明 細 書
薄板収納容器
技術分野
[0001] この発明は、半導体用ウェハを搭載する薄板収納容器に関する。特に極薄化した ウェハを安全に確実に搭載する薄板収納容器に関する。
背景技術
[0002] 半導体用ウェハの一方の面（以下、表面）に、トランジスタ、不純物拡散層および導 電体層等の素子を形成した後で、ウェハの裏面を研削しウェハ厚みを所望の厚みに 加工することが一般に行われている。この加工の後で、所望の形状（大きさ）にダイシ ングされ、半導体チップカ卩ェされる。このチップが半導体パッケージや、回路基板等 に搭載される。この半導体パッケージや回路基板等に、極めて薄いものが要求され てきている。その場合には最終のウェハ厚みを極薄化する必要がある。半導体素子 形成時における初期のウェハの厚みは、 300〜1000 /i mであるが、最終のウェハ厚 み（チップ厚み）は 10〜200 μ πιになる場合もある。このような薄いウェハになると、何 も支持のない単独のウェハでは、ウェハの表面と裏面の応力差により激しく湾曲した り（いわゆる、反りが大きくなり）、またウェハの強度が小さくなり、ウェハに傷や欠陥を 誘発する可能性が高くなる。あるいは、最終のウェハ厚みが上記ほど薄くない場合で あっても（たとえば、ウェハ厚み 200〜400 z m)、ウェハが大口径化した場合（たとえ ば、 200mm以上）にも、ウェハが激しく湾曲したり、ウェハに傷や欠陥を誘発する可能 性が高くなる。この結果、ウェハが極薄化した後は、ウェハの搬送やプロセスが非常 に困難である。
[0003] 上記の問題に対して、極薄ウェハの直径より僅かに大きい直径の半円弧状ガイドを 起立させた複数の収納棚を、支柱を介して等間隔で上下に平行に並べた多段式収 納カセットが提案されている（たとえば、特開 2004-273867)。また、互いに嵌合して積 層可能な収納容器の間に極薄ウェハをスぺーサーシートで挟持して収納するものも 提案されている（たとえば、特開 2005-191419)。さらには、ウェハ裏面研削工程で用 いたウェハ表面保護フィルムを付着させた状態で、ウェハ裏面研削工程の後に、ゥ ェハ裏面にダイシングテープを貼合し、その後で前記ウェハ表面保護フィルムを剥 離し、ダイシングすることが提案されている（たとえば、特開 2002-246345号公報、特 開 2004-186296号公報）。
[0004] また、ウェハ裏面研削後のウェハは、たとえウェハ表面保護フィルムやダイシングテ ープが付着しウェハを支持していても、そのままでは平坦な状態を維持できないため 、工程間搬送や工程内搬送を自動で行うことができず、大半はマニュアルで行って いる。たとえば、ウェハ切断前後の外観検査も一枚一枚手動で搬送している。
特許文献 1：特開 2004-273867
特許文献 2：特開 2005-191419
特許文献 3：特開 2002-246345号公報
特許文献 4：特開 2004-186296号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] し力 ながら、提案された収納カセットにおいては、開閉機構が大掛力、りになる上に 、常にウェハを平坦な状態で取り扱うことが困難である。この結果、容器の高価格化 を招くと同時に、ウェハの変形によるマイクロクラックの発生や作業性の困難さなどが 原因とな
るウェハの損傷が発生するという課題を有している。また、スぺーサーシートを有する 容器においては、消耗品であるスぺーサ一が必要となるために、ランニングコストが 高くなり、環境に優しい構造となっていない。さらに、搬送時にウェハが動きやすい構 造になっているために、搬送時にウェハを損傷し易いという問題もある。ウェハ裏面 研削後にウェハ厚みが極薄になった場合、または/及びウェハが大口径の場合に は、ウェハ裏面研削後にウェハ表面保護フィルムを剥離すると、ウェハが反ったり、 破損しやすくなるという問題がある。
[0006] また、ウェハ裏面研削後にウェハ厚みが極薄になった場合、または/及びウェハ が大口径の場合には、たとえウェハ上に表面保護フィルムが付着していても、或いは ダイシングテープが付着していても、ウェハはフレキシビリティ（柔軟性）があり、ゥェ ハ単独で平坦な状態を維持することは困難である。このため、ウェハ裏面研削後の 工程を自動で搬送または処理することができず、人手が介在したり、ウェハに損傷を 与える危険性が高いという問題がある。このため極めて高価なプロセスとなっている。
[0007] さらに、良品判定の電気特性検査は、ウェハの裏面研削前に行うため、ウェハ裏面 研削後に変動した電気特性の変化を検出することができなかったり、または不良化し たチップを良品として製品に搭載してしまうという問題がある。これを防止する一つの 方法として、ウェハ裏面研削前の検查では、ある程度厳しい検查をして、ウェハ裏面 研削後に変動した電気特性の変化に対応しているが、歩留まりを落とす原因となり、 コストアップの要因となっている。通常のウェハは電気特性検查を全くする必要がな いにも関わらず、ウェハ裏面研削後に破壊したり、または損傷を受けたウェハは、ゥ ェハ裏面検查前に電気特性検查をしなければならないことや、高価な半導体検查装 置（テスター）を使うことなどのために、これもコストアップの要因となっている。
課題を解決するための手段
[0008] 本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものである。本発明の目的は、微小な外 力によって破損しやすい極薄ウェハを破損せずに出し入れすると同時に、搬送 *処 理することが可能な薄板収納 (保持)容器を提供することを目的とする。
[0009] この目的を達成するために、本発明はウェハを真空吸着し固定できる薄板（ウェハ )収納容器を用いる。薄板収納容器は真空吸着部を有していて、ウェハ裏面を真空 吸着できるようになつている。真空吸着部は、ウェハを載置する吸着面、ウェハを真 空吸着する吸着孔、真空を保持する減圧室、外部の真空引き装置に接続する吸引 口、および吸引口と減圧室を結ぶ吸気孔を含む。吸引口には、外部と真空吸着部と の接続を開閉する切替弁や逆止弁がっレヽてレ、る。
[0010] 好適には、薄板収納容器の構造は、減圧室には支持隔壁が配置され、多数の部 分室に分離されている。支持隔壁には連通孔があいている。薄板収納容器は、減圧 室より上の部分（吸着板という）が、減圧室、吸気孔および吸引口を含む下の部分（ 薄板収納容器基板という）と分離できる。また、もっと好適な薄板収納容器の構造は、 薄板収納容器のウェハ載置部が周縁部に対して凹状になっている。さらには、吸着 板の構造は、ウェハ吸着面側が弾性高分子材料であり、他方が一定の強度を有する 高分子材料である、二層構造となっている。 発明の効果
[0011] 薄板収納容器の吸引口が外部の真空引き装置に接続し、ウェハが薄板収納容器 に載置されると、真空引き装置によって吸引口および吸気孔を通して、減圧室の空 気が吸引され、さらに吸着口を通してウェハが吸着面に吸着される。ウェハが確実に 吸着され、薄板収納容器に固定された後に、切替弁等が閉じられ、薄板収納容器の 真空吸着部が真空に保持さ
れる。また、切替弁等が閉じられた後には、薄板収納容器は外部の真空引き装置と 切り離される。ウェハは大気圧と真空吸着部との圧力差によって、薄板収納容器に 固定され平坦状に保持されているので、薄板収納容器の搬送やプロセスなどにおい ても、ウェハは薄板収納容器から動くことはない。また、ウェハを薄板収納容器に吸 着した後は、ウェハが平坦な状態を維持できる。従って、ウェハが極薄になった後で も、搬送を自動化できる。
[0012] 好適には吸着板は薄板収納容器基板から分離できるため、吸着板が磨耗したりし て使用困難になった場合には簡単に交換できる。減圧室には支持隔壁が設置され ているので、吸着板を下から支持しているため、吸着板の変形が殆ど発生しない。従 つて、吸着板を薄くすることができる。繰り返しの真空引きにも変形が少ないのでゥェ ハの吸着が確実に行われるため、ウェハ吸着用の薄板収納容器としての信頼性も高 レ、。減圧室は、支持隔壁により多数の部分室に分離されているが、連通孔があいて いるために、すべての部分室が真空に引かれる。部分室には吸着孔があいていて、 その上に載置されるウェハを真空吸着する。多数の部分室が均等な面積になるよう に設計されているので、ウェハの吸着がウェハ内全面に渡り均等に行われる。指示 隔壁がない場合には、減圧室の中でも最も先に真空引きされる吸引開口付近のゥェ ハ吸着が急速に行われ、そこから遠い場所は真空引きが遅くなるため、ウェハにかか る負担が大きくウェハ損傷の原因になっていたが、支持隔壁を設けることにより、ゥェ ハの吸着がウェハ内全面に渡り均等に行われ、ウェハ損傷がかなり少なくなる。吸着 板は取り外し可能であるから、薄板収納容器の内部まで洗浄できるようになつている 。カロえて、支持隔壁も取り外し可能にすることにより、減圧室や吸気孔までも洗浄可 能となっている。この結果、汚染やパーティクル対策が充分行われ、かつ薄板収納容 器の寿命を飛躍的に長くすることができる。
[0013] また、薄板収納容器のウェハ載置部が周縁部に対して凹状になった薄板収納容器 は、ウェハを吸着し搭載しても、何ら冶工具を使わずにそのまま薄板収納容器を積 層できるという利点がある。また、ウェハを載置する時にウェハの端部が傾斜面にか 力、つてもウェハが滑り載置部（ウェハ吸着面）に載置することができる。特にこの部分 に潤滑性高分子材料を用いた場合には、この効果が顕著である。潤滑性高分子材 料として、 PBT (ポリブチレンテレフタレート）、 PBN (ポリブチレンナフタレート）。 PTF E (ポリテトラフルォロエチレン）、 PFA (パーフルォロアルコキシアルカン）等が挙げら れる。尚、潤滑性材料と潤滑性高分子以外の材料とを一緒に用いた場合にも上記の 効果がある。
[0014] 吸着板を二層構造としたり、吸着板に弾性高分子材料からなる支持ネットを付着す ることにより、ウェハを載置したり真空吸着する時の衝撃が緩和され、ウェハの破損や 損傷が殆ど起こらなくなる。減圧室に支持隔壁を設置しているので、弾性高分子材 料を用いても吸着板を厚くしたりする必要もない。
[0015] 以上のような効果があるので、本発明の薄板収納容器を用いることにより、たとえ、 ウェハが極薄（たとえば、ウェハ厚み 10〜200 μ πι)であっても、または大口径（ウェハ 厚みが 200〜400 μ πιで、ウェハ直径が 200mm以上）であっても、ウェハが破損したり することはない。さらに、好適には、薄板収納容器は、ステンレス鋼等の金属または P TFE (ポリテトラフルォロエチレン)等のフッ素系樹脂から構成され一定の強度を有す る。
[0016] 以上から、本発明の薄板収納容器を用いることにより、歩留まりの高いプロセスを構 築できる。
[0017] 以上の他にも、本発明は以下のような効果もある。
[0018] ウェハを吸着した薄板収納容器が工程中で滞留しても、工程間で清浄かつ安全に ストックできるために、加工効率を向上させることができ、工程設計が容易になる。す なわち、
ウェハの表面が他のものに接触しなレ、ように、ウェハ（収納容器)ケースに収納あるレ、 は、ウェハが重ならないような収納容器を用いることにより、収納容器の上積み保管も 可能となる。このことにより、工程間にウェハ（収納容器)やウェハ（収納容器)ケース をストックできるため、装置効率や処理効率を高めることができ、フレキシブル (柔軟） に工程設計が可能となる。
[0019] 薄板収納容器等に、バーコードや、 RFタグ (Radio
