Movatterモバイル変換


[0]ホーム

URL:


KR101167565B1 - Apparatus for Controling-and-Displaying the Rotating angle and speed of Electron-beam in TEM for 3-D Diffraction Pattern Analysis - Google Patents

Apparatus for Controling-and-Displaying the Rotating angle and speed of Electron-beam in TEM for 3-D Diffraction Pattern Analysis
Download PDF

Info

Publication number
KR101167565B1
KR101167565B1KR1020100138271AKR20100138271AKR101167565B1KR 101167565 B1KR101167565 B1KR 101167565B1KR 1020100138271 AKR1020100138271 AKR 1020100138271AKR 20100138271 AKR20100138271 AKR 20100138271AKR 101167565 B1KR101167565 B1KR 101167565B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electron beam
control
rotation angle
rotation speed
control signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
KR1020100138271A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20110076844A (en
Inventor
정종만
김윤중
Original Assignee
한국기초과학지원연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국기초과학지원연구원filedCritical한국기초과학지원연구원
Publication of KR20110076844ApublicationCriticalpatent/KR20110076844A/en
Application grantedgrantedCritical
Publication of KR101167565B1publicationCriticalpatent/KR101167565B1/en
Expired - Fee Relatedlegal-statusCriticalCurrent
Anticipated expirationlegal-statusCritical

Links

Images

Classifications

Landscapes

Abstract

Translated fromKorean

본 발명은 전자빔의 회절현상을 이용한 3차원 구조 분석을 위한 전자빔 회전각도 및 회전속도를 제어하고, 제어된 양을 사용자가 확인할 수 있도록 표시할 수 있게 한 것으로써, 외부입력장치를 통해 입력된 전자빔 회전각도 및 회전속도 제어명령에 대응하여 펄스제어신호 및 전류제어신호를 계산하여 출력하는 연산모듈; 상기 연산모듈로부터 출력되는 펄스제어신호에 따라 전자빔 회전각도 및 회전속도 전기신호 값에 대응되는 기준펄스를 생성하는 기준펄스생성부; 및 상기 연산모듈로부터 출력되는 전류제어신호를 증폭하는 신호증폭부; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention is to control the electron beam rotation angle and rotation speed for the three-dimensional structure analysis using the diffraction phenomenon of the electron beam, and to display the controlled amount so that the user can confirm, the electron beam input through the external input device A calculation module for calculating and outputting a pulse control signal and a current control signal in response to a rotation angle and a rotation speed control command; A reference pulse generator for generating a reference pulse corresponding to the electron beam rotation angle and rotation speed electric signal value according to the pulse control signal output from the calculation module; And a signal amplifier for amplifying the current control signal output from the operation module. Characterized in that it comprises a.

Description

Translated fromKorean
TEM의 3차원 회절패턴분석을 위한 정밀 제어용 전자빔의 회전각도 및 회전속도 제어-표시 시스템{Apparatus for Controling-and-Displaying the Rotating angle and speed of Electron-beam in TEM for 3-D Diffraction Pattern Analysis}Apparatus for Controling-and-Displaying the Rotating angle and speed of Electron-beam in TEM for 3-D Diffraction Pattern Analysis}

본 발명은 투과전자현미경(TEM; Transmission Electron Microscope)을 이용하여 물질의 내부구조를 3차원으로 분석하기 위해 사용되는 회절패턴(DP; diffraction pattern) 즉, 전자빔의 회절현상을 이용한 3차원 구조 분석을 위한 전자빔 회전각도 및 회전속도를 제어하고, 제어된 양을 사용자가 확인할 수 있도록 표시할 수 있게 한 TEM의 3차원 회절패턴분석을 위한 정밀 제어용 전자빔의 회전각도 및 회전속도 제어-표시 시스템에 관한 것이다.
The present invention is a three-dimensional structure analysis using a diffraction pattern (DP) used to analyze the internal structure of the material in three dimensions by using a transmission electron microscope (TEM), that is, the diffraction phenomenon of the electron beam The rotation angle and rotation speed control-display system of the precision control electron beam for the three-dimensional diffraction pattern analysis of the TEM, which controls the electron beam rotation angle and rotation speed and displays the controlled amount for the user to confirm. .

TEM(Transmission electron microscope: 투과 전자 현미경)은 전자현미경의 일종으로, 광원과 광원렌즈 대신 유사한 기능을 하는 전자선과 전자 렌즈를 사용한 현미경이다.Transmission electron microscope (TEM) is a type of electron microscope that uses electron beams and electron lenses that perform similar functions instead of light sources and light source lenses.

