WO2013048194A2 - Beam therapy apparatus and method for controlling same - Google Patents

Abstract

The present invention relates to a beam therapy apparatus which radiates therapy beam in a pattern to lesions in a patient, and to a method for controlling the same. A beam therapy apparatus according to the present invention comprises: a main body; a beam generating unit accommodated in an interior of the main body to generate a therapy beam for treating lesions in a patient; a beam delivery unit accommodated in the interior of the main body to guide the beam generated by the beam generating unit from the main body to the lesions in the patient; a pattern forming unit which corresponds to the lesion area in the patient and forms a pattern constituted by a plurality of divided cells to which the therapy beam from the beam delivery unit is radiated; and a control unit which controls an operation of the beam delivery unit such that the therapy beam may be radiated sequentially or at random to the cells based on the shape of the pattern formed by the pattern forming unit. Thus, the therapy beam may be radiated in a pattern to thereby shorten the time taken for therapy, and the therapy beam can be radiated sequentially or at random to each of the plurality of cells based on the shape of the pattern to thereby prevent a degradation which might destruct cells.

Description

빔 치료장치 및 이의 제어방법Beam therapy apparatus and control method thereof

본 발명은, 빔 치료장치 및 이의 제어방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 환자의 병변에 패턴 형상으로 치료용 빔을 조사하는 빔 치료장치 및 이의 제어방법에 관한 것이다.The present invention relates to a beam therapy apparatus and a control method thereof, and more particularly, to a beam therapy apparatus for irradiating a therapeutic beam in a pattern shape to a lesion of a patient and a control method thereof.

빔 치료장치는 환자의 병변에 빔을 조사하여 치료하는 의료기기 중 하나이다. 특히, 빔 치료장치 중 레이저를 이용한 치료장치는 최근 인체의 피부 또는 안구에 발생하는 병변에 일정 파장 및 일정 조사 시간으로 치료용 레이저를 조사하여 병변 영역을 치료한다.The beam therapy apparatus is one of medical devices for treating a patient's lesion by irradiating a beam. In particular, the treatment apparatus using a laser among the beam treatment apparatus to treat the lesion area by irradiating the treatment laser at a predetermined wavelength and a predetermined irradiation time to the lesion occurring on the skin or eye of the human body.

한편, 종래의 치료장치는 "미국 등록특허공보 US 5,549,596"인 "눈 세포 색소의 선택적인 레이저 타켓팅(SELECTIVE LASER TARGETING OF PIGMENTED OCULAR CELLS)"에 개시되어 있다. 상술한 선행 기술문헌은 환자의 병변에 일정 영역의 패턴으로 복수개의 레이저를 조사하여 치료 시간을 단축시킬 수 있는 기술을 개시하고 있다.On the other hand, a conventional treatment apparatus is disclosed in "SELECTIVE LASER TARGETING OF PIGMENTED OCULAR CELLS", "US Patent No. US 5,549,596." The above-mentioned prior art document discloses a technique that can shorten the treatment time by irradiating a plurality of lasers in a pattern of a certain area on the lesion of the patient.

그런데, 종래의 선행 기술문헌에 개시된 치료장치는 치료 시간을 단축시키기 위해 일정 영역의 패턴에 복수개의 레이저가 조사됨에 따라 열화 현상에 의해 환자의 세포, 특히 정상적인 세포도 파괴될 수 있는 문제점이 있다.By the way, the treatment apparatus disclosed in the prior art document has a problem that the cells of the patient, especially normal cells can also be destroyed by the deterioration phenomenon as a plurality of lasers are irradiated to a pattern of a certain area in order to shorten the treatment time.

본 발명의 목적은 환자의 병변 영역에 패턴 형상으로 치료용 빔을 조사함에 있어서 열화 현상에 따른 세포의 파괴를 저지할 수 있도록 구조가 개선된 빔 치료장치를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a beam treatment apparatus having an improved structure to prevent destruction of cells due to deterioration in irradiating a therapeutic beam in a pattern shape to a lesion area of a patient.

상기 과제의 해결 수단은, 본 발명에 따라, 본체와, 상기 본체의 내부에 수용되어 환자의 병변을 치료하기 위한 치료용 빔을 생성하는 빔 생성부와, 상기 본체의 내부에 수용되어 상기 빔 생성부에 의해 생성된 빔을 상기 본체로부터 환자의 병변으로 인도하는 빔 딜리버리부와, 환자의 병변 영역에 대응되며 상기 빔 딜리버리부로부터의 치료용 빔이 조사되는 복수개로 분할된 셀로 구성된 패턴을 형성하는 패턴형성부와, 상기 패턴형성부에 의해 형성된 상기 패턴의 형상에 기초하여 상기 셀에 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 딜리버리부의 작동을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치에 의해 이루어진다.According to the present invention, there is provided a solution, a beam generating unit for generating a therapeutic beam for the treatment of the lesion of the patient accommodated in the main body, and the main body, the beam generation is accommodated in the main body Forming a pattern consisting of a beam delivery unit for guiding the beam generated by the unit from the main body to the patient's lesion, and a plurality of divided cells corresponding to the lesion area of the patient and irradiated with the beam for treatment from the beam delivery unit And a controller configured to control an operation of the beam delivery unit to irradiate a therapeutic beam sequentially or randomly to the cell based on a pattern forming unit and the shape of the pattern formed by the pattern forming unit. Made by the device.

여기서, 상기 빔 딜리버리부는 상기 빔 생성부로부터 생성된 치료용 빔을 확장하는 빔 확장부와, 상기 빔 확장부로부터 확장된 치료용 빔을 상기 본체 외부로 조사하는 렌즈부와, 상기 빔 확장부와 상기 렌즈부 사이에 배치되어 상기 패턴형성부에 의해 형성된 상기 패턴에 따라 치료용 빔이 조사되도록 치료용 빔의 경로를 조절하는 스캐너를 포함할 수 있다.The beam delivery unit may include: a beam extension unit extending the therapeutic beam generated from the beam generation unit; a lens unit radiating the therapeutic beam extended from the beam extension unit to the outside of the main body; and the beam extension unit; It may include a scanner disposed between the lens portion for adjusting the path of the therapeutic beam so that the therapeutic beam is irradiated according to the pattern formed by the pattern forming unit.