Frequency Tag)のような無線タグなどの情報表示手段を取り付けることが容易となり、 ウェハの枚葉管理ができ、的確かつ正確な処理をウェハに施すことができる。また、 ウェハのトレーサビリティを向上させることが可能となる。
[0020] また、繰り返しになるが、工程間および工程内搬送や処理が自動化できるため、ゥ ェハ（収納容器)検查ゃ処理において、ウェハを破損することなく安全に行うことがで き、加工歩留まりを向上させることができる。
[0021] さらに、薄板収納容器は洗浄することで繰り返し使用することが可能であり、消耗品 を極力少なくし、環境にやさしぐ安価な製造が可能となるという利点もある。
発明を実施するための最良の形態
[0022] 本発明において、ウェハとは主には半導体ウェハを指す。たとえば、半導体ウェハ の材料は、シリコン (Si)やゲルマニウム (Ge)などの単元素半導体材料や、シリコンゲル マニム (SiGe)ゃ砒化ガリウム (GaAs)やインジウムリン (InP)等の化合物半導体材料や、 GaAlAs等の 3元系以上の半導体材料である。しかし、これらにかかわらず、絶縁物の 上に半導体デバイスを形成したものも含まれる。たとえば、ガラスや石英やプラスチッ クなどの上に薄膜デバイスを作成したもの、ガラスや石英やプラスチックなどの上に 半導体材料を貼りあわせたものである。あるいは、金属の上に絶縁物'半導体材料を 貝占りあわせたものも含まれる。さらには、プラスチック等の高分子材料も含まれる。
[0023] 半導体プロセスにおいて、ウェハの表面にトランジスタ等の能動素子、抵抗'コンデ ンサ'インダクタンス等の受動素子や配線 ·絶縁層等を形成し、半導体デバイスが作 製される。本発明に適用される半導体デバイスとして、メモリ、 CPU,システム 、アナ ログ IC、デジタル ICなどがあるが、広義には単体の能動素子や受動素子も含まれる。 すなわち、能動素子や受動素子を少なくとも 1個以上含むものを表す。一般に半導 体ウェハ上には、これらの半導体デバイスが多数形成され、個片（いわゆる、チップ） に切断された後に、用途に応じて種々の製品に搭載される。たとえば、半導体パッケ ージの場合には、リードフレームに搭載される。また回路基板に搭載され、携帯電話 や ICカードやパーソナル 'コンピューター (PC)など種々の機器に用いられる場合もあ る。さらに、液晶や有機 EL (エレクト口ルミネッセンス）等の表示素子も含まれる。
[0024] 近年の最終製品は超小型化を要求されるものが多ぐその傾向は今後も益々進化 してレ、くと予想される。従って、それらの最終製品に搭載されるチップは非常に薄い 厚みのものであることを要求される。チップの厚みを薄くするには、その前段階である ウェハを薄くする必要がある。ウェハを薄くするには、ウェハ上にデバイスが形成され た後に、ウェハ裏面加工研削を行う。
[0025] 本発明は、通常の厚みのウェハ（薄板）にも適用できることは当然であるが、特に、 ウェハ裏面研削等により、薄くなつたウェハを搭載できる薄板収納容器に関する。本 発明で記載する「薄板収納容器」とは、「ウェハ (薄板)を支持または保持可能で、ゥ ェハ（薄板）を搭載した状態でウェハ（薄板）を搬送しプロセスを行うこと（レ、わゆる、ゥ ェハ（薄板）を処理すること）ができるもの」である。従って、このようなものとして考える な
らば、「ウェハ（薄板)支持トレィ」、「ウェハ（薄板)保持トレィ」、「ウェハ（薄板)支持容 器」、あるいは「ウェハ（薄板）キヤリャ」と呼んでも良レ、。
[0026] 裏面研削工程とは、所望の厚みのウェハにするために、半導体デバイスが形成さ れているウェハ表面と反対側のウェハ裏面を研削し、ウェハを薄くする工程である。 この工程では、ウェハ表面に形成されている半導体デバイスを保護するために、ゥェ ハ表面に保護フィルムを貼合する。この保護フィルムとして、たとえばリンテック製 E-s eriesや三井化学製イクロステープがある。保護フィルムを貼合したウェハを裏面研削 装置（レ、わゆる、バックグラインド装置）に配置し、砥粒を含んだ水を加えながら砥石 でウェハ裏面を研削する。所望のウェハ厚みを得た時点で裏面研削を終了する。裏 面研削は、一般に粗研削と仕上げ研削とからなる。粗研削は、粗い砥粒を用いて速 くウェハ裏面を削る方法である。従って、ウェハ裏面には粗い研磨後に大きな歪ゃ応 力が残る。仕上げ研削は粗研削の後で行い、より細かい砥粒を用いて、前記の歪や 応力を緩和する。しかし、歪や応力は完全には除去できないので、裏面加工歪除去 を行う場合もある。 [0027] ウェハ裏面研削を行った後や裏面加工歪除去を行った後においても、本発明であ る薄板収納容器を使用できる。すなわち、ウェハ表面保護フィルムを付着したままの 状態で、本発明の薄板収納容器に載置する。薄板収納容器には真空吸着部があり 、ウェハはその真空吸着部に載り、真空で吸着される。ウェハ裏面が真空吸着面とな る。薄板収納容器に載置するまではウェハにはウェハ表面保護フィルムで支持され ているが、ウェハ表面保護フィルムは柔らかいので、ウェハが極薄の場合（たとえば、 10〜200 μ mの厚みのウェハ）、または/及びウェハが大口径化の場合（たとえば、 ウェハ厚みが 200〜400 μ mで、ウェハ直径が 200mm以上）には、ウェハ表面保護 フィルムを付着したままのウェハでは、柔軟な状態となっていて平坦な状態を保つこ とはできない。従って、薄板収納容器にウェハを載せるまでは、 自動搬送が困難であ り、マニュアル搬送が望ましい。もちろん、手動搬送と同程度の配慮のされた自動搬 送なら自動でも良レ、。薄板収納容器に載置した後は、薄板収納容器に吸着されてい るので、ウェハが反ることはなぐ平坦な状態を維持できる。
[0028] 本発明の薄板収納容器は、容器内部の減圧室に支持隔壁が存在するかしないか で 2つのタイプがある。本発明において、容器内部の減圧室に支持隔壁が存在しな い薄板収納容器を Aタイプと称し、容器内部の減圧室に支持隔壁が存在する薄板収 納容器を Bタイプと称する。
[0029] まず、 Aタイプ薄板収納容器について図 1〜図 9をもとにして以下に説明する。
[0030] 本発明の Aタイプ薄板収納容器の一実施形態を図 1に示す。図 1(a)に示されるよう に、 Aタイプ薄板収納容器 1は、減圧室 2、吸着孔 3、吸着面 4、吸気孔 5及び吸引口 6を含んでいる。減圧室 2、吸着孔 3、吸着面 4、吸気孔 5及び吸引口 6を薄板収納容 器 1の真空吸着部と考えることができる。この実施形態においては、減圧室 2の下側 に吸気孔 5との接続口である吸引開口 10があり、吸気孔 5は薄板収納容器下側部分 7に伸び、中途で曲がり、薄板収納容器横側部分 8で薄板収納容器の外部へ出てい て、吸気孔 5は吸引口 6で終端になっている。減圧室 2は吸着面 4の裏面である上側 部分 9と収納容器の下方に位置する下側部分 7とで主に囲まれて構成されてなる収 納容器内部に配置している。薄板収納容器下側部分 7とは、減圧室 2を構成する薄 板収納容器の下側部分を指す。また、薄板収納容器横側部分 8とは、上側部分 9と 下側部分 7とで主に構成される減圧室 2のうち、減圧室の側面を構成して減圧室 2を 完全ならしめる部分を指す。薄板収納容器上側部分 9とは、吸着面 4の裏面であって 減圧室 2の一部を構成する部分を指す。
ウェハの吸着方法について、図 l(a)〜(d)に基づいて説明する。吸引口 6は真空引 さ
装置に接続されてレ、る（図には示されてレ、なレ、）。ウェハ 11は薄板収納容器 1の吸着 面 4に載置される。裏面研削後に厚みが極薄化したウェハは一般には反っているの で、図 1(b)に示すように、ウェハ 11が真空に引かれる前には、平坦な面である薄板 収納容器 1の吸着面 4とウェハ 11との間には隙間 12があいている。真空引き装置に よって真空引きされると、吸引口 6において真空引き装置に接続した吸気孔 5を通つ て、吸引開口 10で吸気孔 5と連結した減圧室 2が真空引きされる。さらに、減圧室 2と 吸着面 4とを連結した吸着孔 3を通ってウェハ 11が真空に引かれ、図 1(c)に示すよう に、隙間 12がなくなってウェハ 11が薄板収納容器 1の吸着面 4にしつ力りと吸着され る。薄板収納容器 1の吸着面 4において、吸着孔 3はウェハが載置および吸着される 場所以外の場所には存在しないように配置されている。また、吸着孔 3は図 1(d)に示 すように、ウェハの載置および吸着される場所に多数存在している。吸着孔の大きさ と数は、ウェハが吸着され固定されるために充分な程度に設計される。好ましくは、 吸着孔 3の大きさは、直径が 0. 5mm以上である。 0. 5mm未満の大きさの吸着孔では 、吸着孔の数にもよる力 真空引きに時間がかかるととともに、十分にウェハ 11が吸 着されない場合がある。また、 0. 5mm未満の大きさの吸着孔では、異物で塞がる場 合もある。吸着孔の大きさの最大値は、ウェハサイズ、ウェハの厚み、ウェハの反り量 あるいはウェハ吸着面の粗さによって変化する。しかし、一般にウェハ厚みが極薄の 場合には、 50mmを越える大きさの吸着孔 3では真空引きのスピードが速すぎて、ゥ ェハが破損する可能性もある。また、ウェハ側の吸着面の微小な凹凸により真空がリ ークしゃすくなる場合もある。吸着孔 3の大きさは、そろっている必要はない。たとえ ば、中心の吸着孔 3のサイズを大きくし、周辺側に向かう吸着孔 3のサイズを徐々に 小さくすると、ウェハの吸着が好ましい場合がある。一般にウェハの中心付近は反り 量が大きぐ周辺は反り量が小さい場合が多レ、からである。ウェハ 11上に形成される 個々のチップの下にのみ吸着孔 3を配置し、ウェハ 11上のスクライブラインにあたる 位置には吸着孔を配置しないことが効果的な場合もある。たとえば、スクライブライン 上をダイシングした後にも、個々のチップを確実に吸着する場合である。このような場 合には、薄板収納容器をチップの大きさや配置によって変更することが必要となる。 薄板収納容器には、容易に情報表示手段を取り付けることができるので、薄板収納 容器をウェハ毎に変更することは、工程管理上も特に問題なく可能である。また、図 1 (d)に示されるように、吸気孔 5の 1部および吸引口 6はウェハ薄板収納容器の外側に 出ている。
[0032] 吸気孔 5または吸引口 6には切替弁あるいは逆止弁が付いていて（図示されていな レ、）、薄板収納容器 1の真空吸着部が真空になりウェハを完全に吸着した後で、それ らの弁を閉じると真空が保持されるようになっている。従って、真空が保持された後に は、真空引き装置を薄板収納容器の吸引口 6から取り外しても、ウェハ 11は薄板収 納容器 1に確実に吸着されていて、その後に薄板収納容器を使用して搬送やプロセ スを行っても、ウェハ 11は、薄板収納容器 1から離脱したり、薄板収納容器 1の吸着 面 4上で動くことはない。尚、切替弁や逆止弁の他にも、真空を保持できるような方法 であれば、本発明の薄板収納容器に適用できる。たとえば、吸引口 6に蓋をする方法 や吸引口 6に栓をする方法が挙げられる。切替弁等の開閉や、蓋ゃ栓をすることは、 自動化も可能である。
[0033] 減圧室 2は複数の吸着孔 3がつながり、吸着孔 3の真空引きの源となる。いわば、真 空のダムのような存在であるから、ある程度の容積が必要である。
[0034] 図 2に別の Aタイプ薄板収納容器の実施形態を示す。図 1に示す薄板収納容器 1 の吸気孔 5は、薄板収納容器下側部分 7に伸びていたが、図 2に示す薄板収納容器 においては、吸気孔 25は減圧室 22の横側部分 28に伸び、そのまま外部に出ている 。このような構造になっている場合には、薄板収納容器の下側部分 27を薄くできるた め、薄板収納容器 21を薄くすることが可能となる。薄板収納容器ケースに薄板収納 容器 21を収納する場合には、薄板収納容器ケースも小さくすることができる。
