KR20140003046A

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Info

Publication number: KR20140003046A
Application number: KR1020120070482A
Authority: KR
Inventors: 이근식
Original assignee: 엘지이노텍 주식회사
Priority date: 2012-06-29
Filing date: 2012-06-29
Publication date: 2014-01-09

Abstract

Translated fromKorean

본 발명은 적외선 센서부의 신뢰성을 확보할 수 있는 터치윈도우에 관한 것으로, 적외선센서부가 구현되는 투명윈도우의 표면에 반투과성 잉크층을 보호하는 투명보호층을 형성하여, 감지전극패턴을 형성하는 고열공정에 의해 반투과성 잉크층이 손상되는 문제를 일소하여, 신뢰성 높은 품질의 터치윈도우를 구현할 수 있도록 하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a touch window that can ensure the reliability of the infrared sensor unit, to form a transparent protective layer to protect the semi-transparent ink layer on the surface of the transparent window in which the infrared sensor unit is implemented, the high temperature process of forming a sensing electrode pattern By eliminating the problem that the semi-transparent ink layer is damaged, it is characterized in that to implement a touch window of high quality.

Description

Translated fromKorean

터치윈도우 및 그 제조방법, 이를 포함하는 액정표시장치{Touch Window and Fabricating method of the same, and LCD using the same}Touch window and manufacturing method thereof, liquid crystal display including the same {Touch Window and Fabricating method of the same, and LCD using the same}

본 발명은 적외선 센서부의 신뢰성을 확보할 수 있는 터치윈도우 및 이를 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a touch window capable of securing the reliability of the infrared sensor unit and a liquid crystal display including the same.

터치윈도우(Touch Window)는 음극선관(CRT; Cathode Ray Tube), 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(FED; Field Emission Display), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP; Plasma Display Panel) 및 전계발광소자(ELD; Electro Luminescence Device) 등과 같은 화상표시장치의 표시면에 설치되어 사용자가 화상표시장치를 보면서 터치 패널을 가압하여 전자기기에 미리 정해진 정보를 입력하는 장치이다.The touch window may be a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal display (LCD), a field emission display (FED), a plasma display panel (PDP) And an electro luminescence device (ELD), and is a device for inputting predetermined information to an electronic device by pressing a touch panel while a user views the image display device.

이러한, 터치윈도우는 도 1에 도시된 것과 같이, 외부의 터치 입력을 수용하는 투명기판을 구비하며, 상기 투명기판에서 인가되는 터치자극을 감지전극을 통해 상기 터치 입력을 수용하는 활성영역(V/A; View Area)과 상기 터치 입력을 수용하지 않는 비활성영역(D/A; Dead Area)을 구현하는 터치스크린패널(TSP: Touch Screen Panel) 및 상기 터치스크린패널과 전기적으로 연결되며, 상기 비활성영역의 일부인 기능키 영역(Function Area; F/A)에 버튼(아이콘)으로 구현되는 버튼부를 포함하여 구성되게 된다.As shown in FIG. 1, the touch window includes a transparent substrate for receiving an external touch input, and an active region (V /) for receiving the touch input through a sensing electrode for a touch stimulus applied from the transparent substrate. A; a touch screen panel (TSP) that implements a view area and a dead area (D / A) that does not accept the touch input, and is electrically connected to the touch screen panel, and the inactive area It is configured to include a button unit implemented as a button (icon) in the function area (F / A) that is part of.

상기 비활성영역에는 인쇄물질이 도포되고, 인쇄물질 위로 로고부(상품명), 상기 버튼부와 상기 감지전극을 통해 수용된 터치 입력을 구동칩으로 전달하는 배선부가 형성된다.A printing material is coated on the non-active area, and a logo part (brand name), a wiring part for transmitting a touch input received through the button part and the sensing electrode to the driving chip is formed on the printing material.

특히, 이러한 터치윈도우에는 적외선센서부(IR)이 형성되게 되며, 이는 투명윈도우의 표면에 개구부가 형성되어 투과되는 적외선의 입출신호를 센싱할 수 있는 적외선 센서가 상기 적외선 센서부 하부에 배치되게 된다.In particular, an infrared sensor unit IR is formed in the touch window, and an infrared sensor that senses an incoming and outgoing signal of infrared rays transmitted through an opening is formed in the surface of the transparent window so that the infrared sensor unit is disposed below the infrared sensor unit. .

도 2는 도 1의 적외선센서부(IR)의 A-A' 단면을 도시한 것이다.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of the infrared sensor unit IR of FIG. 1.

