【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は陰極線管パネルの
スカート部の内面に付着した不要な蛍光体を除去する陰
極線管パネルのスカート部洗浄装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for cleaning a skirt of a cathode ray tube panel which removes unnecessary phosphor adhered to an inner surface of a skirt of the cathode ray tube panel.
【０００２】[0002]
【従来の技術】陰極線管の蛍光面製造工程の蛍光体スラ
リー液塗布工程において、蛍光体スラリー液をキャリア
ヘッドに取り付けられた陰極線管パネルの内面に滴下
し、キャリアヘッドを回転することにより、陰極線管パ
ネルの内面に厚さの均一な蛍光体の膜が形成される。こ
こで陰極線管パネル内面に塗布された蛍光体は、後の露
光工程において、陰極線管の画面として必要な部分のみ
が紫外線露光により陰極線管パネルの内面に固着され
る。さらに露光工程後の現像工程において、露光工程で
陰極線管パネルの内面に固着されなかった蛍光体を洗い
流すことにより、蛍光面が形成される。ところで蛍光体
スラリー塗布工程においては、蛍光面が形成される陰極
線管パネルのフェイス部の内面以外に、陰極線管パネル
のスカート部の内面にも蛍光体スラリーが塗布されてし
まう。このスカート部の内面に塗布された蛍光体は不要
な蛍光体であり、通常は現像工程において同時に全て除
去する必要がある。不要な蛍光体が完全に除去しきれず
にスカート部の内面に付着したまま残存すると、後の製
造工程において陰極線管内にこの不要な蛍光体が剥がれ
落ち、耐圧不良等の原因となる。2. Description of the Related Art In a phosphor slurry liquid application step in a cathode ray tube phosphor screen manufacturing step, a phosphor slurry liquid is dropped on an inner surface of a cathode ray tube panel attached to a carrier head, and the carrier head is rotated to thereby form a cathode ray tube. A phosphor film having a uniform thickness is formed on the inner surface of the tube panel. Here, in the phosphor applied to the inner surface of the cathode ray tube panel, only a portion required as a screen of the cathode ray tube is fixed to the inner surface of the cathode ray tube panel by ultraviolet exposure in a subsequent exposure step. Further, in a development step after the exposure step, a phosphor screen that is not fixed to the inner surface of the cathode ray tube panel in the exposure step is washed away, thereby forming a phosphor screen. By the way, in the phosphor slurry applying step, the phosphor slurry is applied not only to the inner surface of the face portion of the cathode ray tube panel where the phosphor screen is formed but also to the inner surface of the skirt portion of the cathode ray tube panel. The phosphor applied to the inner surface of the skirt is an unnecessary phosphor, and usually needs to be removed at the same time in the developing step. If the unnecessary phosphor is not completely removed and remains attached to the inner surface of the skirt portion, the unnecessary phosphor is peeled off in the cathode ray tube in a later manufacturing process, causing a breakdown voltage failure or the like.
【０００３】図５は蛍光体膜を形成した陰極線管パネル
の断面図である。図５において、１は陰極線管パネル、
１０は蛍光体膜、１１は蛍光体膜１０の端部、１２は陰
極線管パネル１のスカート部である。蛍光体膜１０の端
部１１は、蛍光体スラリー液を陰極線管パネル１の内面
に展延させたとき、表面張力により膨らむので、端部１
１の断面は丸みを有するようになり、その結果他の部分
よりも膜厚が厚くなる。よって、この膜厚が厚くなった
端部１１は現像工程で完全に除去しきれずに、不要な蛍
光体としてスカート部１２の内面に付着したまま残存し
やすく、耐圧不良の原因になり易い部分である。FIG. 5 is a sectional view of a cathode ray tube panel on which a phosphor film is formed. In FIG. 5, 1 is a cathode ray tube panel,
Reference numeral 10 denotes a phosphor film, 11 denotes an end of the phosphor film 10, and 12 denotes a skirt of the cathode ray tube panel 1. The end portion 11 of the phosphor film 10 swells due to surface tension when the phosphor slurry liquid is spread on the inner surface of the cathode ray tube panel 1.