[0035] 図 3にさらに別の Aタイプ薄板収納容器の実施形態を示す。吸気孔 35の高さが、 減圧室 32の高さと同じ場合における薄板収納容器 31の横方向断面図である。この 場合はさらに、薄板収納容器 31の厚みを減らすことができる。減圧室 32の高さを少 なくして減圧室 32の容積を減らすと、真空の保持に問題が発生する場合は、このよう にすることは望ましくはないが、切替弁等の真空シール性能を向上させたり、吸着孔 の最適化、吸着面やウェハ吸着面の改善などを行うことにより、達成できる。
[0036] 図 4に別の Aタイプ薄板収納容器の実施形態を示す。この実施形態は、図 3に示し た Aタイプ薄板収納容器における吸気孔 45や吸引口 46力 S、薄板収納容器 41の横 側部分 48の外部へ出ない場合である。吸気孔 45や吸引口 46が外部へ出ると、吸気 孔 45や吸引口 46が破損したり変形したりして、使用不可能になる場合もある。図 4に 示す薄板収納容器は、このような恐れを解消する薄板収納容器の実施形態である。
[0037] 尚、吸引口が薄板収納容器の内部にあるものでも良レ、。この場合は、真空引き装 置との接続に工夫が必要である。また、切替弁等の真空を閉じ込める方法にも工夫 が必要であるが、本発明の薄板収納容器として適用可能である。
[0038] 図 5は、 Aタイプ薄板収納容器の別の実施形態である。図 5(a)は横方向断面図、 図 5(b)は平面図である。図 1〜4に示す場合と異なるのは、ウェハを載置する場所 (ゥ ェハ載置部またはウェハ吸着面 54)が周辺に比較し窪んでいることである。尚、ゥェ ハ吸着面 54はもちろん平坦な形状である。ウェハの吸着面 54には、図 5(b)に示すよ うに、吸着孔 53が多数存在し、ウェハ 57を確実に吸着できるようになつている。図 5( b)の吸着孔は小さな円形で示されているが、他の形状、たとえば四角形や楕円形や 三角形やそれらに類似した形状でも良レ、。あるいは、それらの組合せでも良い。ある レ、は、ウェハ 57を吸着できるその他の形状でも良い。ウェハ 57を平坦状に維持でき 、かつ確実に固定できる程度に吸着孔の数と形状と大きさを選択することができる。 尚、吸着孔はウェハ搭載位置の範囲内にあることが必要であることは、図:!〜 4に示 す薄板収納容器と同様である。
[0039] 図 5に示す薄板収納容器 51の周辺部から吸着面 54への傾斜は、図 5のテーパー 部 (傾斜面） 58で示されるように、テーパー状になっている。ウェハ 57が薄板収納容 器 51の吸着面 54に置かれる時に、多少位置ずれしてウェハの端がテーパー部 58 にかかっても、ウェハはテーパー部 58から滑って吸着面 54に載置される。すなわち 、図 1〜4の場合の薄板収納容器に比較し、ウェハ 57の載置場所が安定化するとい う利点がある。また、ウェハの破損を防止するという利点もある。薄板収納容器 51の 周縁部 59はある程度平坦となっている。周縁部 59の高さが、ウェハを吸着面 54に 吸着した場合のウェハ 57の表面 (最上面）の高さよりも高くしておくことにより、薄板収 納容器 51を重ねて積層しても、ウェハ 57への接触がないという利点もある。周縁平 坦部 59の面積は、積み重ねても安定する程度の面積を確保する必要がある。従って 、この場合は、特別のウェハ（薄板収納容器)ケースを使う必要がない。その他は、図 1〜4に示す薄板収納容器と同様である。
[0040] 図 5に示す薄板収納容器 51の吸気孔 55および吸引口 56のタイプは、図 1に示し た薄板収納容器 1の吸気孔 5および吸引口 6のタイプと同様である力 S、図 2〜4に示 すものと組合わせることは容易である。これらを組合わせたテーパー部を有する薄板 収納容器は、図 5に示す薄板収納容器 51よりも薄くできることも自明である。
[0041] 尚、薄板収納容器 51のような薄板収納容器を積み重ねができるような薄板収納容 器の場合には、薄板収納容器の裏にもウェハを吸着し載置可能である。この表裏一 体の収納容
器においては、下向きになるウェハも存在するが、薄板収納容器の吸着面に確実に 吸着されているので、落下することはない。
[0042] さらに、テーパー部が少ない垂直に近い段差を有するものでも良い。ウェハの位置 ずれに対しては余裕度が小さいが、精度良くウェハを載置部（吸着部）に載置できれ ば特に問題が発生することもない。
[0043] 薄板収納容器全体または一部の材質は、鉄、チタン、アルミ、銅、ニッケル、コバノレ ト、亜鉛、モリブテン、タングステンまたは他の元素を含む金属から構成することがで きる。あるいは、これらの元素を主体にした合金であっても良レ、。薄板収納容器の重 量がある程度必要な場合は、重レ、金属元素を含む金属や合金であることが望ましレ、 。たとえば、ステンレス鋼やニッケル鋼やクロム鋼などである。薄板収納容器を軽くす る必要がある場合には、アルミやチタンなどの軽い金属元素を含む金属や合金であ ることが望ましい。金属や合金は、一般に下記の有機系の材料よりも高温耐性や強 度があるので、高温で処理する必要がある時などに、使用することが望ましい。
[0044] あるいは、薄板収納容器全体または一部の材質は、 PTFE (ポリテトラフルォロェチ レン）や PEP (パーフルォロエチレンプロペンコポリマー）等のフッ素樹脂またはその 他の有機系材料であっても良い。上記の金属系の薄板収納容器に比較して、軽ぐ し力もウエットエッチング液耐性があるという利点がある。
[0045] あるいは、金属と有機系材料との複合体であっても良い。あるいは、金属系材料を 有機系材料で被覆したものでも良い。薄板収納容器の材質は、その後のプロセスの 条件に適合した材料で構成することが望ましレ、。
[0046] ウェハ裏面研削を行レ、、極薄化したウェハについては、ウェハ表面保護用フィルム をウェハに付着した状態で薄板収納容器に載置した方が、ウェハの反りの影響が少 ないこととウェハの破損を少なくできることから、望ましい場合が多い。
[0047] 裏面研削用ウェハ表面保護用フィルムのついたウェハを薄板収納容器に載置する 方法について図 6(a)〜(d)を用いて説明する。図 6(a)は、ウェハを吸着前の薄板収納 容器を示す図である。図 6(b)に示すように、ウェハ表面保護用フィルム 68が付いたま まの状態でウェハ 67の裏面が吸着面 64の上に置かれる。吸引口 66は外部の真空 引き装置に接続していて、ウェハ 67が置かれると、吸気孔 65を通して減圧室 62が真 空引きされ、さらに吸着孔 63を通してウェハ 67が吸引され吸着面 64にウェハ裏面 6 9が吸着される。薄板収納容器 61の吸着面 64には、図 6(d)に示すように、吸着孔 63 が多数存在し、ウェハ 67を確実に吸着できるようになっている。図 6(d)の吸着孔は小 さな円形で示しているが、他の形状、たとえば四角形や楕円形や三角形やそれらに 類似した形状でも良レ、。あるいは、それらの糸且合わせでも良い。あるいは、ウェハ 67 を吸着できるその他の形状でも良い。ウェハ 67を平坦状に維持でき、かつ確実に固 定できる程度に吸着孔の数と形状と大きさを選択することができる。吸着孔 63はゥェ ハ搭載位置の範囲内にあることが必要である。何故なら、ウェハが真空吸着されても ウェハを吸着していない吸着孔 63が存在し、真空度が安定しないからである。尚、真 空引きに関しては、ウェハ 67を置く前から吸引しても良レ、。ウェハ 67を薄板収納容 器に吸着した後に、図 6(c)に示すように、ウェハ表面保護フィルム 68を剥離する。剥 離する前に、保護フィルムとウェハ表面との密着性を減じたり、ウェハ表面に保護フィ ルムからの接着剤（レ、わゆる、糊残り）が残らないようにするために、 UV (紫外線）照 射を行っても良レ、。保護フィルムの剥離は、保護テープ剥離マシーンを用いても良い し、マニュアル（手）で剥離することもできる。保護フィルム 68を剥離しても、ウェハ 67 は薄板収納容器 61にしつ力りと吸着され固定されているので、たとえ、ウェハが極薄 になっても、または/及びウェハが大口
径になっても、ウェハが反ることはなぐ平坦な状態を維持できる。従って、本発明の 薄板収納容器 61を用いれば、保護テープ剥離マシーンにおいても自動化可能であ る。
[0048] ウェハ 67をしつ力 と吸着した後に、吸引口 66を閉じ、真空吸着部の気密性 (真 空度）を確保する。この気密性を確保する方法として、吸引口 66に蓋ゃ栓をしシール する方法や吸引口 66に切替弁や逆止弁を設けてその弁で閉じる方法などがある。こ のようにすることにより、薄板収納容器を真空引き装置と切り離して、その後のプロセ スを行うことができる。もちろん、その後のプロセスにおいても当初の真空引き装置を 連続して薄板収納容器に接続できる場合は、上記の気密性を確保する方法を用い なくても、真空吸着部の真空度を確保できることは自明である。
[0049] 薄板収納容器はウェハ 1枚ごとに 1枚が対応する。ウェハに接触しないように注意 すれば薄板収納容器 1枚ごとに搬送や処理が可能である。 自動化をそのように設計 すれば良いので、 自動化も可能である。あるいは、この薄板収納容器を複数枚薄板 収納容器ケース等に入れ移動や運搬も可能である。これも自動化をそのように設計 すれば良いので、 自動化も容易である。
[0050] 図 6では、吸気孔が減圧室の下側から入るように描かれている力 S、横側からストレー トに入っても良い。この場合には、減圧室の下側に位置する薄板収納容器の肉厚を 薄くできるので、薄板収納容器全体を薄くすることが可能となる。また、薄板収納容器 は、ウェハが吸着できるような構造であれば良い。さらに、図:!〜 6で示す形状（円板 状)でなくても良い。たとえば、薄板収納容器は、平面図が長方形、全体形状が直方 体であっても良いし、平面図が正方形、全体形状が直方体であっても良レ、。直方体 の形状の場合は積み重ねが容易であり、薄板収納容器ケースへの保管も簡単であ る。また、ある程度強度があり、繰り返し使用できる構造であれば良い。
[0051] ウェハ裏面研削を行レ、、極薄化したウェハについては、ウェハ表面保護用フィルム をウェハに付着した状態で薄板収納容器に載置した方が、ウェハの反りの影響が少 ないこととウェハの破損を少なくできることから、望ましい場合もある。
[0052] 次に、本発明の薄板収納容器をウェハ切断工程に用いる方法について説明する。
[0053] ウェハ切断方法として、ダイシングブレードを用いたダイシング装置（いわゆる、ダイ サー）を用いる方法がある。これは、薄板収納容器上に載置されたウェハを所望の大 きさにダイシングブレードで切断する方法である。一般にウェハ上にパターン形成さ れたスクライブラインに沿って切断する。ウェハの厚みや、ウェハの材質、ウェハ上に 形成された薄膜等に応じてダイシングの条件を変化させてウェハ切断 (ダイシング） を行う。また、ダイシングをするウェハの量によって、フルカット、セミフルカット及びハ ーフカット等の方法がある。
[0054] フルカットとは、ウェハを完全に切断する方法である。従って、切込みが薄板収納 容器側に入る。また、セミフルカットとはウェハ厚み量程度を切断する方法であり、ゥ ェハはほぼ完全に切断されるが、できるだけ切込みを薄板収納容器側に入れないよ うにする方法である。これらのフルカット及びセミフルカットでは、薄板収納容器側に ダイシングの切込みが入り、傷がつくので、薄板収納容器を繰り返し使うことが困難で ある場合が多い。薄板収納容器も比較的高価であるため、ダイシング時に薄板収納 容器に傷が入らなレ、ようにし、薄板収納容器を繰り返し使用することが望ましレ、。
