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JPS6236867A - Input protecting circuit - Google Patents

Input protecting circuit

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Publication number
JPS6236867A
JPS6236867AJP60176332AJP17633285AJPS6236867AJP S6236867 AJPS6236867 AJP S6236867AJP 60176332 AJP60176332 AJP 60176332AJP 17633285 AJP17633285 AJP 17633285AJP S6236867 AJPS6236867 AJP S6236867A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pad
field transistor
channel
input
transistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60176332A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazutami Arimoto
和民 有本
Hiroshi Miyamoto
博司 宮本
Shigeru Mori
茂 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric CorpfiledCriticalMitsubishi Electric Corp
Priority to JP60176332ApriorityCriticalpatent/JPS6236867A/en
Publication of JPS6236867ApublicationCriticalpatent/JPS6236867A/en
Pendinglegal-statusCriticalCurrent

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Abstract

PURPOSE:To perform an effective input protecting circuit by forming the channel region of a field transistor of the circuit in a shape for surrounding a pad, thereby forming a field transistor having a large channel. CONSTITUTION:An N<+> type layer 2 formed at the periphery of a pad 1 is electrically connected through a contacting hole 5 with the pad 1 to be a drain of a field transistor. The channel 3 of the field transistor disposed directly under the input pad 1 is formed to surround the periphery of the pad. The source region 4 of the transistor is formed of an N<+> type layer, an aluminum layer 7 of GND level is electrically connected with the N<+> type layer of the source 4 through a contacting hole 6. When a surge is input to the pad 1, the transistor is immediately turned ON to rapidly escape to the GND 7 through the channel 3 having long channel length and hence large area. Thus, it can prevent the inner node from damaging.

Description

Translated fromJapanese

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明は半導体集積回路における入力保護回路に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an input protection circuit in a semiconductor integrated circuit.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

入力保護回路は一般に第3図の回路で構成され、これを
パターンレイアウトした従来の回路が第2図に示される
ものであり、第3図において、VINはパッド入力、N
1はフィールドトランジスタQ1のゲートとドレイン、
Rは抵抗、N2は内部ノードである。
The input protection circuit generally consists of the circuit shown in Fig. 3, and a conventional circuit with a pattern layout of this is shown in Fig. 2. In Fig. 3, VIN is the pad input, N
1 is the gate and drain of the field transistor Q1,
R is a resistance and N2 is an internal node.

第2図において、1はAβで形成されたパッド、2はフ
ィールドトランジスタQ1のN土層より形成されたドレ
イン、3はフィールドトランジスタQ1のチャネル領域
、4はフィールドトランジスタQ1のソースで、N土層
より形成されていて、GNDレベルである。5はドレイ
ン2のN土層と内部ノードへの配線であるアルミ層8と
のコンタクト、6はソース4のN土層とGNDノードで
あるアルミ層7との1ンタクトで予る・次5動作に9いて説明すう・第3図において・パッドV
TNに正のサージが入力されるとフィールドトランジス
タQ1はそのゲートがオンしてサージをそのドレイン、
ソース間を介してGNDに逃すために、サージは内部ノ
ードN2に伝わらず、内部ノードN2の破壊を起こさな
い。
In FIG. 2, 1 is a pad formed of Aβ, 2 is a drain formed from the N soil layer of the field transistor Q1, 3 is the channel region of the field transistor Q1, and 4 is the source of the field transistor Q1, which is formed from the N soil layer. It is formed at the GND level. 5 is the contact between the N soil layer of the drain 2 and the aluminum layer 8 which is the wiring to the internal node, and 6 is the contact between the N soil layer of the source 4 and the aluminum layer 7 which is the GND node. Next 5 operations Let me explain in Figure 3: Pad V
When a positive surge is input to TN, field transistor Q1 turns on its gate and transfers the surge to its drain.
Since the surge is dissipated to GND via the sources, the surge is not transmitted to the internal node N2 and does not cause destruction of the internal node N2.

第2図のパターンレイアウトにおいてはサージはN十層
2からチャネル領域3を通ってGND 7へ逃がされる
In the pattern layout of FIG. 2, the surge is released from the N+ layer 2 through the channel region 3 to the GND 7.

上記フィールドトランジスタQ1はしきい値電圧がVc
c(電源電圧)よりかなり高く設定されているので、サ
ージパルスが入力した時のみオンする。
The field transistor Q1 has a threshold voltage of Vc.
Since it is set much higher than c (power supply voltage), it turns on only when a surge pulse is input.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来の入力保護回路は以上の様に形成されているが、こ
の回路において、フィールドトランジスタQ1はサージ
が印加された時は素早くドレイン。
The conventional input protection circuit is formed as described above, but in this circuit, the field transistor Q1 quickly drains when a surge is applied.