The cross section of 1 becomes rounded, so that the film thickness becomes thicker than other portions. Therefore, the end portion 11 having the increased thickness cannot be completely removed in the developing step, and is likely to remain as an unnecessary phosphor adhered to the inner surface of the skirt portion 12, and is likely to be a cause of a breakdown voltage failure. is there.
【０００４】図６は現像工程において用いられる従来の
陰極線管パネルのスカート部洗浄装置の側面図である。
図６において、図５と同一の符号を付したものは図５に
同一またはこれに相当するものである。図６において、
２は陰極線管パネル１を取り付けるキャリアヘッド、３
はキャリアヘッド２を回転駆動させる回転駆動手段であ
るモーター、４は洗浄ノズル、４ａは洗浄ノズル４の噴
射口、５は洗浄ノズル４より噴射された洗浄液である。
洗浄液５は陰極線管パネル１のスカート部１２の内面に
付着した不要な蛍光体を除去するためのものであり、こ
こでは現像工程における現像液を洗浄液５として用いた
例を説明する。洗浄ノズル４は噴射口４ａから霧状の洗
浄液５を噴射する（または噴霧する）。洗浄ノズル４は
陰極線管パネル１のスカート部１２の内面と間隔をおい
て配置してある。９は洗浄ノズル４の位置を固定し支持
するための支持手段である。図６の装置では、モーター
３により、陰極線管パネル１を取り付けたキャリアヘッ
ド２を回転させ、陰極線管パネル１のスカート部１２の
内面に固定式の洗浄ノズル４より噴霧される洗浄液５に
より、スカート部１２の内面に付着した不要な蛍光体膜
１０を除去する。FIG. 6 is a side view of a conventional apparatus for cleaning a skirt portion of a cathode ray tube panel used in a developing process.
In FIG. 6, components denoted by the same reference numerals as those in FIG. 5 are the same as or equivalent to those in FIG. In FIG.
2 is a carrier head for mounting the cathode ray tube panel 1, 3
Reference numeral denotes a motor which is a rotary driving means for driving the carrier head 2 to rotate, 4 denotes a cleaning nozzle, 4a denotes an ejection port of the cleaning nozzle 4, and 5 denotes a cleaning liquid injected from the cleaning nozzle 4.
The cleaning liquid 5 is for removing unnecessary phosphor adhered to the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1. Here, an example in which the developing liquid in the developing step is used as the cleaning liquid 5 will be described. The cleaning nozzle 4 sprays (or sprays) the mist-like cleaning liquid 5 from the spray port 4a. The cleaning nozzle 4 is arranged at a distance from the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1. Reference numeral 9 denotes support means for fixing and supporting the position of the cleaning nozzle 4. In the apparatus shown in FIG. 6, the carrier head 2 on which the cathode ray tube panel 1 is mounted is rotated by the motor 3, and the cleaning liquid 5 sprayed from the fixed cleaning nozzle 4 onto the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1 causes the skirt. The unnecessary phosphor film 10 attached to the inner surface of the portion 12 is removed.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の陰極線
管パネルのスカート部洗浄装置は、陰極線管パネル１の
平面形状が長方形であるため、キャリアヘッド２の回転
角度に応じて洗浄ノズル４の噴射口４ａと陰極線管パネ
ル１のスカート部１２の内面との距離が変化する。図７
は回転角により陰極線管パネル１のスカート部１２と洗
浄ノズル４との距離が変化することを説明するための図
である。図７（ａ）は洗浄ノズル４が陰極線管パネル１
の長辺の鉛直上方に位置した状態を示す図であり、図６
の装置を矢印Ａの方向から見たときの図である。図７
（ｂ）は洗浄ノズル４が陰極線管パネル１の短辺の鉛直
上方に位置した状態を示す図である。図７において、Ｓ
１は洗浄ノズル４の噴射口４ａと陰極線管パネル１の長
辺のスカート部１２の内面との間の距離、Ｓ２は洗浄ノ
ズル４の噴射口４ａと陰極線管パネル１の短辺のスカー
ト部１２の内面との間の距離を表す。陰極線管パネル１
は平面形状が長方形であるため、距離Ｓ１と距離Ｓ２と
は異なる値になる。図７に示した状態に限らず、洗浄ノ
ズル４と陰極線管パネル１のスカート部１２の内面との
間の距離はキャリアヘッド２の回転に応じて変化する。In the above-described conventional apparatus for cleaning a skirt portion of a cathode ray tube panel, since the plane shape of the cathode ray tube panel 1 is rectangular, the cleaning nozzle 4 is sprayed according to the rotation angle of the carrier head 2. The distance between the mouth 4a and the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1 changes. FIG.
