KR20180030478A - 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법 - Google Patents

Abstract

복수의 가스 소스에 접속된 복수의 배관에 마련되어 있는 밸브의 누출을 검사한다. 일 실시형태의 방법에서는, 가스 소스에 접속되어 있는 제1 배관에 마련되어 있는 제1 밸브가 닫히고, 당해 제1 밸브의 하류에 있어서 제1 배관에 마련되어 있는 제2 밸브가 열린다. 그리고, 제1 배관의 하류에 있어서 압력계에 의하여 압력 상승이 검출된다. 또, 제1 밸브가 열리고, 제2 밸브가 닫힌다. 그리고, 제1 배관의 하류에 있어서 압력계에 의하여 압력 상승이 검출된다.

Description

가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법

본 발명의 실시형태는, 기판 처리 장치의 처리 용기에 가스를 공급하기 위한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법에 관한 것이다.

반도체 디바이스와 같은 전자 디바이스의 제조에 있어서는, 기판 처리 장치를 이용하여 기판에 대한 처리가 행해진다. 기판 처리 장치에 있어서 행해지는 처리로서, 예를 들면, 플라즈마를 이용하여, 에칭 또는 성막을 행하는 플라즈마 처리가 행해지는 경우가 있다.

이와 같은 기판 처리 장치에 있어서의 프로세스에서는, 동일한 처리 용기 내에 공급하는 가스를 순차 변경함으로써, 다른 처리를 기판에 대하여 행하는 경우가 있다. 이와 같은 프로세스를 행하기 위해서는, 기판 처리 장치는, 다른 가스를 전환하여 공급하는 것이 가능한 가스 공급계를 가질 필요가 있다. 이와 같은 가스 공급계를 구비하는 기판 처리 장치로서, 하기의 특허문헌 1에는 플라즈마 처리 장치가 기재되어 있다.

특허문헌 1에 기재된 플라즈마 처리 장치의 가스 공급계는, 복수의 가스 소스에 접속되어 있는 복수의 배관, 당해 복수의 배관에 접속되는 단일의 공통 배관, 및 당해 공통 배관으로부터 분기하는 복수의 분기관을 포함하고 있다. 복수의 배관의 각각에는, 밸브가 마련되어 있다. 복수의 분기관의 각각에는 유량 제어기 및 밸브가 마련되어 있다. 이 가스 공급계에 의하면, 복수의 배관의 밸브를 선택적으로 개폐함으로써, 복수의 가스 소스 중 선택된 가스를 복수의 분기관을 통하여 플라즈마 처리 장치에 공급할 수 있다.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2013－51315호

상술한 가스 공급계의 복수의 배관에 접속되어 있는 복수의 가스 소스는, 동시에 이용되는 것이 상정되지 않는 가스의 소스이다. 따라서, 복수의 배관의 밸브에 누출이 발생하고 있으면, 원하지 않는 가스의 혼합이 발생한다. 그 결과, 기판 처리에 악영향이 미친다. 또, 복수의 배관의 밸브에 누출이 발생하고 있으면, 기판 처리 장치의 처리 용기 측으로부터 가스 소스로 가스가 역류하는 경우도 있다.

따라서, 기판 처리 장치의 처리 용기에 가스를 공급하기 위한 가스 공급계의 밸브, 특히, 복수의 가스 소스에 접속된 복수의 배관에 마련되어 있는 밸브의 누출을 검사하는 것이 필요하다.

일 양태에 있어서는, 기판 처리 장치의 처리 용기에 가스를 공급하기 위한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법이 제공된다. 가스 공급계는, 복수의 제1 배관, 복수의 제1 밸브, 복수의 제2 밸브, 제2 배관, 제3 배관, 복수의 제4 배관, 복수의 유량 제어기, 복수의 제3 밸브, 배기관, 제4 밸브, 및 제5 배관을 구비하고 있다. 복수의 제1 배관은, 복수의 가스 소스에 각각 접속되어 있다. 복수의 제1 밸브는, 복수의 제1 배관에 각각 마련되어 있다. 복수의 제2 밸브는, 복수의 제1 밸브보다 하류 측에 있어서 복수의 제1 배관에 각각 마련되어 있다. 즉, 복수의 제1 배관의 각각에는, 가스 소스 측에서부터 순서대로 제1 밸브 및 제2 밸브가 직렬적으로 마련되어 있다. 제2 배관은, 복수의 제2 밸브의 하류에 있어서 복수의 제1 배관에 접속되어 있다. 제3 배관은 제2 배관에 접속되어 있다. 복수의 제4 배관은 제3 배관으로부터 분기하고 있다. 복수의 유량 제어기는, 복수의 제4 배관에 각각 마련되어 있다. 복수의 제3 밸브는, 복수의 유량 제어기의 하류 측에 있어서 복수의 제4 배관에 각각 마련되어 있다. 즉, 복수의 제4 배관의 각각에는, 제3 배관 측에서부터 순서대로 유량 제어기 및 제3 밸브가 직렬적으로 마련되어 있다. 배기관은 배기 장치에 접속되어 있다. 제4 밸브는, 배기관에 마련되어 있다. 제5 배관은, 배기 장치 및 제4 밸브의 상류에 있어서 배기관에 접속되고, 또한 제2 배관에 접속되어 있다. 본 방법은, (i) 복수의 제1 배관의 내부, 제2 배관의 내부, 제3 배관의 내부 및, 복수의 제4 배관의 내부의 배기를 행하는 제1 공정으로서, 복수의 유량 제어기 각각의 컨트롤 밸브, 복수의 제2 밸브, 및 제4 밸브가 열리고, 복수의 제1 밸브 및 복수의 제3 밸브가 닫힌 배기 상태가 형성되는, 상기 제1 공정과, (ii) 복수의 제1 밸브, 복수의 제3 밸브, 및 제4 밸브가 닫히고, 복수의 제2 밸브 중 1개 이상의 제2 밸브 또는 복수의 제2 밸브가 열린 제1 검사 상태가 형성되는 제2 공정과, (iii) 배기 장치 및 제4 밸브의 상류에 있어서 배기관에 마련된 압력계, 또는 복수의 유량 제어기 중 하나의 유량 제어기의 압력계에 의하여, 압력 상승을 감시하는 제3 공정과, (iｖ) 복수의 제2 밸브, 복수의 제3 밸브, 및 제4 밸브가 닫히고, 복수의 제1 밸브 중 상기 1개 이상의 제2 밸브의 상류에 마련된 1개 이상의 제1 밸브 또는 복수의 제1 밸브가 열린 제2 검사 상태를 형성하는 제4 공정과, (ｖ) 배기 장치 및 제4 밸브의 상류에 있어서 배기관에 마련된 상기 압력계, 또는 복수의 유량 제어기 중 하나의 유량 제어기의 압력계에 의하여, 압력 상승을 감시하는 제5 공정을 포함한다.

상기 방법에 의하면, 제1 검사 상태에 있어서 열려 있는 제2 밸브의 상류에 있는 제1 밸브에 누출이 발생하고 있는 경우에는, 압력계에 의하여 압력 상승이 검출된다. 또, 제2 검사 상태에 있어서 열려 있는 제1 밸브의 하류에 있는 제2 밸브에 누출이 발생하고 있는 경우에는, 압력계에 의하여 압력 상승이 검출된다. 따라서, 복수의 제1 밸브 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있는 것, 또 복수의 제2 밸브 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있는 것을 검출하는 것이 가능해진다.

일 실시형태에서는, 제2 공정에 있어서 형성되는 제1 검사 상태에서는, 복수의 제2 밸브가 열리고, 제4 공정에 있어서 형성되는 제2 검사 상태에서는, 복수의 제1 밸브가 열려도 된다.

일 실시형태의 방법은, 제3 공정에 있어서 압력 상승이 검출된 경우에, 복수의 제1 밸브에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제1 밸브의 누출을 검사하는 공정을 더 포함한다. 이 공정은, 복수의 제1 밸브, 복수의 제3 밸브, 제4 밸브, 및 복수의 제2 밸브 중 검사 대상의 제1 밸브의 하류에 마련된 제2 밸브 이외의 제2 밸브가 닫힌 상태에서, 배기 장치 및 제4 밸브의 상류에 있어서 배기관에 마련된 압력계, 또는 복수의 유량 제어기 중 하나의 유량 제어기의 압력계에 의하여, 압력 상승을 감시하는 것을 포함한다. 이 실시형태에 의하면, 복수의 제1 밸브 중 어느 하나에 누출이 발생함으로써 제3 공정에 있어서 압력 상승이 검출된 경우에, 복수의 제1 밸브의 누출을 개별적으로 검출하는 것이 가능해진다.

일 실시형태의 방법은, 제5 공정에 있어서 압력 상승이 검출된 경우에, 복수의 제2 밸브에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제2 밸브의 누출을 검사하는 공정을 더 포함한다. 이 공정은, 복수의 제2 밸브, 복수의 제3 밸브, 제4 밸브, 및 복수의 제1 밸브 중 상기 검사 대상의 제2 밸브의 상류에 마련된 제1 밸브 이외의 제1 밸브가 닫힌 상태에서, 배기 장치 및 제4 밸브의 상류에 있어서 배기관에 마련된 압력계, 또는 복수의 유량 제어기 중 하나의 유량 제어기의 압력계에 의하여, 압력 상승을 감시하는 것을 포함한다. 이 실시형태에 의하면, 복수의 제2 밸브 중 어느 하나에 누출이 발생함으로써 제5 공정에 있어서 압력 상승이 검출된 경우에, 복수의 제2 밸브의 누출을 개별적으로 검출하는 것이 가능해진다.

일 실시형태에서는, 가스 공급계는, 다른 제1 배관, 복수의 다른 제1 밸브, 복수의 다른 제2 밸브, 다른 제2 배관, 다른 제3 배관, 복수의 다른 제4 배관, 복수의 다른 유량 제어기, 복수의 다른 제3 밸브, 다른 제5 배관, 제5 밸브, 및 다른 제5 밸브를 구비한다. 복수의 다른 제1 배관은, 복수의 다른 가스 소스에 각각 접속되어 있다. 복수의 다른 제1 밸브는, 복수의 다른 제1 배관에 각각 마련되어 있다. 복수의 다른 제2 밸브는, 복수의 다른 제1 밸브보다 하류 측에 있어서 복수의 다른 제1 배관에 각각 마련되어 있다. 즉, 복수의 다른 제1 배관의 각각에는, 가스 소스 측에서부터 순서대로 다른 제1 밸브 및 다른 제2 밸브가 직렬적으로 마련되어 있다. 다른 제2 배관은, 복수의 다른 제2 밸브의 하류에 있어서 복수의 다른 제1 배관에 접속되어 있다. 다른 제3 배관은, 다른 제2 배관에 접속되어 있다. 복수의 다른 제4 배관은, 다른 제3 배관으로부터 분기하고 있다. 복수의 다른 유량 제어기는, 복수의 다른 제4 배관에 각각 마련되어 있다. 복수의 다른 제3 밸브는, 복수의 다른 유량 제어기의 하류 측에 있어서 복수의 다른 제4 배관에 각각 마련되어 있다. 즉, 복수의 다른 제4 배관의 각각에는, 다른 제3 배관 측에서부터 순서대로 다른 유량 제어기 및 다른 제3 밸브가 직렬적으로 마련되어 있다. 다른 제5 배관은, 배기 장치 및 제4 밸브의 상류에 있어서 배기관에 접속되고, 또한 다른 제2 배관에 접속되어 있다. 제5 밸브는, 제5 배관에 마련되어 있다. 또, 다른 제5 밸브는, 다른 제5 배관에 마련되어 있다. 이 실시형태의 방법은, 다른 제5 밸브가 닫힌 상태에서, 복수의 다른 가스 소스 중 1개 이상의 가스 소스로부터 가스를 기판 처리 장치에 공급하는 공정을 더 포함한다. 또, 이 실시형태에서는, 가스를 기판 처리 장치에 공급하는 공정의 실행 중에, 제1 공정, 제2 공정, 제3 공정, 제4 공정, 및 제5 공정이 실행된다. 이 실시형태에 의하면, 기판 처리 장치의 프로세스 중에, 당해 프로세스에 이용되지 않는 가스용의 제1 배관에 마련되어 있는 제1 밸브 및 제2 밸브의 누출을 검사할 수 있다.

