for each wavelength of the light, and then selectively controls the position of a part of the optical element constituting theoptical system 30 according to the wavelength of the light irradiated from the light source, thereby reducing the amount of light irradiated from the light source. It is possible to minimize the errors that can be caused by the wavelength.

도 7은 도 1에서 기준광이 조사되는 모습을 도시한 평면도이고, 도 8은 도 7에서 기준광의 조사 단면 및 광학매체에 조사되는 단면을 도시한 단면도이다.7 is a plan view illustrating a state in which the reference light is irradiated in FIG. 1, and FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a cross section of the irradiation light of the reference light and an optical medium in FIG. 7.

도 7에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치(1)는 기준광을 조사하는 기준광 조사부(90)를 더 포함하여 구성할 수 있다. 홀로그래피 저장 매체와 같은 광학매체는 광의 간섭 현상에 의해 정보의 기록이 이루어지며, 이때 기준광은 광원으로부터 조사되는 광과 기 설정된 조사 각도로 광학매체(M)에 조사된다.As shown in FIG. 7, the opticalinformation processing apparatus 1 according to the present embodiment may further include areference light irradiator 90 for irradiating reference light. In an optical medium such as a holographic storage medium, information is recorded by an interference phenomenon of light, wherein the reference light is irradiated to the optical medium M at a predetermined irradiation angle with the light irradiated from the light source.

이때, 각도 다중화 방식을 적용한 광학매체의 경우 기준광이 조사되는 각도에 따라 동일한 위치에서 서로 다른 정보가 기록되거나 재생될 수 있고, 각도 다중화 방식을 적용하지 않는 경우에도 조사 각도에 따라 검출되는 광 패턴의 세기가 상이할 수 있다. 따라서, 광 정보 처리장치를 정상적인 동작시키기 위해서는 기준광이 기 설정된 조사각도로 광학매체에 조사되어야 하며, 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치는 광 검출부(50)에 형성되는 기준광의 패턴을 이용하여 기준광의 조사 각도를 분석하고 보정하는 것이 가능하다.In this case, in the case of the optical medium to which the angle multiplexing method is applied, different information may be recorded or reproduced at the same position according to the angle at which the reference light is irradiated, and even when the angle multiplexing method is not applied, The intensity may be different. Therefore, in order to operate the optical information processing apparatus normally, the reference light should be irradiated to the optical medium at a predetermined irradiation angle, and the optical information processing apparatus according to the present embodiment uses the reference light pattern formed in thelight detector 50 to reference the optical medium. It is possible to analyze and correct the irradiation angle of the light.

도 8은 도 7에서 A면에서 기준광의 단면과 기준광에 의해 검출되는 광 패턴을 도시한 도면이다. 기준광이 광학매체(M)로 조사되면, 광학매체(M) 상에서 난반사가 발생하며, 기준광 중 일부가 광학계(30)를 통해 광 검출부(50)로 도달한다. 따라서, 기준광 조사시, 광 검출부(50)에서 검출되는 광 패턴을 이용하여 기준광의 조사 각도를 산출하는 것이 가능하다.FIG. 8 is a view illustrating a cross section of the reference light and a light pattern detected by the reference light on plane A in FIG. 7. When the reference light is irradiated onto the optical medium M, diffuse reflection occurs on the optical medium M, and a portion of the reference light reaches thelight detector 50 through theoptical system 30. Therefore, when the reference light is irradiated, it is possible to calculate the irradiation angle of the reference light using the light pattern detected by thelight detector 50.