FIG. 3 is a diagram for explaining that the distance between the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1 and the cleaning nozzle 4 changes depending on the rotation angle. FIG. 7A shows that the cleaning nozzle 4 is the cathode ray tube panel 1.
FIG. 6 is a view showing a state of being positioned vertically above a long side of FIG.
FIG. 2 is a diagram when the device is viewed from the direction of arrow A. FIG.
(B) is a diagram showing a state in which the cleaning nozzle 4 is positioned vertically above a short side of the cathode ray tube panel 1. In FIG. 7, S
Reference numeral 1 denotes a distance between the ejection port 4a of the cleaning nozzle 4 and the inner surface of the skirt portion 12 on the long side of the cathode ray tube panel 1, and S2 denotes the ejection port 4a of the cleaning nozzle 4 and the short side skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1. Represents the distance to the inner surface of Cathode ray tube panel 1
Since the plane shape is a rectangle, the distance S1 and the distance S2 have different values. The distance between the cleaning nozzle 4 and the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1 is not limited to the state shown in FIG.
【０００６】つまり、従来の陰極線管パネルのスカート
部洗浄装置は洗浄ノズル４の位置が固定されているた
め、洗浄ノズル４と陰極線管パネル１のスカート部１２
の内面との距離がキャリアヘッド２の回転に応じて周期
的に変化する。そのため、距離の長くなる部分と短くな
る部分で洗浄条件が異なり、完全に洗浄しきれず不要な
蛍光体が残留することがあるという問題がある。特に蛍
光体膜１０の端部１１はこの傾向が大きい。That is, in the conventional apparatus for cleaning a skirt of a cathode ray tube panel, since the position of the cleaning nozzle 4 is fixed, the cleaning nozzle 4 and the skirt 12 of the cathode ray tube panel 1 are fixed.
Is periodically changed in accordance with the rotation of the carrier head 2. Therefore, there is a problem that the cleaning conditions are different between the portion where the distance is longer and the portion where the distance is shorter, and there is a problem that the phosphor cannot be completely cleaned and an unnecessary phosphor remains. This tendency is particularly large at the end portion 11 of the phosphor film 10.
【０００７】この発明は上述のような問題を解決するた
めになされたもので、陰極線管パネルのスカート部の内
面に付着した不要な蛍光体をムラなく除去することので
きる陰極線管パネルのスカート部洗浄装置を得ることを
目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and a skirt portion of a cathode ray tube panel capable of uniformly removing unnecessary phosphor adhered to the inner surface of the skirt portion of the cathode ray tube panel. The purpose is to obtain a cleaning device.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】この発明に係る陰極線管
パネルのスカート部洗浄装置は、スカート部を有する陰
極線管パネルを保持するキャリアヘッド、キャリアヘッ
ドを回転駆動させる回転駆動手段、陰極線管パネルのス
カート部の内面に間隔をおいて配置され洗浄液を噴出す
る洗浄ノズルおよび、陰極線管パネルを保持した状態で
キャリアヘッドを回転させたとき、キャリアヘッドの回
転に応じて洗浄ノズルの位置を調整する位置調整手段を
備えたものである。A skirt portion cleaning apparatus for a cathode ray tube panel according to the present invention includes a carrier head for holding a cathode ray tube panel having a skirt portion, rotation driving means for driving and rotating the carrier head, and a cathode ray tube panel. A cleaning nozzle that is disposed at an interval on the inner surface of the skirt and that sprays a cleaning liquid, and a position that adjusts the position of the cleaning nozzle according to the rotation of the carrier head when the carrier head is rotated while holding the cathode ray tube panel. It is provided with adjusting means.