이상 설명한 바와 같이, 복수의 가스 소스에 접속된 복수의 배관에 마련되어 있는 밸브의 누출을 검사하는 것이 가능해진다.

도 1은, 일 실시형태에 관한 가스 공급계를 나타내는 도이다.
도 2는, 압력 제어식의 유량 제어기의 구성을 예시하는 도이다.
도 3은, 일 실시형태에 관한 플라즈마 처리 장치를 개략적으로 나타내는 도이다.
도 4는, 다른 실시형태에 관한 플라즈마 처리 장치를 개략적으로 나타내는 도이다.
도 5는, 밸브(V13)에 관한 다른 실시형태를 나타내는 도이다.
도 6은, 또 다른 실시형태의 플라즈마 처리 장치를 개략적으로 나타내는 도이다.
도 7은, 일 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 8은, 다른 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 9는, 또 다른 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 10은, 또 다른 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법을 나타내는 흐름도이다.

이하, 도면을 참조하여 다양한 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 각 도면에 있어서 동일 또는 상당하는 부분에 대해서는 동일한 부호를 부여하기로 한다.

우선, 몇 가지 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법을 적용하는 것이 가능한 가스 공급계의 몇 가지 실시형태, 및 당해 가스 공급계를 구비하는 기판 처리 장치의 실시형태에 대하여 설명한다.

도 1은, 일 실시형태에 관한 가스 공급계를 나타내는 도이다. 도 1에 나타내는 가스 공급계(GP1)는, 제1 기구(GM1), 제2 기구(GM2), 및 제3 기구(GM3)를 구비하고 있다.

제1 기구(GM1)는, 복수의 통합부(GI)를 갖고 있다. 본 실시형태에서는, 제1 기구(GM1)는, 5개의 통합부(GI)를 갖고 있다. 단, 통합부(GI)의 개수는 임의이다. 제1 기구(GM1)는, 복수의 통합부(GI)의 각각에 있어서 선택된 가스를 개별의 배관으로부터 출력하도록 구성되어 있다.

제1 기구(GM1)는, 복수의 제1 배관(L1), 복수의 제1 밸브(V1), 복수의 제2 밸브(V2) 및, 복수의 제2 배관(L2)을 갖고 있다. 복수의 제1 배관(L1)은 각각, 복수의 가스 소스(GS)에 접속되어 있다. 복수의 제1 배관(L1)에는, 복수의 제1 밸브(V1)가 각각 마련되어 있다. 또, 복수의 제1 밸브(V1)의 하류에 있어서 복수의 제1 배관(L1)에는, 복수의 제2 밸브(V2)가 각각 마련되어 있다. 즉, 복수의 제1 배관(L1)의 각각에는, 상류 측(가스 소스 측)에서부터 순서대로 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)가 직렬적으로 마련되어 있다. 또한, 도 1에는, 14개의 가스 소스(GS)가 나타나고 있지만, 복수의 가스 소스(GS)의 개수는 임의이다.

복수의 통합부(GI)의 각각은, 하나의 제2 배관(L2)과, 당해 하나의 제2 배관(L2)에 접속되어 있는 복수의 제1 배관(L1)과, 당해 복수의 제1 배관(L1)의 각각에 마련된 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)를 포함하고 있다. 각 통합부(GI)에는, 기판 처리 장치에서 행해지는 프로세스에 있어서 동시에 이용되지 않는 복수의 가스 소스가 접속되어 있다. 각 통합부(GI)는, 당해 통합부(GI)에 접속된 복수의 가스 소스(GS) 중 선택된 가스 소스로부터의 가스를 공급하는 것이 가능하다.

제2 기구(GM2)는, 복수의 통합부(GI)로부터의 복수의 가스를 분배하고, 분배된 가스의 유량을 조정하여 출력하도록 구성되어 있다. 제2 기구(GM2)는, 복수의 제3 배관(L3), 복수의 제4 배관(L4), 복수의 유량 제어기(FD), 및 복수의 제3 밸브(V3)를 갖고 있다. 일 실시형태에서는, 제2 기구(GM2)는, 복수의 밸브(FV1)를 더 갖고 있어도 된다.

복수의 제3 배관(L3)은, 복수의 제2 배관(L2)에 각각 접속되어 있다. 복수의 제3 배관의 각각으로부터는, 복수의 제4 배관(L4)이 분기하고 있다. 복수의 유량 제어기(FD)는, 복수의 제4 배관(L4)에 각각 마련되어 있다. 복수의 제3 밸브(V3)는, 복수의 유량 제어기(FD)의 하류에 있어서 복수의 제4 배관(L4)에 각각 마련되어 있다. 또, 복수의 밸브(FV1)는, 복수의 유량 제어기(FD)의 상류에 있어서 복수의 제4 배관(L4)에 각각 마련되어 있다.

일 실시형태에서는, 복수의 유량 제어기(FD)는, 압력 제어식의 유량 제어기이다. 도 2는 압력 제어식의 유량 제어기의 구성을 예시하는 도이다. 도 2에 나타내는 유량 제어기(FD)는, 컨트롤 밸브(CV), 압력계(FPM), 및 오리피스(OF)를 갖고 있다. 컨트롤 밸브(CV)는, 밸브(FV1)의 하류에 마련되어 있다. 오리피스(OF)는 컨트롤 밸브(CV)의 하류 또한 제3 밸브(V3)의 상류에 마련되어 있다. 또, 압력계(FPM)는, 컨트롤 밸브(CV)와 오리피스(OF)의 사이의 가스 라인에 있어서의 압력을 계측하도록 구성되어 있다. 유량 제어기(FD)는, 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력에 따라 컨트롤 밸브(CV)를 제어함으로써, 오리피스(OF)의 상류의 가스 라인의 압력을 조정한다. 이로써, 유량 제어기(FD)를 통과하는 가스의 유량이 조정된다.

다시 도 1을 참조한다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 일 실시형태에서는, 제2 기구(GM2)는, 복수의 합류관(ML)을 더 갖고 있다. 복수의 합류관(ML)의 개수는, 기판 처리 장치의 예인 후술하는 플라즈마 처리 장치의 가스 토출부와 동수이다. 복수의 합류관(ML)의 각각에는, 각 제3 배관(L3)에 접속되어 있는 복수의 제4 배관(L4) 중 하나의 제4 배관(L4)이 접속되어 있다.

또, 제2 기구(GM2)는, 복수의 유량 제어 유닛군(FUG)을 제공하고 있다. 복수의 유량 제어 유닛군(FUG)의 각각은, 대응하는 하나의 합류관(ML)에 접속되어 있는 복수의 제4 배관(L4)에 각각 마련된 복수의 유량 제어 유닛(FU)을 포함하고 있다. 복수의 유량 제어 유닛(FU)의 각각은, 하나의 제4 배관(L4)에 마련된 유량 제어기(FD), 당해 유량 제어기(FD)의 상류에 마련된 밸브(FV1), 및 당해 복수의 유량 제어기(FD)의 하류에 마련된 제3 밸브(V3)를 포함하고 있다. 복수의 유량 제어 유닛군(FUG)의 개수는, 후술하는 가스 토출부와 동수이다. 도 1에 나타내는 예에서는, 복수의 유량 제어 유닛군(FUG)의 개수는, 3개이다. 단, 유량 제어 유닛군(FUG)의 개수 및 가스 토출부의 개수는, 복수이면, 임의의 개수일 수 있다.

이러한 제2 기구(GM2)에서는, 복수의 제3 배관(L3) 각각으로부터의 가스가 복수의 유량 제어 유닛군(FUG)에 분배되어, 각 유량 제어 유닛군(FUG)의 대응하는 유량 제어 유닛(FU)에 공급되도록 되어 있다. 각 유량 제어 유닛군(FUG)에서는, 대응하는 유량 제어 유닛(FU)이 가스의 유량을 조정하여, 유량이 조정된 가스를 합류관(ML)에 공급하도록 되어 있다.

제3 기구(GM3)는, 가스 공급계(GP1)의 배기용 기구이다. 제3 기구(GM3)는, 배기관(EL), 제4 밸브(V4), 복수의 제5 배관(L5), 복수의 제5 밸브, 및 밸브(V6)를 갖고 있다.

배기관(EL)에는, 제4 밸브(V4) 및 밸브(V6)가 마련되어 있다. 제4 밸브(V4)는, 배기관(EL)의 하류 측에 마련되어 있고, 밸브(V6)는 배기관(EL)의 상류 측에 마련되어 있다. 배기관(EL)은, 밸브(V6)의 상류에 있어서 퍼지 가스의 소스(GSP)에 접속되어 있다. 퍼지 가스는 예를 들면, N₂ 가스와 같은 불활성 가스이다. 또, 배기관(EL)은, 제4 밸브(V4)의 하류에 있어서 배기 장치에 접속되어 있다. 일 실시형태에서는, 배기관(EL)은, 후술하는 플라즈마 처리 장치의 터보 분자 펌프와 드라이 펌프의 사이의 배관에 접속된다. 또한, 후술하는 바와 같이, 플라즈마 처리 장치에서는, 처리 용기에 터보 분자 펌프가 접속되고, 당해 터보 분자 펌프의 하류에 드라이 펌프가 마련될 수 있다.

복수의 제5 배관(L5)의 일단은, 밸브(V6)와 제4 밸브(V4)의 사이에 있어서 배기관(EL)에 접속되어 있다. 또, 복수의 제5 배관(L5) 각각의 타단은, 대응하는 제2 배관(L2)에 접속되어 있다. 복수의 제5 배관(L5)에는, 복수의 제5 밸브(V5)가 각각 마련되어 있다.

일 실시형태에서는, 밸브(V6)와 제4 밸브(V4)의 사이에 있어서 배기관(EL)에는 압력계(PM)가 접속되어 있다. 압력계(PM)는 배기관(EL) 내의 유로의 압력을 계측하도록 되어 있다.

이러한 가스 공급계(GP1)에 의하면, 밸브(V6), 제4 밸브(V4), 및 복수의 제5 밸브(V5)를 닫고, 각 통합부(GI)의 복수의 제1 배관(L1) 중 원하는 하나의 제1 배관(L1)에 마련되어 있는 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)를 열어, 복수의 유량 제어 유닛군(FUG) 각각의 대응하는 유량 제어 유닛(FU)에 있어서 유량을 조정함으로써, 원하는 가스를 복수의 합류관(ML)으로부터 기판 처리 장치에 출력할 수 있다.

이어서, 가스 공급계(GP1)로부터 기판 처리 장치에 공급하는 가스를 변경하는 경우에는, 모든 제1 밸브(V1) 및 모든 제2 밸브(V2)와 복수의 제3 밸브(V3)를 닫고, 밸브(V6), 제4 밸브(V4), 모든 제5 밸브(V5), 및 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)를 엶으로써, 복수의 제1 배관(L1), 복수의 제2 배관(L2), 복수의 제3 배관(L3), 및 복수의 제4 배관에 잔류하고 있는 가스를 고속으로 배기할 수 있다.