투명윈도우(10)에 형성되는 인쇄패턴(20)은 적외선센서부를 형성하기 위한 개구부를 형성하고, 상기 개구부에는 적외선잉크(30)가 도포되어 일정한 투과율을 구현하도록 설계되어 있다.The printedpattern 20 formed in thetransparent window 10 forms an opening for forming an infrared sensor unit, and theinfrared ink 30 is coated on the opening to design a constant transmittance.

그러나, 터치윈도우의 제조공정에서는 터치윈도우의 인쇄패턴의 형성 및 적외선잉크(30)의 형성 이후에, 터치윈도우의 화면영역(V/A; View Area) 상에 감지전극패턴을 증착 등의 고온 공정을 통해 구현하게 되는데, 이러한 고온 공정은 상기 적외선잉크(30)의 열변성이나 변색, 크랙(crack)이 발생하게 되는 문제를 초래하게 된다. 이러한 적외선잉크(30) 층의 손상은 투과율의 변동을 초래하여 적외선센서가 제대로 기능할 수 없게 되는 문제로 이어지게 된다.However, in the manufacturing process of the touch window, after forming the printed pattern of the touch window and forming theinfrared ink 30, a high temperature process such as depositing a sensing electrode pattern on the screen area (V / A) of the touch window. The high temperature process causes problems such as thermal deterioration, discoloration, and cracking of theinfrared ink 30. The damage of theinfrared ink 30 layer causes a change in transmittance, which leads to a problem that the infrared sensor cannot function properly.

본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 적외선센서부가 구현되는 투명윈도우의 표면에 반투과성 잉크층을 보호하는 투명보호층을 형성하여, 감지전극패턴을 형성하는 고열공정에 의해 반투과성 잉크층의 손상을 방지하는 기술을 제공하는 데 있다.The present invention has been made to solve the above-described problem, an object of the present invention is to form a transparent protective layer for protecting the semi-transparent ink layer on the surface of the transparent window in which the infrared sensor unit, a high temperature process for forming a sensing electrode pattern It is to provide a technique for preventing damage to the semi-permeable ink layer by.

상술한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명은 투명윈도우에 인쇄패턴이 형성되는 비활성영역; 상기 인쇄패턴의 일부가 개구되어 상기 투명윈도우가 노출되는 개구부를 형성하는 적외선센서부; 상기 개구부에 직접 코팅되는 반투과성 잉크층; 및 상기 반투과성 잉크층 상에 적층되는 투명보호층;을 포함하는 터치윈도우를 제공할 수 있도록 한다.As a means for solving the above problems, the present invention provides an inactive region in which a printing pattern is formed in a transparent window; An infrared sensor part which opens a portion of the printed pattern to form an opening through which the transparent window is exposed; A semi-permeable ink layer coated directly on the opening; And a transparent protective layer laminated on the semi-transparent ink layer.

본 발명에 따르면, 적외선센서부가 구현되는 투명윈도우의 표면에 반투과성 잉크층을 보호하는 투명보호층을 형성하여, 감지전극패턴을 형성하는 고열공정에 의해 반투과성 잉크층이 손상되는 문제를 방지하여, 신뢰성 높은 품질의 터치윈도우를 구현할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, by forming a transparent protective layer to protect the semi-transparent ink layer on the surface of the transparent window in which the infrared sensor unit is implemented, by preventing the problem that the semi-transparent ink layer is damaged by a high temperature process of forming a sensing electrode pattern, reliability It is effective to realize high quality touch window.

도 1은 터치윈도우의 일반적인 구조를 도시한 평면도이다.
도 2는 도 1의 적외선센서부(IR)의 A-A' 단면을 도시한 것이다.
도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 터치윈도우의 제조공정의 일부를 도시한 공정 순서도 및 공정개념도이다.
도 5는 본 발명에 따른 터치윈도우의 적외선센서부의 단면개념도이다.
도 6은 본 발명에 따른 다른 실시예로서의 제조공정 순서도를 도시한 것이다.
도 7은 본 발명에 따른 터치윈도우의 평면도를 도시한 것이며, 도 8은 도 7의 터치윈도우의 활성영역의 감지전극패턴부의 구성예를 도시한 요부 평면도이다.
도 9 및 도 10은 본 발명에 따른 터치윈도우의 감지전극패턴부의 다른 실시예 및 구현공정을 도시한 공정도이다.
도 11 및 도 12는 본 발명에 따른 터치윈도우의 구현 구조를 도시한 단면 개념도이다.1 is a plan view illustrating a general structure of a touch window.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of the infrared sensor unit IR of FIG. 1.
3 and 4 are a process flow chart and a process conceptual view showing a part of the manufacturing process of the touch window according to the present invention.
5 is a cross-sectional conceptual view of the infrared sensor unit of the touch window according to the present invention.
Figure 6 shows a manufacturing process flow chart as another embodiment according to the present invention.
7 is a plan view of a touch window according to the present invention, and FIG. 8 is a plan view of a main part of a configuration example of a sensing electrode pattern part of an active region of the touch window of FIG. 7.
9 and 10 are process diagrams illustrating another embodiment and an implementation process of the sensing electrode pattern part of the touch window according to the present invention.
11 and 12 are cross-sectional conceptual diagrams illustrating an implementation structure of a touch window according to the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다. 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성요소는 동일한 참조부여를 부여하고, 이에 대한 중복설명은 생략하기로 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the configuration and operation according to the present invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the following description with reference to the accompanying drawings, the same reference numerals denote the same elements regardless of the reference numerals, and redundant description thereof will be omitted. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 터치윈도우의 제조공정의 일부를 도시한 공정 순서도 및 공정개념도이다.3 and 4 are a process flow chart and a process conceptual view showing a part of the manufacturing process of the touch window according to the present invention.