간략하게 설명하면, TEM은 전자총, 집속렌즈, 시료대, 대물렌즈, 중간렌즈 등 복수개의 전자렌즈 및 카메라로 구성되어 있으며, 그 작동과정은 다음과 같다 : 50~100kV의 음전압이 걸려있는 전자총에서 전자빔이 발사되면 전자빔은 집광렌즈에 의해 수렴되어 시료에 조사된다. 시료를 투과한 전자빔은 대물렌즈에 의해 수백배로 확대되어 중간렌즈 바로 위에 제1상을 맺는다. 제1상의 일부는 중간렌즈 및 투사렌즈로 확대되어 카메라실의 형광막 위에 상을 맺게 된다. 이때 초점은 대물렌즈의 여자전류를 조절하여 맞추게 되고, 배율은 중간렌즈 또는 투사렌즈에 흐르는 전류를 조절하여 가감할 수 있다. 공기가 존재하면 전자빔의 진행방향이 변하므로, TEM 내부는 10-5mmHg 정도로 고진공 상태를 유지한다.Briefly, the TEM consists of a plurality of electron lenses and cameras such as an electron gun, a focusing lens, a sample stage, an objective lens, and an intermediate lens. The operation process is as follows: an electron gun with a negative voltage of 50 to 100 kV. When the electron beam is emitted from the electron beam, the electron beam is converged by the condenser lens and irradiated onto the sample. The electron beam passing through the sample is magnified several hundred times by the objective lens to form a first image directly above the intermediate lens. Part of the first image is enlarged by the intermediate lens and the projection lens to form an image on the fluorescent film of the camera room. At this time, the focus is adjusted by adjusting the excitation current of the objective lens, and the magnification may be adjusted by adjusting the current flowing through the intermediate lens or the projection lens. If air exists, the direction of electron beam changes, so the inside of the TEM maintains a high vacuum of about 10-5 mmHg.

TEM에는, 각 전자렌즈를 통과한 전자빔의 집속과 확대를 안정적으로 제어하기 위하여 모든 또는 일부 전자렌즈의 상부 또는 하부에 각각 4개의 조정코일(+X, -X, +Y 및 -Y)을 두고 있다. 도 1a에 일반 TEM에서 전자렌즈(2개)와 조정코일(8개)의 위치를 예시적으로 도시하였다. 이들 전자렌즈와 조정코일 각각의 세트는 각각의 렌즈제어부에 의해 제어되는데, 도 1b에 렌즈제어부에 의해 조정코일이 제어됨을 보여주는 개념도를 도시하였다(이해의 편의를 위해 조정코일을 90° 회전하여 도시함).In the TEM, four staging coils (+ X, -X, + Y and -Y) are placed on the top or bottom of all or some of the electron lenses to reliably control the focusing and magnification of the electron beam passing through each electron lens. have. 1A exemplarily shows positions of two electron lenses and eight adjustment coils in a general TEM. Each set of these electronic lenses and adjustment coils is controlled by a respective lens control unit, and a conceptual diagram showing that the adjustment coil is controlled by the lens control unit is shown in FIG. 1B (for convenience of illustration, the adjustment coil is rotated by 90 °. box).

TEM에서 시료를 관찰하기 위해서는 먼저 (시료 장착 전에) 전자빔이 중심축에 일치하여 시료대에 초점이 맞추어지도록 조정(alignment)해야한다. 초점이 중심축에 맞지 않으면, 각각의 렌즈제어부는 서로 대칭되는 한 쌍의 조정코일에 흐르는 전류의전압을 연동하여 제어함으로써 초점을 중심축에 일치시키게 된다. 종래 TEM에서 마주보는 한쌍의 조정코일이 연동하여 제어되는 것을 도 2에 개념적으로 나타내었다.
In order to observe the sample in the TEM, the electron beam must first be aligned (prior to the sample) so that the electron beam is aligned with the central axis and focused on the sample stage. If the focus is not aligned with the central axis, each lens control unit coordinates the focus with the central axis by controlling thevoltage of the current flowing through a pair of symmetrical coils. 2 shows that a pair of adjustment coils facing each other in the conventional TEM is controlled in conjunction with each other.

통상의 TEM은 전자빔이 수직으로만 진행되므로 한 번의 시료장착과 관찰로 전자빔이 입사된 한 면에 대한 정보만 얻을 수 있다. 따라서 복합구조로 이루어진 물질의 구조를 모두 얻기 위해서는 시료의 방향을 바꾸어가면서 반복적으로 관찰해야 한다. 이 경우 [시료탈착 → 시료 회전 → 시료장착 → 촬영] 작업을 반복해야 하므로 복잡하고 시간이 많이 소요될 뿐 아니라, 시료의 동일지점을 초점과 일치시키는 것이 거의 불가능하여 정확한 정보를 얻기가 어려웠다.
In a typical TEM, since the electron beam proceeds only vertically, only one surface of the electron beam is incident on one sample mounting and observation. Therefore, in order to obtain all the structures of the composite material, it is necessary to observe the sample repeatedly while changing the direction of the sample. In this case, it is difficult to obtain accurate information because it is complicated and time-consuming, and it is almost impossible to match the same point of the sample with the focus because it is necessary to repeat the [sample removal → sample rotation → sample mounting → photographing] operation.