이어서, 밸브(V6), 제4 밸브(V4), 및 모든 제5 밸브(V5)를 닫고, 각 통합부(GI)의 복수의 제1 배관(L1) 중 원하는 하나의 제1 배관(L1)에 마련되어 있는 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)를 열어, 복수의 유량 제어 유닛군(FUG) 각각의 대응하는 유량 제어 유닛(FU)에 있어서 유량을 조정함으로써, 원하는 가스를 복수의 합류관(ML)으로부터 기판 처리 장치에 출력할 수 있다. 이와 같이, 가스 공급계(GP1)는, 당해 가스 공급계(GP1) 내의 유로 내의 가스를 고속으로, 즉, 단시간에 배기하고, 다른 가스로 치환하는 것이 가능하다.

이하, 가스 공급계(GP1)를 구비하는 기판 처리 장치로서, 일 실시형태의 플라즈마 처리 장치에 대하여 설명한다. 도 3은, 일 실시형태에 관한 플라즈마 처리 장치를 개략적으로 나타내는 도이다. 도 3에 나타내는 플라즈마 처리 장치(10)는, 용량 결합형 플라즈마 처리 장치이며, 플라즈마 처리로서 예를 들면, 플라즈마 에칭을 위하여 이용되는 장치이다.

플라즈마 처리 장치(10)는, 처리 용기(12)를 구비하고 있다. 처리 용기(12)는, 대략 원통 형상을 갖고 있다. 처리 용기(12)는 예를 들면, 알루미늄으로 구성되어 있고, 그 내벽면에는 양극(陽極) 산화 처리가 실시되어 있다. 이 처리 용기(12)는 보안 접지되어 있다. 또, 처리 용기(12)의 측벽에는 기판(이하, "웨이퍼(W)"라고 함)의 반입 출구(12g)가 마련되어 있고, 이 반입 출구(12g)는 게이트 밸브(54)에 의하여 개폐 가능하게 되어 있다.

처리 용기(12)의 저부(底部) 상에는, 대략 원통 형상의 지지부(14)가 마련되어 있다. 지지부(14)는 예를 들면, 절연 재료로 구성되어 있다. 지지부(14)는, 처리 용기(12) 내에 있어서, 처리 용기(12)의 저부로부터 연직 방향으로 연재하고 있다. 또, 처리 용기(12) 내에는, 재치대(PD)가 마련되어 있다. 재치대(PD)는, 지지부(14)에 의하여 지지되어 있다.

재치대(PD)는, 그 상면에서 웨이퍼(W)를 유지한다. 재치대(PD)는, 하부 전극(LE) 및 정전 척(ESC)을 갖고 있다. 하부 전극(LE)은, 제1 플레이트(18a) 및 제2 플레이트(18b)를 포함하고 있다. 제1 플레이트(18a) 및 제2 플레이트(18b)는, 예를 들면 알루미늄 알루미늄과 같은 금속으로 구성되어 있고, 대략 원반 형상을 이루고 있다. 제2 플레이트(18b)는, 제1 플레이트(18a) 상에 마련되어 있고, 제1 플레이트(18a)에 전기적으로 접속되어 있다.

제2 플레이트(18b) 상에는, 정전 척(ESC)이 마련되어 있다. 정전 척(ESC)은, 도전막인 전극을 한 쌍의 절연층 또는 절연 시트 사이에 배치한 구조를 갖고 있다. 정전 척(ESC)의 전극에는, 직류 전원(22)이 스위치(23)를 통하여 전기적으로 접속되어 있다. 이 정전 척(ESC)은, 직류 전원(22)로부터의 직류 전압에 의하여 발생한 쿨롱력(coulomb force) 등의 정전력에 의하여 웨이퍼(W)를 흡착한다. 이로써, 정전 척(ESC)은, 웨이퍼(W)를 유지할 수 있다.

제2 플레이트(18b)의 둘레 가장자리부 상에는, 웨이퍼(W)의 에지 및 정전 척(ESC)을 둘러싸도록 포커스 링(FR)이 배치되어 있다. 포커스 링(FR)은, 플라즈마 처리의 균일성을 향상시키기 위하여 마련되어 있다. 포커스 링(FR)은, 예를 들면, 실리콘, 석영, 또는 SiC와 같은 재료로 구성될 수 있다.

제2 플레이트(18b)의 내부에는, 냉매 유로(24)가 마련되어 있다. 냉매 유로(24)는, 온도 조절 기구를 구성하고 있다. 냉매 유로(24)에는, 처리 용기(12)의 외부에 마련된 칠러 유닛으로부터 배관(26a)을 통하여 냉매가 공급된다. 냉매 유로(24)에 공급된 냉매는, 배관(26b)을 통하여 칠러 유닛으로 되돌려진다. 이와 같이, 냉매 유로(24)에는, 냉매가 순환하도록 공급된다. 이 냉매의 온도를 제어함으로써, 정전 척(ESC)에 의하여 지지된 웨이퍼(W)의 온도가 제어된다.

또, 플라즈마 처리 장치(10)에는, 가스 공급 라인(28)이 마련되어 있다. 가스 공급 라인(28)은, 전열 가스 공급 기구로부터의 전열 가스, 예를 들면 He 가스를, 정전 척(ESC)의 상면과 웨이퍼(W)의 이면(裏面)의 사이에 공급한다.

또, 플라즈마 처리 장치(10)에는, 가열 소자인 히터(HT)가 마련되어 있다. 히터(HT)는 예를 들면, 제2 플레이트(18b) 내에 매립되어 있다. 히터(HT)에는, 히터 전원(HP)이 접속되어 있다. 히터 전원(HP)으로부터 히터(HT)에 전력이 공급됨으로써, 재치대(PD)의 온도가 조정되어, 당해 재치대(PD) 상에 재치되는 웨이퍼(W)의 온도가 조정되도록 되어 있다. 또한, 히터(HT)는, 정전 척(ESC)에 내장되어 있어도 된다.

또, 플라즈마 처리 장치(10)는, 상부 전극(30)을 구비하고 있다. 상부 전극(30)은, 재치대(PD)의 상방에 있어서, 당해 재치대(PD)와 대향 배치되어 있다. 하부 전극(LE)과 상부 전극(30)은, 서로 대략 평행으로 마련되어 있다. 상부 전극(30)과 재치대(PD)의 사이에는, 웨이퍼(W)에 플라즈마 처리를 행하기 위한 처리 공간(S)이 제공되어 있다.

상부 전극(30)은, 절연성 차폐 부재(32)를 통하여, 처리 용기(12)의 상부에 지지되어 있다. 일 실시형태에서는, 상부 전극(30)은, 재치대(PD)의 상면, 즉, 웨이퍼 재치면으로부터의 연직 방향에 있어서의 거리가 가변하도록 구성될 수 있다. 상부 전극(30)은, 천판(34) 및 지지체(36)를 포함할 수 있다. 천판(34)은 처리 공간(S)에 면하고 있고, 당해 천판(34)에는 복수의 가스 토출 구멍(34a)이 마련되어 있다. 이 천판(34)은, 실리콘, 산화 실리콘으로 구성될 수 있다. 혹은, 천판(34)은, 도전성(예를 들면, 알루미늄)의 모재(母材)에 세라믹스의 코팅을 실시함으로써 형성될 수 있다.

지지체(36)는, 천판(34)을 착탈 가능하게 지지하는 것이며, 예를 들면 알루미늄과 같은 도전성 재료로 구성될 수 있다. 이 지지체(36)는, 수냉 구조를 가질 수 있다. 지지체(36)의 내부에는, 복수의 가스 확산실(36a)이 마련되어 있다. 복수의 가스 확산실(36a)은, 웨이퍼(W)의 중심, 즉, 재치대(PD)의 중심을 통과하여 연직 방향으로 뻗은 축선 중심에, 동심 형상으로 마련되어 있다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 복수의 가스 확산실(36a)에는 각각, 가스 공급계(GP1)의 복수의 합류관(ML)이 접속되어 있다.

도 3에 나타내는 예에서는, 복수의 가스 확산실(36a)은, 3개의 가스 확산실, 즉, 가스 확산실(36a) (1), 가스 확산실(36a) (2), 및 가스 확산실(36a) (3)을 포함하고 있다. 가스 확산실(36a) (1)은, 상술한 축선 상에 마련되어 있고, 연직 방향으로부터 봤을 때에 원형의 평면 형상을 가질 수 있다. 가스 확산실(36a) (2)는, 가스 확산실(36a) (1)의 외측에서 환형으로 연재하고 있다. 또, 가스 확산실(36a) (3)은, 가스 확산실(36a) (2)의 외측에서 환형으로 연재하고 있다.

도 3에 나타내는 바와 같이, 지지체(36)에는, 각 가스 확산실(36a)과 당해 가스 확산실(36a)의 하방으로 연재하는 복수의 가스 토출 구멍(34a)을 접속하는 복수의 연통 구멍이 형성되어 있다. 이러한 구성의 상부 전극(30)은, 샤워 헤드(SH)를 구성하고 있다.

샤워 헤드(SH)에서는, 하나의 가스 확산실(36a)과 당해 가스 확산실(36a)에 접속되는 복수의 가스 토출 구멍이 하나의 가스 토출부를 구성하고 있다. 따라서, 샤워 헤드(SH)는 복수의 가스 토출부를 제공하고 있다. 이들 복수의 가스 토출부로부터는, 처리 용기(12) 내의 다른 복수의 존을 향하여, 즉, 웨이퍼(W)의 직경 방향의 다른 영역을 향하여, 가스를 공급할 수 있다.

또, 플라즈마 처리 장치(10)에서는, 처리 용기(12)의 내벽을 따라 디포지션 실드(46)가 착탈 가능하게 마련되어 있다. 디포지션 실드(46)는, 지지부(14)의 외주에도 마련되어 있다. 디포지션 실드(46)는, 처리 용기(12)에 플라즈마 처리의 부생물(디포지트)이 부착하는 것을 방지하는 것이며, 알루미늄재에 Y₂O₃ 등의 세라믹스를 피복함으로써 구성될 수 있다.

처리 용기(12)의 저부 측, 또한, 지지부(14)와 처리 용기(12)의 측벽의 사이에는 배기 플레이트(48)가 마련되어 있다. 배기 플레이트(48)는 예를 들면, 알루미늄재에 Y₂O₃ 등의 세라믹스를 피복함으로써 구성될 수 있다. 배기 플레이트(48)에는, 다수의 관통 구멍이 형성되어 있다. 이 배기 플레이트(48)의 하방, 또한, 처리 용기(12)에는, 배기구(12e)가 마련되어 있다. 배기구(12e)에는, 배기관(52)을 통하여 배기 장치(50) 및 배기 장치(51)가 접속되어 있다. 일 실시형태에서는, 배기 장치(50)는, 터보 분자 펌프이며, 배기 장치(51)는 드라이 펌프이다. 배기 장치(50)는, 처리 용기(12)에 대하여, 배기 장치(51)보다 상류 측에 마련되어 있다. 이들 배기 장치(50)와 배기 장치(51)의 사이의 배관에는, 가스 공급계(GP1)의 배기관(EL)이 접속되어 있다. 배기 장치(50)와 배기 장치(51)의 사이에 배기관(EL)이 접속됨으로써, 배기관(EL)으로부터 처리 용기(12) 내로의 가스의 역류가 억제된다.