도시된 도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 터치윈도우는 투명윈도우 외각부인 비활성영역에 적어도 1 이상의 인쇄패턴을 형성하고, 상기 인쇄패턴의 일부가 개구되어 상기 투명윈도우가 노출되는 개구부 상에 반투과성 잉크층을 형성하고, 상기 반투과성 잉크층 상에 투명보호층을 형성하는 공정을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 4, the touch window according to the present invention forms at least one print pattern in an inactive region, which is an outer portion of the transparent window, and a portion of the print pattern is opened to expose the transparent window. And forming a transflective ink layer on the transparent protective layer on the transflective ink layer.

본 제조공정에서 인쇄패턴의 형성공정은 투명윈도우 상에서, 활성영역(A)의 외각부에 다층의 인쇄물질을 코팅하는 공정으로 구현될 수 있으며, 이 경우에는 상기 인쇄패턴은 적외선센서부(IR)이 형성되는 개구부를 구현하도록 인쇄공정이 수행됨이 바람직하다. 이러한 인쇄패턴은 단층 또는 다층의 인쇄공정으로 구현될 수 있으며, 본 발명에서는 이러한 인쇄패턴의 형성 후, 상기 개구부 상에 반투과성 잉크층(IR 잉크도포) 및 상기 반투과성 잉크층 상면에 투명보호층을 적층하는 것을 요지로 한다.In the manufacturing process, the process of forming a printing pattern may be implemented by coating a multilayer printing material on an outer portion of the active area A on a transparent window, in which case the printing pattern is an infrared sensor unit IR. Preferably, the printing process is performed to implement the openings formed therein. The printing pattern may be implemented by a single layer or a multilayer printing process. In the present invention, after the formation of the printing pattern, a semi-transmissive ink layer (IR ink coating) and a transparent protective layer on the upper surface of the semi-transparent ink layer are formed on the opening. It is the point to do it.

도 4를 참조하면, 이는 도 3에서 제1인쇄패턴의 형성 공정으로 표시된 공정을 예시한 것으로, 다층 인쇄공법을 적용하는 경우를 예시한 것이다. 이를 참조하면, 우선 (a) 터치윈도우용 기판의 인쇄영역 전체에 1도 인쇄과정을 처리한다. 1도 인쇄과정 시 처리하는 영역은 적외선 센서부(IR), 버튼부(B), 로고부(R)를 형성하기 위한 개구된 영역이 제외된 영역에 대하여 인쇄가 수행되게 된다.Referring to FIG. 4, this illustrates the process indicated by the process of forming the first print pattern in FIG. 3, and illustrates the case where the multilayer printing method is applied. Referring to this, first, (a) a 1 degree printing process is performed on the entire printing area of the substrate for a touch window. In the first degree printing process, the printing is performed on an area in which the open area for forming the infrared sensor unit IR, the button part B, and the logo part R is excluded.

(a)에서와 같이, 1도 인쇄과정 후, (b) 로고부(R)에 2도 인쇄과정을 처리한다. 이때, 2도 인쇄과정에 도포되는 인쇄물질은 상기 1도 인쇄과정에 도포되는 인쇄물질과 다른 것일 수 있다. 왜냐하면, 1도 인쇄물질은 배선부를 보이지 않게 하기 위해 블랙잉크로 도포하는데 비해, 상기 로고부에 도포되는 2도 인쇄물질은 상기 로고부가 사용자의 눈에 띄게 하기 위한 것으로 상기 블랙잉크와 대비되는 색상으로 도포되기 때문이다.As in (a), after the first degree printing process, (b) process the second degree printing process on the logo portion (R). In this case, the printing material applied in the second degree printing process may be different from the printing material applied in the first degree printing process. This is because the first degree printing material is coated with a black ink to make the wiring part invisible, whereas the second degree printing material applied to the logo part is to make the logo part stand out from the user. Because it is applied.

