【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光照射を受けると硬化
する液（これを光硬化性液という）を用いて、３次元の
物体を造形する装置（これを光硬化造形装置という）に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for molding a three-dimensional object (this is called a photo-curing / molding device) using a liquid that cures when irradiated with light (this is called a photo-curable liquid). .
【０００２】[0002]
【従来の技術】図４に示すように、タンクＢ中に光硬化
性液Ａを貯留しておき、エレベータＦを浅いところに位
置決めした状態で液面の必要な領域にのみ光照射をする
と、光照射された領域の光硬化性液Ａが硬化し、硬化層
Ａ１はエレベータＦ１に密着する（ａ参照）。次にエレ
ベータＦを一層分沈めると、硬化層Ａ１のうえに未硬化
の光硬化性液Ａが積層され（ｂ参照）、この状態で新た
な領域を光照射すると、光照射された領域の光硬化性液
Ａが硬化し、新たな硬化層Ａ２がもとの硬化層Ａ１に積
層される。これを繰返すことにより、硬化層Ａ１，Ａ２
…が積層された硬化物を造形する技術が開発されてお
り、その詳細は特開昭５６−１４４４７８号公報に開示
されている。2. Description of the Related Art As shown in FIG. 4, when a photocurable liquid A is stored in a tank B and an elevator F is positioned at a shallow place, light is irradiated only on a necessary area of the liquid surface. The photocurable liquid A in the area irradiated with light is cured, and the cured layer A1 is in close contact with the elevator F1 (see a). Next, when the elevator F is further submerged, the uncured photocurable liquid A is laminated on the cured layer A1 (see b), and when a new area is irradiated with light in this state, the light in the irradiated area is irradiated. The curable liquid A is cured, and a new cured layer A2 is laminated on the original cured layer A1. By repeating this, the cured layers A1 and A2
A technique for forming a cured product in which ... Is laminated has been developed, and the details thereof are disclosed in JP-A-56-144478.
【０００３】近年この技術が実用化されるに伴い造形精
度に対する要求が厳しくなり、光硬化性液の液位を一定
に保ちたいとする要求が強くなっている。液位が一定し
ないと硬化層Ａ１，Ａ２…の厚みが安定せず、造形精度
が低下するためである。そこで図５に模式的に示されて
いるように、タンクＢの壁の上縁Ｂ１からオーバーフロ
ーする液を第１回収路Ｃで回収して補助タンクＧに集
め、この液をポンプＰで汲上げて第２回収路Ｄからタン
クＢに戻す方法が提案されている。With the practical use of this technique in recent years, the demand for modeling accuracy has become strict, and the demand for keeping the liquid level of the photocurable liquid constant has become stronger. This is because if the liquid level is not constant, the thickness of the hardened layers A1, A2 ... Is not stable and the modeling accuracy is reduced. Therefore, as schematically shown in FIG. 5, the liquid overflowing from the upper edge B1 of the wall of the tank B is collected in the first recovery passage C and collected in the auxiliary tank G, and this liquid is pumped up by the pump P. A method for returning the second recovery path D to the tank B has been proposed.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかるに図５の方法は
重要な問題点を残している。図６(a)(b)はタンクＢのオ
ーバーフロー部Ｂ２を示すものである。図６(a) はオー
バーフロー部の長さを比較的長くとった場合であり、こ
の場合オーバーフロー部Ｂ２の壁の上縁Ｂ１を厳密に水
平とすることが困難である。このため、ポンプＰからの
回収量が少いときはタンクＢ内の液位がＬ１に示すよう
に低くなり、一方ポンプＰからの回収量が多いときには
タンクＢ内の液位がＬ２に示すように高くなる。図６
(b) はこれを避けるために、オーバーフロー部Ｂ１の幅
を小さくした場合であるが、この場合にもポンプＰから
の回収量の大小によって液位はＬ３〜Ｌ４のように変動
してしまう。However, the method of FIG. 5 still has an important problem. FIGS. 6A and 6B show the overflow section B2 of the tank B. FIG. 6A shows a case where the length of the overflow portion is relatively long, and in this case, it is difficult to make the upper edge B1 of the wall of the overflow portion B2 strictly horizontal. Therefore, when the amount of recovery from the pump P is small, the liquid level in the tank B becomes low as shown by L1, while when the amount of recovery from the pump P is large, the liquid level in the tank B is shown as L2. Become higher. Figure 6
(b) shows the case where the width of the overflow portion B1 is made small in order to avoid this, but in this case as well, the liquid level fluctuates like L3 to L4 depending on the amount of recovery from the pump P.