본 발명은 PED패턴분석법을 이용하여 물질의 3차원 구조해석을 보다 원활하게 할 수 있게 한 TEM의 3차원 회절패턴분석을 위한 정밀 제어용 전자빔의 회전각도 및 회전속도 제어-표시 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a rotation angle and rotation speed control-display system for precisely controlling electron beams for three-dimensional diffraction pattern analysis of TEMs, which facilitates three-dimensional structural analysis of materials using PED pattern analysis. It is done.

또한 본 발명은 TEM을 이용하여 PED패턴을 분석하는 과정에서 조정코일에 공급되는 전원을 제어하는 제어값을 정량화하여 반복 및 분석 자료로 활용할 수 있게 한 TEM의 3차원 회절패턴분석을 위한 정밀 제어용 전자빔의 회전각도 및 회전속도 제어-표시 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
In addition, the present invention provides a precise control electron beam for the three-dimensional diffraction pattern analysis of the TEM that can be used as a repetition and analysis data by quantifying the control value for controlling the power supplied to the adjustment coil in the process of analyzing the PED pattern using the TEM It is an object of the present invention to provide a rotation angle and rotation speed control-display system.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 조정코일을 미세하게 제어하여 전자빔 회전각도 및 회전속도를 정밀하게 조정할 수 있게 한 것으로서, 복수개의 렌즈와 상기 각 렌즈에 부속하는 다수의 조정코일에 공급되는 전원을 제어하는 렌즈제어부, 상기 렌즈제어부에 제어명령을 입력하는 외부입력장치를 포함하는 TEM에서, 상기 외부입력장치를 통해 입력된 전자빔 회전각도 및 회전속도 제어명령에 대응하여 펄스제어신호 및 전류제어신호를 계산하여 출력하는 연산모듈; 상기 연산모듈로부터 출력되는 펄스제어신호에 따라 전자빔 회전각도 및 회전속도 전기신호 값에 대응되는 기준펄스를 생성하는 기준펄스생성부; 및 상기 연산모듈로부터 출력되는 전류제어신호를 증폭하는 신호증폭부; 를 포함하는 조정코일제어부를 구비하는 것을 특징으로 한다.
The present invention for achieving the above object is to finely control the adjustment coil to precisely adjust the electron beam rotation angle and rotation speed, the power supplied to a plurality of lenses and a plurality of adjustment coils attached to each lens In the TEM comprising a lens control unit for controlling the control unit, an external input device for inputting a control command to the lens control unit, the pulse control signal and the current control signal in response to the electron beam rotation angle and rotation speed control command input through the external input device A calculation module for calculating and outputting the calculated value; A reference pulse generator for generating a reference pulse corresponding to the electron beam rotation angle and rotation speed electric signal value according to the pulse control signal output from the calculation module; And a signal amplifier for amplifying the current control signal output from the operation module. It characterized in that it comprises an adjustment coil control unit including a.

본 발명은 별도의 조정코일제어부에서 조정코일에 공급되는 전원을 제어함으로써 TEM의 전자빔 회전각도 및 회전속도 제어를 제어하여 전자빔의 기울기를 조절할 수 있어 복합구조로 이루어진 물질의 3차원구조 분석이 가능한 것이다.
The present invention can control the tilt angle of the electron beam by controlling the electron beam rotation angle and rotation speed control of the TEM by controlling the power supplied to the adjustment coil in a separate adjustment coil control unit to enable a three-dimensional structure analysis of a material having a complex structure. .

상기 조정코일제어부에 의해 조정코일을 제어하는 과정에서 얻어진 제어 정보는 동일한 시료를 다시 관찰하거나 다른 시료를 관찰할 때 조정코일을 제어하기 위한 기준 정보로 사용함으로써 조정코일의 제어를 보다 용이하게 할 수 있다. 현재 실행된 제어 정보를 이후에 조정코일 제어에 활용할 수 있게 하기 위해 상기 연산모듈은 출력되는 제어신호(펄스제어신호와 전류제어신호)에 대응하는 전자빔 회전각도 및 회전속도값을 계산하는 기능을 더 포함하고, 상기 연산모듈에서 계산된 전자빔 회전각도 및 회전속도값을 표시하는 표시장치를 더 구비하는 것이 바람직하다.
The control information obtained in the process of controlling the adjusting coil by the adjusting coil controller may be used as reference information for controlling the adjusting coil when observing the same sample or observing another sample, thereby making it easier to control the adjusting coil. have. In order to be able to utilize the currently executed control information for the adjustment coil control later, the calculation module further has a function of calculating an electron beam rotation angle and rotation speed value corresponding to the output control signals (pulse control signal and current control signal). And a display device for displaying the electron beam rotation angle and rotation speed value calculated by the calculation module.