이후, (c)에 도시된 것과 같이, 상기 1도 인쇄와 2도 인쇄를 보강하기 위해 3도 인쇄과정이 처리될 수 있다.Then, as shown in (c), the third degree printing process may be processed to reinforce the first degree printing and the second degree printing.

이후, (d) 4도 인쇄과정은 적외선 센서부(Infrared Sensor)를 도포하는 것이다. 구체적으로는, 본 발명에 따른 적외선 센서부를 구성하는 적외선 잉크를 도포하는 공정이 수행될 수 있다. 즉, 본 발명에서 적외선센서부(R)을 구성하는 개구부 상에 반투과성 잉크층 및 상기 반투과성 잉크층 상에 적층되는 투명보호층을 형성하는 공정이 수행된다.Subsequently, (d) the fourth degree printing process is to apply an infrared sensor (Infrared Sensor). Specifically, the process of applying the infrared ink constituting the infrared sensor unit according to the present invention can be performed. That is, in the present invention, a process of forming a semi-transmissive ink layer and a transparent protective layer laminated on the semi-transparent ink layer is performed on the opening constituting the infrared sensor unit R.

이후,(e)와 같이 5도 인쇄과정은 버튼부를 도포하는 것이다. 이때, 4도 인쇄과정에서 도포하는 4도 인쇄물질과 5도 인쇄과정에서 도포하는 5도 인쇄물질은 실시예에 따라 동일할 수도 있고, 다를 수도 있다. Then, as shown in (e) the 5 degree printing process is to apply the button portion. In this case, the fourth degree printing material applied in the fourth degree printing process and the fifth degree printing material applied in the fifth degree printing process may be the same or different according to embodiments.

도 4에서 설명한 본 발명에 따른 상술한 인쇄의 다층 구현은 하나의 일 실시예에 불과하며, 본 발명에 따른 요지가 이에 따라 달라지는 것은 아니며, 본 발명의 요지는 도 5에 도시된 것과 같이, 투명윈도우(10) 상에 인쇄패턴(20)이 구현되고, 인쇄패턴의 구현시 형성되는 적외선 센서부를 위한 개구부 상에 반투과성 잉크층(30)과 상기 반투과성 잉크층(30) 상에 투명보호층(40)을 구현하는 공정을 포함하는 것에 있다고 할 것이다.The multilayer implementation of the above-described printing according to the present invention described with reference to FIG. 4 is just one embodiment, and the gist of the present invention does not vary accordingly, and the gist of the present invention is transparent as shown in FIG. 5. Theprinting pattern 20 is implemented on thewindow 10, and the transparentprotective layer 40 is formed on thesemi-transparent ink layer 30 and thesemi-transparent ink layer 30 on the opening for the infrared sensor unit formed when the printing pattern is implemented. Is to include the process of implementing).

즉, 본 발명에 따른 터치윈도우는, 반투과성 잉크층(30) 상에 투명보호층(40)을 구현하여, 이후 활성영역에 대한 감지전극의 구현시 증착 공정 등의 고온 공정에 의해 상기 반투과성 잉크층(30)의 손상을 방지할 수 있도록 하는 장점이 구현된다. 이를 위해, 본 발명에 따른 상기 투명보호층은, 비도전성절연물질로 구현되어 전기적 간섭을 최소화할 수 있도록 함이 바람직하다. 나아가 반투과성 잉크층(30)의 투과율 제어를 방해하지 않도록 투과율 95~99% 이상의 투과율을 구비하는 재료를 사용함이 바람직하다. 일예로는 상기 투명보호층은, SiO₂, SiNx, Al₂O₃, HfO, ZrO, TiO₂, ZnO 중 적어도 어느 하나로 구현할 수 있다. 나아가, 도 5에 도시된 것과 같이, 상기 투명보호층(40)은 상기 반투과성 잉크층(30) 상에 직접 적층되되, 상기 개구부에 대응되는 위치에 상기 개구부의 폭 이상으로 구현되면 족하나, 불필요한 손상을 막기위해서는 상기 반투과성 잉크층(30)의 전체를 덮도록 형성할 수 있다.That is, the touch window according to the present invention implements the transparentprotective layer 40 on thesemi-transparent ink layer 30, and then implements the semi-transparent ink layer by a high temperature process such as a deposition process when the sensing electrode for the active region is implemented. An advantage is realized so that damage to 30 can be prevented. To this end, the transparent protective layer according to the present invention, it is preferable to be implemented with a non-conductive insulating material to minimize the electrical interference. Furthermore, it is preferable to use a material having a transmittance of 95 to 99% or more so as not to interfere with the transmittance control of thesemi-permeable ink layer 30. For example, the transparent protective layer may be implemented by at least one of SiO₂ , SiNx, Al₂ O₃ , HfO, ZrO, TiO₂ , and ZnO. Furthermore, as shown in FIG. 5, the transparentprotective layer 40 is directly stacked on thesemi-permeable ink layer 30, but may be implemented if more than the width of the opening is formed at a position corresponding to the opening. In order to prevent damage, thesemi-transparent ink layer 30 may be formed to cover the whole.