또, 플라즈마 처리 장치(10)는, 제1 고주파 전원(62) 및 제2 고주파 전원(64)을 더 구비하고 있다. 제1 고주파 전원(62)은, 플라즈마 생성용의 제1 고주파를 발생하는 전원이며, 27~100MHz의 주파수, 일례에 있어서는 40MHz의 고주파를 발생한다. 제1 고주파 전원(62)은, 정합기(66)를 통하여 하부 전극(LE)에 접속되어 있다. 정합기(66)는, 제1 고주파 전원(62)의 출력 임피던스와 부하 측(하부 전극(LE) 측)의 입력 임피던스를 정합시키기 위한 회로를 갖고 있다.

제2 고주파 전원(64)은, 웨이퍼(W)에 이온을 도입하기 위한 제2 고주파, 즉 바이어스용의 고주파를 발생하는 전원이며, 400kHz~13.56MHz의 범위 내의 주파수, 일례에 있어서는 3.2MHz의 제2 고주파를 발생한다. 제2 고주파 전원(64)은, 정합기(68)를 통하여 하부 전극(LE)에 접속되어 있다. 정합기(68)는, 제2 고주파 전원(64)의 출력 임피던스와 부하 측(하부 전극(LE) 측)의 입력 임피던스를 정합시키기 위한 회로를 갖고 있다.

또, 일 실시형태에 있어서는, 플라즈마 처리 장치(10)는, 제어부(Cnt)를 더 구비할 수 있다. 이 제어부(Cnt)는, 프로세서, 기억부, 입력 장치, 표시 장치 등을 구비하는 컴퓨터이다. 제어부(Cnt)는, 플라즈마 처리 장치(10)에서 실행되는 플라즈마 처리를 위하여, 당해 플라즈마 처리 장치(10)의 각 부를 제어한다.

이 플라즈마 처리 장치(10)에서는, 처리 용기(12) 내에 공급된 가스를 여기시켜, 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 그리고, 활성종에 의하여 웨이퍼(W)를 처리할 수 있다. 또, 가스 공급계(GP1)에 의하여, 다른 가스를 고속으로 전환하여 처리 용기(12) 내에 공급할 수 있다. 따라서, 다른 플라즈마 처리를 웨이퍼(W)에 대하여 교대로 행하는 프로세스의 스루풋을 높이는 것이 가능하다.

이하, 다른 실시형태에 관한 가스 공급계, 및 당해 가스 공급계를 구비하는 기판 처리 장치의 일례인 플라즈마 처리 장치에 대하여 설명한다. 도 4는, 다른 실시형태에 관한 플라즈마 처리 장치를 개략적으로 나타내는 도이다. 도 4에 나타내는 플라즈마 처리 장치(102)는, 도 3에 나타낸 플라즈마 처리 장치(10)의 가스 공급계(GP1) 이외의 구성, 즉, 처리 용기(12), 샤워 헤드(SH), 배기 장치(50), 배기 장치(51) 등을 구비하고 있다. 이하, 가스 공급계 이외의 처리 용기 등을 포함하는 구성을 리액터부라고 한다.

플라즈마 처리 장치(102)는, 가스 공급계(GP2)를 더 구비하고 있다. 가스 공급계(GP2)는, 제1 기구(GM21), 제2 기구(GM22), 및 제3 기구(GM23)를 포함하고 있다. 제1 기구(GM21)는, 당해 제1 기구(GM21)의 통합부(GI)의 개수가 가스 공급계(GP1)의 제1 기구(GM1)의 통합부(GI)의 개수보다 많은 점에서 당해 제1 기구(GM1)와 다를 뿐이다. 따라서, 도 4에 나타내는 바와 같이, 제1 기구(GM21)로부터는, 제1 기구(GM1)보다 다수의 제2 배관(L2)이 뻗어 있다.

제3 기구(GM23)는, 제1 기구(GM21)의 제2 배관(L2)의 개수와 동수의 제5 배관(L5) 및 제5 밸브(V5)를 갖는 점, 즉, 가스 공급계(GP1)의 제3 기구(GM3)의 제5 배관(L5)의 개수보다 많은 제5 배관(L5)을 갖고, 당해 제3 기구(GM3)의 제5 밸브(V5)의 개수보다 많은 제5 밸브(V5)를 갖는 점에 있어서, 가스 공급계(GP1)의 제3 기구(GM3)와는 다르다. 이 제3 기구(GM23)의 배기관(EL)은, 가스 공급계(GP1)의 제3 기구(GM3)의 배기관(EL)과 마찬가지로, 배기 장치(50)와 배기 장치(51)의 사이의 배관에 접속되어 있다.

제2 기구(GM22)는, 복수의 유량 제어 유닛군(FUG)을 갖고 있다. 도 4에 나타내는 예에서는, 제2 기구(GM22)의 복수의 유량 제어 유닛군(FUG)의 개수는 3개이지만, 이 개수로 한정되는 것은 아니다. 복수의 유량 제어 유닛군(FUG)의 각각은, 복수의 유량 제어 유닛(FU)을 갖고 있다. 제2 기구(GM22)에 있어서는, 각 유량 제어 유닛군(FUG)이 갖는 유량 제어 유닛(FU)의 개수는, 가스 공급계(GP1)의 각 유량 제어 유닛군(FUG)이 갖는 유량 제어 유닛(FU)의 개수보다 많게 되어 있다.

제2 기구(GM22)는, 복수의 분기관(BL1), 복수의 분기관(BL2), 복수의 밸브(V7), 복수의 밸브(V8), 복수의 합류관(ML1), 및 복수의 합류관(ML2)을 갖고 있다.

복수의 분기관(BL1)은 각각, 대응하는 유량 제어 유닛(FU)의 하류에 있어서, 복수의 제4 배관(L4)에 접속되어 있다. 또, 복수의 분기관(BL2)도 각각, 대응하는 유량 제어 유닛(FU)의 하류에 있어서, 복수의 제4 배관(L4)에 접속되어 있다. 즉, 유량 제어 유닛(FU)의 하류에 있어서, 각 제4 배관(L4)으로부터는, 분기관(BL1)과 분기관(BL2)이 분기하고 있다. 각 분기관(BL1)에는 밸브(V7)가 마련되어 있고, 각 분기관(BL2)에는 밸브(V8)가 마련되어 있다.

복수의 합류관(ML1)은, 유량 제어 유닛군(FUG)마다, 복수의 분기관(BL1)으로부터의 가스를 합류시키도록 구성되어 있다. 즉, 하나의 합류관(ML1)에는, 대응하는 하나의 유량 제어 유닛군(FUG)의 복수의 유량 제어 유닛(FU)에 접속되는 복수의 분기관(BL1)이 접속되어 있다. 또, 복수의 합류관(ML2)은, 유량 제어 유닛군(FUG)마다, 복수의 분기관(BL2)으로부터의 가스를 합류시키도록 구성되어 있다. 즉, 하나의 합류관(ML2)에는, 대응하는 하나의 유량 제어 유닛군(FUG)의 복수의 유량 제어 유닛(FU)에 접속되는 복수의 분기관(BL2)이 접속되어 있다.

또, 도 4에 나타내는 가스 공급계(GP2)의 제2 기구(GM22)는, 복수의 밸브(V9), 복수의 밸브(V10), 복수의 밸브(V11), 및 복수의 밸브(V12)를 더 구비하고 있다.

각 합류관(ML1)은, 샤워 헤드(SH)의 복수의 가스 토출부 중 대응하는 가스 토출부에 밸브(V9)를 통하여 접속되어 있다. 또, 각 합류관(ML1)은, 밸브(V10)를 통하여, 배기 장치(50)와 배기 장치(51)의 사이의 배관에 접속되어 있다. 즉, 각 합류관(ML1)은, 밸브(V9)를 갖는 배관(LA) 및 밸브(V10)를 갖는 배관(LB)에 분기하고 있다. 배관(LA)은 배관(LM)에 합류하고, 당해 배관(LM)은 샤워 헤드(SH)의 복수의 가스 토출부 중 대응하는 가스 토출부에 접속되어 있다. 또, 배관(LB)은, 배기 장치(50)와 배기 장치(51)의 사이의 배관에 접속되어 있다.

각 합류관(ML2)은, 샤워 헤드(SH)의 복수의 가스 토출부 중 대응하는 가스 토출부에 밸브(V11)를 통하여 접속되어 있다. 또, 각 합류관(ML2)은, 밸브(V12)를 통하여, 배기 장치(50)와 배기 장치(51)의 사이의 배관에 접속되어 있다. 즉, 각 합류관(ML2)은, 밸브(V11)를 갖는 배관(LC) 및 밸브(V12)를 갖는 배관(LD)에 분기하고 있다. 배관(LC)은, 동일한 유량 제어 유닛군(FUG)으로부터의 가스를 유도하는 배관(LA)과 함께 배관(LM)에 합류하고, 당해 배관(LM)은 샤워 헤드(SH)의 복수의 가스 토출부 중 대응하는 가스 토출부에 접속되어 있다. 또, 배관(LD)은, 배기 장치(50)와 배기 장치(51)의 사이의 배관에 접속되어 있다.

또, 플라즈마 처리 장치(102)는, 밸브(V13)를 더 구비하고 있어도 된다. 밸브(V13)는, 샤워 헤드(SH)와, 처리 용기(12)와 배기 장치(50)의 사이의 배기관(52)(도 3 참조)에 접속되는 배관에 마련되어 있다. 이 밸브(V13)는, 가스 공급계(GP2) 내의 가스를 배기할 때에 열린다. 이로써, 샤워 헤드(SH) 내의 가스는, 배기 장치(50)로 배기된다. 따라서, 샤워 헤드(SH) 내의 가스도 고속으로 배기하는 것이 가능하다.

도 5는, 밸브(V13)에 관한 다른 실시형태를 나타내는 도이다. 도 5에 나타내는 실시형태에서는, 샤워 헤드(SH)는, 복수의 가스 토출부, 예를 들면, 가스 토출부(D1), 가스 토출부(D2), 및 가스 토출부(D3)를 갖고 있다. 가스 토출부(D1)는 가스 확산실(36a) (1)을 포함하고, 가스 토출부(D2)는 가스 확산실(36a) (2)를 포함하며, 가스 토출부(D3)는 가스 확산실(36a) (3)을 포함하고 있다. 이 실시형태에서는, 가스 확산실(36a) (1)에 접속되는 가스 토출 구멍(34a)의 개수보다, 가스 확산실(36a) (3)에 접속되는 가스 토출 구멍(34a)의 개수가 많게 되어 있다. 따라서, 가스 토출부(D1)의 컨덕턴스보다, 가스 토출부(D3)의 컨덕턴스가 높게 되어 있다. 이러한 샤워 헤드(SH) 내의 가스를 고속으로 배기하기 위하여, 밸브(V13)를 갖는 배관이 가스 토출부(D1)와 가스 토출부(D3)를 접속하고 있다. 이 밸브(V13)는, 가스 공급계(GP2) 내의 가스를 배기할 때에 열린다. 이로써, 가스 토출부(D1)로부터의 가스는 가스 토출부(D3)로 흘러, 처리 용기(12) 내의 공간을 통하여 고속으로 배기된다.

이상 설명한 가스 공급계(GP2)에 있어서도, 가스 공급계(GP1)와 마찬가지로, 당해 가스 공급계(GP2) 내의 유로 내의 가스를 고속으로, 즉, 단시간에 치환하는 것이 가능하다. 또, 가스 공급계(GP2)에서는, 각 제4 배관(L4)으로부터 분기하고 있는 한 쌍의 분기관(BL1) 및 분기관(BL2)에 각각 마련된 밸브(V7) 및 밸브(V8) 중 한 쪽을 엶으로써, 각 유량 제어 유닛군(FUG)의 복수의 유량 제어 유닛(FU) 중 일부로부터의 가스 A를 합류관(ML1)에 공급하고, 다른 일부로부터의 가스 B를 합류관(ML2)에 공급할 수 있다.