그리고, 상기 스캐너는 X축의 축선을 기준으로 회전 운동되어 상기 빔 확장부로부터 제공된 치료용 빔을 X축을 기준으로 한 회전축선의 가로 방향으로 유도하는 제1유도유닛과, 상기 제1유도유닛의 회전축선과 수직인 Y축의 축선을 기준으로 회전 운동되어 상기 제1유도유닛에 의해 유도된 치료용 빔을 Y축을 기준으로 한 회전축선의 가로 방향으로 유도하는 제2유도유닛을 포함할 수 있다.The scanner may include a first guide unit configured to rotate about the axis of the X axis and guide the therapeutic beam provided from the beam extension unit in a horizontal direction of the axis of rotation about the X axis, and a rotation axis of the first guide unit. It may include a second induction unit to rotate the movement relative to the axis of the vertical Y axis guides the therapeutic beam guided by the first induction unit in the horizontal direction of the axis of rotation about the Y axis.

상기 패턴은 원형, 타원형, 다각형 및 곡선으로 이루어지는 폐루프 형상 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The pattern may include any one of a closed loop shape consisting of a circle, an ellipse, a polygon, and a curve.

바람직하게 상기 셀은 상기 패턴 내부의 면적을 동일한 크기의 복수의 면적으로 구획한 영역일 수 있다.Preferably, the cell may be an area in which the area inside the pattern is divided into a plurality of areas having the same size.

또한, 더욱 바람직하게 상기 패턴형성부는 상기 셀에 대해 상기 셀 내부의 면적을 동일한 크기의 복수의 면적으로 구획한 보조셀을 더 형성할 수 있다.The pattern forming unit may further form an auxiliary cell in which the area inside the cell is divided into a plurality of areas having the same size with respect to the cell.

그리고, 상기 제어부는 복수의 상기 셀에 대해 적어도 하나의 상기 셀을 사이에 두고 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 딜리버리부의 작동을 제어하는 것이 바람직하다.The controller may control the operation of the beam delivery unit such that the treatment beam is sequentially or randomly irradiated with the at least one cell interposed therebetween.

바람직하게 상기 제어부는 복수의 상기 보조셀에 대해 적어도 하나의 상기 보조셀을 사이에 두고 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 딜리버리부의 작동을 제어할 수 있다.Preferably, the controller may control the operation of the beam delivery unit such that the treatment beam is sequentially or randomly irradiated with at least one auxiliary cell interposed therebetween.

한편, 상기 과제의 해결 수단은, 본 발명에 따라, (a) 환자의 병변 영역에 대응되며, 치료용 빔이 조사되는 복수개로 분할된 셀로 구성된 패턴을 형성하는 단계와, (b) 상기 패턴에 조사되는 치료용 빔을 생성하는 단계와, (c) 치료용 빔을 환자의 병변 영역에 조사하는 단계와, (d) 상기 (a) 단계에서 형성된 패턴의 형상에 기초하며 상기 (c) 단계에서 조사되는 치료용 빔의 조사위치를 조절하여 상기 셀에 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔을 조사하는 단계를 포함할 수 있다.On the other hand, according to the present invention, (a) forming a pattern consisting of a plurality of divided cells corresponding to the lesion area of the patient, the treatment beam is irradiated, and (b) to the pattern Generating a therapeutic beam to be irradiated, (c) irradiating the therapeutic beam to a patient's lesion area, and (d) based on the shape of the pattern formed in step (a) and in step (c) It may include the step of irradiating the therapeutic beam to the cell sequentially or randomly by adjusting the irradiation position of the therapeutic beam to be irradiated.

여기서, 상기 (a) 단계에서 형성되는 상기 패턴의 상기 셀은 상기 패턴 내부의 면적을 동일한 크기의 복수의 면적으로 구획한 영역인 것이 바람직하다.Here, the cell of the pattern formed in the step (a) is preferably an area in which the area inside the pattern is divided into a plurality of areas having the same size.

그리고, 바람직하게 상기 (d) 단계는, 복수의 상기 셀에 대해 적어도 하나의 상기 셀을 사이에 두고 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔을 조사할 수 있다.And, preferably, step (d) may irradiate a therapeutic beam sequentially or randomly with at least one cell interposed between a plurality of the cells.

상기 (a) 단계는 상기 셀에 대해 상기 셀 내부의 면적을 동일한 크기의 복수의 면적으로 구획한 보조셀로 더 형성하는 것이 바람직하다.In the step (a), it is preferable to further form an auxiliary cell in which the area inside the cell is divided into a plurality of areas having the same size.

상기 (d) 단계는 상기 (a) 단계에서 상기 보조셀이 형성될 때 상기 (c) 단계에서 조사되는 치료용 빔의 조사위치를 조절하여 상기 보조셀에 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔을 조사하는 것이 바람직하다.In step (d), when the auxiliary cell is formed in step (a), the treatment beam is irradiated to the auxiliary cell sequentially or randomly by adjusting the irradiation position of the therapeutic beam irradiated in step (c). It is preferable.

또한, 바람직하게 상기 보조셀에 대해서 치료용 빔을 조사할 때, 복수의 상기 보조셀에 대해 적어도 하나의 상기 보조셀을 사이에 두고 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔을 조사할 수 있다.In addition, when irradiating a therapeutic beam to the auxiliary cell, the therapeutic beam may be irradiated sequentially or randomly with at least one auxiliary cell interposed between a plurality of the auxiliary cells.

기타 실시 예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명에 따른 빔 치료장치(10) 및 이의 제어방법은 환자의 병변 영역에 대응된 패턴 형상으로 치료용 빔을 조사하여 치료 시간을 단축시킴과 함께 패턴 형상을 복수개로 구획한 각각의 셀 또는 셀을 복수개로 구획한 보조셀 마다 비연속적으로 치료용 빔을 조사하여 세포를 파괴하는 열화 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.Thebeam treatment apparatus 10 and a control method thereof according to the present invention reduce the treatment time by irradiating a beam for treatment in a pattern shape corresponding to a lesion area of a patient, and each cell or cell in which a plurality of pattern shapes are divided. Irradiation of a therapeutic beam discontinuously in each of the auxiliary cells divided into a plurality of cells has an effect of preventing the deterioration phenomenon of cell destruction.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 빔 치료장치(10)의 제어블럭도,1 is a control block diagram of abeam therapy apparatus 10 according to an embodiment of the present invention,

도 2는 도 1에 도시된 빔 딜리버리부의 구성 사시도,FIG. 2 is a perspective view of a beam delivery unit illustrated in FIG. 1;