[0055] この方法の一つとして、図 7に示すように、薄板収納容器 71の吸着面 74とウェハ 77との間に薄いシート 78を挟む方法がある。このシート 78は特に、ダイシング等の ウェハ切断の時に、薄板収納容器に損傷を与えないという役割を持たせることができ る。このシートは、薄板収納容器に損傷を与えないことが達成できれば、トレイ（薄板 収納容器）の薄型化や材料コストの面で、薄い方が望ましい。また、ウェハ 77が薄板 収納容器 71の真空吸着部に吸着されるために、シート 78に小孔をあけておいても 良レ、。あるいは、シート自体がポーラスな（間隙の多い）ものであれば、特にシートに 小孔をあけなくてもウェハを真空吸着できる。あるいは、網目状のシートも使用できる 。この網目状のシートは、網目部の部分が真空シールの役割を果たすので、真空の 気密性を保つことができる。
[0056] 薄いシートには切込みは入る力 薄板収納容器までは切込みが入らないような条 件でダイシングを行えば、薄レ、シートは何回も使用できないが、比較的高価な薄板 収納容器は何回でも繰り返し使用できる。たとえば、ダイシングの切断厚み制御は最 小 10 μ m程度は可能なので、フルカットの切断量をウェハ厚みより 50 μ m厚く設定す る場合には、薄いシート 78の厚みを 100 /i m程度にすれば、ダイシング時の切込み は、薄いシート内で留まり、薄板収納容器に入ることはなレ、。薄いシートの厚みをさら に薄くしたい時には、厚み制御が優れたダイシング装置を使用したり、フルカット量の 切断量をさらに小さくするなどして対応できる。フルカットの場合には、後述のロール などを用いたウェハの完全切断法を用いる必要がなレ、が、セミフルカットの場合は、 完全に切断されていないチップも存在する可能性があるので、後述のロールなどを 用いたウェハの完全切断法を用いる必要がある場合がある。いずれにしても、薄いシ ートを挟むことにより、ウェハは完全に切断され、し力も薄板収納容器には切込み等 のダメッジが入らなレ、ので、薄板収納容器を繰り返し使用できる。
フルカットを用いて完全にウェハを切断しながら、薄板収納容器に損傷を与えない 別の方法として、ダイシングテープを用いる方法がある。これは、薄板収納容器吸着 前に、ウェハ表面保護フィルムが付着したウェハの裏面にダイシングテープを付着さ せ、その後で薄板収納容器に載置し吸着する方法である。これを図 8(a)に示す。ダイ シングテープ 88が薄板収納容器 81の吸着面 84に吸着されている。図 8ではウェハ 表面保護フィルムは示されていないが、このフィルムを残しても問題ない製品であれ ば、ウェハ表面保護フィルムを残しておいても良レ、。一般には、ウェハ表面保護フィ ルムは薄板収納容器に吸着した後で剥離することができる。あるいは、ダイシングテ ープ 88を付着させた後に、薄板収納容器吸着工程に入る前に、ウェハ表面保護フィ ルムを剥離しても良い。図 6において説明したように、保護フィルムの剥離の前に UV 照射を行っても良い。ウェハ表面保護フィルムを剥離した場合でも、薄板収納容器や ダイシングテープがウェハを支持しているので、たとえウェハが極薄でも、または Z及 びウェハが大口径であっても、ウェハが反ることはなくウェハを平坦な状態でプロセ スできる。図 8(b)は、図 8(a)のダイシングテープ付のウェハ 87をダイシングする場合 の様子を示す模式図である。ダイシングブレード 80がウェハの所望の位置を切断し 、切断部 89を形成する。フルカットの場合、切断部 89はウェハを完全に分離し、しか もダイシングテープ 88にも切込み部 90が入る。しかし、薄板収納容器 81には切込み は入らず、薄板収納容器 81は損傷しないので、薄板収納容器 81を繰返し使用でき る。
[0058] 次にハーフカットについて説明する。ハーフカットとは、完全に切断しないで、切込 みをウェハ内で留める切断方法である。この場合には、薄板収納容器側には切込み は入らないので、薄板収納容器に損傷はなぐ薄板収納容器を繰り返し使用できる。 また薄いシートやダイシングテープも必要がなレ、。ただし、ウェハが完全に切断され ていないので、ダイシング後にウェハ上から少し圧力をかけて、ウェハを切断する必 要がある。たとえば、ウェハ上をロール等で軽くなぞることにより、切断できる。ウェハ がシリコンウェハの場合には、（111)面でへき壊することは周知である。尚、ハーフ力 ットの場合でも緩衝材として、薄いシートを挟んでも良い。また、ダイシングテープをゥ ェハ裏面に貼合して
薄板収納容器に吸着することもできる。
[0059] 上記のブレード型ダイシング装置では、水を使用するため、薄板収納容器やシート は水に濡れるが、ダイシング後に脱水 ·乾燥することにより、水分を除去可能である。 薄板収納容器の材料は、上記した様な材料であるから、水分を内部に吸着すること もなレ、。シートについても、水分吸着や水分吸収のしない材料を用いることにより、水 分を内部に吸着することもない。また、シートが水分を少し吸着したとしても、乾燥時 多少暖めることにより、水分を除去できる。或いは、完全に水分を除去できなくとも、 チップ移載時またはチップ移載後に水分を除去すれば特に問題が発生しない場合 もめる。
[0060] ウェハ切断に関する他の方法として、レーザーによる切断方法（レーザーダイシン グ）がある。この場合も上述のフルカット、セミフルカットやハーフカットを用いることが でき、切断時の問題点として、ダイシングによる方法と同じことが言える。ただし、レー ザ一による切断の場合には、材料による選択性を利用することができる。たとえば、ゥ ェハを完全に切断できるが、薄板収納容器やシートに損傷を与えないレーザー光の 条件を設定可能である。また、水などを用いないでドライ状態で切断することができる ので、水分残りなど水に関する問題も発生しない。
[0061] ウェハ切断に関する他の方法として、高圧水による切断方法がある。この場合も上 述のフルカット、セミフルカットやハーフカットを用いることができ、切断時の問題点と して、ダイシングによる方法と同じことが言える。ただし、高圧水による切断の場合にも 、材料による選択性を利用することができる。たとえば、ウェハを切断できるが、薄板 収納容器やシートに損傷を与えない高圧水の条件を設定可能である。
[0062] 本発明の薄板収納容器はウェハ切断工程後にチップ移載工程にも適用可能であ る。すなわち、薄板収納容器に吸着されたウェハを所望のサイズのチップに切断した 後で、チップをピックアップして所定の場所に移載することができる。所定の場所とは 、チップのその後の使用方法によって異なる。たとえば、 ICパッケージの場合には、リ ードフレームや COB基板上に搭載する。チップトレイに移載する場合もある。回路基 板上に移載する場合もある。
[0063] チップのピックアップはたとえばコレットをチップにあて真空吸引して行う。チップを ピックアップする前に、薄板収納容器側の真空を破るか、真空度を少し弱めるかする ことが好ましい場合がある。一般には、ピックアップ時にウェハ表面から真空吸着する 力 このピックアップ側の真空度が、薄板収納容器の真空度より強ければ、チップは ピックアップできる。しかし、ピックアップ側の真空度が強すぎると、ピックアップ後に、 チップに大気圧と真空度との圧力差による力がチップに加わるので、チップにダメッ ジが入る場合もある。そのような恐れのある場合 (チップ厚みが薄い場合や、チップサ ィズが大きい場合など）には、チップをピックアップする前に、真空を破るか、真空度 を少し弱めるかすることが好ましい。
[0064] また、チップの下に吸着孔がある場合などには、チップをピックアップ後などに、切 替弁ゃ逆止弁を用いて減圧室 82の真空を保持している場合は、真空が破れる可能 性があるので、ピックアップ時に薄板収納容器の真空部分を真空に引く必要がある 場合もある。このように薄板収納容器の真空部分を真空に引くことにより、一部のチッ プをピックアップ後もチップは薄板収納容器側に引かれるので、真空が破れたりする ことによるチップの位置ずれ等の問題も発生しなレ、。また、ピックアップ装置側や移載 側等に位置ずれ補正が装備されている場合には、真空が破れることによる問題の発 生は少ない。
[0065] 前述のダイシングテープを用いてウェハを吸着する場合も、たとえフルカット法を用 レヽ
ても、ダイシングテープは深さ方向には完全に切断されていないので、チップのピッ クアップによる薄板収納容器の真空が破れるという問題は発生しない。
[0066] 以上説明したように、チップ移載においても本発明の薄板収納容器を用いているの で、チップ移載工程の自動化もできるし、ウェハ切断工程の自動化およびウェハ切 断力 チップ移載工程との工程間の連結も自動 (たとえば、 自動移送)化が可能とな る。
[0067] ダイシングテープとチップの密着性を減少させるために、チップを移載する前に、 U V照射を行うこともできる。 UV照射はダイシングテープの糊残り対策として有効である 。本発明の薄板収納容器を用いて、 UV照射も可能であるから、 UV照射工程の自動 化はもちろん、その前後工程との工程間の連結も自動（たとえば、 自動移送)ィ匕が可 能である。
[0068] 本発明の薄板収納容器は、裏面研削後のウェハ裏面の加工歪除去にも適用でき る。そのウェハ裏面研削適用方法について、詳細に説明する。ウェハ裏面研削工程 後に、図 9に示すように、ウェハ表面保護フィルム 98を付着した状態でウェハ 97を薄 板収納容器 91の吸着面 94に載置する。この時、図 9に示すように吸着面 94に接す るのは、ウェハ表面保護フィルム 98側である。ウェハ 97の裏面 99は薄板収納容器 9 1の最上面にむき出しとなつている。ウェハ裏面研削工程から薄板収納容器 91に移 載する方法として、 自動で行う方法とマニュアルで行う方法がある。吸引口 96は外部 の真空引き装置に接続していて、ウェハ 97が置かれると、吸気孔 95を通して減圧室 92が真空引きされ、さらに吸着孔 93を通してウェハ 97が吸引され吸着面 94にゥェ ハ表面保護フィルム 98が吸着される。吸着される前は、極薄ウェハ、または Z及び大 口径ウェハの場合には、比較的柔軟な（フレキシブルな）状態にあるが、吸着後はゥ ェハがしつかりと固定され、平坦な状態を維持できる。
[0069] ウェハ裏面加工歪除去工程に用いることができる薄板収納容器の形状として、図 5 に示した場合と同様に、周辺がテーパー部を有する収納容器を使用することもできる 。また、周辺が正方形や長方形などの形状のエッチングトレイ（エッチング用トレイま たはエッチング用薄板収納容器)も使用できる。この場合の全体形状としては、直方 体になる。
[0070] ウェハを吸着した薄板収納容器を用いて裏面加工歪除去工程を行う。裏面加工歪 除去方法として、ドライエッチングによる方法とウエットエッチングによる方法とがある。 従って、ウェハ加工歪除去工程で用いる薄板収納容器を以下の説明においてエツ チングトレイと呼ぶ。
[0071] ドライエッチング方法としては、プラズマエッチングや光エッチングがある。ウェハの 裏面加工歪除去をドライエッチングで行う場合には、エッチングトレィをステンレス鋼 等の金属系のトレィ（トレィは薄板収納容器と同義である）にすることが望ましい。ドラ ィエッチングに用いるエッチング用ガスとしては、ウェハ材料がシリコン（Si)や砒化ガ リウム等の化合物半導体などの場合には、 CFや C Fや SFや CC1や CHF等のエツ