한편, 상기 조정코일제어부를 아날로그 회로로 구성할 경우 구조가 복잡해진다. 이에 따라 상기 조정코일제어부는 제어프로그램이 설치된 컴퓨터인 것이 바람직하다.
On the other hand, when the regulating coil control unit is composed of an analog circuit, the structure becomes complicated. Accordingly, it is preferable that the adjustment coil control unit is a computer on which a control program is installed.

본 발명은, 조정코일제어부에 의해 조정코일에 공급되는 전원을 미세하게 조정함으로써 전자빔의 회전각도 및 회전속도를 정밀하게 조절할 수 있는 효과가 있다.The present invention has the effect of finely adjusting the rotation angle and rotation speed of the electron beam by finely adjusting the power supplied to the adjustment coil by the adjustment coil controller.

또한 본 발명은, TEM을 이용한 DP분석 과정에서 현재 작동 중인 TEM 전자빔의 회전각도 및 회전속도에 대응하는 조정코일에 공급되는 전원 제어신호의 제어값을 실시간으로 확인할 수 있게 하고, 이를 이후 분석과정에서 다시 활용할 수 있게 함으로써 연구의 효율과 정확성을 증대시킬 수 있게 된다.
In addition, the present invention, in the DP analysis process using the TEM can check in real time the control value of the power control signal supplied to the adjustment coil corresponding to the rotation angle and the rotational speed of the TEM electron beam currently in operation, and in the subsequent analysis process By making it available again, you can increase the efficiency and accuracy of your research.

도 1a는 일반 TEM에서 전자렌즈(2개)와 조정코일(8개)의 위치의 예시도,
도 1b에 렌즈제어부에 의해 조정코일이 제어됨을 보여주는 개념도를 도시하였다(이해의 편의를 위해 조정코일을 90° 회전하여 도시함),
도 2는 종래 TEM에서 마주보는 한쌍의 조정코일이 연동하여 제어되는 것을 나타낸 개념도,
도 3은 본 발명에 의한 시스템의 일예의 구성도,
도 4는 본 발명에 의한 시스템의 일예의 배선도.
1A is an illustration of the positions of two electron lenses and eight adjustment coils in a general TEM;
1B is a conceptual diagram showing that the adjustment coil is controlled by the lens controller (shown by rotating the adjustment coil 90 ° for convenience of understanding),
2 is a conceptual diagram showing that a pair of adjustment coils facing in the conventional TEM is controlled in conjunction with,
3 is a configuration diagram of an example of a system according to the present invention;
4 is a wiring diagram of one example of a system according to the present invention;

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세하게 설명한다. 그러나 이들 도면은 예시적인 목적일 뿐, 이에 의해 본 발명의 기술적 범위가 한정되거나 변경되는 것은 아니다. 또한 이러한 예시에 기초하여 본 발명의 기술적 사상의 범위 안에서 다양한 변형과 변경이 가능함은 당업자에게는 당연할 것이다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, these drawings are only for illustrative purposes, and the technical scope of the present invention is not limited or changed. In addition, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and changes can be made within the scope of the present invention based on these examples.

본 발명은 TEM의 렌즈부에 설치된 조정코일에 공급되는 전원을 보다 미세하게 제어하여 전자빔의 회전각도 및 회전속도를 정밀하게 조정할 수 있게 한 것으로써, 조정코일에 공급되는 전원을 제어하기 위해 조정코일제어부(100)를 구비하고 있다.
The present invention is to finely control the power supplied to the adjustment coil installed in the lens portion of the TEM to precisely adjust the rotation angle and rotation speed of the electron beam, to control the power supplied to the adjustment coil Thecontrol part 100 is provided.

TEM을 이용하여 물질의 3차원 구조해석을 하기 위해서는 전자빔의 회전각도 및 회전속도를 제어하여야 한다. 전자빔의 회전각도는 조정코일에 공급되는 전원의 전류에 따라 변하고, 회전속도는 조정코일에 공급되는 전원의 주파수에 따라 변하므로 상기 조정코일제어부(100)는 조정코일에 공급되는 전원의 주파수와 전류를 모두 제어할 수 있어야 한다.
In order to analyze the three-dimensional structure of the material using TEM, the rotation angle and rotation speed of the electron beam must be controlled. The rotation angle of the electron beam is changed according to the current of the power supplied to the adjustment coil, and the rotation speed is changed according to the frequency of the power supplied to the adjustment coil. You should be able to control all of them.

상기 조정코일제어부(100)는 외부입력장치에서 입력되는 제어명령을 전자빔 회전각도 및 회전속도 제어명령(필요에 따라 이들을 통칭하여 "제어명령"이라 한다)에 대응하여 펄스제어신호 및 전류제어신호(필요에 따라 이들을 통칭하여 "제어신호"라 한다)를 계산하여 출력하는 연산모듈(1)을 포함한다.The adjustmentcoil control unit 100 corresponds to a control command input from an external input device in response to an electron beam rotation angle and rotation speed control command (collectively referred to as "control command" as necessary) and a pulse control signal and a current control signal ( And acalculation module 1 for calculating and outputting these collectively as " control signals " as necessary.