도 3은 본 발명의 제1실시 예에 따른 빔 치료장치(10)의 패턴 형성도 및 치료용 빔 조사 구성도,3 is a pattern formation diagram and a beam irradiation configuration diagram for treatment of thebeam treatment apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention,

도 4는 본 발명의 제1실시 예에 따른 빔 치료장치(10)의 다른 패턴 형성도 및 치료용 빔의 조사 구성도,4 is another pattern formation diagram of thebeam treatment apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention and the irradiation configuration of the beam for treatment,

도 5는 본 발명의 제1실시 예에 따른 빔 치료장치(10)의 제어흐름도,5 is a control flowchart of thebeam therapy apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention,

도 6은 본 발명의 제2실시 예에 따른 빔 치료장치(10)의 패턴 형성도 및 치료용 빔의 조사 구성도,6 is a pattern forming diagram of thebeam treatment apparatus 10 according to the second embodiment of the present invention and the irradiation configuration diagram of the beam for treatment,

도 7은 본 발명의 제2실시 예에 따른 빔 치료장치(10)의 제어흐름도이다.7 is a control flowchart of thebeam therapy apparatus 10 according to the second embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시 예에 따른 빔 치료장치(10) 및 이의 제어방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, abeam treatment apparatus 10 and a control method thereof according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

설명하기에 앞서, 이하에서 본 발명의 제1 및 제2실시 예에 따른 빔 치료장치(10) 및 이의 제어방법은 안과 치료용으로 설명되고 있으나, 피부 치료용으로 사용될 수 있음을 미리 밝혀둔다.Prior to the description, thebeam treatment apparatus 10 and the control method thereof according to the first and second embodiments of the present invention are described below for ophthalmic treatment, but it can be known that it can be used for skin treatment.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 빔 치료장치(10)의 제어블럭도이고, 도 2는 도 1에 도시된 빔 딜리버리부의 구성 사시도이다.1 is a control block diagram of abeam treatment apparatus 10 according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a perspective view of the configuration of the beam delivery unit shown in FIG.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 빔 치료장치(10)는 입력부(100), 빔 생성부(300), 빔 딜리버리부(500), 패턴형성부(700) 및 제어부(900)를 포함한다. 또한, 본 발명의 일 실시 예에 따른 빔 치료장치(10)는 입력부(100), 빔 생성부(300), 빔 딜리버리부(500), 패턴형성부(700) 및 제어부(900)가 장착 또는 수용되는 본체(미도시)를 더 포함한다.1 and 2, thebeam treatment apparatus 10 according to an embodiment of the present invention includes aninput unit 100, abeam generation unit 300, abeam delivery unit 500, and a pattern forming unit 700. ) And thecontrol unit 900. In addition, thebeam therapy apparatus 10 according to an embodiment of the present invention may be equipped with aninput unit 100, abeam generator 300, abeam delivery unit 500, apattern forming unit 700, and acontroller 900. It further includes a main body (not shown) accommodated.

본체는 빔 치료장치(10)의 외관을 형성하며 환자의 눈에 발생된 병변을 치료하기 이전에 환자의 눈 상태를 검안할 수 있는 현미경과 같은 고배율의 검안부(미도시)를 포함한다. 그리고, 본체의 외부에는 입력 신호를 인가하는 입력부(100)가 배치되고, 내부에는 상술한 빔 생성부(300), 빔 딜리버리부(500), 패턴형성부(700) 및 제어부(900)를 수용한다.The main body forms an appearance of thebeam treatment apparatus 10 and includes a high magnification optometry part (not shown), such as a microscope, which can check the eye state of the patient before treating the lesion occurring in the eye of the patient. In addition, aninput unit 100 for applying an input signal is disposed outside the main body, and thebeam generation unit 300, thebeam delivery unit 500, thepattern forming unit 700, and thecontrol unit 900 described above are accommodated therein. do.

입력부(100)는 본체의 외부에 배치되며, 빔 생성부(300) 및 빔 딜리버리부(500)의 작동을 위한 입력 신호를 인가한다. 입력부(100)는 조이스틱과 같은 구성 또는 페달과 같은 구성으로 마련될 수 있다. 입력부(100)는 시술자의 입력 작동에 의해 빔 생성부(300) 및 빔 딜리버리부(500)가 작동되도록 입력 신호를 인가한다. 여기서, 입력부(100)는 미리 저장된 다양한 패턴(P, P': 도 3, 도4 및 도 6 참조) 중 환자 병변에 대응되는 패턴(P, P')이 선택될 수 있도록 패턴형성부(700)에 신호를 인가할 수도 있다.Theinput unit 100 is disposed outside the main body, and applies an input signal for operating thebeam generator 300 and thebeam delivery unit 500. Theinput unit 100 may be provided in a configuration such as a joystick or a configuration such as a pedal. Theinput unit 100 applies an input signal to operate thebeam generator 300 and thebeam delivery unit 500 by an operator's input operation. Here, theinput unit 100 is apattern forming unit 700 so that the pattern (P, P ') corresponding to the patient lesion can be selected from the pre-stored various patterns (P, P': see FIGS. 3, 4 and 6). You can also apply a signal to).

빔 생성부(300)는 입력부(100)로부터 인가된 입력 신호에 기초하여 치료용 빔을 생성한다. 본 발명의 빔 생성부(300)는 치료용 빔으로서 레이저가 생성되도록 레이저 다이오드를 사용한다. 물론, 빔 생성부(300)에 의해 생성된 치료용 빔은 광원(미도시)의 종류에 따라 다양해 질 수 있다. 본 발명의 빔 생성부(300)로부터 생성되는 치료용 빔은 1064nm 내지 532nm 파장을 갖는다. 그러나, 빔 생성부(300)로부터 생성되는 치료용 빔은 상술한 1064nm 내지 532nm 파장 이외에도 치료 목적 또는 치료 대상 병변에 따라 1064nm 초과 또는 532nm 미만의 파장을 가질 수 있다.Thebeam generator 300 generates a beam for treatment based on an input signal applied from theinput unit 100. Thebeam generator 300 of the present invention uses a laser diode to generate a laser as a beam for treatment. Of course, the beam for treatment generated by thebeam generator 300 may vary according to the type of light source (not shown). The therapeutic beam generated from thebeam generator 300 of the present invention has a wavelength of 1064 nm to 532 nm. However, in addition to the above-described 1064 nm to 532 nm wavelength, the therapeutic beam generated from thebeam generator 300 may have a wavelength of more than 1064 nm or less than 532 nm depending on the treatment target or the treatment target lesion.