【０００９】この発明に係る陰極線管パネルのスカート
洗浄装置において、位置調整手段は洗浄ノズルの噴射口
と陰極線管パネルのスカート部の内面との距離が一定と
なるように洗浄ノズルの位置を調整するものである。In the apparatus for cleaning a skirt of a cathode ray tube panel according to the present invention, the position adjusting means adjusts the position of the cleaning nozzle so that the distance between the injection port of the cleaning nozzle and the inner surface of the skirt portion of the cathode ray tube panel is constant. Things.
【００１０】[0010]
実施の形態１．図１は実施の形態１の陰極線管パネルの
スカート部洗浄装置の側面図である。図１において、従
来のものと同一の符号を付したものは従来のものと同一
またはこれに相当するものである。図において、１は陰
極線管パネル、２は陰極線管パネル１を取り付けるキャ
リアヘッド、３はキャリアヘッド２を回転駆動させる回
転駆動手段であるモーター、４は下向きに取り付けられ
た洗浄ノズル、４ａは洗浄ノズル４の噴射口、５は洗浄
ノズル４から噴霧された洗浄液、６は洗浄ノズル４の位
置を変えるための位置調整手段である産業用ロボット、
７は回転するキャリアヘッド２の位置を検出する回転位
置検出手段、８はキャリアヘッド２に取り付けられた被
検出部材である。Embodiment 1 FIG. FIG. 1 is a side view of the apparatus for cleaning a skirt of a cathode ray tube panel according to the first embodiment. In FIG. 1, components denoted by the same reference numerals as those of the conventional device are the same as or equivalent to the conventional device. In the drawing, reference numeral 1 denotes a cathode ray tube panel, 2 denotes a carrier head for mounting the cathode ray tube panel 1, 3 denotes a motor which is a rotary driving means for driving the carrier head 2 to rotate, 4 denotes a cleaning nozzle mounted downward, and 4a denotes a cleaning nozzle. 4 is an injection port, 5 is a cleaning liquid sprayed from the cleaning nozzle 4, 6 is an industrial robot that is a position adjusting means for changing the position of the cleaning nozzle 4,
Reference numeral 7 denotes a rotational position detecting means for detecting the position of the rotating carrier head 2, and reference numeral 8 denotes a detected member attached to the carrier head 2.
【００１１】洗浄ノズル４は、噴射口４ａから洗浄液５
を噴霧する。洗浄ノズル４は陰極線管パネル１のスカー
ト部１２の内面と間隔をおいて配置してある。回転位置
検出手段７として例えば金属センサを用い、かつ被検出
部材８の材質を金属とすることにより、被検出部材８が
回転位置検出手段７に近接したとき出力をするものであ
る。産業用ロボット６は、キャリアヘッド２の回転に応
じて洗浄ノズル４とスカート部１２の内面との距離が変
化しないように洗浄ノズル４の位置を調整する。よっ
て、陰極線管パネル１のスカート部１２の内面に形成さ
れた不要な蛍光体１０をムラなく除去することができ
る。The cleaning nozzle 4 is provided with a cleaning liquid 5 from an injection port 4a.