상기 연산모듈(1)에서 출력되는 제어신호는 전술한 바와 같이 펄스제어신호와 전류제어신호가 있다.As described above, the control signal output from theoperation module 1 includes a pulse control signal and a current control signal.

상기 펄스제어신호는 후술하는 기준펄스생성부(2)로 입력되고, 기준펄스생성부(2)는 이 신호에 따라 전자빔 회전각도 및 회전속도 전기신호 값에 대응되는 기준펄스를 생성한다.The pulse control signal is input to areference pulse generator 2, which will be described later, and thereference pulse generator 2 generates a reference pulse corresponding to the electron beam rotation angle and the rotational speed electric signal value according to this signal.

상기 연산모듈(1)로부터 출력되는 전류제어신호는 약하게 조정코일의 전원을 제어할 수 없으므로 이를 증폭시키기 위해 신호증폭부(3)가 더 구비되어 있다.Since the current control signal output from theoperation module 1 cannot weakly control the power supply of the adjusting coil, asignal amplifying part 3 is further provided to amplify it.

상기 연산모듈(1)로부터 출력되는 전류제어신호는 디지털신호이므로 후속 연결된 신호증폭부에서 인식할 수 있도록 D/A변환기(11)를 이용하여 아날로그 신호로 변환할 수도 있다.Since the current control signal output from theoperation module 1 is a digital signal, it may be converted into an analog signal by using the D /A converter 11 so that the signal amplification unit connected to the current control signal may be recognized.

위에서 외부입력장치는 입출력장치를 구비한 통상의 컴퓨터나 가변저항형의 조절노브를 구비한 제어장치가 될 수 있다.
The external input device may be a conventional computer having an input / output device or a control device having an adjustable knob of a variable resistance type.

전술한 바와 같은 조정코일제어부를 이용하여 전자빔의 회전각도와 속도를 조절하는 과정에서, 사용자가 외부입력부를 통해 제어명령을 입력하면 이에 대응하여 전자빔의 회전각도와 회전속도가 변한다. 그러나 사용자는 입력한 제어명령과 전자빔의 회전각도와 회전속도 변화량의 대응 관계를 확인할 수 없으므로 사용자는 임의의 제어명령을 입력한 후 수차례의 수정된 제어명령을 입력하는 과정을 반복하여 전자빔을 제어하여야 하므로 전자빔의 제어에 많은 시간과 노력이 소요되는 문제가 있다.In the process of adjusting the rotation angle and the speed of the electron beam using the adjustment coil controller as described above, when the user inputs a control command through the external input unit, the rotation angle and the rotation speed of the electron beam change correspondingly. However, the user cannot confirm the correspondence between the input control command and the rotation angle of the electron beam and the rotational speed change amount. Therefore, the user controls the electron beam by repeatedly inputting a control command several times after inputting an arbitrary control command. There is a problem that takes a lot of time and effort to control the electron beam.

이러한 문제를 해결할 수 있도록 상기 연산모듈(1)은 출력되는 제어신호(펄스제어신호와 전류제어신호)에 대응하는 전자빔 회전각도 및 회전속도값을 계산하는 기능을 더 포함하고, 상기 연산모듈에서 계산된 전자빔 회전각도 및 회전속도값을 표시하는 표시장치(4)를 더 구비하는 것이 바람직하다. 상기 표시장치(4)는 전술한 외부입력장치의 하나인 컴퓨터에 구비된 모니터를 사용할 수 있다.
In order to solve this problem, thecalculation module 1 further includes a function of calculating an electron beam rotation angle and rotation speed value corresponding to the output control signal (pulse control signal and current control signal), and calculated by the calculation module. It is preferable to further include a display device 4 for displaying the electron beam rotation angle and rotation speed value. The display device 4 may use a monitor provided in a computer which is one of the above-described external input devices.

상기 연산모듈(1)에서 전자빔 회전각도 및 회전속도값으로 계산되는 제어신호를 감지하는 방법은 조정코일제어부(100)를 구성하는 방식에 따라 달라질 수 있다.The method of detecting the control signal calculated by the electron beam rotation angle and rotation speed value in thecalculation module 1 may vary depending on the configuration of theadjustment coil controller 100.