빔 딜리버리부(500)는 본 발명의 일 실시 예로서, 빔 확장부(520), 렌즈부(540) 및 스캐너(560)를 포함한다. 빔 딜리버리부(500)는 빔 생성부(300)에 의해 생성된 치료용 빔을 환자의 병변으로 인도한다. 여기서, 빔 딜리버리부(500)는 패턴(P, P') 형상에 대응하여 치료용 빔의 조사 위치를 조절한다.Thebeam delivery unit 500 includes, as an embodiment of the present invention, abeam extension 520, alens unit 540, and ascanner 560. Thebeam delivery unit 500 guides the therapeutic beam generated by thebeam generation unit 300 to the lesion of the patient. Here, thebeam delivery unit 500 adjusts the irradiation position of the beam for treatment in accordance with the pattern (P, P ') shape.

빔 확장부(520)는 빔 생성부(300)에 인접하게 배치되어 치료용 빔을 확장한다. 즉, 빔 확장부(520)는 빔 생성부(300)로부터 생성된 치료용 빔을 확장하여 렌즈부(540)로 안내한다. 그리고, 렌즈부(540)는 빔 확장부(520)로부터 확장된 치료용 빔을 본체 외부로 조사한다.Thebeam extension 520 is disposed adjacent to thebeam generator 300 to expand the beam for treatment. That is, thebeam extension unit 520 extends the therapeutic beam generated from thebeam generator 300 and guides the beam to thelens unit 540. Thelens unit 540 irradiates the therapeutic beam extended from thebeam extension unit 520 to the outside of the main body.

스캐너(560)는 빔 확장부(520)와 렌즈부(540) 사이에 배치되어 패턴형성부(700)에 의해 형성된 패턴(P, P')에 따라 치료용 빔이 조사되도록 치료용 빔의 경로를 조절한다. 스캐너(560)는 빔 확장부(520)로부터 확장된 치료용 빔의 경로를 조절하여 렌즈부(540)로 안내한다. 본 발명의 일 실시 예로서, 스캐너(560)는 제1유도유닛(562) 및 제2유도유닛(564)을 포함한다.Thescanner 560 is disposed between thebeam extension 520 and thelens unit 540 so that the therapeutic beam is irradiated according to the patterns P and P ′ formed by thepattern forming unit 700. Adjust Thescanner 560 controls the path of the therapeutic beam extended from thebeam extension 520 to guide thelens unit 540. In one embodiment of the present invention, thescanner 560 includes afirst induction unit 562 and asecond induction unit 564.

제1유도유닛(562)은 제1구동부(562a)와 제1미러부(562b)를 포함한다. 제1유도유닛(562)은 X축의 축선을 기준으로 회전 운동되어 빔 확장부(520)로부터 제공된 치료용 빔을 X축을 기준으로 한 회전축선의 가로 방향으로 유도한다. 여기서, 제1구동부(562a)는 제1미러부(562b)와 연결되어 제1미러부(562b)가 회전되는 구동력을 발생한다. 제1미러부(562b)는 제1구동부(562a)로부터 제공된 구동력에 따라 X축을 기준으로 한 회전축선으로 회전 운동되어 치료용 빔을 제2유도유닛(564)으로 유도한다.Thefirst guide unit 562 includes afirst driving part 562a and afirst mirror part 562b. Thefirst induction unit 562 is rotated about the axis of the X axis to guide the therapeutic beam provided from thebeam extension 520 in the horizontal direction of the axis of rotation about the X axis. Here, thefirst driving part 562a is connected to thefirst mirror part 562b to generate a driving force to rotate thefirst mirror part 562b. Thefirst mirror part 562b is rotated along a rotation axis about the X axis according to the driving force provided from thefirst driving part 562a to guide the therapeutic beam to thesecond induction unit 564.

제2유도유닛(564)은 제2구동부(564a)와 제2미러부(564b)를 포함한다. 제2유도유닛(564)은 제1유도유닛(562)의 회전축선과 수직인 Y축의 축선을 기준으로 회전 운동되어 제1유도유닛(562)에 의해 유도된 치료용 빔을 Y축을 기준으로 한 회전축선의 가로 방향으로 유도한다. 여기서, 제2구동부(564a)는 제2미러부(564b)와 연결되어 제2미러부(564b)가 회전되는 구동력을 발생한다. 제2미러부(564b)는 제2구동부(564a)로부터 제공된 구동력에 따라 Y축을 기준으로 한 회전축선으로 회전 운동되어 치료용 빔을 렌즈부(540)로 유도한다.Thesecond guide unit 564 includes asecond driving part 564a and asecond mirror part 564b. Thesecond induction unit 564 is rotated about the Y axis perpendicular to the rotation axis of thefirst induction unit 562 to rotate the rotation axis based on the Y axis for the therapeutic beam guided by thefirst induction unit 562. Guide in the horizontal direction of the line. Here, thesecond driving part 564a is connected to thesecond mirror part 564b to generate a driving force to rotate thesecond mirror part 564b. Thesecond mirror part 564b is rotated along a rotation axis about the Y axis according to the driving force provided from thesecond driving part 564a to guide the therapeutic beam to thelens part 540.

<제1실시 예>First Embodiment

다음으로 도 3은 본 발명의 제1실시 예에 따른 빔 치료장치의 패턴 형성도 및 치료용 빔 조사 구성도이고, 도 4는 본 발명의 제1실시 예에 따른 빔 치료장치의 다른 패턴 형성도 및 치료용 빔의 조사 구성도이다.Next, FIG. 3 is a pattern forming diagram and a beam irradiation configuration diagram of the beam treating apparatus according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is another pattern forming diagram of the beam treating apparatus according to the first embodiment of the present invention. And irradiation configuration diagram of a therapeutic beam.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시 예에 따른 빔 치료장치(10)의 패턴형성부(700)는 환자의 병변 영역에 대응되며 빔 딜리버리부(500)로부터의 치료용 빔이 조사되는 패턴(P)을 형성한다.3 and 4, thepattern forming unit 700 of thebeam treating apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention corresponds to a lesion area of a patient and is treated from thebeam delivery unit 500. The pattern P to which the dragon beam is irradiated is formed.