【０００５】ポンプＰからの回収量を一定に保つことは
実際上難しい。例えば電源電圧が変動すると回収量も変
化する。ポンプや流路に泡や異物等が混入すれば当然に
回収量も変化する。また通常のポンプは吐出量が脈動
し、脈動のないポンプを選ぶことは難しい。また光硬化
性液の粘性が変化すると吐出量も変化する。このように
なんらかの原因でポンプＰからの吐出量が変化すると、
結果的にタンクＢ内の液位も変動してしまう。今日硬化
層の一層あたりの厚みが０．２〜０．０１mm程度で実施
されており、液位の変動はそれよりも１桁程度小さい幅
内に抑える必要がある。そのため、上記の問題点は大変
重要であり、決して無視できなくなっている。そこで本
発明は上述の問題点を解決することに主題を置くもので
あり、そのために回収量（インフロー）を安定化させよ
うとするものである。It is practically difficult to keep the amount of recovery from the pump P constant. For example, if the power supply voltage changes, the recovery amount also changes. If bubbles, foreign substances, etc. are mixed in the pump or the flow path, the recovery amount will naturally change. Moreover, the discharge amount of a normal pump pulsates, and it is difficult to select a pump without pulsation. Further, when the viscosity of the photocurable liquid changes, the ejection amount also changes. In this way, if the discharge amount from the pump P changes for some reason,
As a result, the liquid level in the tank B also changes. Today, the thickness of each cured layer is about 0.2 to 0.01 mm, and the fluctuation of the liquid level needs to be suppressed within a width smaller by about one digit than that. Therefore, the above problems are very important and cannot be ignored. Therefore, the present invention is directed to solving the above-mentioned problems, and therefore aims to stabilize the recovery amount (inflow).
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】そのために、本発明では
図１(a)(b)に例示されるようなインフロースタビライザ
ー付光硬化造形装置を創り出した。このインフロースタ
ビライザー付光硬化造形装置は、光硬化性液Ａを貯留し
ておくメインタンクＢと前記メインタンクＢの上縁Ｂ１
からオーバーフローする液Ａを集めてポンプＰに導く第
１回収路Ｃと前記ポンプＰから送られる液Ａをサブタン
クＥに導く第２回収路Ｄとを備えている。前記サブタン
クＥはオーバーフロー用の壁Ｅ２とその壁Ｅ２の上縁Ｅ
１よりも下方に位置するサプライ用開孔Ｅ３とを備え、
前記オーバーフロー用の壁Ｅ２の上縁Ｅ１は前記メイン
タンクＢ内の液面よりも上方に設けられているとともに
前記第１回収路Ｃに連通しており、前記サプライ用開孔
Ｅ３は前記メインタンクＢに連通している。ここで第１
回収路Ｃはオーバーフロー液の回収用樋Ｃ１とそれに続
くパイプＣ２で構成されたり、あるいはポンプＰ自体を
樋中に沈めた場合には樋のみで構成することができる。
また樋はメインタンクＢの全周を囲んでいてもよく、あ
るいは壁の一部が低くなっていれば低くなっているとこ
ろにのみ配置されていてもよい。さらにサプライ用開孔
Ｅ３はメインタンクＢ内の液位より高くても低くてもよ
い。Therefore, in the present invention, a photo-curing molding apparatus with an inflow stabilizer as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b) was created. This photocuring modeling apparatus with an inflow stabilizer has a main tank B that stores a photocurable liquid A and an upper edge B1 of the main tank B.