도 4에 도시한 바와 같이 조정코일제어부(100)를 아날로그 회로로 구성할 경우에는 조정코일제어부로부터 출력되는 제어신호 출력단에 감지단자(31)를 설치하여 제어신호를 감지한다. 이때 감지단자(31)에서 감지된 제어신호는 아날로그 신호이므로 A/D변환기(12)를 이용하여 디지털 신호로 변환하여 연산모듈로 전송한다.As shown in FIG. 4, when theadjustment coil controller 100 is configured as an analog circuit, adetection terminal 31 is installed at a control signal output terminal output from the adjustment coil controller to detect a control signal. At this time, since the control signal detected by thesensing terminal 31 is an analog signal, the control signal is converted into a digital signal using the A /D converter 12 and transmitted to the calculation module.

도시하지는 않았으나, 후술하는 바와 같이 조정코일제어부(100)를 컴퓨터에 설치된 프로그램의 형태로 구성할 경우에는 제어신호는 연산모듈(1)에서 생성되므로 이 제어신호를 직접 전자빔 회전각도 및 회전속도값으로 연산하면 된다.Although not shown, when the adjustmentcoil control unit 100 is configured in the form of a program installed in a computer as described below, the control signal is generated by thecalculation module 1 so that the control signal is directly converted into an electron beam rotation angle and rotation speed value. Calculate

상기와 같이 연산모듈에서 계산된 전자빔 회전각도 및 회전속도값은 새로운 시료 분석을 위해 전자빔을 제어할 때의 기준 정보로 사용할 수 있도록 저장할 r수 있도록 메모리를 더 구비하는 것이 바람직하다.
The electron beam rotation angle and rotation speed value calculated by the calculation module as described above is preferably further provided with a memory so that r can be stored to be used as reference information when controlling the electron beam for a new sample analysis.

한편, 상기 조정코일제어부(100)는 도 4에 도시한 바와 같이 아날로그 회로로 제작할 수 있으나, 이렇게 아날로그 회로로 제작할 경우 시스템이 복잡해질 뿐만 아나라 다른 TEM에 적용하기 위해서는 회로를 변경하여야 한다. 이에 따라 본 발명에 의한 시스템에 설치된 조정코일제어부(100)는 제어프로그램이 설치된 컴퓨터인 것이 바람직하다.
On the other hand, the adjustmentcoil control unit 100 may be manufactured in an analog circuit as shown in Figure 4, but if the analog circuit is manufactured in this way not only the system is complicated but also need to change the circuit to apply to other TEM. Accordingly, the adjustmentcoil control unit 100 installed in the system according to the present invention is preferably a computer in which the control program is installed.

100 : 조정코일제어부
1 : 연산모듈
2 : 기준펄스생성부
3 : 신호증폭부
4 : 표시장치
12 : A/D변환기 31 : 감지단자
100: adjusting coil control unit
1: operation module
2: reference pulse generator
3: signal amplifier
4: display device
12: A / D converter 31: detection terminal

Claims (4)

Translated fromKorean
복수개의 렌즈와 상기 각 렌즈에 부속하는 다수의 조정코일에 공급되는 전원을 제어하는 렌즈제어부, 상기 렌즈제어부에 제어명령을 입력하는 외부입력장치를 포함하는 TEM에서,
상기 외부입력장치를 통해 입력된 전자빔 회전각도 및 회전속도 제어명령에 대응하여 펄스제어신호 및 전류제어신호를 계산하여 출력하는 연산모듈;
상기 연산모듈로부터 출력되는 펄스제어신호에 따라 전자빔 회전각도 및 회전속도 전기신호 값에 대응되는 기준펄스를 생성하는 기준펄스생성부; 및
상기 연산모듈로부터 출력되는 전류제어신호를 증폭하는 신호증폭부;
를 포함하는 조정코일제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 TEM의 3차원 회절패턴분석을 위한 정밀 제어용 전자빔의 회전각도 및 회전속도 제어-표시 시스템.
In a TEM comprising a plurality of lenses and a lens control unit for controlling the power supplied to the plurality of adjustment coils attached to each lens, an external input device for inputting a control command to the lens control unit,
A calculation module for calculating and outputting a pulse control signal and a current control signal in response to an electron beam rotation angle and rotation speed control command input through the external input device;
A reference pulse generator for generating a reference pulse corresponding to the electron beam rotation angle and rotation speed electric signal value according to the pulse control signal output from the calculation module; And
A signal amplifier for amplifying the current control signal output from the operation module;
Rotation angle and rotational speed control-display system of the precision control electron beam for the three-dimensional diffraction pattern analysis of the TEM characterized in that it comprises an adjustment coil control unit comprising a.
제 1 항에 있어서,
상기 연산모듈은 출력되는 제어신호(펄스제어신호와 전류제어신호)에 대응하는 전자빔 회전각도 및 회전속도값을 계산하는 기능을 더 포함하고,
상기 연산모듈에서 계산된 전자빔 회전각도 및 회전속도값을 표시하는 표시장치가 추가되는 것을 특징으로 하는 TEM의 3차원 회절패턴분석을 위한 정밀 제어용 전자빔의 회전각도 및 회전속도 제어-표시 시스템.
The method of claim 1,
The calculation module further includes a function for calculating an electron beam rotation angle and rotation speed value corresponding to the output control signal (pulse control signal and current control signal),
And a display device for displaying an electron beam rotation angle and a rotation speed value calculated by the calculation module, wherein the rotation angle and rotation speed control-display system of the electron beam for precise control for analyzing the three-dimensional diffraction pattern of the TEM.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 조정코일제어부는 제어프로그램이 설치된 컴퓨터인 것을 특징으로 하는 TEM의 3차원 회절패턴분석을 위한 정밀 제어용 전자빔의 회전각도 및 회전속도 제어-표시 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
And said control coil control unit is a computer having a control program installed thereon. The rotation angle and rotation speed control-display system of the electron beam for precise control for analyzing the three-dimensional diffraction pattern of the TEM.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 조정코일제어부는 연산모듈에서 계산된 전자빔 회전각도 및 회전속도값을 저장하는 메모리를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 TEM의 3차원 회절패턴분석을 위한 정밀 제어용 전자빔의 회전각도 및 회전속도 제어-표시 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
The adjustment coil control unit further comprises a memory for storing the electron beam rotation angle and the rotation speed value calculated in the calculation module, the rotation angle and rotation speed control-display of the electron beam for precision control for three-dimensional diffraction pattern analysis of the TEM system.
KR1020100138271A2009-12-292010-12-29Apparatus for Controling-and-Displaying the Rotating angle and speed of Electron-beam in TEM for 3-D Diffraction Pattern AnalysisExpired - Fee RelatedKR101167565B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application NumberPriority DateFiling DateTitle
KR200901328042009-12-29
KR10200901328042009-12-29