Spray. The cleaning nozzle 4 is arranged at a distance from the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1. For example, a metal sensor is used as the rotation position detection means 7 and the material of the detection target member 8 is made of metal, so that an output is made when the detection target member 8 approaches the rotation position detection means 7. The industrial robot 6 adjusts the position of the cleaning nozzle 4 so that the distance between the cleaning nozzle 4 and the inner surface of the skirt portion 12 does not change according to the rotation of the carrier head 2. Therefore, the unnecessary phosphor 10 formed on the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1 can be uniformly removed.
【００１２】図２および図３は実施の形態１による陰極
線管パネルのスカート部洗浄装置の動作を説明するため
の図であり、図１の陰極線管パネルのスカート部洗浄装
置を矢印Ｂの方向から見たときの図である。図２および
図３において、図を分かりやすくするために産業用ロボ
ット６を図示するのを省略している。図２および図３に
おいて、Ｓ１は洗浄ノズル４の噴射口４ａから噴射する
洗浄液（図示せず）の噴射方向における洗浄ノズル４の
噴射口４ａから陰極線管パネル１のスカート部１２の内
面までの距離をあらわす。また、２ａは陰極線管パネル
１の長辺のスカート部１２の内面の長さ、２ｂは陰極線
管パネル１の短辺のスカート部１２の内面の長さを表
す。図２は被検出部材８が回転位置検出手段７に近接し
たときの状態を示す図である。回転位置検出手段７は被
検出部材８が近接したときに出力するように構成してい
る。よって、キャリアヘッド２の１回転につき１回出力
する。回転位置検出手段７が被検出部材８を検出したと
きを基準位置として、産業用ロボット６は所定の動作を
行う。FIGS. 2 and 3 are views for explaining the operation of the apparatus for cleaning a skirt portion of a cathode ray tube panel according to the first embodiment. FIG. 2 and 3, the illustration of the industrial robot 6 is omitted for easy understanding. 2 and 3, S1 is the distance from the jet 4a of the cleaning nozzle 4 to the inner surface of the skirt 12 of the cathode ray tube panel 1 in the jetting direction of the cleaning liquid (not shown) jetted from the jet 4a of the cleaning nozzle 4. To represent. 2a represents the length of the inner surface of the long side skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1, and 2b represents the length of the inner surface of the short side skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1. FIG. 2 is a diagram showing a state when the detected member 8 approaches the rotational position detecting means 7. The rotation position detecting means 7 is configured to output when the detected member 8 approaches. Therefore, the output is performed once per rotation of the carrier head 2. The industrial robot 6 performs a predetermined operation with the time when the rotational position detecting means 7 detects the detected member 8 as a reference position.
【００１３】産業用ロボット６は洗浄ノズル４の噴射口
４ａから噴射する洗浄液（図示せず）の噴射方向におけ
る洗浄ノズル４の噴射口４ａから陰極線管パネル１のス
カート部１２の内面までの距離Ｓ１をキャリアヘツド２
の回転に応じて調整する。具体的には例えば産業用ロボ
ット６は、洗浄ノズル４の噴射口４ａと陰極線管パネル
１のスカート部１２の内面との距離Ｓ１が一定となるよ
うに洗浄ノズル４の位置を調整する。The industrial robot 6 has a distance S1 from the jet 4a of the cleaning nozzle 4 to the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1 in the jetting direction of the cleaning liquid (not shown) jetted from the jet 4a of the cleaning nozzle 4. The carrier head 2
Adjust according to the rotation of. Specifically, for example, the industrial robot 6 adjusts the position of the cleaning nozzle 4 so that the distance S1 between the injection port 4a of the cleaning nozzle 4 and the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1 is constant.