또한, 상기 투명보호층(40)은 적어도 2 이상의 층으로 적층되도록 구현할 수 있으며, 이 경우 적층되는 구조에서 상호 인접하는 절연층이 서로 다른 물질로 구성되는 층이 포함되도록 구성할 수 있다.
In addition, the transparentprotective layer 40 may be implemented to be stacked in at least two or more layers, in this case it can be configured to include a layer composed of different materials in the insulating layer adjacent to each other in the stacked structure.

도 7 내지 도 13 은 본 발명에 따른 터치윈도우의 다양한 구현예를 설명하기 위한 도면이다.7 to 13 are views for explaining various embodiments of the touch window according to the present invention.

도 7은 상술한 것과 같이, 터치를 감지하는 활성영역(V/A)과 인쇄패턴이 인쇄되는 비활성영역(D/A), 기능기 버튼이 구현되는 기능키영역(F/A)으로 구현되는 일반적인 구조의 터치윈도우의 평면도이며, 본 발명에서는 이러한 터치윈도우에 형성되는 적외선센서부(IR)의 반투과성 잉크층 상에 투명보호층을 형성하여, 추후 활성영역(V/A)에 감지전극 패턴을 증착하는 공정에서 상기 반투과성 잉크층을 보호하는 구조로 구현될 수 있도록 한다.7, as described above, an active area (V / A) for sensing a touch, an inactive area (D / A) in which a printing pattern is printed, and a function key area (F / A) in which a function button is implemented are illustrated. A plan view of a touch window having a general structure, and in the present invention, by forming a transparent protective layer on the semi-transparent ink layer of the infrared sensor unit IR formed in the touch window, a sensing electrode pattern is formed in the active region V / A. In the deposition process, the semi-permeable ink layer may be implemented to protect the structure.

본 발명에 따른 요지가 구현되는 터치윈도우는 센서전극, 즉 감지전극패턴의 형성 구조에 따라 다양한 구조에 적용될 수 있다. 즉, 적외선센서부가 포함되는 다양한 종류의 터치패널 등에 적용될 수 있음은 물론이나, 가장 바람직하게는 적외센선서부를 구현하는 투명윈도우(기판) 상에 감지전극패턴을 형성하는 경우, 즉 열 또는 압력이 인가되는 공정에 적외선센서부가 노출되는 구조에 적용됨이 바람직하다.The touch window in which the subject matter of the present invention is realized may be applied to various structures according to the structure of forming the sensor electrode, that is, the sensing electrode pattern. That is, it can be applied to various kinds of touch panels including an infrared sensor unit, but most preferably, when a sensing electrode pattern is formed on a transparent window (substrate) that implements an infrared ray, that is, heat or pressure It is preferable to apply to a structure in which the infrared sensor unit is exposed to the applied process.

이러한 구조의 일 실시예로서는 도 8에 도시된 것과 같이, 투명윈도우(110)의 일면에 직접 감지전극패턴(Tx, Rx)가 동시에 구현되는 구조에 적용될 수 있다. 이를 테면, 도 7에서의 활성영역(V/A)이 구현되는 투명윈도우(110)의 표면에 감지전극패턴이 구현되는 구조이며, 이러한 경우, 적외선센서부를 형성하고 난 후, 감지전극패턴을 패터닝하는 공정으로 진행하게 되는바, 적외선센서부의 IR 잉크(반투과성 잉크층)의 변성의 우려가 크기 때문이다.As an example of such a structure, as shown in FIG. 8, the sensing electrode patterns Tx and Rx may be directly applied to one surface of thetransparent window 110. For example, the sensing electrode pattern is implemented on the surface of thetransparent window 110 in which the active region (V / A) in FIG. 7 is implemented. In this case, after forming the infrared sensor unit, the sensing electrode pattern is patterned. Since the process proceeds to the process, there is a great risk of denaturation of the IR ink (semi-transparent ink layer) of the infrared sensor unit.