A first recovery passage C for collecting the liquid A overflowing from the pump and guiding it to the pump P and a second recovery passage D for guiding the liquid A sent from the pump P to the sub tank E are provided. The sub-tank E includes a wall E2 for overflow and an upper edge E of the wall E2.
A supply opening E3 located below 1;
An upper edge E1 of the overflow wall E2 is provided above the liquid level in the main tank B and communicates with the first recovery passage C, and the supply opening E3 is provided in the main tank. It communicates with B. Here first
The recovery passage C can be composed of a gutter C1 for collecting the overflow liquid and a pipe C2 following it, or can be composed of only a gutter when the pump P itself is submerged in the gutter.
Further, the gutter may surround the entire circumference of the main tank B, or may be arranged only where the wall is lowered if a part of the wall is lowered. Further, the supply opening E3 may be higher or lower than the liquid level in the main tank B.
【０００７】[0007]
【作用】この装置によると、メインタンクＢへの回収量
はサブタンクＥ内の液位によって決まることになり、こ
の液位はオーバーフロー用の壁Ｅ２によって安定化され
ている。そこでメインタンクＢへの回収量は常時一定と
なり、メインタンク内の液位は安定化する。According to this device, the amount recovered in the main tank B is determined by the liquid level in the sub tank E, and this liquid level is stabilized by the overflow wall E2. Therefore, the amount recovered in the main tank B is always constant, and the liquid level in the main tank is stabilized.
【０００８】[0008]
（第１実施例）図２を参照して、第１実施例について説
明する。図中ｂはメインタンクを示し、ここに光硬化性
液ａが貯留される。メインタンクｂ内にはエレベータｆ
が上下方向に移動可能となっている。またメインタンク
ｂの上方には図示されていないガルバノミラーが配置さ
れており、図示しないレーザ発振器からのレーザ光をメ
インタンクｂ内の液面の任意の位置に集光して照射する
ことができる。(First Embodiment) The first embodiment will be described with reference to FIG. In the figure, b indicates a main tank in which the photocurable liquid a is stored. An elevator f is installed in the main tank b.
Can be moved up and down. Further, a galvano mirror (not shown) is arranged above the main tank b, and laser light from a laser oscillator (not shown) can be condensed and irradiated at an arbitrary position on the liquid surface in the main tank b. .
【０００９】メインタンクｂの上縁に沿って樋状に有底
の枠ｃ１が取囲んでいる。この有底枠ｃ１にメインタン
クｂの壁の上縁のうちの最も低い部分ｂ１をオーバーフ
ローする液が回収される。有底枠ｃ１の底面ｃ３は僅か
に傾斜しており、その最も低い部分に窪みｃ４が形成さ
れている。窪みｃ４の底にはパイプｃ２が連通してお
り、窪みｃ４内に溜った液はパイプｃ２に流れこむこと
ができるようになっている。パイプｃ２はポンプｐの吸
入口に取付けられており、ポンプｐの吐出口にはパイプ
ｄが取付けられている。パイプｄはサブタンクｅに達
し、サブタンクｅの上方にポンプｐから圧送される光硬
化性液を導く。A gutter-shaped bottomed frame c1 surrounds the upper edge of the main tank b. The liquid which overflows the lowest portion b1 of the upper edge of the wall of the main tank b is collected in the bottomed frame c1. A bottom surface c3 of the bottomed frame c1 is slightly inclined, and a recess c4 is formed in the lowest portion thereof. A pipe c2 communicates with the bottom of the recess c4, and the liquid accumulated in the recess c4 can flow into the pipe c2. The pipe c2 is attached to the suction port of the pump p, and the pipe d is attached to the discharge port of the pump p. The pipe d reaches the sub tank e, and guides the photo-curable liquid pumped from the pump p above the sub tank e.