【００１４】この動作は例えばキャリアヘッド２の回転
の単位角度（例えば１０度）毎に噴射口４ａの位置を設
定しておき、単位角度毎に噴射口４ａの位置を産業用ロ
ボット６が調整することにより実現できる。キャリアヘ
ッド２は一定の角速度で回転しているので、単位角度毎
に設定されたポイント間を洗浄ノズル４の噴射口４ａが
移動するのに要する時間と単位角度だけキャリアヘッド
２が回転するのに要する時間が一致するように産業用ロ
ボット６の動作速度を設定する必要がある。回転位置検
出手段７が被検出部材８を検出するしたときを基準位置
として、産業用ロボット６の動作を制御することによ
り、距離Ｓ１が常に一定となるようにすることができ
る。In this operation, for example, the position of the injection port 4a is set for each unit angle (for example, 10 degrees) of the rotation of the carrier head 2, and the industrial robot 6 adjusts the position of the injection port 4a for each unit angle. This can be achieved by: Since the carrier head 2 is rotating at a constant angular velocity, the time required for the injection port 4a of the cleaning nozzle 4 to move between the points set for each unit angle and the carrier head 2 rotating by the unit angle are required. It is necessary to set the operation speed of the industrial robot 6 so that the required times match. By controlling the operation of the industrial robot 6 with the rotation position detecting means 7 detecting the detected member 8 as a reference position, the distance S1 can always be kept constant.
【００１５】図４は回転角θと洗浄ノズル４の噴射口４
ａの位置との関係を示す一例である。図４において、横
軸はキャリアヘッド２の回転角θ、縦軸は洗浄ノズル４
の噴射口４ａの位置である。図４において、洗浄ノズル
４の噴射口４ａが陰極線管パネル１の長辺のスカート部
１２の内面の鉛直上方に位置するときの回転角（図２に
示した状態）を０とし、このときの洗浄ノズル４の噴射
口４ａの位置を基準位置（つまり０）とする。縦軸は洗
浄ノズル４の噴射口４ａが上昇する方向を正方向に取っ
ている。FIG. 4 shows the rotation angle θ and the injection port 4 of the cleaning nozzle 4.
It is an example showing the relationship with the position of a. 4, the horizontal axis represents the rotation angle θ of the carrier head 2 and the vertical axis represents the cleaning nozzle 4.
Of the injection port 4a. In FIG. 4, the rotation angle (the state shown in FIG. 2) when the injection port 4a of the cleaning nozzle 4 is positioned vertically above the inner surface of the skirt portion 12 on the long side of the cathode ray tube panel 1 is set to 0. The position of the injection port 4a of the cleaning nozzle 4 is set as a reference position (that is, 0). The vertical axis indicates the forward direction in which the injection port 4a of the cleaning nozzle 4 rises.
【００１６】また、θ１はキャリアヘッド２が（１８０
／π）tan-1(a/b)（度）回転したときの角度を表す。キ
ャリアヘッド２がθ１（度）、９０＋θ１（度）回転し
たとき、基準位置からの下降量が最も大きくなるのが分
かる。また、回転角θが０（度）から１８０（度）の時
の回転角θと洗浄ノズル４の噴射口４ａの位置との関係
を周期的に繰り返すため、回転角θが１８０（度）から
３６０（度）の時の回転角θと洗浄ノズル４の噴射口４
ａの位置との関係を図示するのを省略する。図４に示す
ように産業用ロボット６の先端に取り付けられた洗浄ノ
ズル４の噴射口４ａは回転角θの変化に応じて周期的に
その位置が変化する。Further, θ1 is (180
/ Π) tan-1 (a / b) (degree) represents the angle when rotated. When the carrier head 2 rotates by θ1 (degrees) and 90 + θ1 (degrees), it can be seen that the descending amount from the reference position is the largest. Further, since the relationship between the rotation angle θ when the rotation angle θ is 0 (degrees) to 180 (degrees) and the position of the injection port 4a of the cleaning nozzle 4 is periodically repeated, the rotation angle θ is changed from 180 (degrees). Rotation angle θ at 360 (degrees) and injection port 4 of cleaning nozzle 4
Illustration of the relationship with the position a is omitted. As shown in FIG. 4, the position of the injection port 4a of the cleaning nozzle 4 attached to the tip of the industrial robot 6 changes periodically according to the change of the rotation angle θ.