도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 패턴형성부(700)는 곡선 폐루프 형상의 내부에 동일한 면적의 셀(C)을 갖는 패턴(P)을 형성한다. 이러한, 복수의 셀(C)로 구성된 패턴(P)에는 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이, 제어부(900)의 제어에 의해 치료용 빔이 순차적으로 조사된다. 여기서, 도 3에서는 치료용 빔이 순차적으로 조사되는 것으로 도시되어 있으나, 랜덤으로 조사될 수도 있다.As shown in FIG. 3A, thepattern forming unit 700 forms a pattern P having cells C having the same area inside the curved closed loop shape. As shown in FIG. 3B, the treatment beam is sequentially irradiated to the pattern P including the plurality of cells C by the control of thecontroller 900. Here, in FIG. 3, the therapeutic beam is sequentially irradiated, but may be irradiated randomly.

또한, 도 4의 (a)에 도시된 바와 같이, 원형의 내부에 동일한 면적의 셀(C)을 갖는 패턴(P)을 형성할 수도 있다. 그리고, 복수의 셀(C)로 구성된 패턴(P)에는 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이, 제어부(900)의 제어에 의해 치료용 빔이 순차적으로 조사된다. 그러나, 도 4는 일 실시 예일 뿐, 치료용 빔이 랜덤으로도 조사될 수 있다. 즉, 패턴형성부(700)는 원형, 타원형, 다각형 및 곡선으로 이루어진 폐루프 형상 중 어느 하나의 패턴(P)으로 선택될 수 있다. 이러한 패턴(P)은 입력부(100)의 입력 신호에 의해 선택될 수도 있고, 환자의 병변의 크기에 따라 제어부(900)에 의해 미리 저장된 패턴(P) 중 어느 하나가 자동으로 선택될 수도 있다.In addition, as shown in FIG. 4A, a pattern P having cells C having the same area may be formed inside the circle. As shown in FIG. 4B, the treatment beam is sequentially irradiated onto the pattern P including the plurality of cells C by the control of thecontroller 900. However, FIG. 4 is only an embodiment, and the therapeutic beam may be irradiated randomly. That is, thepattern forming unit 700 may be selected as any one pattern P of a closed loop shape consisting of a circle, an ellipse, a polygon, and a curve. The pattern P may be selected by the input signal of theinput unit 100, or one of the patterns P previously stored by thecontroller 900 may be automatically selected according to the size of the lesion of the patient.

한편, 제어부(900)의 제어에 의해 조사되는 치료용 빔의 조사 위치 조절은 후술할 제어부(900)와 함께 상세히 설명하기로 한다.On the other hand, the irradiation position adjustment of the therapeutic beam irradiated by the control of thecontrol unit 900 will be described in detail with thecontrol unit 900 to be described later.

제어부(900)는 패턴형성부(700)에 의해 형성된 패턴(P)의 형상에 기초하여 셀(C)에 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔이 조사되도록 빔 딜리버리부(500)의 작동을 제어한다. 즉, 제어부(900)는 안구(O)의 각막(CO) 및 수정체(Cr)를 통과하여 망막(R)에 조사되는 치료용 빔의 조사 위치를 조절하기 위해 빔 딜리버리부(500)의 작동을 제어한다.Thecontroller 900 controls the operation of thebeam delivery unit 500 to irradiate the beam C for treatment sequentially or randomly based on the shape of the pattern P formed by thepattern forming unit 700. That is, thecontrol unit 900 operates thebeam delivery unit 500 to adjust the irradiation position of the therapeutic beam irradiated to the retina R through the cornea CO and the lens Cr of the eyeball O. To control.

제어부(900)는 패턴(P)의 복수의 셀(C)에 대해 적어도 하나의 셀(C)을 사이에 두고 순차적으로 즉, 교호적으로 치료용 빔이 조사되도록 또는 랜덤으로 치료용 빔이 조사되도록 빔 딜리버리부(500)의 작동을 제어한다. 예를 들어, 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이, 제어부(900)는 좌측 맨위의 셀(C)부터 각 한 개의 셀(C)을 사이에 두고 L₁, L₂, L₃ 및 L₄ 시계 방향으로 셀(C)에 치료용 빔이 조사되도록 빔 딜리버리부(500)의 작동을 제어한다. 반면, 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이, 제어부(900)는 좌측 맨 위의 셀(C)로부터 각 한 개의 셀(C)을 사이에 두고 L₁', L₂', L₃' 및 L₄' 사선 방향으로 치료용 빔이 셀(C)에 조사되도록 빔 딜리버리부(500)의 작동을 제어한다.Thecontrol unit 900 irradiates the therapeutic beams sequentially or alternately to the plurality of cells C of the pattern P with at least one cell C interposed therebetween, or randomly irradiates the therapeutic beams. The operation of thebeam delivery unit 500 is controlled as much as possible. For example, as shown in (b) of FIG. 3, thecontrol unit 900 includes L₁ , L₂ , L_3, and L with each cell C interposed from the cell C at the top left.₄ will be in a clockwise direction so that the therapeutic beam irradiated to the cells (C) controls the operation of thebeam delivery unit 500. On the other hand, as shown in (b) of FIG. 4, thecontrol unit 900 is L₁ ', L₂ ', L₃ 'with each one cell (C) in between from the top left cell (C) And controlling the operation of thebeam delivery unit 500 such that the therapeutic beam is irradiated to the cell C in an oblique direction of L₄ ′.

이렇게, 제어부(900)는 연속적으로 인접한 셀(C)이 아니라 적어도 하나의 셀(C)을 사이에 두고 치료용 빔을 조사하여 치료용 빔 조사에 따른 열화 현상을 방지할 수 있는 장점이 있다.As such, thecontrol unit 900 may prevent deterioration due to irradiation of the treatment beam by irradiating the treatment beam with at least one cell C therebetween instead of continuously adjacent cells C.

도 5는 본 발명의 제1실시 예에 따른 빔 치료장치의 제어흐름도이다.5 is a control flowchart of the beam therapy apparatus according to the first embodiment of the present invention.

이러한 구성에 따른 본 발명의 제1실시 예에 따른 빔 치료장치(10)의 제어방법을 이하에서 살펴보면 다음과 같다.Looking at the control method of thebeam treatment apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention according to such a configuration as follows.