이러한 가스 공급계(GP2)를 갖는 플라즈마 처리 장치(102)에 의하면, 복수의 합류관(ML1)으로부터의 가스 A 및 복수의 합류관(ML2)으로부터의 가스 B를, 교대로 처리 용기(12) 내에 공급하고, 처리 용기(12) 내에 공급되지 않는 가스를, 배기 측으로 흘려 보내는 것이 가능하다. 이로써, 처리 용기(12) 내에 공급하는 가스의 변경을 고속으로 행할 수 있다. 이 경우의 가스 A와 가스 B는 이종의 가스이다. 따라서, 다른 플라즈마 처리를 웨이퍼(W)에 대하여 교대로 행하는 프로세스의 스루풋을 높일 수 있다.

혹은, 플라즈마 처리 장치(102)에 의하면, 합류관(ML1)으로부터 처리 용기(12) 내에 연속적으로 가스 A를 공급하고, 합류관(ML2)으로부터의 가스 B를 단속적으로, 즉 펄스상으로 처리 용기(12) 내에 공급할 수 있다. 이 경우에, 합류관(ML2)으로부터의 가스는, 합류관(ML1)으로부터의 가스와 다른 가스여도 되고, 동일한 가스여도 된다.

이하, 또 다른 실시형태의 플라즈마 처리 장치에 대하여 설명한다. 도 6은 또 다른 실시형태의 플라즈마 처리 장치를 개략적으로 나타내는 도이다. 도 6에 나타내는 플라즈마 처리 장치(103)는, 리액터부(RA) 및 리액터부(RB)를 구비하고 있다. 리액터부(RA) 및 리액터부(RB)는, 플라즈마 처리 장치(10) 및 플라즈마 처리 장치(102)의 리액터부와 동일한 리액터부이다.

플라즈마 처리 장치(103)는, 가스 공급계(GP3)를 더 구비하고 있다. 가스 공급계(GP3)는, 가스 공급계(GP2)와 마찬가지로, 제1 기구(GM21), 및 제3 기구(GM23)를 갖고 있다. 가스 공급계(GP3)는, 제2 기구(GM32)를 더 갖고 있다. 플라즈마 처리 장치(102)에서는, 제2 기구(GM22)의 합류관(ML1) 및 합류관(ML2)이 단일의 리액터부의 샤워 헤드(SH)에 접속되어 있었지만, 플라즈마 처리 장치(103)에서는, 제2 기구(GM32)의 복수의 합류관(ML1)은 각각, 리액터부(RA)의 샤워 헤드(SH)의 복수의 가스 토출부에 접속되어 있고, 복수의 합류관(ML2)은 각각, 리액터부(RB)의 샤워 헤드(SH)의 복수의 가스 토출부에 접속되어 있다.

또, 플라즈마 처리 장치(103)에서는, 제3 기구(GM23)의 배기관(EL)은, 리액터부(RA)의 배기 장치(50)와 배기 장치(51)의 사이의 배관, 또는, 리액터부(RB)의 배기 장치(50)와 배기 장치(51)의 사이의 배관에 접속될 수 있다.

이러한 플라즈마 처리 장치(103)에 의하면, 단일의 가스 공급계(GP3)로부터, 리액터부(RA)의 처리 용기(12) 내에 가스 A를 공급하고, 리액터부(RB)의 처리 용기(12) 내에 가스 B를 공급할 수 있다. 가스 A와 가스 B는 이종의 가스여도 되고, 동종의 가스여도 된다. 가스 A와 가스 B가 이종의 가스인 경우에는, 리액터부(RA)와 리액터부(RB)에서 다른 플라즈마 처리를 행할 수 있다. 한편, 가스 A와 가스 B가 동종의 가스인 경우에는, 리액터부(RA)와 리액터부(RB)에서 동일한 플라즈마 처리를 행할 수 있다.

이하, 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법의 몇 가지 실시형태에 대하여 설명한다. 도 7은, 일 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법을 나타내는 흐름도이다. 도 7에 나타내는 방법 MT1은, 복수의 제1 밸브(V1) 및 복수의 제2 밸브(V2)의 누출을 순서대로 또한 개별적으로 검사하는 방법이며, 가스 공급계(GP1), 가스 공급계(GP2), 및 가스 공급계(GP3) 중 어느 것에도 적용 가능한 방법이다. 또, 방법 MT1은, 예를 들면, 기판에 대한 프로세스가 실행되지 않는 기판 처리 장치의 휴지 기간에 실행될 수 있다. 즉, 방법 MT1은, 기판 처리 장치의 처리 용기 내에 복수의 가스 소스(GS)로부터의 가스가 공급되지 않는 휴지 기간에 실행될 수 있다.

도 7에 나타내는 바와 같이, 방법 MT1에서는, 우선, 공정 ST1이 실행된다. 공정 ST1에서는, 복수의 제1 배관(L1)의 내부, 복수의 제2 배관(L2)의 내부, 복수의 제3 배관(L3)의 내부, 및 복수의 제4 배관(L4)의 내부의 배기가 행해진다. 이로 인하여, 공정 ST1에서는, 배기 상태가 형성된다. 배기 상태는, 복수의 유량 제어기(FD) 각각의 컨트롤 밸브(CV), 복수의 제2 밸브(V2), 및 제4 밸브(V4)가 열리고, 복수의 제1 밸브(V1), 복수의 제3 밸브(V3)가 닫힌 상태이다. 또한, 배기 상태에서는, 복수의 제5 밸브(V5)는 열린다. 밸브(V6)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 배기 상태에서는, 제4 밸브(V4)의 하류에 있어서 배기관(EL)에 접속되어 있는 배기 장치에 의하여, 복수의 제1 배관(L1)의 내부, 복수의 제2 배관(L2)의 내부, 복수의 제3 배관(L3)의 내부, 및 복수의 제4 배관(L4)의 내부에 있는 가스가 배기된다. 구체적으로는, 복수의 제1 밸브(V1)보다 하류에 있어서의 복수의 제1 배관(L1)의 내부, 복수의 제2 배관(L2)의 내부, 복수의 제3 배관(L3)의 내부, 및 복수의 제3 밸브(V3)보다 상류에 있어서의 제4 배관(L4)의 내부에 있는 가스가 배기된다.

이후, 방법 MT1에서는, 복수의 제1 밸브(V1)에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제1 밸브(V1), 및 복수의 제2 밸브(V2)에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 대하여, 공정 ST2~공정 ST5를 포함하는 시퀀스가 실행된다.

공정 ST2에서는, 제1 검사 상태가 형성된다. 제1 검사 상태에서는, 복수의 제1 밸브(V1), 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 제1 검사 상태에서는, 복수의 제2 밸브(V2) 중 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 하류에 마련되어 있는 제2 밸브(V2)가 열린다. 또, 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 하류에 마련되어 있는 제2 밸브(V2) 이외의 제2 밸브(V2)는 닫힌다. 또한, 제1 검사 상태에서는, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST3에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 특정의 제5 밸브(V5)가 열린다. 이 특정의 제5 밸브(V5)는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2)을 통하여 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)이다. 한편, 공정 ST3에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 복수의 제5 밸브(V5)는 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST3에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST3에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 공정 ST3에 있어서 이용되는 압력계(FPM)를 갖는 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

이어서, 방법 MT1에서는, 공정 ST3이 실행된다. 공정 ST3에서는, 압력계(FPM)에 의하여, 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 이 압력계(FPM)는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2) 및 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 하나의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 유량 제어기(FD)의 압력계(FPM)이다. 이 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST3의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST3의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

혹은, 공정 ST3에서는, 압력계(PM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 이 소정 시간 내에 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST3의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST3의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

계속되는 공정 ST4에서는, 제2 검사 상태가 형성된다. 제2 검사 상태에서는, 복수의 제2 밸브(V2), 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 제2 검사 상태에서는, 복수의 제1 밸브(V1) 중 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 상류에 마련되어 있는 제1 밸브(V1)가 열린다. 또, 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 상류에 마련되어 있는 제1 밸브(V1) 이외의 제1 밸브(V1)는 닫힌다. 또한, 제2 검사 상태에서는, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST5에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 특정의 제5 밸브(V5)가 열린다. 특정의 제5 밸브(V5)는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2)을 통하여 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)이다. 한편, 공정 ST5에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 복수의 제5 밸브(V5)는 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST5에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST5에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 공정 ST5에 있어서 이용되는 압력계(FPM)를 갖는 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

이어서, 방법 MT1에서는, 공정 ST5가 실행된다. 공정 ST5에서는, 압력계(FPM)에 의하여, 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 이 압력계(FPM)는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2) 및 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 하나의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 유량 제어기(FD)의 압력계(FPM)이다. 이 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST5의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST5의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

혹은, 공정 ST5에서는, 압력계(PM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 이 소정 시간 내에 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST5의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST5의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

계속되는 공정 STJ에서는, 모든 제1 밸브(V1) 및 모든 제2 밸브(V2)의 검사가 완료되어 있는지 여부가 판정되고 있다. 공정 STJ에 있어서, 검사가 완료되지 않은 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)가 존재한다고 판정되는 경우에는, 검사가 완료되지 않은 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)가 검사 대상의 제1 밸브(V1) 및 검사 대상의 제2 밸브(V2)로서 선택되어, 공정 ST2부터 공정 ST5의 시퀀스가 다시 실행된다. 한편, 모든 제1 밸브(V1) 및 모든 제2 밸브(V2)의 검사가 완료되어 있는 경우에는, 방법 MT1은 종료된다.

이 방법 MT1에 의하면, 복수의 제1 배관(L1)에 각각 마련되어 있는 복수의 제1 밸브(V1) 및 복수의 제2 밸브(V2)의 누출을 순서대로 또한 개별적으로 검사하는 것이 가능하다. 또한, 공정 ST2 및 공정 ST3은, 공정 ST4 및 공정 ST5의 실행 후에 실행되어도 된다.

이하, 다른 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법에 대하여 설명한다. 도 8은, 다른 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법을 나타내는 흐름도이다. 도 8에 나타내는 방법 MT2는, 복수의 제1 밸브(V1)의 누출을 동시에 검사하여, 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있는 경우에는, 복수의 제1 밸브(V1)의 누출을 순서대로 검사하는 방법이다. 또, 방법 MT2는, 복수의 제2 밸브(V2)의 누출을 동시에 검사하여, 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있는 경우에는, 복수의 제2 밸브(V2)의 누출을 순서대로 검사하는 방법이다. 이 방법 MT2는, 가스 공급계(GP1), 가스 공급계(GP2), 및 가스 공급계(GP3) 중 어느 것에도 적용 가능한 방법이다. 또, 방법 MT2는 예를 들면, 기판에 대한 프로세스가 실행되지 않는 기판 처리 장치의 휴지 기간에 실행될 수 있다. 즉, 방법 MT2는, 기판 처리 장치의 처리 용기 내에 복수의 가스 소스(GS)로부터의 가스가 공급되지 않는 휴지 기간에 실행될 수 있다.

도 8에 나타내는 바와 같이, 방법 MT2에서는, 우선, 공정 ST21이 실행된다. 공정 ST21은, 방법 MT1의 공정 ST1과 동일한 공정이다.