4 2 6 6 4 3 チングガスが用いられるが、テフロン (登録商標）系の材料を主体とする薄板収納容 器では、エッチングトレィも反応したりして損傷を受ける可能性があり、エッチングトレ ィを何回も使用することが困難となる場合がある。従って、ドライエッチングの場合に は、エッチングトレイの材料はドライエッチング用ガスと反応しないか、反応しにくい材 料である金属系の材料が望ましい。特にステンレス鋼やニッケル鋼やクロム鋼の場合 には、ドライエッチングガス耐性が大きいので、さらに望ましぐエッチングトレイの繰 返し使用が可能となる。
[0072] 裏面加工歪除去をウエットエッチングで行う場合には、エッチングトレィを PTFE (ポリ テトラフルォロエチレン）や PEP (パーフルォロエチレンプロペンコポリマー）等のフッ 素系樹脂材料やその他の有機系材料などのトレイにすることが望ましい。ウエットエツ チングプロセスのウェハのエッチング液としては、アルカリ系水溶液ゃフッ硝酸系水 溶液がある。これらの水溶液は金属系の材料をわずかでも侵す可能性があり、エッチ ングトレイを何回も使用することが困難となる場合がある。従って、ウエットエッチング の場合には、ウエットエッチング液と反応しなレ、か、反応しにくい材料である上記のフ ッ素系樹脂材料が望ましい。
[0073] 従来、ウェハが極薄のウェハ厚の場合、または Z及び大口径のウェハの場合は、 ウェハの平坦状態の維持が困難などのために、ウェハ裏面加工歪除去工程におけ るウェハ搬送はマニュアルが多かった力 S、本発明のエッチングトレィを用いれば、ドラ ィエッチングでもウエットエッチングでもウェハの搬送を容易に自動化でき、工程間お よび工程内自動化が可能となる。これによつて、大幅なコストダウンが可能となる。
[0074] ウェハ裏面加工歪除去工程後のプロセスはウェハ表面からの加工が必要な場合が 多いので、裏面加工歪除去を行ったウェハ表面保護フィルムの付着したウェハを、 エッチングトレイから薄板収納容器 (この場合は、これまでに説明したものと同様の薄 板収納容器のことである）へ移載する必要がある。図 9を用いて説明すると、薄板収 納容器 (ここではエッチングトレイに相当する） 91の吸着面 94にウェハ 97が真空吸 着されているので、吸引口からエアー等を入れ真空吸着部の真空を破る。その後で 、ウェハ 97を薄板収納容器に移載する。ウェハの移載は、マニュアルまたは自動で 行うことができる。
[0075] ウェハ表面に形成されたデバイスの最終電気特性検查は、ウェハ切断前に行うこと が望ましい。さらに望ましくは、ウェハ切断後、チップ移載前に行うことがさらに望まし レ、。何故ならウェハの電気特性は前の工程の影響を受けるからである。しかし、ゥェ ハ裏面研削後において、ウェハが 200 μ πι以下の厚みになった場合、またはウェハ 厚み力 S200〜400 μ mでもウェハ径が 200mm以上（たとえば、 200〜1000mm)と大 口径になった場合には、ウェハの反りが大きくなつたり、強度不足によるウェハ損傷 の恐れがあるために、従来は、ウェハ裏面研削後はウェハの電気特性検査を行うこと が困難であった。しかし、本発明の薄板収納容器を用いることにより、ウェハ切断前 に電気特性検査を行うことが可能となる。すなわち、薄板収納容器にウェハを吸着し た状態で、電気特性検査を行うことができる。しかも自動化にも対応できる。たとえば 、薄板収納容器を薄板収納容器ケースに複数枚セットしておけば、あるいは、積み重 ねの可能な薄板収納容器を使えば、複数枚の薄板収納容器を重ねてテスターにセ ットしておけば、やはり電気特性検查装置 (テスターなど）で自動的に処理可能である
[0076] さらに、本発明の薄板収納容器を用いれば、ウェハ切断後にも電気特性検査を行 うことができる。すなわち、ウェハ切断後にもチップとして薄板収納容器に吸着させる ことも可能であるから、電気特性検査が可能となる。たとえば、ウェハのチップ配列に 合わせて、吸着孔を配置しておけばよい。ウェハのチップ配列に合わせた薄板収納 容器をデバイス毎に用意しておけば良い。あるいはウェハのチップ配列に合わせた 吸着板を用意して、デバイス毎に吸着板を変更するということもできる。このことにより 、ウェハが切断場所（レ、わゆる、スクライブライン）に沿って完全に切断されたとしても 、チップはチップ毎に配列した吸着孔によって吸着されているので、切断後もチップ 位置が変化することはない。また、ダイシングテープに付着したウェハを薄板収納容 器に吸着させ、かつダイシングテープの内部で切込み部を留めておけば、ウェハを 切断してもダイシングテープは薄板収納容器に吸着されており、薄板収納容器の真 空は破られないから切断後のチップは固定されていて、チップの電気特性検查を行 うことが可能となる。また、ハーフカット方式を用いれば、ウェハ切断後も薄板収納容 器の真空は破られないので、ウェハ（チップ）の電気特性検查を行うことが可能となる 。尚、ダイシングテープがあった場合でも、ハーフカット方式の場合でも、ウェハのチ ップ配列に合わせた吸着孔があれば、ウェハ切断後にもチッ
プの位置ずれが少なレ、場合もあり、安全性が高いとレ、うことが言える。
エッチングトレィゃ薄板収納容器には、バーコードや RFタグのような無線タグなど の情報表示手段を取り付けることができる。たとえば、これらのトレイ（以下、単にトレィ と言う）の側面や底面などに取り付けることができる。また、図 5で示すような周辺部が 高くなつているトレイでは、周辺部のウェハが載置されない平坦な場所にも取り付け ること力 Sできるし、テーパー部にも取り付けることが可能である。さらに、図:!〜 4に示 すような上面が平坦な収納容器でも、ウェハの周辺または、ウェハのファセットの外 側部分などウェハが載置されない場所にも取り付けることができる。最近の情報表示 手段は非常に小さくなつているので、少しのスペースがあれば取付けが可能である。 これらの表示手段を取り付けることにより、種々のプロセス情報を書き込んだり、読み 込んだりできる。その情報に従って、プロセスの条件を変更することも可能となる。収 納容器毎に情報表示手段を取り付けることができるので、ウェハの枚葉管理もできる 。従って、種々のデバイスを混在して流動が可能となる。たとえば、本発明の薄板収 納容器を用いると、ダイシング工程においても、ウェハ 1枚ごとに、ダイシングの条件 を変更可能である。また、電気特性検查においても、 1枚ごとに異なったデバイスの 検査が可能となる。さらに、 1枚のウェハ内のチップ毎に検查条件の変更も可能であ る。加工処理能力の異なる場合などによりウェハが工程間で滞留しても、 1枚ごとに 誤りなく情報を把握できる。また、情報を保管することも容易となるので、薄板収納容 器を使用してプロセスを行ったウェハについては、トレーサビリティも高くなり、信頼性 の高い製品を作製できる。
[0078] また、本発明の薄板収納容器はトレイケースに収納もできるし、クリーンボックスなど にも保管できる。また、積み重ねが可能な薄板収納容器の場合には、単純積み重ね も可能なので、スペースを最小化もできる。従って、工程内および工程間に清浄かつ 安全に、または Z及び大量にストックでき、工程設計が容易になる。
[0079] さらに、極薄ウェハまたは Z及び大口径ウェハでは工程間搬送時に破損しやすい という問題を防止するために、ウェハを積層する時に各ウェハの間に消耗品である層 間紙を揷入していたが、本発明の薄板収納容器を使用する場合は、このような層間 紙は不要となり、これもコストダウンにつながるという利点もある。
[0080] これまでも説明したように、薄板収納容器にウェハを吸着後は、薄板収納容器の自 動搬送が可能となるので、薄板収納容器吸着工程に続けて、ウェハ切断工程に、さ らにチップ移載工程へと工程間搬送が自動で可能となる。従って、これらの一貫ライ ンを構築できる。さらに、これらの工程の間にウェハ電気特性検査工程やウェハ外観 検査工程が入っても、同様に一貫した自動化ラインを構築でき、非常にコストの安い 製造ラインを作ることが可能となる。また、薄板収納容器に情報表示手段を容易に付 置できるので、ウェハの枚葉管理ができ自由度の高い製造ラインを作ることが可能と なる。
[0081] 次に本発明の Bタイプ薄板収納容器について、図 10〜図 17をもとにして以下に説 明する。
[0082] 本発明の Bタイプ薄板収納容器における第 1の実施形態を図 10に示す。図 10(a) は、第 1の実施形態の薄板収納容器 201にウェハ 217を搭載した状態を示す。薄板 収納容器 201の上側面および下側面は平面状である。すなわち、薄板収納容器 20 1は平板状である。
[0083] 薄板収納容器 201は、減圧室 202、吸着孔 203、吸着面 204、吸気孔 205及び吸 引口 206を含んでいる。減圧室 202、吸着孔 203、吸着面 204、吸気孔 205及び吸 引口 206を薄板収納容器 201の真空吸着部と考えることができる。この実施 形態においては、減圧室 202の下側に吸気孔 205との接続口である吸引開口 210 があり、吸気孔 205は薄板収納容器下側部分 207の下方に伸び、中途で曲がり、薄 板収納容器横側部分 208で薄板収納容器の外部へ出ていて、吸気孔 205は吸引 口 206で終端になっている。減圧室 202は吸着面 204の裏面である上側部分 209と 吸着収納容器の下方に位置する下側部分 207とで主に囲まれて構成されてなる収 納容器内部に配置している。薄板収納容器下側部分 207とは、減圧室 202を含む薄 板収納容器の下側部分を指す。また、薄板収納容器横側部分 208とは、上側部分 2 09と下側部分 207とで主に構成される減圧室 202の内、減圧室の側面を構成して減 圧室 202を完全ならしめる部分を指す。薄板収納容器上側部分 209とは、吸着面 20 4の裏面であって減圧室 202の一部を構成する部分を指す。
[0084] 本発明の Bタイプ薄板収納容器における第 1の実施形態では、図 10(b)に示すよう に、薄板収納容器 201を薄板収納容器下側部分 207と薄板収納容器上側部分 209 に分離できるようになっている。すなわち、薄板収納容器下側部分 207は、減圧室 2 02、吸気孔 205、吸引開口 210および吸引口 206を含む平板状の部分である。これ を本発明においては、薄板収納容器基板と呼ぶ。薄板収納容器上側部分 209は、 吸着孔 203および吸着面 204を含む平板状の部分である。これを本発明においては 、吸着板と呼ぶ。第 1の実施形態においては、吸着板は減圧室 202の天井部分を構 成し、薄板収納容器基板は残りの部分を構成する。本発明においては、薄板収納容 器下側部分と薄板収納容器基板とは同じものを意味し、薄板収納容器上側部分と吸 着板とは同じものを意味するので、同じ番号で示すことにする。
[0085] 薄板収納容器基板 207の減圧室は、図 10(b)に示すように、支持隔壁 211で仕切 られている。支持隔壁の目的は、吸着板を支持する（下から支える）ことである。本発 明に用いる薄板収納容器の吸着板は、高分子材料をベースとした薄い板状のもので ある。従って、中空の減圧室の上を覆う吸着板は自重で変形する可能性がある。特 に大口径ウェハを載置する薄板収納容器では、その変形が顕著になる。さらに、ゥェ ハを吸着する時に、減圧室を真空にひいた時に、吸着板が重力で押しつぶされ、大 きな変形をする可能性もある。そうなれば、ウェハを吸着するという本来の目的を達 成できない。これを防止するために、吸着板にある程度の強度を持たせることが考え られる力 吸着板が厚くなり、薄板収納容器全体が大型化する。この結果、取り扱い や自動プロセスに用いることが困難になる。その上、材料費がかかり、プロセスコスト も増大する。また、仮に強度の大きい吸着板を作製できたとしても、繰り返しの真空引 きにより磨耗したり変形したりして長期間の使用は困難である。そこで、本発明におい ては、減圧室に支持隔壁を設けることにより、より薄い軽量の吸着板を使用できるよう にした。減圧室 202は支持隔壁 211によって、完全に分離されているわけではなぐ 支持隔壁 211には、部分的に溝または孔があり（連通孔 212)、支持隔壁で仕切られ た部分同士は、この連通孔 212によりつながっている。