우선, 본체에 마련된 검안부를 통해 환자의 안구(O)에 발생된 병변을 확인한다(S10). 그리고, 환자의 병변에 대응되는 패턴(P)을 형성한다(S20). 이때, 패턴(P)의 내부는 동일한 면적을 갖는 복수의 셀(C)로 구성된다. 입력부(100)에 입력 신호를 인가하여 치료용 빔을 생성한다(S30).First, the lesion generated in the eyeball O of the patient is checked through the optometry provided in the main body (S10). Then, the pattern (P) corresponding to the lesion of the patient is formed (S20). At this time, the inside of the pattern P is composed of a plurality of cells (C) having the same area. An input signal is applied to theinput unit 100 to generate a therapeutic beam (S30).

빔 생성부(300)에서 생성된 치료용 빔을 조사한다(S40). 여기서, 빔 생성부(300)에서 생성된 빔을 환자의 병변에 조사하는 빔 딜리버리부(500)의 작동을 제어한다(S50). 빔 딜리버리부(500)는 제어부(900)의 제어에 의해 패턴(P)의 복수의 셀(C)에 대해 인접하지 않은 셀(C) 마다 치료용 빔이 조사되도록 작동된다.The beam for treatment generated by thebeam generator 300 is irradiated (S40). Here, the operation of thebeam delivery unit 500 for irradiating the beam generated by thebeam generator 300 to the lesion of the patient is controlled (S50). Thebeam delivery unit 500 operates to irradiate a therapeutic beam for each cell C that is not adjacent to the plurality of cells C of the pattern P under the control of thecontroller 900.

빔 딜리버리부(500)의 작동에 의해 패턴(P) 내부의 복수의 셀(C)에 대해 적어도 하나의 셀(C)을 사이에 두고 순차적으로 치료용 빔을 조사하여 각 셀(C)에 치료용 빔을 조사한다(S60). 각 셀(C)에 대해 조사되는 치료용 빔은 설명의 편의를 돕기 위해 순차적으로 표시하였으나, 실질적으로는 조사시간이 극도로 짧기 때문에 패턴(P)의 전 셀(C) 영역에 한 번에 치료용 빔이 조사되는 것으로 보일 수 있다. 이렇게, 치료용 빔이 인접하지 않은 셀(C) 마다 조사됨으로써, 세포의 열화 현상을 저감시킬 수 있는 장점이 있다.By operating thebeam delivery unit 500, the plurality of cells C inside the pattern P are sequentially irradiated with the therapeutic beams with at least one cell C interposed therebetween to treat each cell C. The dragon beam is irradiated (S60). The therapeutic beams irradiated for each cell (C) are sequentially displayed for convenience of explanation, but the treatment beam is treated all at once in the entire cell (C) area of the pattern (P) because the irradiation time is extremely short. The dragon beam may appear to be irradiated. Thus, the therapeutic beam is irradiated for each non-adjacent cell (C), there is an advantage that can reduce the deterioration phenomenon of the cell.

<제2실시 예>Second Embodiment

도 6은 본 발명의 제2실시 예에 따른 빔 치료장치의 패턴 형성도 및 치료용 빔의 조사 구성도이고, 도 7은 본 발명의 제2실시 예에 따른 빔 치료장치의 제어흐름도이다.FIG. 6 is a diagram illustrating a pattern formation of the beam treatment apparatus and an irradiation configuration of the beam for treatment according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a control flowchart of the beam treatment apparatus according to the second embodiment of the present invention.

도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시 예에 따른 빔 치료장치(10)는 제1실시 예와 동일하나, 패턴형성부(700)에 의해 형성된 패턴(P')의 셀(C) 내부를 복수로 구획한 보조셀(C')이 더 형성된다.6 and 7, thebeam treatment apparatus 10 according to the second embodiment of the present invention is the same as the first embodiment, but the pattern P ′ formed by thepattern forming unit 700 is Auxiliary cell C ′ partitioned inside the cell C is further formed.

즉, 본 발명의 제2실시 예의 빔 치료장치(10)는 도 6의 (a)에 도시된 바와 같이, 패턴(P')의 셀(C) 내부를 동일한 면적의 복수의 보조셀(C')로 구성하여 보다 많은 치료용 빔이 조사될 수 있도록 한다. 예를 들어, 도 6의 (b)에 도시된 바와 같이, 각 셀(C)의 좌측 맨 위의 보조셀(C') 순 l₁, l₂, l₃ 및 l₄으로 치료용 빔을 조사한다.That is, in thebeam treating apparatus 10 according to the second embodiment of the present invention, as shown in FIG. 6A, the plurality of auxiliary cells C ′ having the same area are formed inside the cells C of the pattern P ′. ) So that more therapeutic beams can be irradiated. For example, the top of the secondary cell of the above (C ') the left side of each cell (C), as shown in Fig. 6 (b) net l_1, l_2, irradiating beam treated with l₃ and l₄ do.

여기서, 본 발명의 제2실시 예의 빔 치료장치(10)는 각각의 셀(C)의 동일한 위치의 보조셀(C')에 순차적으로 치료용 빔을 조사하였으나, 첫 번째 셀(C), 세 번째 셀(C), 그리고 다섯 번째 셀(C)의 순서와 같은 랜덤하게 다양한 방식으로 조사될 수 있다. 물론, 이러한 치료용 빔의 순차적인 조사는 세포의 열화를 방지하기 위해 일정 간격을 두고 이루어져야 하는 것이 당연하다.Here, although thebeam treatment apparatus 10 of the second embodiment of the present invention irradiates the treatment beams sequentially to the auxiliary cells C ′ at the same positions of the respective cells C, the first cells C and three It can be irradiated in a variety of random ways, such as the order of the first cell (C), and the fifth cell (C). Of course, the sequential irradiation of the therapeutic beam should be made at regular intervals to prevent cell deterioration.