ソース間のチャネルをオンし、サージを逃すことが必要
で、フィールドトランジスタのチャネル域はできるだけ
大きくして内部へのサージの伝達をできるだけ防ぐこと
が必要である。しかるに、この入力保護回路は実際には
パターンレイアウト上大きな面積を必要とするために、
第2図に示す様にパッドの一辺部に相当する大きさのチ
ャネル3しか形成できなかった。またフィールドトラン
ジスタのゲートはすばやくオンする事が必要であるが、
実際にはドレイン2のN素層を通るためある時定数をも
っていた。
It is necessary to turn on the channel between the sources and release the surge, and it is necessary to make the channel area of the field transistor as large as possible to prevent the transmission of the surge to the inside as much as possible. However, this input protection circuit actually requires a large area due to the pattern layout.
As shown in FIG. 2, only a channel 3 having a size corresponding to one side of the pad could be formed. Also, it is necessary for the gate of the field transistor to turn on quickly.
Actually, it had a certain time constant because it passed through the N layer of drain 2.

この発明は上記の問題点を解消するためになされたもの
で、フィールドトランジスタのチャネル長をパターンレ
イアウト上入力保護回路自体の面積を大きくすることな
く大きくとれ、さらにフィールドトランジスタのゲート
を素早くオンできてサージ破壊に対して有効な入力保護
回路を得ることを目的としている。
This invention was made to solve the above problems, and it is possible to increase the channel length of the field transistor without increasing the area of the input protection circuit itself due to the pattern layout, and also to quickly turn on the gate of the field transistor. The purpose is to obtain an input protection circuit that is effective against surge damage.

C問題点を解決するための手段〕この発明に係る入力保護回路は、フィールドトランジス
タのチャネル領域をパッドの周囲に作成してパターンレ
イアウト上入力保護回路自体の面積増大を最小にしてチ
ャネル長を大きくでき、かつパッドの電極そのものをフ
ィールドトランジスタのゲート電極として使用できる構
造にしたものである。
Means for Solving Problem C] In the input protection circuit according to the present invention, the channel region of the field transistor is formed around the pad, and the channel length is increased while minimizing the increase in area of the input protection circuit itself in terms of pattern layout. In addition, the pad electrode itself can be used as a gate electrode of a field transistor.

〔作用〕[Effect]

この発明による入力保護回路では、フィールドトランジ
スタのチャネルがパッドの周囲にあるために大きなチャ
ネル長を取ることができ、がっパッド電極そのものをト
ランスファーゲートに使用しているので、サージが印加
された時にすばやくGNDに逃がし、内部ノードが破壊
するのを防止できる。
In the input protection circuit according to the present invention, since the channel of the field transistor is located around the pad, it can take a large channel length, and the pad electrode itself is used as the transfer gate, so when a surge is applied, It can be quickly released to GND to prevent internal nodes from being destroyed.

〔実施例〕〔Example〕

以下この発明の一実施例を図について説明する。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例による入力保護回路を示し、
図において、1はアルミニウムよりなる入−゛カパッド
、2はパッド10周辺部に形成されたN+層で、コンタ
クトホール5で入カパッドエに11気的につながれてい
て、フィールドトランジスタのドレインでもある。3は
入力パッド1の直下に位置するフィールドトランジスタ
のチャネル部分で、パッドの周囲を囲む様に形成されて
いる。4はフィールドトランジスタのソース域であり、
N素層で形成されている。7はGNDレベルのアルミ層
で、コンタクトホール6を介してソース4ON十層と電
気的につながっている。
FIG. 1 shows an input protection circuit according to an embodiment of the present invention,
In the figure, 1 is an input pad made of aluminum, and 2 is an N+ layer formed around the pad 10, which is electrically connected to the input pad 11 through a contact hole 5, and is also the drain of a field transistor. Reference numeral 3 denotes a channel portion of a field transistor located directly below the input pad 1, and is formed so as to surround the pad. 4 is the source region of the field transistor;
It is formed of an N layer. Reference numeral 7 denotes an aluminum layer at the GND level, which is electrically connected to the source 4ON layer through a contact hole 6.

本実施例のパターンレイアウトでは、パッド1にサージ
が入力されるとすぐにフィールドトランジスタがオンし
、チャネル長が長く、従って面積も大きいチャネル¥i
3を通してずばや(GND7に逃がされるので、内部ノ
ードの破壊を防止できる。
In the pattern layout of this embodiment, as soon as a surge is input to pad 1, the field transistor is turned on, and the channel length is long and therefore the area is large.
3 to Zubaya (GND7), so the destruction of the internal nodes can be prevented.