도 8의 a와 같이 기준광이 원형의 단면(도 8의 a의 좌측)을 갖고 비스듬히 광학매체에 조사되면, 광 검출부(50)에서 검출되는 광 패턴은 타원 형상(도 8의 a의 우측)으로 검출된다. 따라서, 앞서 도 3에서 설명한 것과 유사하게, 광의 조사각도에 따라 광 패턴은 일정한 방향으로 늘어난 형상을 갖도록 구성된다. 따라서, 타원의 장축(d2)과 단축(d1)의 비율을 이용하여 기준광이 정상적이 조사각도로 조사되는지를 판단하는 것이 가능하다.When the reference light has a circular cross section (left side of a in FIG. 8) and is irradiated to the optical medium at an angle as shown in FIG. 8A, the light pattern detected by thelight detecting unit 50 has an elliptic shape (right side in a of FIG. 8). Is detected. Thus, similar to that described with reference to FIG. 3, the light pattern is configured to have a shape extending in a predetermined direction according to the irradiation angle of light. Therefore, it is possible to determine whether the reference light is normally irradiated at the irradiation angle by using the ratio of the long axis d2 and the short axis d1 of the ellipse.

도 8의 a에서는 기준광이 원형의 단면으로 조사되는 예를 설명하고 있으나, 도 8의 b 및 c에 도시된 것과 같이 기준광이 특정한 형상의 단면을 갖는 경우에도 광 패턴의 장축과 단축의 비율을 기준으로 기준광의 조사각도를 산출하는 것이 가능하다.8A illustrates an example in which the reference light is irradiated in a circular cross section, but even when the reference light has a specific cross section as shown in FIGS. 8B and 8C, the ratio of the long axis and the short axis of the light pattern is referred to. It is possible to calculate the irradiation angle of the reference light.

따라서, 제어부(60)는 검출된 광 패턴을 분석하여 기준광의 조사 각도를 산출한 후, 조사 각도가 기 설정된 각도와 상이한 경우 제3 위치조절부(미도시)를 이용하여 기준광 조사부(90)를 제어함으로써 조사 각도를 보정하는 것이 가능하다.Therefore, thecontroller 60 analyzes the detected light pattern to calculate the irradiation angle of the reference light, and then, when the irradiation angle is different from the preset angle, thecontrol unit 60 uses the third position adjusting unit (not shown) to operate the referencelight irradiation unit 90. By controlling, it is possible to correct the irradiation angle.

이와 같이, 본 실시예에 의할 경우 광학매체 및 광학계의 정렬 뿐 아니라, 광의 파장에 따른 오차 보정 및 기준광의 조사 각도까지 자동적으로 제어하는 것이 가능하므로, 광 정보를 정밀하게 처리할 수 있는 장점이 있다.As described above, the present embodiment can automatically control not only the alignment of the optical medium and the optical system, but also the error correction and the irradiation angle of the reference light according to the wavelength of light. have.

이하에서는 도 9 및 도 10을 참조하여, 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치의 제어방법에 대해 설명하도록 한다. 우선, 도 9는 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치의 제어방법을 도시한 순서도이다.Hereinafter, a method of controlling the optical information processing apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 9 and 10. First, FIG. 9 is a flowchart showing a control method of the optical information processing apparatus according to the present embodiment.

우선, 광학매체(M)를 제1 위치에 위치시킨 상태에서, 광원(10)을 구동하여 제1 광을 조사하는 단계를 진행한다(S10). 이때, 광원(10)에서 조사되는 광은 광학매체(M)에 정보를 기록하기 위한 광일 수도 있으며, 광학계 또는 광학매체의 정렬 상태를 측정하기 위한 별도의 정렬용 광일 수도 있다.First, in a state where the optical medium M is positioned at the first position, the step of irradiating the first light by driving thelight source 10 is performed (S10). In this case, the light irradiated from thelight source 10 may be light for recording information on the optical medium M, or may be separate alignment light for measuring the alignment state of the optical system or the optical medium.

광원(10)으로부터 조사된 제1 광은 광학매체(M) 상에서 반사되어 광 검출부(50)로 입사되고, 광 검출부(50)는 제1 광에 의해 표면에 결상되는 제1 광 패턴을 검출한다(S20).The first light irradiated from thelight source 10 is reflected on the optical medium M and is incident on thelight detector 50, and thelight detector 50 detects the first light pattern formed on the surface by the first light. (S20).