또한, 치료용 빔은 각각의 셀(C)의 하나의 보조셀(C')마다 조사되었으나, 적어도 어느 하나의 보조셀(C')을 사이에 두고 2개씩 조사될 수도 있다. 즉, 본 발명에 따른 빔 치료장치(10)에서 조사되는 치료용 빔의 조사 위치 또는 순서는 기설정된 패턴(P') 값에 따라 세포의 열화가 발생되지 않도록 다양한 방식으로 이루어질 수 있다. 상술한 바와 같이, 치료용 빔은 각 셀(C)의 동일위치 보조셀(C')마다 순차적으로 조사될 수도 있고, 각 셀(C)의 다른 위치 보조셀(C')마다 순차적으로 조사될 수도 있고, 그리고 각 셀(C)의 2개 이상의 보조셀(C')마다 순차적으로 조사될 수도 있다. 이러한 치료용 빔의 조사 방식은 세포의 열화를 방지할 수 있는 범위 내에서 다양한 조합으로 이루어질 수 있다.In addition, although the therapeutic beam is irradiated for every one auxiliary cell C ′ of each cell C, two beams may be irradiated with at least one auxiliary cell C ′ interposed therebetween. That is, the irradiation position or order of the beam for treatment irradiated from thebeam therapy apparatus 10 according to the present invention may be made in various ways so that the deterioration of cells does not occur according to a predetermined pattern P 'value. As described above, the therapeutic beam may be sequentially irradiated for each co-located auxiliary cell C 'of each cell C, or may be sequentially irradiated for every other co-located auxiliary cell C' of each cell C. In addition, it may be sequentially irradiated for each of the two or more secondary cells (C ') of each cell (C). Irradiation of the therapeutic beam may be made in various combinations within the range that can prevent the degradation of the cells.

이러한 구성에 의해 본 발명의 제2실시 예에 따른 빔 치료장치(10)의 제어방법을 이하에서 살펴보면 다음과 같다.With this configuration, the control method of thebeam therapy apparatus 10 according to the second embodiment of the present invention will be described below.

우선, 우선, 본체에 마련된 검안부를 통해 환자의 안구(O)에 발생된 병변을 확인한다(S100). 그리고, 환자의 병변에 대응되며 동일한 면적을 갖는 복수의 셀(C)로 구성된 패턴(P')을 형성한다(S200). 복수의 셀(C) 각각의 내부에 동일한 면적을 갖는 복수의 보조셀(C')을 형성한다(S300).First, first, the lesion generated in the eyeball O of the patient through the optometrist provided in the main body is checked (S100). In operation S200, a pattern P ′ formed of a plurality of cells C corresponding to the patient's lesion and having the same area is formed. A plurality of auxiliary cells C ′ having the same area inside each of the plurality of cells C are formed (S300).

입력부(100)에 입력 신호를 인가하여 치료용 빔을 생성한다(S400). 빔 생성부(300)에서 생성된 치료용 빔을 조사한다(S500). 여기서, 빔 생성부(300)에서 생성된 빔을 환자의 병변에 조사하는 빔 딜리버리부(500)의 작동을 제어한다(S600). 그러면, 빔 딜리버리부(500)는 제어부(900)의 제어에 의해 패턴(P')의 복수의 셀(C)에 대해 인접하지 않은 셀(C) 마다 치료용 빔이 조사되도록 작동된다.An input signal is applied to theinput unit 100 to generate a therapeutic beam (S400). The beam for treatment generated by thebeam generator 300 is irradiated (S500). Here, the operation of thebeam delivery unit 500 for irradiating the beam generated by thebeam generator 300 to the lesion of the patient is controlled (S600). Then, thebeam delivery unit 500 is operated to irradiate the therapeutic beam for each non-adjacent cell C with respect to the plurality of cells C of the pattern P 'under the control of thecontroller 900.

빔 딜리버리부(500)의 작동에 의해 패턴(P') 내부의 각각의 셀(C)에 형성된 보조셀(C')에 대해 적어도 하나의 보조셀(C')을 사이에 두고 순차적으로 치료용 빔을 조사하여 각 보조셀(C')에 치료용 빔을 조사한다(S700).Treatment is performed sequentially with at least one auxiliary cell C 'interposed with respect to the auxiliary cell C' formed in each cell C in the pattern P 'by the operation of thebeam delivery unit 500. The beam is irradiated to the treatment beam to each auxiliary cell (C ') (S700).

이에, 환자의 병변 영역에 대응되어 패턴 형상으로 치료용 빔을 조사하여 치료 시간을 단축시킴과 더불어 패턴 형상을 복수개로 구획한 영역에 순차적으로 치료용 빔을 조사하여 세포를 파괴하는 열화 현상을 방지할 수 있다.Accordingly, the treatment beam is irradiated in a pattern shape corresponding to the lesion area of the patient to shorten the treatment time, and the treatment beam is sequentially irradiated to the area partitioned into a plurality of pattern shapes to prevent deterioration of cells. can do.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징들이 변경되지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것으로 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Although the embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may be embodied in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. It will be understood that. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.

Claims (14)

1. 본체와;A main body;

   상기 본체의 내부에 수용되어, 환자의 병변을 치료하기 위한 치료용 빔을 생성하는 빔 생성부와;A beam generation unit accommodated in the body to generate a beam for treatment for treating a lesion of a patient;

   상기 본체의 내부에 수용되어, 상기 빔 생성부에 의해 생성된 빔을 상기 본체로부터 환자의 병변으로 인도하는 빔 딜리버리부와;A beam delivery unit accommodated in the main body to guide the beam generated by the beam generating unit to the lesion of the patient from the main body;

   환자의 병변 영역에 대응되며, 상기 빔 딜리버리부로부터의 치료용 빔이 조사되는 복수개로 분할된 셀로 구성된 패턴을 형성하는 패턴형성부와;A pattern forming unit corresponding to a lesion area of a patient, the pattern forming unit forming a pattern consisting of a plurality of divided cells irradiated with a beam for treatment from the beam delivery unit;

   상기 패턴형성부에 의해 형성된 상기 패턴의 형상에 기초하여, 상기 셀에 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 딜리버리부의 작동을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치.And a control unit controlling an operation of the beam delivery unit to irradiate a therapeutic beam sequentially or randomly to the cell based on the shape of the pattern formed by the pattern forming unit.
2. 제1항에 있어서,The method of claim 1,

   상기 빔 딜리버리부는,The beam delivery unit,

   상기 빔 생성부로부터 생성된 치료용 빔을 확장하는 빔 확장부와;A beam extension unit extending the therapeutic beam generated from the beam generation unit;

   상기 빔 확장부로부터 확장된 치료용 빔을 상기 본체 외부로 조사하는 렌즈부와;A lens unit for irradiating the therapeutic beam extended from the beam extension unit to the outside of the main body;