【００１７】この実施の形態では、洗浄ノズル４の噴射
口４ａは陰極線管パネル１のスカート部１２の内面に非
接触で、かつ一定の距離を保つことができるので、洗浄
ノズル４とスカート部１２の内面との間の距離の変化に
起因する洗浄条件の変化が無くなり、洗浄条件が一定と
なり、不要な蛍光体をムラなく除去することができる。In this embodiment, since the injection nozzle 4a of the cleaning nozzle 4 can keep a constant distance without contacting the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1, the cleaning nozzle 4 and the skirt portion 12 can be maintained. The change in the cleaning conditions caused by the change in the distance to the inner surface of the substrate is eliminated, the cleaning conditions become constant, and unnecessary phosphors can be uniformly removed.
【００１８】この実施の形態では位置調整手段の一例と
して産業用ロボット６を用いた例について説明したが必
ずしもこれに限定されるものではなく、キャリアヘッド
２の回転に応じて洗浄ノズル４の噴射口４ａと陰極線管
パネル１のスカート部１２の内面との間の距離を調節で
きるようなものであればよい。In this embodiment, an example in which the industrial robot 6 is used as an example of the position adjusting means has been described. However, the present invention is not necessarily limited to this, and the injection port of the cleaning nozzle 4 is rotated according to the rotation of the carrier head 2. What is necessary is just to be able to adjust the distance between 4a and the inner surface of the skirt portion 12 of the cathode ray tube panel 1.
【００１９】[0019]
【発明の効果】この発明に係る陰極線管パネルのスカー
ト部洗浄装置によれば、陰極線管パネルを保持した状態
でキャリアヘッドを回転させたとき、キャリアヘッドの
回転に応じて洗浄ノズルの位置を調整する位置調整手段
を備えたので、陰極線管パネルのスカート部の内面に付
着した不要な蛍光体をムラなく除去することができる。According to the apparatus for cleaning a skirt portion of a cathode ray tube panel according to the present invention, when the carrier head is rotated while holding the cathode ray tube panel, the position of the cleaning nozzle is adjusted according to the rotation of the carrier head. Since the position adjusting means is provided, unnecessary phosphor adhered to the inner surface of the skirt portion of the cathode ray tube panel can be uniformly removed.
【００２０】この発明に係る陰極線管パネルのスカート
部洗浄装置によれば、位置調整手段は洗浄ノズルの噴射
口と陰極線管パネルのスカート部の内面との距離が一定
となるように洗浄ノズルの位置を調整するので洗浄条件
が常に一定となり、陰極線管パネルのスカート部の内面
に付着した不要な蛍光体をムラなく除去することができ
る。According to the apparatus for cleaning a skirt portion of a cathode ray tube panel according to the present invention, the position adjusting means adjusts the position of the cleaning nozzle so that the distance between the ejection port of the cleaning nozzle and the inner surface of the skirt portion of the cathode ray tube panel becomes constant. Is adjusted, the washing conditions are always constant, and unnecessary phosphors adhered to the inner surface of the skirt portion of the cathode ray tube panel can be uniformly removed.
【図１】 実施の形態１の陰極線管パネルのスカート部
洗浄装置を説明するための図である。FIG. 1 is a diagram for explaining a skirt portion cleaning apparatus for a cathode ray tube panel according to a first embodiment.
【図２】 実施の形態１の陰極線管パネルのスカート部
洗浄装置の動作を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of the apparatus for cleaning a skirt portion of a cathode ray tube panel according to the first embodiment;
【図３】 実施の形態１の陰極線管パネルのスカート部
洗浄装置の動作を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the apparatus for cleaning a skirt portion of a cathode ray tube panel according to the first embodiment;
【図４】 実施の形態１の陰極線管パネルのスカート部
洗浄装置において、陰極線管パネルの回転角と洗浄ノズ
ルの移動量との関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the rotation angle of the cathode ray tube panel and the amount of movement of the washing nozzle in the apparatus for cleaning a skirt portion of a cathode ray tube panel according to the first embodiment;
【図５】 陰極線管パネルの断面図である。FIG. 5 is a sectional view of a cathode ray tube panel.