그리고, 제어부(60)는 제2 위치조절부(80)를 제어하여 광학매체(M)를 제2 위치로 이동시킨 후, 제2 광을 조사한다(S30). 이때, 전술한 바와 같이 제2 위치는 제1 위치와 비교하여 수직 방향으로 일정 간격 이격된 위치에 해당한다. 그리고, 제2 광은 제1 광과 동일한 특성을 갖는 광을 이용한다.In addition, thecontroller 60 controls the secondposition adjusting unit 80 to move the optical medium M to the second position, and then irradiates the second light (S30). In this case, as described above, the second position corresponds to a position spaced at a predetermined interval in the vertical direction compared to the first position. The second light uses light having the same characteristics as the first light.

제2 광도 제1 광과 마찬가지로 광학매체 상에서 반사되어 광 검출부(50)로 입사되고, 광 검출부(50)는 제2 광에 의해 표면에 결상되는 제2 광 패턴을 검출한다(S40).Like the first light, the second light is reflected on the optical medium and is incident to thelight detector 50, and thelight detector 50 detects the second light pattern formed on the surface by the second light (S40).

다만, 본 제어방법에서는 광원에서 조사되는 광을 제1 광 및 제2 광으로 구분하여, 광이 광학매체의 위치에 따라 단속적으로 조사되는 것으로 설명하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 광원에서 광이 연속적으로 조사되는 상태에서 광학매체가 이동하고, 광 검출부는 선택적으로 제1 패턴 및 제2 패턴을 검출하도록 구성하는 것도 가능하다.However, in the control method, the light irradiated from the light source is divided into the first light and the second light, and the light is intermittently irradiated according to the position of the optical medium. However, the present invention is not limited thereto. The optical medium moves in a state where light is continuously irradiated, and the light detector may be configured to selectively detect the first pattern and the second pattern.

이와 같이, 제1 광 패턴 및 제2 광 패턴이 검출되면 제어부(60)는 두 개의 패턴을 비교 분석하여 광학매체(M)의 틸팅(tilting) 여부를 판단한다(S50). 여기서, 두 개의 광 패턴의 중심의 위치가 동일한 위치에 있는 것으로 판단되면, 광학매체(M)가 수평을 유지하고 있는 것으로 판단한다. 다만, 광학매체(M)가 일정 각도만큼 기울어진 것으로 판단되면 제2 위치조절부(80)를 제어하여 광학매체(M)의 기울기를 보정한 후(S60), 서로 다른 위치에서 두 개의 광 패턴을 획득하여 제대로 경사도 보정이 되었는지를 판단한다.As such, when the first light pattern and the second light pattern are detected, thecontroller 60 compares the two patterns to determine whether the optical medium M is tilted (S50). If it is determined that the positions of the centers of the two light patterns are at the same position, it is determined that the optical medium M is kept horizontal. However, when it is determined that the optical medium M is inclined by a predetermined angle, the secondposition adjusting unit 80 is controlled to correct the inclination of the optical medium M (S60). Determine the correct slope correction by obtaining.

그리고, 광학매체(M)가 수평을 유지하고 있는 것으로 판단되면, 제어부(60)는 제1 위치조절부(70) 또는 제2 위치조절부(80)를 제어하면서 초점 위치를 조절하는 단계를 수행한(S70) 후 종료할 수 있다.If it is determined that the optical medium M is horizontal, thecontroller 60 controls the focus position while controlling the firstposition adjusting unit 70 or the secondposition adjusting unit 80. After one (S70) can be finished.

한편, 도 10은 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치의 부가적인 제어방법을 도시한 순서도이다. 도 9에서는 광 패턴을 이용하여 광학매체의 경사도 및 초점 위치를 조절하는 방법을 수행하는 단계를 설명하고 있으나, 이 이외에도 도 10에 도시된 바 같이 광 패턴을 분석하여 파장에 따른 보정값을 산출하고, 기준광의 조사 각도를 제어하는 단계를 부가적로 수행하는 것도 가능하다.10 is a flowchart showing an additional control method of the optical information processing apparatus according to the present embodiment. In FIG. 9, the method of adjusting the inclination and the focus position of the optical medium using the light pattern is described. In addition, as shown in FIG. 10, the light pattern is analyzed to calculate a correction value according to the wavelength. It is also possible to additionally perform the step of controlling the irradiation angle of the reference light.