図 10(c)は、薄板収納容器基板 207を上側から見た平面図である。この実施形態に おいては、支持隔壁 211が同心円状に配列している。また、同心円状の部分も細か く分離している。支持隔壁 211には、連通孔 212が存在していて、分離した部分室は つながっている。すべての部分室が連通孔等を通じてつながっていて、すべての部 分室を真空引きできることが望ましい。この連通孔の目的は、減圧室の中を真空にす ることである。また、真空になった後で、空気などを導入して、真空を破る時にも使わ れる。連通孔 212は、余り小さいと減圧室全体を真空にしたり、真空を破ったりするの に時間がかかるし、余り大きいと支持隔壁 211の強度が小さくなるので、適度な大き さにする必要がある。連通孔 212は、支持隔壁 211に空けられた孔ゃ溝のほかに、 減圧室 202と支持隔壁 211との間、または吸着板 209と支持隔壁 211との間に部分 的な空間を設けても良い。ただしこれも、真空引き時間等や支持隔壁の強度等が問 題にならない程度に設計す
る必要がある。また、各部分の連通孔の数も真空引き時間等や支持隔壁の強度等を 考慮して設計する必要がある。支持隔壁 211は、吸着板が部分的または局部的に変 形しないように、均等に配列することが望ましい。支持隔壁の数を増やしていけば、 吸着板の変形に対しては望ましいが、真空引き時間が長くなつたり、作製が困難とな るため、最適化が望ましい。また、支持隔壁の幅も大きくしすぎると、吸着板の吸着孔 を塞ぎウェハを部分的に吸着できない場合も出てくる。支持隔壁の幅も小さくしすぎ ると支持隔壁の強度が不十分となり、吸着板の変形が起こりやすくなる。従って、支 持隔壁の最適化も重要である。第 1の実施形態に用いた同心円状の支持隔壁 211 は、より均等に吸着板 209を支えることができるものである。しかし、支持隔壁 211は 、同心円状に限られず、網目状の支持隔壁でも良いし、或いは他の構造または形状 でも良い。
[0087] 支持隔壁は、薄板収納容器基板 207に固定している必要はなぐ取り外しができる ものでも良い。また、支持隔壁は吸着板の減圧室 202側に形成されていても良い。ど ちらの場合にも、吸着板 209を取り外した時に、一緒に取り外して洗浄などもできるよ うにすることも可能である。薄板収納容器は真空吸着を繰り返しているので、パーティ クル等の汚染物質を減圧室に蓄積する可能性もあるが、支持隔壁を取り外しできれ ば洗浄も容易である。但し、減圧室に適合するように作製する必要がある。そうでなけ れば、吸着板 209を充分に支持できなくなる。
[0088] また、できるだけ均等に吸着板 209の吸着孔が存在することが望ましい。支持隔壁 で仕切られた各部分には、少なくとも一つ以上の吸着孔を配置することが望ましい。 それにより、ウェハの吸着が充分にかつ均等になるようにすることが可能となる。支持 隔壁がない場合には、吸着板の各吸着孔のウェハを吸引する力を均等にすることが 困難であるが、支持隔壁を設けて部分室に分けることにより、ウェハの真空引きを均 等に行うことができる。
[0089] 支持隔壁は、吸着板を支えているので一定程度の強度が必要である。そのような材 料として、たとえば、熱可塑性エラストマ一やフッ素樹脂等の弾性高分子材料が挙げ られる。
[0090] 熱可塑性エラストマ一として、 PEE (ポリエステルエラストマ一）、 PBTE (ポリブチレ ンテレフタレートエラストマ一）， PBNE (ポリブチレンナフタレートエラストマ一）、 PPE (ポリフエ二レンエーテル）、 PUE (ポリウレタンエラストマ一）等がある。フッ素樹脂とし て、 PTFE (ポリテトラフルォロエチレン）や PFA (パーフルォロアルコキシアルカン） が挙げられる。また、 PP (ポリプロピレン)も用いることができる。また、 PC (ポリカーボ ネート）， PEEK (ポリエーテルエーテルケトン）、 PBT (ポリブチレンテレフタレート）、 PBN (ポリブチレンナフタレート）、 PP (ポリプロピレン）， PTFE (ポリテトラフルォロェ チレン）、 PFA (パーフルォロアルコキシアルカン）等の高分子材料も使用できる。尚 、上記の高分子材料は単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
[0091] 図 10に示すように、薄板収納容器基板 207にはシール材 218が減圧室周囲を取り 卷いている。シール材 218は、薄板収納容器基板 207のシール材保持溝（図に示さ れていなレ、）に入っている。吸着板 209が薄板収納容器基板 207と結合した時に、シ 一ノレ材 218は吸着板 209のシーノレ材受け溝 214に入る。このシーノレ部（シール材 21 8、シール材受け溝 214およびシール保持溝を含む）の役割は、減圧室の真空度を 保持することである。薄板収納容器には、薄板収納容器基板 207と吸着板 209とを 結合する結合部がついている。第 1の実施形態においては、薄板収納容器基板 207 側にフック 215が、吸着板 209にはフック受け溝 216がついている。図 10(c)および 図 10(d)に示すように、フック 215とフック受け溝 216の位置は、対応している。これら の結合部を設けることにより、薄板収納容器基板 207と吸着板 209を確実に結合で さ
る。
[0092] ウェハの吸着方法について、図 10(a)に基づいて説明する。吸引口 206は真空引 き装置に接続されている（図には示されていない）。ウェハ 217が薄板収納容器 201 の吸着面 204に載置される。裏面研削後に厚みが極薄化したウェハは一般には反 つているので、ウェハ 217が真空に引かれる前には、平坦な面である薄板収納容器 201の吸着面 204とウェハ 217との間には隙間があいている。真空引き装置によって 真空引きされると、吸引口 206において真空引き装置に接続した吸気孔 205を通つ て、吸引開口 210で吸気孔 205と連結した減圧室 202が真空引きされる。減圧室は 、支持隔壁 211によって多数の部分室に分けられている力 連通孔 212を通じて各 部分室が真空に引かれていく。さらに、減圧室 202と吸着面 204とを連結した吸着孔 203を通ってウェハ 217が真空に引かれ、隙間がなくなってウェハ 217が薄板収納 容器 201の吸着面 204にしつ力 と吸着される。薄板収納容器 201の吸着面 204に おいて、吸着孔 203はウェハが載置および吸着される場所以外の場所には存在しな レ、ように配置されている。また、吸着孔 203は図 10(e)に示すように、ウェハの載置お よび吸着される場所に多数存在している。
[0093] 吸着孔の大きさ、数および配置などに関しては、図 l(a)〜(d)に基づいて説明した 内容と同様である。薄板収納容器には、容易に情報表示手段を取り付けることができ るので、薄板収納容器をウェハ毎に変更することは、工程管理上も特に問題なく可 能である。また、図 10に示されるように、吸気孔 205の 1部および吸引口 206は薄板 収納容器の外側に出ている。
[0094] 吸気孔 205または吸引口 206には切換え弁あるいは逆止弁が付いていて（図示さ れていない）、薄板収納容器 201の真空吸着部が真空になりウェハを完全に吸着し た後で、それらの弁を閉じると真空が保持されるようになっていること、およびそれら の効果に関しても、図 1において説明した内容と同様である。
[0095] 図 11は、 Bタイプ薄板収納容器の第 1の実施形態における薄板収納容器 2つを、 その裏面同士を結合させたものである。結合の方法として、第 1の実施形態における 薄板収納容器の裏面にフック部等の結合手段を付ける方法や、単純に両者をクラン プする方法もある。あるいは、製造時に一体ものとして作ることもできる。ウェハ 230は 、吸着面 224Aおよび 224Bに真空吸着されて固定されているので、一方の面が下 向きや横向きになってもウェハ 230が薄板収納容器から離れたり、動いたりすること はない。第 1の実施形態の薄板収納容器はこのような使用も可能なので、薄板収納 容器の小型化や薄板収納容器ケース (容器)の小型化ができ、搬送装置の小型化や プロセス装置の小型化も容易に可能となる。
[0096] 図 12は、本発明の Bタイプ薄板収納容器における第 2の実施形態を示す図である
[0097] 図 12(a)は横方向断面図、図 12(b)は平面図である。図 10に示す場合と異なるのは 、ウェハを載置する場所（ウェハ載置部またはウェハ吸着面 234)が周辺に比較し凹 状になっていることである。それらの内容およびそれらの効果に関しては、図 5におい て説明した内容と同様である。
[0098] 薄板収納容器を結合する場合は、周縁部 239に図 10と同様なフック部などの結合 手段を取り付ければ良いし、或いは単純に両者をクランプする方法もある。薄板収納 容器の結合により、一括で薄板収納容器を移動したり、プロセスができるという利点が ある。また、周縁部 239にシール部も取り付ければ、薄板収納容器に囲まれた領域 である薄板収納容器の凹状部にあるウェハは、外部環境から隔離されるので、外部 環境からの汚染ゃク
リーン度の異常などの影響を受けないという利点もある。
[0099] 図 12に示す薄板収納容器 231の吸気孔 235および吸引口 236のタイプは、図 10 に示した薄板収納容器 201の吸気孔 205および吸引口 206のタイプと少し異なって いる。
図 10に示す薄板収納容器 201の吸気孔 205は、薄板収納容器下側部分 207の下 方に伸びていたが、図 12に示す薄板収納容器 231においては、吸気孔 235は減圧 室 232の横側部分 240に伸び、そのまま外部に出ている。このような構造になってい る場合には、薄板収納容器の下部分を薄くできるため、薄板収納容器 231を薄くす ること力 S可能となる。薄板収納容器ケースに薄板収納容器 231を収納する場合には 、薄板収納容器ケースも小さくすることができる。
[0100] 尚、薄板収納容器 231のような薄板収納容器を積み重ねができるような薄板収納 容器の場合には、薄板収納容器 231の裏にもウェハを吸着し載置可能である。この 表裏一体の収納容器においては、下向きになるウェハも存在する力 薄板収納容器 の吸着面にウェハが確実に吸着されているので、ウェハが落下することはない。
[0101] さらに、傾斜面 238が垂直に近い段差を有するものでも良レ、。ウェハの位置ずれに 対しては余裕度が小さいが、精度良くウェハを載置部（吸着部）に載置できれば特に 問題が発生することもない。本発明の載置部が凹状になった薄板収納容器は、さら に本発明の支持隔壁 301および連通孔 302を減圧室 232の内部に持つ。その働き は、 Bタイプ薄板収納容器の第 1の実施形態と同様である。なお、図 12においては薄 板収納容器 231の裏面形状は平坦になっているが、薄板収納容器 231の表面形状 と裏面形状とを略相似にすることによって、 2枚の薄板収納容器を互いに積層すると きに、収納する薄板を上下からしっかりと押えて固定することができる。このようにして 薄板を固定した後は、薄板を吸着するための真空引きは解除することができる。また 、このとき、薄板収納容器 231の裏面にも、吸着面 234の形状に対応した領域に上 記の弾性材料を配しておくのが好ましい。