도 8의 구조를 통해 이러한 터치윈도우의 구조를 설명하면, 투명윈도우(110)상에 제1감지전극 패턴(120)을 형성하고, 제2감지전극 패턴 셀(131)들을 형성한다. 구체적으로, 제1감지전극 패턴(120)과 제2축 감지전극 패턴 셀(131)들은 에칭(etching), 스퍼터링(sputtering) 또는 스크린 프린팅(screen printing)의 방법 등에 의해 형성될 수 있으며, 투명 패턴의 재료로는 일반적으로 ITO(Indium-Tin Oxide)가 사용된다.Referring to the structure of the touch window through the structure of FIG. 8, the firstsensing electrode pattern 120 is formed on thetransparent window 110, and the second sensingelectrode pattern cells 131 are formed. Specifically, the firstsensing electrode pattern 120 and the second axis sensingelectrode pattern cells 131 may be formed by etching, sputtering, or screen printing. Generally, ITO (Indium-Tin Oxide) is used.

상기와 같이 형성된 제2감지전극패턴 셀 (131)상에는 절연패턴(150)을 형성하고, 형성된 절연패턴(150) 상에 브리지 전극을 형성함으로써, 서로 이격되어 있던 제2축 도전성 패턴 셀(131)들을 브리지 전극(190)이 전기적으로 연결하는 구조로 구현할 수 있다.By forming aninsulating pattern 150 on the second sensingelectrode pattern cell 131 formed as described above, and forming a bridge electrode on the formed insulatingpattern 150, the second axisconductive pattern cell 131 spaced apart from each other. Thebridge electrode 190 may be implemented in a structure in which the electrical connection.

이 경우 상기 절연패턴(150)을 형성하는 공정에서 상술한 본 발명에 따른 투명보호절연층의 형성 위치에 상기 절연패턴(150)과 동일한 절연층을 추가로 적층할 수도 있다. 이를 통해, 연속공정에서 투명보호절연층의 손상을 보강하는 기능을 수행하도록 구현할 수 있다.
In this case, the same insulating layer as the insulatingpattern 150 may be further stacked on the formation position of the transparent protective insulating layer according to the present invention in the process of forming the insulatingpattern 150. Through this, it can be implemented to perform the function of reinforcing the damage of the transparent protective insulating layer in a continuous process.

이와 같이, 하나의 투명윈도우 기판 상에 감지전극을 형성하는 구조는 다양한 구조로 변형 되어 형성될 수 있으며, 도시된 구조에 한정되는 것은 아니다.As such, the structure of forming the sensing electrode on one transparent window substrate may be formed into various structures and is not limited to the illustrated structure.

이를 테면 도 9 및 도 10에 도시된 구조와 같이, 기판상에 제1축의 방향으로 연결된 셀(221)들로 구성된 제1감지전극패턴(220) 및 제2축의 방향으로 서로 이격된 제2감지전극패턴의 셀(231)들을 형성한다. 제1감지전극패턴 셀(221)들은 도전 리드(223)에 의해 상호 연결되도록 하며, 여기서 제1축과 제2축은 직교를 이루며 그에 따라 제1도전성 패턴(220)과 제2도전성 패턴(230)은 상호 직교를 이루는 구조로 구현할 수 있다.For example, as shown in FIGS. 9 and 10, the firstsensing electrode pattern 220 including thecells 221 connected in the direction of the first axis on the substrate and the second sensing spaced apart from each other in the direction of thesecond axis Cells 231 of the electrode pattern are formed. The first sensingelectrode pattern cells 221 are connected to each other by theconductive lead 223, where the first axis and the second axis are orthogonal to each other so that the firstconductive pattern 220 and the secondconductive pattern 230 are formed. Can be implemented in a structure that is orthogonal to each other.