예를 들어, 초점 위치 조절하는 단계(S70)가 완료된 후, 광원은 레드 레이저를 조사(S81)한 후, 광 패턴을 검출하여 적색 파장대역에 따른 보정 좌표를 산출하여 이를 저장한다(S82). 그리고, 광원은 다시 그린 레이저를 조사(S83)한 후, 동일한 방식으로 녹색 파장대역에 따른 보정 좌표를 산출하여 저장한다(S84). 나아가, 광원은 다시 블루 레이저를 조사(S85)한 후, 동일한 방식으로 파란색의 파장대역에 따른 보정 좌표를 산출하여 저장한다(S86).For example, after the step of adjusting the focus position (S70) is completed, the light source irradiates the red laser (S81), detects the light pattern, calculates the correction coordinates according to the red wavelength band, and stores it (S82). The light source irradiates the green laser again (S83), and then calculates and stores correction coordinates according to the green wavelength band in the same manner (S84). Further, the light source irradiates the blue laser again (S85), and then calculates and stores correction coordinates according to the blue wavelength band in the same manner (S86).

따라서, 제어부(60)는 이와 같이 산출된 파장별 보정 좌표를 이용하여, 광 정보 처리장치(1) 구동시 광원에서 발생시키는 광의 파장에 따라 보정 좌표를 고려하여 광학계(30)의 위치를 제어함으로써 파장에 따른 오차를 최소화시키는 것이 가능하다.Therefore, thecontroller 60 controls the position of theoptical system 30 by considering the correction coordinates according to the wavelength of light generated by the light source when the opticalinformation processing apparatus 1 is driven, using the calculated correction coordinates for each wavelength. It is possible to minimize the error due to the wavelength.

한편, 파장에 따른 보정 좌표를 산출하는 단계가 종료되면 기준광의 조사각을 정렬하는 단계를 추가적으로 진행할 수 있다. 이를 위해, 기준광 조사부(90)는 기준광을 광학매체로 조사한다(S91). 그리고, 광 검출부(50)는 이때 광학매체(M)로부터 전달된 기준광에 의해 형성되는 광 패턴을 검출한다. 그리고, 제어부(60)는 검출된 광 패턴을 이용하여 기준광의 조사 각도를 분석하고, 기 설정된 조사 각도에 부합하는지 여부를 판단한다(S92). 만약, 기준광의 조사각이 기 설정된 조사 각도와 상이한 경우 제3 위치조절부를 제어하여 기준광의 조사각도를 조절한다(S93). 그리고, 다시 기준광을 조사하고 광 패턴을 분석하여 기준광의 조사 각도가 기 설정된 각도에 부합하는지 판단하는 단계를 반복함으로써, 기준광의 조사 각도를 정확하게 정렬시키는 것이 가능하다.On the other hand, when the step of calculating the correction coordinates according to the wavelength is finished, the step of aligning the irradiation angle of the reference light can be further proceeded. To this end, thereference light irradiator 90 irradiates the reference light with the optical medium (S91). In addition, thelight detector 50 detects a light pattern formed by the reference light transmitted from the optical medium M. Then, thecontroller 60 analyzes the irradiation angle of the reference light by using the detected light pattern, and determines whether or not it corresponds to the preset irradiation angle (S92). If the irradiation angle of the reference light is different from the preset irradiation angle, the irradiation angle of the reference light is adjusted by controlling the third position adjusting unit (S93). Further, by repeating the step of irradiating the reference light again and analyzing the light pattern to determine whether the irradiation angle of the reference light corresponds to the preset angle, it is possible to accurately align the irradiation angle of the reference light.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 실시예에 따른 광 정보 처리장치에 의할 경우 광 검출부에서 획득되는 광 패턴을 이용하여 자동적으로 광학매체의 설치 상태, 광학계의 정렬 상태, 기준광 조사부의 정렬 상태 등을 파악하고 이를 자동적으로 조절하여 최적화시킴으로써, 광 정보 처리장치의 구동시 오류 발생을 최소화시킬 수 있다.As described above, in the case of the optical information processing apparatus according to the present embodiment, the installation state of the optical medium, the alignment state of the optical system, the alignment state of the reference light irradiator, etc. are automatically detected using the light pattern acquired by the light detection unit. By automatically adjusting and optimizing this, it is possible to minimize the occurrence of an error when the optical information processing apparatus is driven.