   상기 빔 확장부와 상기 렌즈부 사이에 배치되어, 상기 패턴형성부에 의해 형성된 상기 패턴에 따라 치료용 빔이 조사되도록 치료용 빔의 경로를 조절하는 스캐너를 포함하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치.And a scanner disposed between the beam extension part and the lens part to adjust a path of the therapeutic beam such that the therapeutic beam is irradiated according to the pattern formed by the pattern forming part.
3. 제2항에 있어서,The method of claim 2,

   상기 스캐너는,The scanner,

   X축의 축선을 기준으로 회전 운동되어, 상기 빔 확장부로부터 제공된 치료용 빔을 X축을 기준으로 한 회전축선의 가로 방향으로 유도하는 제1유도유닛과;A first induction unit rotated about an axis of the X axis to guide the therapeutic beam provided from the beam extension in a horizontal direction of the axis of rotation about the X axis;

   상기 제1유도유닛의 회전축선과 수직인 Y축의 축선을 기준으로 회전 운동되어, 상기 제1유도유닛에 의해 유도된 치료용 빔을 Y축을 기준으로 한 회전축선의 가로 방향으로 유도하는 제2유도유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치.A second induction unit which is rotated about the Y axis perpendicular to the rotation axis of the first induction unit to guide the therapeutic beam guided by the first induction unit in a horizontal direction of the rotation axis about the Y axis; Beam treatment apparatus comprising a.
4. 제1항 내지 제3항에 있어서,The method according to claim 1, wherein

   상기 패턴은 원형, 타원형, 다각형 및 곡선으로 이루어지는 폐루프 형상 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치.The pattern beam treating apparatus, characterized in that it comprises any one of a closed loop shape consisting of a circle, an ellipse, a polygon and a curve.
5. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein

   상기 셀은 상기 패턴 내부의 면적을 동일한 크기의 복수의 면적으로 구획한 영역인 것을 특징으로 하는 빔 치료장치.And the cell is an area in which the area inside the pattern is divided into a plurality of areas having the same size.
6. 제5항에 있어서,The method of claim 5,

   상기 패턴형성부는 상기 셀에 대해 상기 셀 내부의 면적을 동일한 크기의 복수의 면적으로 구획한 보조셀을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치.And the pattern forming unit further forms an auxiliary cell in which the area inside the cell is divided into a plurality of areas having the same size with respect to the cell.
7. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein

   상기 제어부는 복수의 상기 셀에 대해 적어도 하나의 상기 셀을 사이에 두고 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 딜리버리부의 작동을 제어하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치.And the control unit controls an operation of the beam delivery unit such that a therapeutic beam is irradiated sequentially or randomly with at least one of the cells interposed therebetween.
8. 제6항에 있어서,The method of claim 6,

   상기 제어부는 복수의 상기 보조셀에 대해 적어도 하나의 상기 보조셀을 사이에 두고 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 딜리버리부의 작동을 제어하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치.And the control unit controls the operation of the beam delivery unit such that the treatment beam is irradiated sequentially or randomly with the at least one auxiliary cell interposed with respect to a plurality of the auxiliary cells.
9. (a) 환자의 병변 영역에 대응되며, 치료용 빔이 조사되는 복수개로 분할된 셀로 구성된 패턴을 형성하는 단계와;(a) forming a pattern corresponding to the lesion area of the patient, the pattern consisting of a plurality of divided cells to which the therapeutic beam is irradiated;

   (b) 상기 패턴에 조사되는 치료용 빔을 생성하는 단계와;(b) generating a therapeutic beam irradiated to the pattern;

   (c) 치료용 빔을 환자의 병변 영역에 조사하는 단계와;(c) irradiating the therapeutic beam to the lesion area of the patient;

   (d) 상기 (a) 단계에서 형성된 패턴의 형상에 기초하며 상기 (c) 단계에서 조사되는 치료용 빔의 조사위치를 조절하여, 상기 셀에 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔을 조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치의 제어방법.(d) adjusting the irradiation position of the therapeutic beam irradiated in the step (c) based on the shape of the pattern formed in the step (a), and irradiating the therapeutic beam to the cell sequentially or randomly. Control method of a beam therapy apparatus, characterized in that.
10. 제9항에 있어서,The method of claim 9,

    상기 (a) 단계에서 형성되는 상기 패턴의 상기 셀은 상기 패턴 내부의 면적을 동일한 크기의 복수의 면적으로 구획한 영역인 것을 특징으로 하는 빔 치료장치의 제어방법.And the cell of the pattern formed in step (a) is a region in which the area inside the pattern is divided into a plurality of areas having the same size.
11. 제9항 또는 제10항에 있어서,The method of claim 9 or 10,

    상기 (d) 단계는, 복수의 상기 셀에 대해 적어도 하나의 상기 셀을 사이에 두고 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치의 제어방법.In the step (d), the control method of the beam therapy apparatus, characterized in that for irradiating the therapeutic beam sequentially or randomly with at least one of the cells in between the plurality of cells.
12. 제10항에 있어서,The method of claim 10,

    상기 (a) 단계는,In step (a),

    상기 셀에 대해 상기 셀 내부의 면적을 동일한 크기의 복수의 면적으로 구획한 보조셀로 더 형성하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치의 제어방법.And an auxiliary cell in which the area inside the cell is divided into a plurality of areas having the same size with respect to the cell.
13. 제12항에 있어서,The method of claim 12,

    상기 (d) 단계는,In step (d),

    상기 (a) 단계에서 상기 보조셀이 형성될 때, 상기 (c) 단계에서 조사되는 치료용 빔의 조사위치를 조절하여 상기 보조셀에 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 빔 치료장치의 제어방법.When the auxiliary cell is formed in step (a), the beam is characterized by irradiating a therapeutic beam to the auxiliary cell sequentially or randomly by adjusting the irradiation position of the therapeutic beam irradiated in the step (c). Control method of treatment device.
14. 제13항에 있어서,The method of claim 13,

    상기 보조셀에 대해서 치료용 빔을 조사할 때, 복수의 상기 보조셀에 대해 적어도 하나의 상기 보조셀을 사이에 두고 순차적 또는 랜덤으로 치료용 빔을 조사하는 것을 특징을 하는 빔 치료장치의 제어방법.When irradiating a beam for treatment with respect to the auxiliary cell, the control method of the beam treatment apparatus characterized in that to irradiate the treatment beam sequentially or randomly with a plurality of the auxiliary cell between the plurality of the auxiliary cell in between. .

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