【００１０】サブタンクｅはメインタンクｂの上方でか
つレーザ光による液面照射を妨げない位置に図示しない
ブラケットによって固定されている。サブタンクｅの横
壁ｅ２に開孔ｅ１が設けられており、サブタンクｅへの
液供給量が増えても液位が開孔ｅ１以上にならないよう
にしている。開孔ｅ１からあふれ出た液はパイプ１によ
って前記した窪みｃ４に戻される。またサブタンクｅの
底面近くにサプライ用開孔ｅ３が設けられており、この
サプライ用開孔ｅ３からサプライされる液はパイプ２介
してメインタンクｂ内に戻される。The sub tank e is fixed by a bracket (not shown) above the main tank b and at a position where it does not interfere with the liquid level irradiation by the laser light. An opening e1 is provided in the lateral wall e2 of the sub tank e so that the liquid level does not exceed the opening e1 even if the liquid supply amount to the sub tank e increases. The liquid overflowing from the opening e1 is returned to the above-mentioned recess c4 by the pipe 1. A supply opening e3 is provided near the bottom surface of the sub tank e, and the liquid supplied from the supply opening e3 is returned to the main tank b through the pipe 2.
【００１１】樋状の有底枠ｃ１内には窪みｃ４を取囲む
ように、孔３ａが多数開けられた第１フィルタ３が着脱
可能となっている。また窪みｃ４には網状の第２フィル
タ４が着脱可能となっている。さらにサブタンクｅの上
縁に網状の第３フィルタ５が着脱可能となっている。In the gutter-shaped bottomed frame c1, a first filter 3 having a large number of holes 3a formed therein is detachable so as to surround the recess c4. The mesh-shaped second filter 4 can be attached to and detached from the recess c4. Further, the net-shaped third filter 5 is attachable to and detachable from the upper edge of the sub tank e.
【００１２】またサブタンクｅの底面近くに図示されて
いるｅ４，ｅ５はサプライ量の増量用の開孔であり、必
要がなければ栓がされている。一方、サブタンクｅから
大量の液をメインタンクｂにサプライし、メインタンク
ｂから大量の液をオーバーフローさせることによってメ
インタンクｂ内の液位を保つ必要のある場合には栓を取
り外してパイプ２を取付ける。Further, e4 and e5 shown near the bottom surface of the sub tank e are openings for increasing the supply amount, and they are plugged if not necessary. On the other hand, when it is necessary to maintain a liquid level in the main tank b by supplying a large amount of liquid from the sub-tank e to the main tank b and causing a large amount of liquid to overflow from the main tank b, remove the plug and remove the pipe 2 Install.
【００１３】次のこの装置の使用方法を説明する。まず
メインタンクｂに光硬化性液を供給し、上縁ｂ１からオ
ーバーフローさせ、オーバーフローした液をポンプｐで
サブタンクｅに供給する。サブタンクｅのサプライ用開
孔ｅ３からメインタンクｂに戻される液量に比してポン
プｐの吐出量は１桁程度大きく設定されている。このた
めサブタンクｅ内の液位は上昇し、オーバーフロー用開
孔ｅ１から溢れ出す。ここでオーバーフロー用開孔ｅ１
の断面積は大きく、ポンプｐの吐出量以上をオーバーフ
ローさせることができる。Next, a method of using this device will be described. First, the photocurable liquid is supplied to the main tank b, overflowed from the upper edge b1, and the overflowed liquid is supplied to the sub tank e by the pump p. The discharge amount of the pump p is set to be about one digit larger than the liquid amount returned to the main tank b from the supply hole e3 of the sub tank e. Therefore, the liquid level in the sub tank e rises and overflows from the overflow opening e1. Here, the overflow opening e1
Has a large cross-sectional area and can overflow more than the discharge amount of the pump p.
【００１４】このためメインタンクｂ内の液位は上縁ｂ
１に一致するａ１となり、サブタンクｅ内の液位はオー
バーフロー用開孔ｅ１に一致するａ２となる。そして樋
ｃ１内の液位が図示ａ４となるまで光硬化性液を供給
し、ここで供給を停止する。光硬化性液の供給を停止し
た後もポンプｐを動かし続ければ、各液位は前記したａ
１，ａ２，ａ４に維持される。Therefore, the liquid level in the main tank b is the upper edge b.