다만, 도 9 및 도 10에서는 본 발명을 이용하여 광 정보 처리장치를 제어할 수 있는 일 예를 설명한 것에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 이용하여 보다 다양한 방식으로 변경 실시할 수 있음은 물론이다.However, FIGS. 9 and 10 merely illustrate an example of controlling the optical information processing apparatus using the present invention, and of course, the present invention may be modified in various ways using the technical idea of the present invention. .

Claims (19)

1. 광을 조사하는 광원;A light source for irradiating light;

   상기 광원으로부터 조사된 광을 변조시키는 광 변조기;An optical modulator for modulating light emitted from the light source;

   상기 광 변조기에 의해 변조된 광을 집광시켜 광학매체로 입사시키는 위한 광학계;An optical system for condensing light modulated by the light modulator and incident the light on the optical medium;

   상기 광학매체가 위치하는 스테이지;A stage on which the optical medium is located;

   상기 광학매체에서 반사되는 광의 패턴을 검출하는 광 검출부; 그리고,A light detector detecting a pattern of light reflected from the optical medium; And,

   상기 광 검출부에서 검출된 상기 광의 패턴을 분석하여 상기 광학계 또는 상기 스테이지의 위치를 제어하는 제어부;를 포함하는 광 정보 처리장치.And a controller configured to control the position of the optical system or the stage by analyzing the pattern of the light detected by the light detector.
2. 제1항에 있어서,The method of claim 1,

   상기 광 검출부는 제1 위치 및 제2 위치에서 상기 광의 패턴을 각각 검출하고, 상기 제어부는 상기 제1 위치에서의 광의 패턴과 상기 제2 위치에서의 광의 패턴의 위치, 크기 또는 광의 세기 분포를 비교하여 상기 광학계 또는 상기 스테이지의 위치를 제어하고,The light detector detects the pattern of the light at the first position and the second position, respectively, and the controller compares the position, the magnitude, or the intensity distribution of the pattern of the light at the first position with the pattern of the light at the second position. To control the position of the optical system or the stage,

   상기 제1 위치와 상기 제2 위치는 상기 광학계의 위치 또는 상기 스테이지의 위치가 상이한 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치.And the first position and the second position are different from each other in the position of the optical system or the position of the stage.
3. 제2항에 있어서,The method of claim 2,

   상기 제2 위치는 상기 제1 위치로부터 상기 스테이지가 광축 방향으로 기 설정된 간격만큼 이격된 위치인 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치.And the second position is a position spaced apart from the first position by a predetermined interval in the optical axis direction.
4. 제3항에 있어서,The method of claim 3,

   상기 제어부는 상기 광 검출부에서 검출된 상기 제1 위치에서의 광의 패턴과 상기 제2 위치의 광이 패턴의 중심이 일치하면 상기 스테이지의 광축 방향 정렬이 일치하는 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치.The control unit determines that the optical axis direction alignment of the stage coincides when the pattern of the light at the first position detected by the light detector and the center of the pattern of the light at the second position coincide with each other. Device.
5. 제3항에 있어서,The method of claim 3,

   상기 제어부는 상기 광 검출부에서 검출된 상기 제1 위치에서의 광의 패턴과 상기 제2 위치의 광의 패턴의 중심의 위치, 각 패턴에서 기 설정된 특징점의 위치 변화량을 분석하여, 상기 스테이지의 틸팅(tilting) 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치.The controller analyzes the position of the center of the pattern of the light at the first position and the pattern of the light of the second position detected by the light detector, and the position change amount of a predetermined feature point in each pattern, thereby tilting the stage. An optical information processing apparatus, characterized in that determining whether or not.
6. 제2항에 있어서,The method of claim 2,