계속되는 공정 ST22에서는, 제1 검사 상태가 형성된다. 이 제1 검사 상태에서는, 복수의 제1 밸브(V1), 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 제1 검사 상태에서는, 복수의 제2 밸브(V2)가 열린다. 또한, 제1 검사 상태에서는, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST23에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 복수의 제5 배관(L5)에 각각 마련되어 있는 복수의 제5 밸브(V5)가 열린다. 한편, 공정 ST23에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 복수의 제5 밸브(V5)는 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST23에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST23에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 각 제3 배관(L3)으로부터 분기하고 있는 복수의 제4 배관(L4) 중 적어도 하나의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

이어서, 방법 MT2에서는, 공정 ST23이 실행된다. 공정 ST23에서는, 각 제3 배관(L3)으로부터 분기하고 있는 복수의 제4 배관(L4) 중 하나의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 유량 제어기(FD)의 압력계(FPM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 공정 ST23에 있어서 이용되는 어느 압력계(FPM)에 있어서도 압력 상승이 검출되지 않으면, 복수의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 각 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST23의 초기에 당해 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 복수의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(FPM) 중 어느 하나에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 압력 상승을 검출한 압력계(FPM)의 상류에 있는 통합부(GI)에 포함되는 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST23의 초기에 당해 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 그 압력계(FPM)의 상류에 있는 통합부(GI)에 포함되는 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

혹은, 공정 ST23에서는, 압력계(PM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 복수의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST23의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 복수의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST23의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

계속되는 공정 ST24에서는, 제2 검사 상태가 형성된다. 이 제2 검사 상태에서는, 복수의 제2 밸브(V2), 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 제2 검사 상태에서는, 복수의 제1 밸브(V1)가 열린다. 또한, 제2 검사 상태에서는, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST25에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 복수의 제5 배관(L5)에 각각 마련되어 있는 복수의 제5 밸브(V5)가 열린다. 한편, 공정 ST25에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 복수의 제5 밸브(V5)는 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST25에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST25에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 각 제3 배관(L3)으로부터 분기하고 있는 복수의 제4 배관(L4) 중 적어도 하나의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

이어서, 방법 MT2에서는, 공정 ST25가 실행된다. 공정 ST25에서는, 각 제3 배관(L3)으로부터 분기하고 있는 복수의 제4 배관(L4) 중 하나의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 유량 제어기(FD)의 압력계(FPM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 공정 ST25에 있어서 이용되는 어느 압력계(FPM)에 있어서도 압력 상승이 검출되지 않으면, 복수의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 각 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST25의 초기에 당해 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 복수의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(FPM) 중 어느 하나에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 압력 상승을 검출한 압력계(FPM)의 상류에 있는 통합부(GI)에 포함되는 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST25의 초기에 당해 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 그 압력계(FPM)의 상류에 있는 통합부(GI)에 포함되는 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

혹은, 공정 ST25에서는, 압력계(PM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 복수의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST25의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 복수의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST25의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

계속되는 공정 ST2a에서는, 공정 ST23에 있어서 압력 상승이 검출되었는지 여부가 판정된다. 공정 ST23에 있어서 압력 상승이 검출되지 않은 경우에는, 공정 ST2c로 이행한다. 한편, 공정 ST23에 있어서 압력 상승이 검출되고 있는 경우에는, 복수의 제1 밸브(V1)에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 누출이, 공정 ST26에 있어서 검사된다.

구체적으로, 공정 ST26에서는, 복수의 제1 밸브(V1), 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 복수의 제2 밸브(V2) 중 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 하류에 마련되어 있는 제2 밸브(V2)가 열린다. 또, 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 하류에 마련되어 있는 제2 밸브(V2) 이외의 제2 밸브(V2)는 닫힌다. 또한, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST26에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 특정의 제5 밸브(V5)가 열린다. 특정의 제5 밸브(V5)는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2)을 통하여 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)이다. 한편, 공정 ST26에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 복수의 제5 밸브(V5)는 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST26에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST26에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 적어도 공정 ST26에 있어서 이용되는 압력계(FPM)를 갖는 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

그리고, 공정 ST26에서는, 압력계(FPM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 이 압력계(FPM)는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2) 및 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 하나의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 유량 제어기(FD)의 압력계(FPM)이다. 이 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST26의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST26의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

혹은, 공정 ST26에서는, 압력계(PM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 이 소정 시간 내에 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST26의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST26의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

계속되는 공정 ST2b에서는, 모든 제1 밸브(V1)의 검사가 완료되었는지 여부가 판정된다. 공정 ST2b에 있어서, 검사가 완료되지 않은 제1 밸브(V1)가 존재한다고 판정되는 경우에는, 검사가 완료되지 않은 제1 밸브(V1)가 검사 대상의 제1 밸브(V1)로서 선택되어, 공정 ST26이 다시 실행된다. 한편, 모든 제1 밸브(V1)의 검사가 완료되어 있는 경우에는, 공정 ST2c로 이행한다.

공정 ST2c에서는, 공정 ST25에 있어서 압력 상승이 검출되었는지 여부가 판정된다. 공정 ST25에 있어서 압력 상승이 검출되지 않은 경우에는, 방법 MT2는 종료된다. 한편, 공정 ST25에 있어서 압력 상승이 검출되고 있는 경우에는, 복수의 제2 밸브(V2)에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 누출이, 공정 ST27에 있어서 검사된다.

구체적으로는, 공정 ST27에서는, 복수의 제2 밸브(V2), 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 복수의 제1 밸브(V1) 중 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 상류에 마련되어 있는 제1 밸브(V1)가 열린다. 또, 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 상류에 마련되어 있는 제1 밸브(V1) 이외의 제1 밸브(V1)는 닫힌다. 또한, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST27에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 특정의 제5 밸브(V5)가 열린다. 특정의 제5 밸브(V5)는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2)을 통하여 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)이다. 한편, 공정 ST27에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 복수의 제5 밸브(V5)는 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST27에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST27에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 적어도 공정 ST27에 있어서 이용되는 압력계(FPM)를 갖는 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

그리고, 공정 ST27에서는, 압력계(FPM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 이 압력계(FPM)는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2) 및 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 하나의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 유량 제어기(FD)의 압력계(FPM)이다. 이 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST27의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST27의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

혹은, 공정 ST27에서는, 압력계(PM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 이 소정 시간 내에 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST27의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST27의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

계속되는 공정 ST2d에서는, 모든 제2 밸브(V2)의 검사가 완료되었는지 여부가 판정된다. 공정 ST2b에 있어서, 검사가 완료되지 않은 제2 밸브(V2)가 존재한다고 판정되는 경우에는, 검사가 완료되지 않은 제2 밸브(V2)가 검사 대상의 제2 밸브(V2)로서 선택되어, 공정 ST27가 다시 실행된다. 한편, 모든 제2 밸브(V2)의 검사가 완료되어 있는 경우에는, 방법 MT는 종료된다.

이 방법 MT2에 의하면, 복수의 제1 밸브(V1)의 누출이 동시에 검사된다. 그리고, 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단되는 경우에만, 복수의 제1 밸브(V1)의 누출의 검사가 순서대로 또한 개별적으로 행해진다. 또, 방법 MT2에서는, 복수의 제2 밸브(V2)의 누출이 동시에 검사된다. 그리고, 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단되는 경우에만, 복수의 제2 밸브(V2)의 누출의 검사가 순서대로 또한 개별적으로 행해진다. 따라서, 모든 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하지 않은 경우에는, 복수의 제1 밸브(V1)의 누출의 검사가 단시간에 완료된다. 또, 모든 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하지 않은 경우에는, 복수의 제2 밸브(V2)의 누출의 검사가 단시간에 검사가 완료된다.

또한, 공정 ST24 및 공정 ST25의 실행 후에 공정 ST22 및 공정 ST23이 실행되어도 된다. 또, 공정 ST22 및 공정 ST23의 실행 직후에, 공정 ST2a의 판정이 행해지고, 필요에 따라 공정 ST26 및 공정 ST2b가 실행되어도 된다. 또, 공정 ST24 및 공정 ST25의 실행 직후에, 공정 ST2c의 판정이 행해지고, 필요에 따라 공정 ST27 및 공정 ST2d가 실행되어도 된다. 또, 공정 ST2a의 실행 전에, 공정 ST2c가 실행되고, 필요에 따라 공정 ST27 및 공정 ST2d가 실행되어도 된다. 또, 공정 ST26은, 누출이 발생하고 있을 가능성이 있는 제1 밸브(V1)를 포함하는 통합부(GI)에 포함되는 복수의 제1 밸브(V1)에만 적용되어도 된다. 또, 공정 ST27은, 누출이 발생하고 있을 가능성이 있는 제2 밸브(V2)를 포함하는 통합부(GI)에 포함되는 복수의 제2 밸브(V2)에만 적용되어도 된다.

이하, 또 다른 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법에 대하여 설명한다. 도 9는, 또 다른 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법을 나타내는 흐름도이다. 도 9에 나타내는 방법 MT3은, 복수의 통합부(GI) 중 일부로부터 기판 처리 장치의 처리 용기 내에 가스가 공급되어 당해 처리 용기 내에 있어서 기판에 대한 프로세스가 실행되고 있는 한편으로, 복수의 통합부(GI) 중 처리 용기 내에 가스를 공급하지 않는 통합부(GI)에 포함되는 복수의 제1 밸브(V1) 및 복수의 제2 밸브(V2)의 누출이 검사된다. 즉, 방법 MT3에서는, 복수의 제1 밸브(V1) 및 복수의 제2 밸브(V2)의 누출이 순서대로 또한 개별적으로 검사되는 한편으로, 복수의 다른 제1 밸브(V1) 및 복수의 다른 제2 밸브(V2)를 통하여 기판 처리 장치의 처리 용기에 가스가 공급된다. 이 방법 MT3은, 가스 공급계(GP1), 가스 공급계(GP2), 및 가스 공급계(GP3) 중 어느 것에도 적용 가능한 방법이다. 이하, 복수의 통합부(GI) 중 처리 용기 내에 가스를 공급하는 통합부(GI)를 "프로세스용 통합부(GI)"라고 부르고, 처리 용기 내에 가스를 공급하지 않는 통합부(GI)를 "검사 대상의 통합부(GI)"라고 부른다.

방법 MT3에서는, 공정 ST3p에 있어서, 프로세스용 통합부(GI)로부터의 가스가 기판 처리 장치의 처리 용기 내에 공급된다. 이 공정 ST3p의 실행 중, 프로세스용 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)는 닫힌다. 또한, 후술하는 공정 ST31~ST35의 실행은, 공정 ST3p의 실행 중에 행해진다.

계속되는 공정 ST31에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 배관(L1)의 내부 및 제2 배관(L2)의 내부, 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 접속되어 있는 제3 배관(L3)의 내부와, 당해 제3 배관(L3)에 접속되어 있는 복수의 제4 배관(L4)의 내부의 배기가 행해진다. 이로 인하여, 공정 ST31에서는, 배기 상태가 형성된다. 배기 상태는, 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 복수의 제4 배관(L4)에 마련된 복수의 유량 제어기(FD) 각각의 컨트롤 밸브(CV), 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2), 및 제4 밸브(V4)가 열리고, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1), 및 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 복수의 제4 배관(L4)에 마련된 복수의 제3 밸브(V3)가 닫힌 상태이다. 또한, 배기 상태에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)가 열린다. 밸브(V6)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다.

이후, 방법 MT3에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1)에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제1 밸브(V1), 및 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2)에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제2 밸브(V2)에 대하여, 공정 ST32~공정 ST35를 포함하는 시퀀스가 실행된다.