このように本実施例では、入力保護回路のフィールドト
ランジスタのチャネル領域をパッドを囲む形状にしたの
で、従来のものに比べて入力保護回路自体に大きな面積
を使う事なく大きなチャネルを有するフィールドトラン
ジスタを形成でき、さらにフィールドトランジスタのゲ
ートにパッド電極そのものを利用することにより、サー
ジ入力の際すばやくフィールドトランジスタをオンする
ようにすることができ、サージ入力による内部ノードの
破壊を防止できる。
In this way, in this embodiment, the channel region of the field transistor of the input protection circuit is shaped to surround the pad, so the field transistor with a large channel can be used without using a large area for the input protection circuit itself compared to the conventional one. Furthermore, by using the pad electrode itself for the gate of the field transistor, the field transistor can be quickly turned on when a surge is input, and damage to internal nodes due to surge input can be prevented.

なお上記実施例ではパッドを四角形のものとして説明し
たが、本発明はパッドが円形であってもよく、この場合
フィールドトランジスタ形状は、パッドの周囲を囲L・
円形ドーナツ状のチャネルを有する形状とすればよい。
In the above embodiment, the pad is described as having a rectangular shape, but in the present invention, the pad may be circular. In this case, the field transistor shape is formed by surrounding the pad with an L.
It may have a shape having a circular donut-shaped channel.

また」二記実施例ではフィールドトランジスタのチャネ
ル領域を四角のパッドの4辺を囲む様に形成したが、こ
れば少なくとも2辺以上を囲む構造であればよく、この
場合でも従来のものと比ベサージ入力に対して大きな効
果がある。
In addition, in the second embodiment, the channel region of the field transistor was formed so as to surround the four sides of the square pad, but it is sufficient if the channel region surrounds at least two sides. It has a big effect on the input.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明によれば、入力保護回路のフィ
ールドトランジスタのチャネル領域をパッドを囲む形状
にしたので、大きな面積を使う事なく大きなチャネルを
有するフィールドトランジスタを形成でき、さらにフィ
ールドトランジスタのゲートにパッド電極そのものを利
用したので、サージ入力の際すばやくフィールドトラン
ジスタをオンすることができ、よってサージ入力により
内部ノードが破壊されることに対して有効な入力保護回
路を実現できる。
As described above, according to the present invention, since the channel region of the field transistor of the input protection circuit is shaped to surround the pad, it is possible to form a field transistor having a large channel without using a large area. Since the pad electrode itself is used, the field transistor can be quickly turned on in the event of a surge input, thereby realizing an input protection circuit that is effective against damage to internal nodes due to surge input.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例による入力保護回路のパタ
ーンレイアウト図、第2図は従来の入力保護回路のパタ
ーンレイアウト図、第3図は入力保護回路の等価回路図
である。1は入力電極、2はフィールドトランジスタのドレイン
、3はフィールドトランジスタのチャネル、4はフィー
ルドトランジスタのソース、5゜6はコンタクトホール
、7はGNDレベルの導電層。なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a pattern layout diagram of an input protection circuit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a pattern layout diagram of a conventional input protection circuit, and FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the input protection circuit. 1 is an input electrode, 2 is a drain of a field transistor, 3 is a channel of a field transistor, 4 is a source of a field transistor, 5°6 is a contact hole, and 7 is a conductive layer at GND level. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts.

Claims (3)

Translated fromJapanese
【特許請求の範囲】[Claims](1)半導体集積回路におけるパッドの入力保護回路に
おいて、上記パッドの周囲を囲む形状に配置されたチャネル領域
を有するフィールドトランジスタからなることを特徴と
する入力保護回路。
(1) An input protection circuit for a pad in a semiconductor integrated circuit, comprising a field transistor having a channel region arranged to surround the pad.
(2)上記フィールドトランジスタのゲートが、上記パ
ッドの直下に形成された導電層からなることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の入力保護回路。
(2) The input protection circuit according to claim 1, wherein the gate of the field transistor is formed of a conductive layer formed directly under the pad.
(3)上記フィールドトランジスタのチャネル領域が、
パッド領域の少なくとも2辺以上の周囲を囲むように配
置されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項又
は第2項記載の入力保護回路。
(3) The channel region of the field transistor is
3. The input protection circuit according to claim 1, wherein the input protection circuit is arranged so as to surround at least two sides of the pad region.
JP60176332A1985-08-091985-08-09Input protecting circuitPendingJPS6236867A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication numberPriority datePublication dateAssigneeTitle
JPS63291470A (en)*1987-05-231988-11-29Ricoh Co LtdProtective circuit for semiconductor integrated circuit device
JPH0240960A (en)*1988-07-301990-02-09Nec CorpInput protecting circuit device
US5272371A (en)*1991-11-191993-12-21Sgs-Thomson Microelectronics, Inc.Electrostatic discharge protection structure
EP0590859A3 (en)*1992-09-281995-11-22Xerox CorpOffice environment level electrostatic discharge protection

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