   상기 광학계를 구성하는 복수개의 광학 소자 중 적어도 하나의 위치를 제어할 수 있는 제1 위치조절부 및 상기 스테이지의 경사각을 조절할 수 있는 제2 위치조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치.And a first position adjusting unit capable of controlling the position of at least one of the plurality of optical elements constituting the optical system, and a second position adjusting unit capable of adjusting the inclination angle of the stage.
7. 제6항에 있어서,The method of claim 6,

   상기 제어부는 상기 제1 위치조절부 및 상기 제2 위치조절부를 제어하여, 상기 광학매체로 조사되는 광의 초점 위치, 스팟 사이즈(spot size), 조사 각도 또는 광의 세기 분포 중 적어도 어느 하나를 제어하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치.The controller controls the first position adjusting unit and the second position adjusting unit to control at least one of a focus position, a spot size, an irradiation angle, or an intensity distribution of light irradiated to the optical medium. An optical information processing apparatus characterized by the above-mentioned.
8. 제3항에 있어서,The method of claim 3,

   상기 광원으로부터 입사되는 광은 상기 광 변환부 방향으로 반사시키고, 상기 광 변환부로부터 입사되는 광은 상기 광학계 방향으로 통과시키는 제1 편광 빔스플리터 및 상기 광학매체로 입사되는 광은 통과시키고 상기 광학매체로부터 반사되어 입사되는 광은 상기 광 검출부 방향으로 반사시키는 제2 편광 빔 스플리터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치.The light incident from the light source is reflected in the direction of the light conversion unit, and the light incident from the light conversion unit passes in the direction of the optical system and the first polarizing beam splitter and the light incident to the optical medium passes through the optical medium And a second polarizing beam splitter which reflects light incident from the incident light toward the light detector.
9. 제1항에 있어서,The method of claim 1,

   상기 광원은 서로 다른 파장을 갖는 적어도 두 개의 광을 생성할 수 있도록 구성되며, 상기 제어부는 각 파장의 광에 의해 상기 광 검출부에서 검출되는 각각의 광 패턴을 분석하여 각 파장에 따른 보정 좌표를 산출하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치.The light source is configured to generate at least two lights having different wavelengths, and the controller calculates correction coordinates according to each wavelength by analyzing each light pattern detected by the light detector by light of each wavelength. An optical information processing apparatus, characterized in that.
10. 제1항에 있어서,The method of claim 1,

    상기 광학매체로 기준광을 조사하는 기준광 조사부를 더 포함하고, 상기 제어부는 상기 기준광에 의해 형성되는 광 패턴의 형상을 이용하여 상기 기준광의 조사 각도를 산출하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치.And a reference light irradiation unit for irradiating the reference light with the optical medium, wherein the controller calculates an irradiation angle of the reference light by using a shape of the light pattern formed by the reference light.
11. 광 변조기를 통해 변조된 광을 광학계를 통해 광학매체로 조사하는 광 조사 단계;A light irradiation step of irradiating light modulated through the optical modulator to the optical medium through an optical system;

    상기 광학매체로부터 반사된 광의 패턴을 검출하는 광 패턴 검출 단계;A light pattern detecting step of detecting a pattern of light reflected from the optical medium;

    상기 광 패턴 검출 단계에서 검출된 광의 패턴을 분석하는 분석 단계;An analysis step of analyzing a pattern of light detected in the light pattern detection step;

    상기 분석 단계에서 분석된 정보에 따라 상기 광학계 또는 상기 광학매체의 위치를 조절하는 위치 조절 단계;를 포함하는 광 정보 처리장치의 제어방법.And a position adjusting step of adjusting the position of the optical system or the optical medium in accordance with the information analyzed in the analyzing step.
12. 제11항에 있어서, 상기 광 패턴 검출 단계는The method of claim 11, wherein the detecting of the light pattern is performed.