【図６】 従来の陰極線管パネルのスカート部洗浄装置
を説明するための図である。FIG. 6 is a view for explaining a conventional apparatus for cleaning a skirt portion of a cathode ray tube panel.
【図７】 従来の陰極線管パネルのスカート部洗浄装置
において、陰極線管パネルと洗浄ノズルとの位置関係を
説明するための図である。FIG. 7 is a view for explaining a positional relationship between a cathode ray tube panel and a washing nozzle in a conventional apparatus for cleaning a skirt portion of a cathode ray tube panel.
１ 陰極線管パネル ２ キャリアヘッ
ド ３ モーター ４ 洗浄ノズル ４ａ 噴射口 ５ 洗浄液 ６ 産業用ロボット ７ 回転位置検出
手段 ８ 被検出部材 ９ 支持手段 １０ 蛍光体膜 １１ 端部 １２ スカート部DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cathode ray tube panel 2 Carrier head 3 Motor 4 Cleaning nozzle 4a Injection port 5 Cleaning liquid 6 Industrial robot 7 Rotational position detecting means 8 Detected member 9 Supporting means 10 Phosphor film 11 End part 12 Skirt part
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5625397AJPH10255659A (en) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | Skirt cleaning device for cathode ray tube panel |
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5625397AJPH10255659A (en) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | Skirt cleaning device for cathode ray tube panel |
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10255659Atrue JPH10255659A (en) | 1998-09-25 |
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5625397APendingJPH10255659A (en) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | Skirt cleaning device for cathode ray tube panel |
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10255659A (en) |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6410360B1 (en) | 1999-01-26 | 2002-06-25 | Teledyne Industries, Inc. | Laminate-based apparatus and method of fabrication |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6410360B1 (en) | 1999-01-26 | 2002-06-25 | Teledyne Industries, Inc. | Laminate-based apparatus and method of fabrication |
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08316190A (en) | Substrate treatment apparatus | |
| KR100283443B1 (en) | Developing apparatus and developing method | |
| EP0653683A1 (en) | Oscillatory chuck method and apparatus for coating flat substrates | |
| KR100283442B1 (en) | Developing apparatus and developing method | |
| JP5317504B2 (en) | Developing apparatus and developing method | |
| JP2002143749A (en) | Rotary coater | |
| JP3189087B2 (en) | Processing device and processing method | |
| JPH10255659A (en) | Skirt cleaning device for cathode ray tube panel | |
| JPH10137664A (en) | Rotating type substrate treatment device and treatment method thereof | |
| JPH11244760A (en) | Substrate treating device | |
| JP2854213B2 (en) | Cleaning equipment | |
| JPH09122558A (en) | Spin coater | |
| JP2983480B2 (en) | Spin processing device | |
| JP3277278B2 (en) | Processing device and processing method | |
| KR20140148162A (en) | Apparatus for treating substrate | |
| JP3126878B2 (en) | Substrate backside cleaning device | |
| JP3361872B2 (en) | Substrate cleaning equipment | |
| JPH10309509A (en) | Rotary substrate treating device and substrate treating method | |
| JP4950748B2 (en) | Coating method and coating apparatus | |
| JPH118192A (en) | Treatment equipment and treatment method | |
| JPH09122560A (en) | Spin coater | |
| JP4011040B2 (en) | Developing apparatus and developing method | |
| JPH05234868A (en) | Spin coater | |
| JP3242484B2 (en) | Glass substrate drying equipment | |
| JP4364744B2 (en) | Etching apparatus and etching method |