[0102] 本発明の載置部が凹状になった薄板収納容器は、上記にて説明したように大きな メリットを有する力 本発明の一つである吸着板はさらにその効果を増大できる。 Bタ イブ薄板収納容器の第 1の実施形態において説明したように、吸着板は減圧室 232 の天井部分を構成し、薄板収納容器基板は残りの部分を構成する。また、吸着板の 天井部分は、支持隔壁と共に減圧室 232を分割して (連通孔等を通して)連通した複 数の部分室を形成する。減圧室 232と天井部分を分離する方法について、幾つかの 実施形態について、以下に説明する。尚、下記に示した以外にも、吸着板の底面を 球面状にする場合、底面を凹凸状に分離する場合など多くの形態もある。あるいは、 減圧室 232の中途で分離する方法、減圧室 232を吸着板側に含める方法などもあり 、どれも実用的である。また、上記は Bタイプ薄板収納容器の第 1の実施形態にも適 用できる。
[0103] 図 13に基づいて、本発明の Bタイプ薄板収納容器における第 3の実施形態を説明 する。
[0104] 図 13に示す吸着板 249は、図 12に示す第 2の実施形態における減圧室の天井か ら上側部分を平面状に切ったものである。減圧室 242は、支持隔壁 311で仕切られ てレ、て、支持隔壁 311で分離された部分 (部分室）は支持隔壁 311にあけられた連 通孔 312でつながっている。減圧室 242の周囲をシール材 318が囲んでいる。これ に対応して、シール受け溝 313が吸着板 249側に取り付いている。吸着板 249と薄 板収納容器基板 247との結合機構の結合部として、フック 315が薄板収納容器基板 247側に、フック受け溝 316が吸着板 249側についている。 （尚、これらは、逆側に取 り付
レ、ていても、 Bタイプ薄板収納容器の第 1の実施形態と同様に目的を達成できること は自明である。）第 3の実施形態の吸着板は、薄板収納容器基板 247に合わせて押 すだけで簡単に結合できる。それぞれの働きは、 Bタイプ薄板収納容器の第 1の実施 形態および第 2の実施形態で説明したものと同様である。
[0105] 図 14に基づいて、本発明の Bタイプ薄板収納容器における第 4の実施形態を説明 する。
[0106] 図 14に示す吸着板 259は、横方向断面図が傾斜面部に適合した逆台形形状のも のである。減圧室 252の上側部分がそのまま吸着板 259となっている。吸着板 259の 傾斜面 258 Aおよび薄板収納容器基板 257の傾斜面 258Bに結合部（フック 325、 フック受け溝 326)ゃシーノレ部（シーノレ材 328、シール受け溝 324)が付いている。吸 着板 259を薄板収納容器基板 257の凹部へ押し込むことにより、吸着板 259と薄板 収納容器基板 257とを結合することができる。第 4の実施形態の吸着板は、薄板収納 容器基板 257の傾斜面 258に合わせて押すだけで簡単にセットできる。それぞれの 働きは、 Bタイプ薄板収納容器の第 1の実施形態および第 2の実施形態で説明したも のと同様である。
[0107] 図 15に基づいて、本発明の Bタイプ薄板収納容器における第 5の実施形態を説明 する。
[0108] 図 15も図 14と同じぐ吸着板 269は横方向断面図が傾斜面部に適合した逆台形 形状のものである。しかし、第 5の実施形態の吸着板 269は、凹状部の平坦部に結 合部（フック 335、フック受け溝 336)ゃシーノレ部（シーノレ材 338、シール保持溝、シ ール受け溝 334)が付いている。減圧室 262は、凹状部全体より小さくなつていて、 吸着板 269は、凹状部の平坦部で支えられる。従って、第 5の実施形態の吸着板 26 9は、薄板収納容器基板 267の凹状部に載せて押すだけで簡単にセットできる。そ れぞれの働きは、 Bタイプ薄板収納容器の第 1の実施形態および第 2の実施形態で 説明したものと同様である。
[0109] 図 16は、吸着板の構造に関する本発明の Bタイプ薄板収納容器における第 6の実 施形態を示す図である。吸着板は、ウェハを載置する場所であり、またウェハを真空 吸着する場所であるから、一定程度の強度が必要で、また繰り返し使用できるような 耐久性も必要である。一方、ウェハは、シリコンやガラス等のもろい材料で作られてい るので、吸着板はウェハを損傷させない柔軟性も要求される。このような相反するよう な要求に対して本発明の第 6の実施形態が有用である。
[0110] 本発明の第 6の実施形態における吸着板 271は、吸着基板 272と吸着シート 275と の 2層の構造になっている。ウェハに直接接触する吸着面 274の側に吸着シート 27 5がある。吸着シート 275は、主に弾性材料からなり、ウェハが載置してもウェハに衝 撃を与えないレベルの弾性を有する。このような材料としては、弾性高分子材料があ り、弾性高分子材料として、熱可塑性エラストマ一や発泡高分子やフッ素樹脂がある 。熱可塑性エラストマ一として、 PEE (ポリエステルエラストマ一）、 PBTE (ポリブチレ ンテレフタレートエラストマ一）， PBNE (ポリブチレンナフタレートエラストマ一）、 PPE (ポリフエ二レンエーテル）、 PUE等がある。発泡高分子として、発泡 PET (ポリエチレ ンテレフタレート）、発泡 PE (ポリエチレン)発泡 PU (ポリウレタン）や発泡 PS (ポリスチ レン）等が挙げられる。フッ素樹脂として、 PTFE (ポリテトラフルォロエチレン）や PFA (パーフルォロアルコキシアルカン）が挙げられる。また、 PP (ポリプロピレン)も用いる こと力 Sできる。さらに、ウェハを滑らせて最適位置にウェハを載置するために、 PBT ( ポリブチレンテレフタレート）や PBN (ポリブチレンナ
フタレート）等の潤滑性高分子も使用できる。吸着基板 272は、繰り返しの真空引き 等に対して耐久性と強度を有する材料である。この吸着基板に用いられる材料として 、 PC (ポリカーボネート）， PEEK (ポリエーテルエーテルケトン）、 PBT (ポリブチレン テレフタレート）、 PBN (ポリブチレンナフタレート）、 PP (ポリプロピレン）， PTFE (ポリ テトラフルォロエチレン）、 PFA (パーフルォロアルコキシアルカン）等の高分子材料 が挙げられる。尚、上記の材料単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
[0111] 吸着板には、吸着孔があいているので、その作製方法としては、吸着シートと吸着 基板を貼りあわせたものを型抜きする方法や二色成形法で形成する方法がある。ま た、最初から吸着孔をあけたものを貝占り合せる方法などもある。吸着シートと吸着基板 との貼り合せる方法には、融着法や溶接法を用いたりする方法や、特殊な接着剤を 用いる接着法などがある。以上のように、吸着板の構造を 2層構造にすることにより、 第 6の実施形態における吸着板は、所定の強度を有しながら、ウェハに対して損傷も 与えない特性を有する。
[0112] 尚、ウェハを損傷しないように充分注意をしてプロセスを行う場合には、吸着シート を付けないで 1層の吸着板で充分である場合もある。 1層の吸着板の時には、上述の 高分子材料を含む材料で構成すれば良い。たとえば、 PC (ポリカーボネート）， PEE K (ポリエーテルエーテルケトン）、 PBT (ポリブチレンテレフタレート）、 PBN (ポリブチ レンナフタレート）、 PP (ポリプロピレン）， PTFE (ポリテトラフルォロエチレン）、 PFA ( パーフルォロアルコキシアルカン）等の高分子材料である。また、吸着板の厚みや構 造を最適化することにより、弾性高分子材料も使用できる。弾性高分子材料として、 熱可塑性エラストマ一や発泡高分子やフッ素樹脂がある。熱可塑性エラストマ一とし て、 PEE (ポリエステルエラストマ一）、 PBTE (ポリブチレンテレフタレートエラストマ一 ) , PBNE (ポリブチレンナフタレートエラストマ一）、 PPE (ポリプロピレンエラストマ一） 、 PUE (ポリウレタンエラストマ一）等がある。発泡高分子として、発泡 PET (ポリェチ レンテレフタレート）、発泡 PE (ポリエチレン）発泡 PU (ポリウレタン）や発泡 PS (ポリス チレン)等が挙げられる。フッ素樹脂として、 PTFE (ポリテトラフルォロエチレン)や P FA (パーフルォロアルコキシアルカン）力 S挙げられる。また、 PP (ポリプロピレン)も用 レ、ることができる。尚、上記の材料単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
[0113] 図 17は、吸着板 280の構造に関する本発明の第 7の実施形態を示す図である。吸 着基板 281に支持ネット 282を付着させた構造である。図 17(a)は、横方向断面図、 図 17(b)は、平面図である。支持ネット 282は、網目状構造またはすのこ状構造また は碁盤の目状構造等になっている。支持ネット 282で仕切られた領域でウェハが載 置される領域には、吸着板 281に設けられた吸着孔 283が存在し、吸着孔 283を通 して、ウェハが真空に引かれウェハは支持ネット 282上に吸着される。支持ネット 282 の網目状等の構造は、余り大きいと、ウェハの周辺を吸着できないとか、網目状等の 空間でウェハの載置していない周辺の領域が存在して、吸着孔が外気とつながって
、真空吸着が充分行われないという問題が発生するので、適度に小さな網目状等構 造にする必要がある。
[0114] この支持ネットの目的も第 5の実施形態と同じで、ウェハに衝撃を与えずにウェハを 吸着板に吸着させることである。従って、支持ネットの材料も弾性材料が望ましい。し 力も繰り返し使用もできるものが望ましい。たとえば、 PEE、 PBTE、 PBNE、 PPEま たは PUE等の熱可塑性エラストマ一、或いは、発泡 PET、発泡 PE、発泡 PUまたは 発泡 PS等の発泡高分子、或いは、 PTFEや PFA等のフッ素樹脂、或いは PPなどで ある。これらの高分子材料は、柔軟性があり、また耐久性も有している。尚、上記の材 料単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
[0115] 以上、本発明の薄板収納容器として Aタイプおよび Bタイプの 2つのタイプを説明し てきた力 Aタイプで説明した内容のうちで Bタイプで説明していない内容について、 Bタイプ薄板収納容器に適用できるし、または Bタイプで説明した内容のうちで Aタイ プで説明していない内容について、 Aタイプ薄板収納容器に適用することが可能で ある。
実施例
[0116] 図 18に本発明の Aタイプ薄板収納容器の実施例を示す。この薄板収納容器 101 は吸着面 104を有する吸着板 109が取り外しできるようになつている。吸着面 104上 に多数の吸着孔 103が存在する。この吸着孔 103はウェハ上の個々のチップに対応 するように配置することもできるので、上述したように、ウェハがチップ毎に完全に切 断されてもチップが個々に吸着面に吸着される。吸着板 109は、薄板収納容器 101 に保持部 108で連結されるようになっている。デバイスが変わり、ウェハ内のチップ位 置が異なる場合は、そのチップ位置に合わせた吸着板に変更することができる。吸着 板が薄板収納容器 101と連結すると、支持隔壁に支持されるようになっている。吸着 板 109や薄板収納容器 101に情報表示手段を取り付ければデバイスや吸着板や薄 板収納容器の管理も容易になる。このような薄板収納容器を使用することにより、種 々のデバイスについて、ウェハ切断後に電気特性検査や外観検査などを行うことが 可能となる。