Publications (2)

Publication NumberPublication Date
KR20110076844A KR20110076844A (en)2011-07-06
KR101167565B1true KR101167565B1 (en)2012-07-27

Family

ID=44227058

Family Applications (2)

Application NumberTitlePriority DateFiling Date
KR1020127012728AExpired - Fee RelatedKR101332277B1 (en)2009-12-292010-12-29Lens control apparatus of tem for easily obtaining ped pattern
KR1020100138271AExpired - Fee RelatedKR101167565B1 (en)2009-12-292010-12-29Apparatus for Controling-and-Displaying the Rotating angle and speed of Electron-beam in TEM for 3-D Diffraction Pattern Analysis

Family Applications Before (1)

Application NumberTitlePriority DateFiling Date
KR1020127012728AExpired - Fee RelatedKR101332277B1 (en)2009-12-292010-12-29Lens control apparatus of tem for easily obtaining ped pattern

Country Status (2)

CountryLink
KR (2)KR101332277B1 (en)
WO (1)WO2011081463A2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication numberPriority datePublication dateAssigneeTitle
WO2012169665A1 (en)*2011-06-072012-12-13한국기초과학지원연구원Apparatus for controlling digital alignment coils of tem for ped analysis and apparatus for displaying rotation speed and rotation angle of electronic beam
KR101664379B1 (en)*2013-08-282016-10-25한국기초과학지원연구원Specimen Stage and of Precise Control Unit of Specimen Holder for Multipurpose 3 Dimensional Imaging by Transmission Electron Microscope

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication numberPriority datePublication dateAssigneeTitle
JPH11250843A (en)1998-02-261999-09-17Seiko Instruments IncFocusing ion beam device
JP2006059513A (en)2004-07-222006-03-02Kuresutetsuku:Kk Electron beam irradiation apparatus and drawing apparatus
JP2006179504A (en)2006-03-282006-07-06Hitachi High-Technologies Corp Electron beam device with aberration corrector

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication numberPriority datePublication dateAssigneeTitle
JP3081393B2 (en)*1992-10-152000-08-28株式会社日立製作所 Scanning electron microscope

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication numberPriority datePublication dateAssigneeTitle
JPH11250843A (en)1998-02-261999-09-17Seiko Instruments IncFocusing ion beam device
JP2006059513A (en)2004-07-222006-03-02Kuresutetsuku:Kk Electron beam irradiation apparatus and drawing apparatus
JP2006179504A (en)2006-03-282006-07-06Hitachi High-Technologies Corp Electron beam device with aberration corrector

Also Published As

Publication numberPublication date
KR20110076844A (en)2011-07-06
KR101332277B1 (en)2013-11-22
WO2011081463A3 (en)2011-11-10
KR20120088748A (en)2012-08-08
WO2011081463A2 (en)2011-07-07