도 10은 이러한 구조를 구현하는 공정을 설명한 것으로, 이를 참조하면, 제1감지전극 패턴(220) 및 제2감지전극 패턴(230) 상에 절연층(240)을 형성하며, 이때 오프 셋(OFF-SET) 또는 잉크 젯(Ink-Jet) 공정을 이용하여 절연층(240)을 형성할 수 있다. 상기 절연층(240)을 배치한 이후에는 절연층(240)에 홀(Hole: 241)을 제2감지전극패턴 셀(231)의 상부 표면이 노출되도록 상기 홀(241)을 형성하되 제2감지전극패턴 셀(231)의 폭의 너비보다 좁게 형성한다. 상기 홀(241)은 이후 제2감지전극패턴 셀(231)을 전기적으로 상호 연결하기 위한 것이므로 홀(241)은 상기 제2감지전극패턴 셀(231)에 각각 대응되는 위치에 형성한다. 이후, 상기 절연층(240) 및 홀(241) 상에 도전 물질을 도포하여 도전 재료 도포층(250)을 형성한다. 도 10의 (d)에 도시된 바와 같이 절연층(240) 및 홀(241) 상에 도전 물질을 도포함에 따라 홀(241) 상에 도전 물질이 유입되며 홀(241) 이외의 절연층(240) 상에는 도전 재료 도포층(250)이 형성된다. 이후, 상기 도전 재료 도포층(250)의 일부를 제거하여, 복수개의 제2도전성 패턴 셀(231)들을 상호 연결하는 브리지(Bridge) 전극(251)을 생성한다. 이와 같이 생성되는 브리지 전극(251)을 보다 상세하게 설명하면, 홀(241)을 통해 절연층(240)을 관통하여 제2전도성 패턴 셀(231)과 접속되는 기둥부(252)와 상기 기둥부(252)를 상호 연결하는 몸통부(253)로 구성된다. 기둥부(252)는 기판(210)의 수평 방향에 대하여 수직 방향으로 형성되며, 몸통부(253)는 기판(210)의 절연층(240)의 상부에 형성되며 이때 기판(210)의 수평 방향과 동일하게 수평 방향으로 형성된다10 illustrates a process for implementing such a structure. Referring to this, the insulatinglayer 240 is formed on the firstsensing electrode pattern 220 and the secondsensing electrode pattern 230, and at this time, the offset is OFF. The insulatinglayer 240 may be formed using a -SET or ink-jet process. After the insulatinglayer 240 is disposed, thehole 241 is formed in the insulatinglayer 240 so that the upper surface of the second sensingelectrode pattern cell 231 is exposed, but the second sensing is performed. It is formed to be narrower than the width of theelectrode pattern cell 231. Since theholes 241 are used to electrically interconnect the second sensingelectrode pattern cells 231, theholes 241 are formed at positions corresponding to the second sensingelectrode pattern cells 231, respectively. Thereafter, a conductive material is coated on the insulatinglayer 240 and thehole 241 to form a conductivematerial coating layer 250. As shown in FIG. 10 (d), as the conductive material is applied onto the insulatinglayer 240 and thehole 241, the conductive material flows into thehole 241 and the insulatinglayer 240 other than thehole 241. ), A conductivematerial coating layer 250 is formed. Subsequently, a portion of the conductivematerial coating layer 250 is removed to form abridge electrode 251 interconnecting the plurality of secondconductive pattern cells 231. In more detail, thebridge electrode 251 generated as described above is described in detail. Thepillar portion 252 and the pillar portion penetrate the insulatinglayer 240 through thehole 241 and are connected to the secondconductive pattern cell 231. It consists of abody portion 253interconnecting 252. Thepillar portion 252 is formed in the vertical direction with respect to the horizontal direction of thesubstrate 210, thebody portion 253 is formed on the insulatinglayer 240 of thesubstrate 210, at this time the horizontal direction of thesubstrate 210 Is formed in the same horizontal direction as

이와 같은 브리지 전극(251)은 전기 저항 특성을 감안하여 다양한 두께로 형성할 수 있다. 여기서 도전 물질로는 탄소 나노 튜브(CNT; carbon nano tube) 또는 은 나노-와이어(Ag Nano-wire)에 전도성 폴리머, 몰리브덴(Mo)과 은(Ag) 합금, 또는 니켈(Ni)과 크롬(Cr) 합금 중 어느 하나를 선택하여 형성하는 것이 바람직하다.Such abridge electrode 251 may be formed in various thicknesses in consideration of electrical resistance characteristics. The conductive material may be a conductive polymer in carbon nanotube (CNT) or silver nano-wire, molybdenum (Mo) and silver (Ag) alloy, or nickel (Ni) and chromium (Cr). It is preferable to select and form any one of the alloys.

이상의 공정은 터치윈도우의 다양한 센서전극의 형성구조 중 일 예를 설명한 것이며, Tx, Rx의 기능을 구현하는 제1 및 제2감지전극패턴을 투명윈도우 기판상에 직접형성하는 구조는 본 발명의 요지를 적용할 수 있다.The above process has described an example of the formation structure of various sensor electrodes of the touch window, and the structure of directly forming the first and second sensing electrode patterns implementing the functions of Tx and Rx on the transparent window substrate is the gist of the present invention. Can be applied.

물론, 투명윈도우 상에 Tx, Rx의 기능을 구현하는 제1 및 제2감지전극패턴을 동시에 형성하는 구조외에, Tx, Rx의 기능을 구현하는 제1 및 제2감지전극패턴 중 어느 하나를 투명윈도우에 형성하고, 다른 하나의 감지전극패턴은 독립적인 기판에 형성하는 구조도 본 발명에 따른 요지를 적용할 수 있다.Of course, besides the structure of simultaneously forming the first and second sensing electrode patterns for implementing the functions of Tx and Rx on the transparent window, any one of the first and second sensing electrode patterns for implementing the functions of Tx and Rx is transparent. The gist according to the present invention can also be applied to a structure formed in a window and forming another sensing electrode pattern on an independent substrate.