공정 ST32에서는, 제1 검사 상태가 형성된다. 제1 검사 상태에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1), 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 복수의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 제1 검사 상태에서는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 하류에 마련되어 있는 제2 밸브(V2)가 열린다. 또, 검사 대상의 통합부(GI)에 포함되는 복수의 제2 밸브(V2) 중, 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 하류에 마련되어 있는 제2 밸브(V2) 이외의 제2 밸브(V2)는 닫힌다. 또한, 제1 검사 상태에서는, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST33에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 특정의 제5 밸브(V5)가 열린다. 특정의 제5 밸브(V5)는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2)을 통하여 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)이다. 한편, 공정 ST33에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 상기 특정의 제5 밸브(V5)는, 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST33에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 하류에 있는 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST33에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 공정 ST33에 있어서 이용되는 압력계(FPM)를 갖는 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

이어서, 방법 MT3에서는, 공정 ST33이 실행된다. 이 공정 ST33은, 방법 MT1의 공정 ST3과 동일한 공정이다.

계속되는 공정 ST34에서는, 제2 검사 상태가 형성된다. 제2 검사 상태에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2), 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 복수의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 제2 검사 상태에서는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 상류에 마련되어 있는 제1 밸브(V1)가 열린다. 또, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1) 중, 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 상류에 마련되어 있는 제1 밸브 이외의 제1 밸브(V1)가 닫힌다. 또한, 제2 검사 상태에서는, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST35에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 특정의 제5 밸브(V5)가 열린다. 특정의 제5 밸브(V5)는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2)을 통하여 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)이다. 한편, 공정 ST35에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 상기 특정의 제5 밸브(V5)는 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST35에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 하류에 있는 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST35에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 공정 ST35에 있어서 이용되는 압력계(FPM)를 갖는 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

이어서, 방법 MT3에서는, 공정 ST35가 실행된다. 이 공정 ST35는, 방법 MT1의 공정 ST5와 동일한 공정이다.

계속되는 공정 ST3J에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 모든 제1 밸브(V1) 및 모든 제2 밸브(V2)의 검사가 완료되어 있는지 여부가 판정되고 있다. 공정 ST3J에 있어서, 검사가 완료되지 않은 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)가 존재한다고 판정되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1) 및 복수의 제2 밸브(V2)로부터, 검사가 완료되지 않은 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)가 검사 대상의 제1 밸브(V1) 및 검사 대상의 제2 밸브(V2)로서 선택되어, 공정 ST32부터 공정 ST35의 시퀀스가 다시 실행된다. 한편, 검사 대상의 통합부(GI)의 모든 제1 밸브(V1) 및 모든 제2 밸브(V2)의 검사가 완료되어 있는 경우에는, 방법 MT3은 종료된다.

이 방법 MT3에 의하면, 기판 처리 장치의 처리 용기 내에서 행해지는 프로세스에 있어서 이용되고 있지 않는 통합부(GI)의 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)의 누출을 순서대로 또한 개별적으로 검사하는 것이 가능하다. 따라서, 기판 처리 장치 프로세스용의 가동 시간에 영향을 주지 않고, 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)의 누출을 검사하는 것이 가능해진다. 또한, 공정 ST32 및 공정 ST33은, 공정 ST34 및 공정 ST35의 실행 후에 실행되어도 된다.

이하, 또 다른 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법에 대하여 설명한다. 도 10은, 또 다른 실시형태에 관한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법을 나타내는 흐름도이다. 도 10에 나타내는 방법 MT4는, 복수의 통합부(GI) 중 일부로부터 기판 처리 장치의 처리 용기 내에 가스가 공급되어 당해 처리 용기 내에 있어서 기판에 대한 프로세스가 실행되고 있는 한편으로, 복수의 통합부(GI) 중 처리 용기 내에 가스를 공급하지 않는 통합부(GI)에 포함되는 복수의 제1 밸브(V1) 및 복수의 제2 밸브(V2)의 누출이 검사된다. 즉, 방법 MT4에서는, 복수의 제1 밸브(V1) 및 복수의 제2 밸브(V2)의 누출이 검사되는 한편으로, 복수의 다른 제1 밸브(V1) 및 복수의 다른 제2 밸브(V2)를 통하여 기판 처리 장치의 처리 용기에 가스가 공급된다. 이하, 복수의 통합부(GI) 중 처리 용기 내에 가스를 공급하는 통합부(GI)를 "프로세스용 통합부(GI)"라고 부르고, 처리 용기 내에 가스를 공급하지 않는 통합부(GI)를 "검사 대상의 통합부(GI)"라고 부른다. 또, 방법 MT4에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1)의 누출을 동시에 검사하여, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1)의 누출을 순서대로 검사하는 방법이다. 또, 방법 MT4는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2)의 누출을 동시에 검사하여, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2)의 누출을 순서대로 검사하는 방법이다. 이 방법 MT4는, 가스 공급계(GP1), 가스 공급계(GP2), 및 가스 공급계(GP3) 중 어느 것에도 적용 가능한 방법이다.

도 10에 나타내는 바와 같이, 방법 MT4에서는, 공정 ST4p에 있어서, 프로세스용 통합부(GI)로부터의 가스가 기판 처리 장치의 처리 용기 내에 공급된다. 이 공정 ST4p의 실행 중, 프로세스용 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)는 닫힌다. 또한, 후술하는 공정 ST41~ST4d의 실행은, 공정 ST4p의 실행 중에 행해진다.

이어서, 방법 MT4에서는, 공정 ST41이 실행된다. 공정 ST41은, 방법 MT3의 공정 ST31과 동일한 공정이다.

이어서, 방법 MT4에서는, 공정 ST42가 실행된다. 공정 ST42에서는, 제1 검사 상태가 형성된다. 제1 검사 상태에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1), 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 복수의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 제1 검사 상태에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2)가 열린다. 또한, 제1 검사 상태에서는, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST43에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)가 열린다. 한편, 공정 ST43에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)는, 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST43에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 하류에 있는 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST43에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 하류에 있는 적어도 하나의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

이어서, 방법 MT4에서는, 공정 ST43이 실행된다. 공정 ST43에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 하류에 있는 하나의 유량 제어기(FD)의 압력계(FPM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST43의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST43의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

혹은, 공정 ST43에서는, 압력계(PM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST43의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST43의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

이어서, 방법 MT4에서는 공정 ST44가 실행된다. 공정 ST34에서는, 제2 검사 상태가 형성된다. 제2 검사 상태에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2), 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 복수의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 제2 검사 상태에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1)가 열린다. 또한, 제2 검사 상태에서는, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST45에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)가 열린다. 한편, 공정 ST45에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)는, 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST45에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 하류에 있는 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST45에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 하류에 있는 적어도 하나의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

이어서, 방법 MT4에서는, 공정 ST45가 실행된다. 공정 ST45에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 하류에 있는 하나의 유량 제어기(FD)의 압력계(FPM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST45의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(FPM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력과 공정 ST45의 초기에 압력계(FPM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

혹은, 공정 ST45에서는, 압력계(PM)에 의하여 압력 상승이 소정 시간 감시된다. 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출되지 않으면, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST45의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값보다 작은 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하고 있지 않다고 판단된다. 한편, 압력계(PM)에 있어서 압력 상승이 검출된 경우, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다. 예를 들면, 소정 시간 경과 시에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력과, 공정 ST45의 초기에 압력계(PM)에 의하여 계측된 압력의 차가 소정값 이상인 경우에, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단된다.

계속되는 공정 ST4a에서는, 공정 ST43에 있어서 압력 상승이 검출되었는지 여부가 판정된다. 공정 ST43에 있어서 압력 상승이 검출되지 않은 경우에는, 공정 ST4c로 이행한다. 한편, 공정 ST43에 있어서 압력 상승이 검출되고 있는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1)에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 누출이, 공정 ST46에 있어서 검사된다.

구체적으로, 공정 ST46에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1), 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 제3 배관을 통하여 접속되어 있는 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 하류에 마련되어 있는 제2 밸브(V2)가 열린다. 또, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2) 중, 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 하류에 마련되어 있는 제2 밸브(V2) 이외의 제2 밸브(V2)는 닫힌다. 또한, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST46에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 특정의 제5 밸브(V5)가 열린다. 특정의 제5 밸브(V5)는, 검사 대상의 제1 밸브(V1)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2)을 통하여 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)이다. 한편, 공정 ST46에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 상기 특정의 제5 밸브(V5)는 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST46에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 하류에 있는 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST46에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 적어도 공정 ST46에 있어서 이용되는 압력계(FPM)를 갖는 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

그리고, 공정 ST46에서는, 방법 MT2의 공정 ST26과 마찬가지로 압력 상승이 감시되어, 검사 대상의 제1 밸브(V1)의 누출의 발생 유무가 검출된다.

계속되는 공정 ST4b에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 모든 제1 밸브(V1)의 검사가 완료되었는지 여부가 판정된다. 공정 ST4b에 있어서, 검사가 완료되지 않은 제1 밸브(V1)가 존재한다고 판정되는 경우에는, 검사가 완료되지 않은 제1 밸브(V1)가 검사 대상의 제1 밸브(V1)로서 선택되어, 공정 ST46이 다시 실행된다. 한편, 검사 대상의 통합부(GI)의 모든 제1 밸브(V1)의 검사가 완료되어 있는 경우에는, 공정 ST4c로 이행한다.

공정 ST4c에서는, 공정 ST45에 있어서 압력 상승이 검출되었는지 여부가 판정된다. 공정 ST45에 있어서 압력 상승이 검출되지 않은 경우에는, 방법 MT4는 종료된다. 한편, 공정 ST45에 있어서 압력 상승이 검출되고 있는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2)에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 누출이, 공정 ST47에 있어서 검사된다.

구체적으로는, 공정 ST47에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제2 밸브(V2), 검사 대상의 통합부(GI)의 제2 배관(L2)에 제3 배관(L3)을 통하여 접속되어 있는 복수의 제4 배관(L4)에 마련되어 있는 복수의 제3 밸브(V3), 및 제4 밸브(V4)가 닫힌다. 또, 제2 검사 상태에서는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 상류에 마련되어 있는 제1 밸브(V1)가 열린다. 또, 검사 대상의 통합부(GI)의 복수의 제1 밸브(V1) 중, 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 상류에 마련되어 있는 제1 밸브(V1) 이외의 제1 밸브(V1)가 닫힌다. 또한, 제2 검사 상태에서는, 밸브(V6)는 닫힌다. 또, 공정 ST47에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 특정의 제5 밸브(V5)가 열린다. 특정의 제5 밸브(V5)는, 검사 대상의 제2 밸브(V2)가 마련되어 있는 제1 배관(L1)에 제2 배관(L2)을 통하여 접속되어 있는 제5 배관(L5)에 마련되어 있는 제5 밸브(V5)이다. 한편, 공정 ST47에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 상기 특정의 제5 밸브(V5)는 닫혀 있어도 되고, 열려 있어도 된다. 또, 공정 ST47에 있어서 압력계(PM)가 이용되는 경우에는, 검사 대상의 통합부(GI)의 하류에 있는 복수의 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)는 열려 있어도 되고, 닫혀 있어도 된다. 한편, 공정 ST47에 있어서 압력계(FPM)가 이용되는 경우에는, 적어도 공정 ST47에 있어서 이용되는 압력계(FPM)를 갖는 유량 제어기(FD)의 컨트롤 밸브(CV)가 열린다.

그리고, 공정 ST47에서는, 방법 MT2의 공정 ST27과 마찬가지로 압력 상승이 감시되어, 검사 대상의 제2 밸브(V2)의 누출의 발생 유무가 검출된다.