[0117] 図 19に本発明の Bタイプ薄板収納容器の実施例を示す。この薄板収納容器 291 は吸着面 294を有する吸着板 299が取り外しできるようになつている。吸着面 294上 に多数の吸着孔 293が存在する。減圧室 292には支持隔壁 303が同心円状の網目 構造に配置している。外部の真空装置と吸着口 296を接続して、吸気孔 295および 減圧室 292とつながった吸引開口 297から減圧室 292が真空引きされる。支持隔壁 303には連通孔 300があいていて、支持隔壁 303で仕切られた部分室は真空が引 かれるようになつている。吸着板 299は、支持隔壁 303に支えられているので、一定 程度の強度があれば、真空引きによって変形することはない。
[0118] この吸着孔 293はウェハ上の個々のチップに対応するように配置することもできる ので、ダイシング工程でウェハがチップ毎に完全に切断されてもチップが個々に吸 着面に吸着される。吸着板 299は、薄板収納容器 291にシール部 298で連結される ようになっている。デバイスが変わり、ウェハ内のチップ位置が異なる場合は、そのチ ップ位置に合わせた吸着板に変更することができる。吸着板が薄板収納容器基板 3 04と連結すると、支持隔壁 303に支持されるようになっている。吸着板 299や薄板収 納容器 291に情報表示手段を取り付ければデバイスや吸着板や薄板収納容器の管 理も容易になる。このような薄板収納容器 291を使用することにより、種々のデバイス について、ウェハ切断後に電気特性検査や外観検査などを行うことも可能となる。 産業上の利用可能性
[0119] 本発明は、半導体プロセスにおけるウェハ裏面研削工程以降ウェハのプロセスや 搬送工程において、利用することができる。特に、極薄ウェハや極薄チップゃ大口径 ウェハを用いる半導体産業において、利用することができる。
図面の簡単な説明
[0120] [図 lA](a)は、本発明の Aタイプ薄板収納容器に係る好適な実施形態を示す図である 。（b)は、本発明の Aタイプ薄板収納容器に係る好適な実施形態を示す図である。 (c) は、本発明の Aタイプ薄板収納容器に係る好適な実施形態を示す図である。
[図 lB](d)は、本発明の Aタイプ薄板収納容器に係る好適な実施形態を示す図であ る。
[図 2]本発明の Aタイプ薄板収納容器に係る別の実施形態を示す図である。
[図 3]本発明の Aタイプ薄板収納容器に係る別の実施形態を示す図である。
[図 4]本発明の Aタイプ薄板収納容器に係る別の実施形態を示す図である。
[図 5A](a)は、本発明の Aタイプ薄板収納容器に係る別の実施形態を示す図である。
[図 5B](b)は、本発明の Aタイプ薄板収納容器に係る別の実施形態を示す図である。
[図 6A](a)は、本発明の Aタイプ薄板収納容器を用いて、ウェハを吸着する方法につ いて示した図である。（b)は、本発明の Aタイプ薄板収納容器を用いて、ウェハを吸着 する方法について示した図である。（c)は、本発明の Aタイプ薄板収納容器を用いて、 ウェハを吸着する方法にっレ、て示した図である。
[図 6B](d)は、本発明の Aタイプ薄板収納容器を用いて、ウェハを吸着する方法につ いて示した図である。
[図 7]薄いシートを本発明の Aタイプ薄板収納容器に用いた実施形態を示す図であ る。
[図 8](a)は、ダイシングテープ付ウェハを本発明の Aタイプ薄板収納容器に用いた実 施形態を示す図である。（b)は、ダイシングテープ付ウェハを本発明の Aタイプ薄板収 納容器に用いた実施形態を示す図である。
[図 9]本発明の Aタイプ薄板収納容器 (エッチングトレイ）にウェハを吸着した状態を 示す図である。
[図 10A](a)は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 1の実施形態を示す図であ る。（b)は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 1の実施形態を示す図である。 (c) は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 1の実施形態を示す図である。
[図 10B](d)は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 1の実施形態を示す図であ る。（e)は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 1の実施形態を示す図である。
[図 11]本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 1の実施形態の応用を示す図である
[図 12](a)は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 2の実施形態を示す図である 。（b)は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 2の実施形態を示す図である。
[図 13]本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 3の実施形態を示す図である。
[図 14]本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 4の実施形態を示す図である。
[図 15]本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 5の実施形態を示す図である。
[図 16](a)は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 6の実施形態を示す図である 。（b)は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 6の実施形態を示す図である。
[図 17](a)は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 7の実施形態を示す図である 。（b)は、本発明の Bタイプ薄板収納容器に係る第 7の実施形態を示す図である。
[図 18]取り外し可能な吸着板を有する本発明の Aタイプ薄板収納容器の実施例を示 す図である。
[図 19]本発明の Bタイプ薄板収納容器の実施例を示す図である。
符号の説明
1···薄板収納容器、 2···減圧室、 3···吸着孔、 4···吸着面、
5 · · ·吸気孔、 6 · ·吸引口、 7 · ·薄板収納容器下側部分、
8··薄板収納容器横側部分、 9··薄板収納容器上側部分、 10··吸引開口、
11· 'ウェハ、 12··隙間、 21···薄板収納容器、 22···減圧室、
23···吸着孔、 24···吸着面、 25···吸気孔、 26··吸引口、 27··薄板収納容器下側部分、 28··横側部分、 31···薄板収納容器、
32···減圧室、 33···吸着孔、 34···吸着面、 35···吸気孔、
36··吸引口、 37··薄板収納容器下側部分、 38··横側部分、
41· ··薄板収納容器、 42·· ·減圧室、 43· · ·吸着孔、 45· · ·吸気孔、
46···吸引口、 47··薄板収納容器下側部分、 48··薄板収納容器横側部分、
51···薄板収納容器、 52···減圧室、 53···吸着孔、 54···吸着面、
55···吸気孔、 56···吸引口、 57· "ウェハ、 58···テーパー部、
59···周縁平坦部、 61···薄板収納容器、 62···減圧室、 63···吸着孔、
64···吸着面、 65···吸気孔、 66··吸引口、 67· 'ウェハ、
68···ウェハ表面保護フィルム、 69···ウェハ裏面、 71···薄板収納容器、 72···減 圧室、 73···吸着孔、 74···吸着面、 75···吸気孔、
76···吸引口、 77· "ウェハ、 78···薄いシート、
80· ·ダイシングブレード、 81· ·薄板収納容器、 82· ·減圧室、 83· ·吸着孔、
84···吸着面、 85···吸気孔、 86···吸引口、 87· ''ゥェハ、
88· · 'ダイシングテープ、 89· · '切断部、
90··· (ダイシングテープへの）切込み部、 91 · · '薄板収納容器、
92···減圧室、 93···吸着孔、 94···吸着面、 95···吸気孔、
96···吸引口、 97· "ウェハ、 98···ウェハ表面保護フィルム、
99· ··ウェハ裏面、 101- ··薄板収納容器、 42·· '減圧室、
103···吸着孔、 104···吸着面、 105···吸気孔、 106···吸引口、 108···保持部 、 109···吸着板、
201···薄板収納容器、 202···減圧室、 203···吸着孔、
204···吸着面、 205···吸気孔、 206··吸引口、
207· ·薄板収納容器下側部分 (薄板収納容器基板）、 208· ·薄板収納容器横側部 分、
209··薄板収納容器上側部分（吸着板）、 210··吸引開口、 211··支持隔壁、 212· '連通孔、 214···シール材受け溝、 215· "フック、
216···フック受け溝、 217· "ウェハ、 218···シール材、 224Α· · ·吸着面、 224Β···吸着面、 227Α· ··薄板収納容器基板、
227Β··薄板収納容器基板、 229Α··吸着板、 229Β···吸着板、
230· ''ゥェハ、 231···薄板収納容器、 232···減圧室、
233···吸着孔、 234···吸着面、 235··吸気孔、 236··吸引口、
237· 'ウェハ、 238· '傾斜面、 239··周縁部、
240··· (薄板収納容器)横側部分、 242·· ·減圧室、 243· ··吸着孔、
244···吸着面、 245···吸気孔、 246···吸引口、
247···薄板収納容器基板、 249··吸着板、 252···減圧室、
253···吸着孔、 254···吸着面、 255···吸気孔、 256···吸引口、 257···薄板収 納容器基板、 258Α· · '傾斜面、 258Β·· '傾斜面、
259· ··吸着板、 262·· ·減圧室、 267· ·薄板収納容器基板、
269···吸着板、 271···吸着板、 272···吸着基板、 273···吸着孔、 274· "吸着 面、 275···吸着シート、 280···吸着板、
281··吸着基板、 282··支持ネット、 283··吸着孔、
291···薄板収納容器、 292···減圧室、 293···吸着孔、
294···吸着面、 295···吸気孔、 296···吸引口、 297···吸引開口、
298···シール材、 299···吸着板、 300···連通孔（溝）、
301···支持隔壁、 302···連通孔、 303···支持隔壁、
304···薄板収納容器基板、 311···支持隔壁、 312··連通孔、
313···シール受け溝、 315· "フック、 316···フック受け溝、
318···シール材、 321···支持隔壁、 322···連通孔、
324···シーノレ受け溝、 325· "フック、 326···フック受け溝、
328···シーノレ材、 334···シール受け溝、 335· "フック、
336···フック受け溝、 338···シール材、