즉, 도 11의 경우, 투명윈도우(210)에 Tx, Rx의 기능을 구현하는 제1 및 제2감지전극패턴(220, 230)을 동시에 구현하는 구조를 예시한 것으로, 'X'는 유효영역인 활성영역(V/A; View Area)을, 'Y'은 비활성영역(D/A; Dead Area)으로 감지전극패턴과 연결되는 배선패턴(270)이 형성되는 부분을, 'Z'는 비활성영역에서 인쇄패턴(240)과 기능키(F/A;Function Area)를 구현하는 회로패턴(260)을 나타낸다.That is, in FIG. 11, thetransparent window 210 illustrates a structure in which the first and secondsensing electrode patterns 220 and 230 simultaneously implement the functions of Tx and Rx, and 'X' is an effective area. Is the active area (V / A; View Area), and 'Y' is the inactive area (D / A; Dead Area) where thewiring pattern 270 connected to the sensing electrode pattern is formed, and 'Z' is inactive. Acircuit pattern 260 for implementing aprint pattern 240 and a function key (F / A) in the area is shown.

이와는 달리, 도 12의 경우와 같이, 투명윈도우(300)의 일면 상에 직접 제1감지전극패턴(332)를 형성하며, 제 2감지전극패턴(312)은 별도의 투명기판(330) 상에 형성하는 구조도 본 발명의 요지를 적용할 수 있다. 즉, 투명윈도우(300)의 비활성영역 상에 적외선센서부의 구성을 형성한 후, 투명보호층을 적층하고, 이후에 상기 제1감지전극패턴(332)를 구현하게 되는바, 이 경우 적외선센서부를 구성하는 반투과성 잉크층이 영향을 받아 손상될 수 있기 때문이다. 본 구조에서도 'X'는 유효영역인 활성영역(V/A; View Area)을, 'Y'은 비활성영역(D/A; Dead Area)으로 감지전극패턴과 연결되는 배선패턴(311, 331)이 형성되는 부분을, 'Z'는 비활성영역에서 인쇄패턴(301)과 기능키(F/A;Function Area)를 구현하는 회로패턴(313)을 나타낸다.
Unlike this, as shown in FIG. 12, the firstsensing electrode pattern 332 is directly formed on one surface of thetransparent window 300, and the secondsensing electrode pattern 312 is formed on a separatetransparent substrate 330. The structure to form also can apply the summary of this invention. That is, after forming the infrared sensor portion on the inactive region of thetransparent window 300, the transparent protective layer is laminated, and then the firstsensing electrode pattern 332 is implemented, in this case the infrared sensor portion This is because the translucent ink layer constituting may be affected and damaged. In this structure, 'X' is an active area (V / A; view area) which is an effective area, and 'Y' is an inactive area (D / A; dead area), andwiring patterns 311 and 331 connected to the sensing electrode pattern. In this formed portion, 'Z' represents acircuit pattern 313 that implements theprint pattern 301 and a function key (F / A) in the inactive area.

상술한 본 발명에 따른 터치윈도우는 액정모듈과 결합하여 다양한 디스플레이장치에 적용될 수 있게 된다. 이를 테면, 백라이트 유닛(BLU)을 발광모듈로 하는 수발광소자인 액정표시장치에서 박막트랜지스터과 액정, 칼라필터를 포함하는 액정모듈과 다수의 편광필름을 구비하는 액정표시장치의 상부에 상술한 구조의 터치윈도우가 결합하게 할 수 있다.The touch window according to the present invention described above can be applied to various display devices in combination with the liquid crystal module. For example, in the liquid crystal display device which is a light emitting device using a backlight unit (BLU) as a light emitting module, the above-described structure is formed on the upper part of the liquid crystal module including a thin film transistor, a liquid crystal and a color filter, and a plurality of polarizing films. Touch windows can be combined.

전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 기술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.In the foregoing detailed description of the present invention, specific examples have been described. However, various modifications are possible within the scope of the present invention. The technical idea of the present invention should not be limited to the embodiments of the present invention but should be determined by the equivalents of the claims and the claims.

10, 110,210, 310: 투명윈도우(투명기판)
20: 인쇄패턴
30: 반투과성 잉크층
40: 투명보호층
120, 220: 제1감지전극패턴
130, 230: 제2감지전극패턴
240: 절연층
V/A; View Area, 화면영역
D/A;Dead Area, 비활성영역
F/A; Function Area, 기능키영역10, 110, 210, 310: transparent window (transparent substrate)
20: printing pattern
30: semipermeable ink layer
40: transparent protective layer
120 and 220: first sensing electrode pattern
130 and 230: second sensing electrode pattern
240: insulating layer
V / A; View Area, Screen Area
D / A; Dead Area; Inactive Area
F / A; Function Area, Function Key Area