Similar Documents

PublicationPublication DateTitle
CN107346059B (en)Variable focal length imaging system
JP7221393B2 (en) Systems and methods for focusing charged particle beams
US7598497B2 (en)Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus
JP4801518B2 (en) Charged particle beam microscopic method and charged particle beam apparatus
JP5449679B2 (en) Electron beam observation apparatus and sample observation method
JP2014026834A (en)Charged particle beam application apparatus
US9396907B2 (en)Method of calibrating a scanning transmission charged-particle microscope
JP6522764B2 (en) Charged particle beam apparatus and alignment adjustment method of sample stage
KR101167565B1 (en)Apparatus for Controling-and-Displaying the Rotating angle and speed of Electron-beam in TEM for 3-D Diffraction Pattern Analysis
JPH09304703A (en)Focusing device
JP3400608B2 (en) Scanning electron microscope
JP2810216B2 (en) Pattern inspection method and apparatus
WO2015190723A1 (en)Method for controlling scanning signal of charged particle microscope, and apparatus using same
WO2016024704A1 (en)Particle beam control apparatus and method for charged particle microscope
JP3870141B2 (en) electronic microscope
JP5084528B2 (en) Control device and control method for electron microscope
CN112309813A (en)System and method for beam position visualization
CN101365977B (en)Method for operating an optical system and optical system
JP4616631B2 (en) Sample analyzer
WO2012169665A1 (en)Apparatus for controlling digital alignment coils of tem for ped analysis and apparatus for displaying rotation speed and rotation angle of electronic beam
KR101235629B1 (en)Device for compensating image drift of transmission electron microscope
KR101156214B1 (en)Calibration method for free magnification in scanning electron microscope
JP4505551B2 (en) Electron beam length measuring device and length measuring method
JPH10312762A (en) Electron beam equipment
KR101837119B1 (en)X-ray inspecting system for regulating automatic resolution according to x-ray magnification

Legal Events

DateCodeTitleDescription
A201Request for examination
PA0109Patent application

St.27 status event code:A-0-1-A10-A12-nap-PA0109

PA0201Request for examination

St.27 status event code:A-1-2-D10-D11-exm-PA0201

P11-X000Amendment of application requested

St.27 status event code:A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000Application amended

St.27 status event code:A-2-2-P10-P13-nap-X000

R15-X000Change to inventor requested

St.27 status event code:A-3-3-R10-R15-oth-X000

R16-X000Change to inventor recorded

St.27 status event code:A-3-3-R10-R16-oth-X000

P11-X000Amendment of application requested

St.27 status event code:A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000Application amended

St.27 status event code:A-2-2-P10-P13-nap-X000

PG1501Laying open of application

St.27 status event code:A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501

R18-X000Changes to party contact information recorded

St.27 status event code:A-3-3-R10-R18-oth-X000

D13-X000Search requested

St.27 status event code:A-1-2-D10-D13-srh-X000

D14-X000Search report completed

St.27 status event code:A-1-2-D10-D14-srh-X000

E902Notification of reason for refusal
PE0902Notice of grounds for rejection

St.27 status event code:A-1-2-D10-D21-exm-PE0902

P11-X000Amendment of application requested

St.27 status event code:A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000Application amended

St.27 status event code:A-2-2-P10-P13-nap-X000

E701Decision to grant or registration of patent right
PE0701Decision of registration

St.27 status event code:A-1-2-D10-D22-exm-PE0701

GRNTWritten decision to grant
PR0701Registration of establishment

St.27 status event code:A-2-4-F10-F11-exm-PR0701

PR1002Payment of registration fee

St.27 status event code:A-2-2-U10-U11-oth-PR1002

Fee payment year number:1

PG1601Publication of registration

St.27 status event code:A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601

PN2301Change of applicant

St.27 status event code:A-5-5-R10-R13-asn-PN2301

St.27 status event code:A-5-5-R10-R11-asn-PN2301

PN2301Change of applicant

St.27 status event code:A-5-5-R10-R13-asn-PN2301

St.27 status event code:A-5-5-R10-R11-asn-PN2301

FPAYAnnual fee payment

Payment date:20150629

Year of fee payment:4

PR1001Payment of annual fee

St.27 status event code:A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number:4

FPAYAnnual fee payment

Payment date:20160715

Year of fee payment:5

PR1001Payment of annual fee

St.27 status event code:A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number:5

PR1001Payment of annual fee

St.27 status event code:A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number:6

FPAYAnnual fee payment

Payment date:20180731

Year of fee payment:7

PR1001Payment of annual fee

St.27 status event code:A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number:7

FPAYAnnual fee payment

Payment date:20190723

Year of fee payment:8

PR1001Payment of annual fee

St.27 status event code:A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number:8

PR1001Payment of annual fee

St.27 status event code:A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number:9

R18-X000Changes to party contact information recorded

St.27 status event code:A-5-5-R10-R18-oth-X000

PC1903Unpaid annual fee

St.27 status event code:A-4-4-U10-U13-oth-PC1903

Not in force date:20210717

Payment event data comment text:Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE

PC1903Unpaid annual fee

St.27 status event code:N-4-6-H10-H13-oth-PC1903

Ip right cessation event data comment text:Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE

Not in force date:20210717


[8]ページ先頭

©2009-2025 Movatter.jp