계속되는 공정 ST4d에서는, 검사 대상의 통합부(GI)의 모든 제2 밸브(V2)의 검사가 완료되었는지 여부가 판정된다. 공정 ST4d에 있어서, 검사가 완료되지 않은 제2 밸브(V2)가 존재한다고 판정되는 경우에는, 검사가 완료되지 않은 제2 밸브(V2)가 검사 대상의 제2 밸브(V2)로서 선택되어, 공정 ST47이 다시 실행된다. 한편, 검사 대상의 통합부(GI)의 모든 제2 밸브(V2)의 검사가 완료되어 있는 경우에는, 방법 MT4는 종료된다.

이 방법 MT4에 의하면, 기판 처리 장치의 처리 용기 내에서 행해지는 프로세스에 있어서 이용되고 있지 않는 통합부(GI)의 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)의 누출을 검사하는 것이 가능하다. 따라서, 기판 처리 장치의 프로세스용의 가동 시간에 영향을 주지 않고, 제1 밸브(V1) 및 제2 밸브(V2)의 누출을 검사하는 것이 가능해진다. 또, 복수의 제1 밸브(V1)의 누출이 동시에 검사된다. 그리고, 복수의 제1 밸브(V1) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단되는 경우에만, 복수의 제1 밸브(V1)의 누출의 검사가 순서대로 또한 개별적으로 행해진다. 또, 복수의 제2 밸브(V2)의 누출이 동시에 검사된다. 그리고, 복수의 제2 밸브(V2) 중 어느 하나에 누출이 발생하고 있다고 판단되는 경우에만, 복수의 제2 밸브(V2)의 누출의 검사가 순서대로 또한 개별적으로 행해진다. 따라서, 검사 대상의 통합부(GI)의 모든 제1 밸브(V1)에 누출이 발생하지 않은 경우에는, 누출의 검사가 단시간에 완료된다. 또, 검사 대상의 통합부(GI)의 모든 제2 밸브(V2)에 누출이 발생하지 않은 경우에는, 복수의 제2 밸브(V2)의 누출의 검사가 단시간에 검사가 완료된다.

또한, 공정 ST44 및 공정 ST45의 실행 후에 공정 ST42 및 공정 ST43이 실행되어도 된다. 또, 공정 ST42 및 공정 ST43의 실행 직후에, 공정 ST4a의 판정이 행해지고, 필요에 따라 공정 ST46 및 공정 ST4b가 실행되어도 된다. 또, 공정 ST44 및 공정 ST45의 실행 직후에, 공정 ST4c의 판정이 행해지고, 필요에 따라 공정 ST47 및 공정 ST4d가 실행되어도 된다. 또, 공정 ST4a의 실행 전에, 공정 ST4c가 실행되고, 필요에 따라 공정 ST47 및 공정 ST4d가 실행되어도 된다. 또, 공정 ST46은, 누출이 발생하고 있을 가능성이 있는 제1 밸브(V1)를 포함하는 통합부(GI)에 포함되어 있는 복수의 제1 밸브(V1)에만 적용되어도 된다. 또, 공정 ST47은, 누출이 발생하고 있을 가능성이 있는 제2 밸브(V2)를 포함하는 통합부(GI)에 포함되어 있는 복수의 제2 밸브(V2)에만 적용되어도 된다.

이상, 다양한 실시형태에 대하여 설명했지만, 상술한 실시형태로 한정되지 않고, 다양한 변형 양태를 구성 가능하다. 예를 들면, 상술한 기판 처리 장치는 용량 결합형의 플라즈마 처리 장치였지만, 기판 처리 장치는, 유도 결합형의 플라즈마 처리 장치, 마이크로파와 같은 표면파를 이용하는 플라즈마 처리 장치와 같은 임의의 플라즈마 처리 장치여도 된다.

10, 102, 103…플라즈마 처리 장치
12…처리 용기
30…상부 전극
PD…재치대
50…배기 장치
51…배기 장치
SH…샤워 헤드
D1, D2, D3…가스 토출부
GP1, GP2, GP3…가스 공급계
GM1, GM21…제1 기구
GM2, GM22, GM32…제2 기구
GM3, GM23…제3 기구
GI…통합부
L1…제1 배관
L2…제2 배관
L3…제3 배관
L4…제4 배관
L5…제5 배관
EL…배기관
V1…제1 밸브
V2…제2 밸브
V3…제3 밸브
V4…제4 밸브
V5…제5 밸브
FUG…유량 제어 유닛군
FU…유량 제어 유닛
FD…유량 제어기
FPM…압력계
CV…컨트롤 밸브
FV1…밸브
GS…가스 소스
GSP…소스
PM…압력계

Claims (5)

1. 기판 처리 장치의 처리 용기에 가스를 공급하기 위한 가스 공급계의 밸브의 누출을 검사하는 방법으로서,
   상기 가스 공급계는,
   복수의 가스 소스에 각각 접속된 복수의 제1 배관과,
   복수의 제1 배관에 각각 마련된 복수의 제1 밸브와,
   상기 복수의 제1 밸브보다 하류 측에 있어서 상기 복수의 제1 배관에 각각 마련된 복수의 제2 밸브와,
   상기 복수의 제2 밸브의 하류에 있어서 상기 복수의 제1 배관에 접속된 제2 배관과,
   상기 제2 배관에 접속된 제3 배관과,
   상기 제3 배관으로부터 분기하는 복수의 제4 배관과,
   상기 복수의 제4 배관에 각각 마련된 복수의 유량 제어기와,
   상기 복수의 유량 제어기의 하류 측에 있어서 상기 복수의 제4 배관에 각각 마련된 복수의 제3 밸브와,
   배기 장치에 접속된 배기관과,
   상기 배기관에 마련된 제4 밸브와,
   상기 배기 장치 및 상기 제4 밸브의 상류에 있어서 상기 배기관에 접속되고, 또한 상기 제2 배관에 접속하는 제5 배관을 구비하며,
   상기 방법은,
   상기 복수의 제1 배관의 내부, 상기 제2 배관의 내부, 상기 제3 배관의 내부, 및 상기 복수의 제4 배관의 내부의 배기를 행하는 제1 공정으로서, 상기 복수의 유량 제어기 각각의 컨트롤 밸브, 상기 복수의 제2 밸브, 및 상기 제4 밸브가 열리고, 상기 복수의 제1 밸브 및 상기 복수의 제3 밸브가 닫힌 배기 상태가 형성되는, 상기 제1 공정과,
   상기 복수의 제1 밸브, 상기 복수의 제3 밸브, 및 상기 제4 밸브가 닫히고, 상기 복수의 제2 밸브 중 1개 이상의 제2 밸브 또는 상기 복수의 제2 밸브가 열린 제1 검사 상태를 형성하는 제2 공정과,
   상기 배기 장치 및 상기 제4 밸브의 상류에 있어서 상기 배기관에 마련된 압력계, 또는 상기 복수의 유량 제어기 중 하나의 유량 제어기의 압력계에 의하여, 압력 상승을 감시하는 제3 공정과,
   상기 복수의 제2 밸브, 상기 복수의 제3 밸브, 및 상기 제4 밸브가 닫히고, 상기 복수의 제1 밸브 중 상기 1개 이상의 제2 밸브의 상류에 마련된 1개 이상의 제1 밸브 또는 상기 복수의 제1 밸브가 열린 제2 검사 상태를 형성하는 제4 공정과,
   상기 배기 장치 및 상기 제4 밸브의 상류에 있어서 상기 배기관에 마련된 상기 압력계, 또는 상기 복수의 유량 제어기 중 하나의 유량 제어기의 압력계에 의하여, 압력 상승을 감시하는 제5 공정을 포함하는 방법.
2. 청구항 1에 있어서,
   상기 제2 공정에 있어서 형성되는 상기 제1 검사 상태에서는, 상기 복수의 제2 밸브가 열리고,
   상기 제4 공정에 있어서 형성되는 상기 제2 검사 상태에서는, 상기 복수의 제1 밸브가 열리는, 방법.
3. 청구항 2에 있어서,
   상기 제3 공정에 있어서 압력 상승이 검출된 경우에, 상기 복수의 제1 밸브에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제1 밸브의 누출을 검사하는 공정을 더 포함하고,
   검사 대상의 제1 밸브의 누출을 검사하는 상기 공정은, 상기 복수의 제1 밸브, 상기 복수의 제3 밸브, 상기 제4 밸브, 및 상기 복수의 제2 밸브 중 상기 검사 대상의 제1 밸브의 하류에 마련된 제2 밸브 이외의 제2 밸브가 닫힌 상태에서, 상기 배기 장치 및 상기 제4 밸브의 상류에 있어서 상기 배기관에 마련된 상기 압력계, 또는 상기 복수의 유량 제어기 중 하나의 유량 제어기의 압력계에 의하여, 압력 상승을 감시하는 것을 포함하는, 방법.
4. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
   상기 제5 공정에 있어서 압력 상승이 검출된 경우에, 상기 복수의 제2 밸브에서부터 순서대로 선택되는 검사 대상의 제2 밸브의 누출을 검사하는 공정을 더 포함하고,
   검사 대상의 제2 밸브의 누출을 검사하는 상기 공정은, 상기 복수의 제2 밸브, 상기 복수의 제3 밸브, 상기 제4 밸브, 및 상기 복수의 제1 밸브 중 상기 검사 대상의 제2 밸브의 상류에 마련된 제1 밸브 이외의 제1 밸브가 닫힌 상태에서, 상기 배기 장치 및 상기 제4 밸브의 상류에 있어서 상기 배기관에 마련된 상기 압력계, 또는 상기 복수의 유량 제어기 중 하나의 유량 제어기의 압력계에 의하여, 압력 상승을 감시하는 것을 포함하는, 방법.
5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 가스 공급계는,
   복수의 다른 가스 소스에 각각 접속된 복수의 다른 제1 배관과,
   복수의 다른 제1 배관의 각각에 마련된 복수의 다른 제1 밸브와,
   상기 복수의 다른 제1 밸브보다 하류 측에 있어서 상기 복수의 다른 제1 배관의 각각에 마련된 복수의 다른 제2 밸브와,
   상기 복수의 다른 제2 밸브의 하류에 있어서 상기 복수의 다른 제1 배관에 접속된 다른 제2 배관과,
   상기 다른 제2 배관에 접속된 다른 제3 배관과,
   상기 다른 제3 배관으로부터 분기하는 복수의 다른 제4 배관과,
   상기 복수의 다른 제4 배관에 각각 마련된 복수의 다른 유량 제어기와,
   상기 복수의 다른 유량 제어기의 하류 측에 있어서 상기 복수의 다른 제4 배관에 각각 마련된 복수의 다른 제3 밸브와,
   상기 배기 장치 및 상기 제4 밸브의 상류에 있어서 상기 배기관에 접속되고, 또한 상기 다른 제2 배관에 접속되는 다른 제5 배관과,
   상기 제5 배관에 마련된 제5 밸브와,
   상기 다른 제5 배관에 마련된 다른 제5 밸브를 더 구비하며,
   상기 방법은, 상기 다른 제5 밸브가 닫힌 상태에서, 상기 복수의 다른 가스 소스 중 1개 이상의 가스 소스로부터 가스를 상기 기판 처리 장치에 공급하는 공정을 더 포함하고,
   가스를 상기 기판 처리 장치에 공급하는 상기 공정의 실행 중에, 상기 제1 공정, 상기 제2 공정, 상기 제3 공정, 상기 제4 공정, 및 상기 제5 공정이 실행되는, 방법.

Images