    제1 위치에서 상기 광학매체로부터 반사된 광의 패턴을 검출하는 제1 검출 단계 및 제2 위치에서 상기 광학매체로부터 반사된 광의 패턴을 검출하는 제2 검출 단계를 포함하고,A first detecting step of detecting a pattern of light reflected from the optical medium at a first position and a second detecting step of detecting a pattern of light reflected from the optical medium at a second position,

    상기 제1 위치와 상기 제2 위치는 상기 광학계 또는 상기 광학매체 중 어느 하나의 위치가 상이한 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법.And the first position and the second position are different from each other in the position of the optical system or the optical medium.
13. 제12항에 있어서,The method of claim 12,

    상기 제2 검출 단계는 상기 제1 검출 단계에 비해 상기 광학매체가 광의 진행 방향으로 기 설정된 간격만큼 이동하여 위치하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법.The second detection step is a control method of the optical information processing apparatus, characterized in that the optical medium is moved by a predetermined interval in the travel direction of the light compared to the first detection step.
14. 제12항에 있어서,The method of claim 12,

    상기 분석 단계는 상기 제1 검출 단계에서 검출된 패턴 및 상기 제2 검출 단계에서 검출된 패턴의 중심이 일치하면 상기 광학매체의 광축 방향 정렬이 일치하는 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법..In the analyzing step, when the center of the pattern detected in the first detection step and the pattern detected in the second detection step coincide, the optical axis direction alignment of the optical medium is determined to match. Control method
15. 제12항에 있어서,The method of claim 12,

    상기 분석 단계는 상기 제1 검출 단계에서 검출된 패턴 및 상기 제2 검출 단계에서 검출된 패턴에서 각각의 중심의 위치 또는 기 설정된 특징점의 위치 변화량을 분석하여, 상기 광학매체의 틸팅(tilting) 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법.The analyzing step analyzes the position of each center in the pattern detected in the first detection step and the pattern detected in the second detection step or the position change amount of a predetermined feature point to determine whether the optical medium is tilted. The control method of the optical information processing apparatus, characterized in that the judging.
16. 제12항에 있어서,The method of claim 12,

    상기 위치 조절 단계는 상기 광학계 또는 상기 광학매체의 위치를 조절하여, 상기 광학매체로 조사되는 광의 초점 위치, 스팟 사이즈(spot size), 조사 각도 또는 광의 세기 분포 중 적어도 어느 하나를 제어하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법.The position adjusting step may include adjusting the position of the optical system or the optical medium to control at least one of a focus position, a spot size, an irradiation angle, or an intensity distribution of light irradiated onto the optical medium. A control method of an optical information processing apparatus.
17. 제16항에 있어서,The method of claim 16,

    상기 위치 조절 단계는 상기 분석 단계에서 얻어진 정보에 근거하여 상기 광학계를 구성하는 복수개의 광학 소자 중 적어도 하나의 위치를 제어하거나 또는 상기 광학매체가 위치하는 스테이지의 경사각을 조절하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법.The position adjusting step includes controlling the position of at least one of the plurality of optical elements constituting the optical system based on the information obtained in the analyzing step, or adjusting the inclination angle of the stage on which the optical medium is located. Control method of processing device.
18. 제11항에 있어서,The method of claim 11,

    상기 광 조사단계는 서로 다른 파장의 광을 순차적으로 조사하고,The light irradiation step sequentially irradiates light of different wavelengths,

    상기 광 패턴 검출 단계는 각 파장의 광이 형성하는 광 패턴을 각각 검출하고,The optical pattern detecting step detects each optical pattern formed by the light of each wavelength,

    상기 분석 단계는 해당 파장에 따른 보정 좌표를 산출하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법.And said analyzing step calculates correction coordinates according to the wavelength.
19. 제11항에 있어서,The method of claim 11,

    기준광 조사부를 구동하여 기준광을 상기 광학매체에 조사하는 단계;Irradiating a reference light to the optical medium by driving a reference light irradiator;

    상기 기준광에 의해 광 검출부에 형성되는 기준광 패턴을 검출하는 단계; 및Detecting a reference light pattern formed on a light detector by the reference light; And

    상기 기준광 패턴을 이용하여 상기 기준광의 조사 각도를 산출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법.And calculating an irradiation angle of the reference light by using the reference light pattern.

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