The liquid level in the sub-tank e is a2 that matches 1 and the liquid level in the sub-tank e is a2 that matches the overflow opening e1. Then, the photocurable liquid is supplied until the liquid level in the trough c1 becomes a4 in the figure, and the supply is stopped here. If the pump p is continuously operated even after the supply of the photocurable liquid is stopped, each liquid level will be a as described above.
1, a2 and a4 are maintained.
【００１５】このような状態で光造形工程を実施し、エ
レベータｆが沈降してゆくと、エレベータの支持枠ｆ１
のうち液中に沈む体積が増大する。しかしながらこのよ
うになってもサブタンクｅ内の液位はａ２に維持され、
従って開孔ｅ３を介してメインタンクｂに回収される液
量も一定となり、メインタンクｂ内の液位は正確にａ１
に維持される。なおエレベータ支持枠ｆ１の液中への浸
入に呼応して枠ｃ１内の液位がａ４からａ３に上昇する
が、枠ｃ１内の液位の変動はサブタンクｅ内の液位に全
く影響せず、結局メインタンクｂ内の液位にも影響しな
い。When the stereolithography process is performed in this state and the elevator f sinks, the elevator support frame f1
Of these, the volume that submerges in the liquid increases. However, even in this case, the liquid level in the sub tank e is maintained at a2,
Therefore, the amount of liquid collected in the main tank b through the opening e3 is also constant, and the liquid level in the main tank b is exactly a1.
Maintained at. The liquid level in the frame c1 rises from a4 to a3 in response to the entry of the elevator support frame f1 into the liquid, but the fluctuation of the liquid level in the frame c1 does not affect the liquid level in the sub tank e at all. After all, it does not affect the liquid level in the main tank b either.
【００１６】また光硬化性液ａに温度変化が生じ、液の
体積が収縮したとしても、その影響は枠ｃ１内の液位に
表れるのみで、サブタンクｅ内の液位やメインタンクｂ
内の液位に全く影響しない。さらにまた、サプライ用開
孔ｅ３からの液量は、サブタンクｅ内の液位ａ２とメイ
ンタンクｂ内の液位ａ１の差によって決まり、ポンプｐ
の吐出量とは切り離されている。従ってポンプｐに脈動
があっても、その影響はメインタンクｂへのリターン量
に影響せず、メインタンクｂ内の液位が脈動することも
ない。また電源電圧の変動、泡や異物の混入、粘性の変
化、ポンプ効率の経年的変化等、なんらかの理由によっ
てポンプｐからの吐出量が変動しても、それによってメ
インタンクｂ内の液位が変動することはない。Further, even if the temperature of the photocurable liquid a changes and the volume of the liquid shrinks, the effect thereof only appears in the liquid level in the frame c1, and the liquid level in the sub tank e and the main tank b.
It has no effect on the liquid level inside. Furthermore, the liquid volume from the supply opening e3 is determined by the difference between the liquid level a2 in the sub tank e and the liquid level a1 in the main tank b, and the pump p
Is separated from the discharge amount of. Therefore, even if the pump p has a pulsation, its influence does not affect the return amount to the main tank b, and the liquid level in the main tank b does not pulsate. Further, even if the discharge amount from the pump p fluctuates for some reason such as fluctuations in power supply voltage, mixing of bubbles and foreign substances, changes in viscosity, and changes in pump efficiency over time, the liquid level in the main tank b also fluctuates. There is nothing to do.
【００１７】本実施例の場合、ポンプｐで液が循環され
ているうちに、第１フィルタ３、第２フィルタ４、第３
フィルタ５等によって異物や硬化層断片等が除去され
る。そして各フィルタ３，４，５は着脱可能であってク
リーニングし易くなっている。In the case of this embodiment, while the liquid is being circulated by the pump p, the first filter 3, the second filter 4, and the third filter
Foreign matters, hardened layer fragments, etc. are removed by the filter 5 and the like. The filters 3, 4 and 5 are detachable so that they can be easily cleaned.
【００１８】（第２実施例）次に図３を参照して第２実
施例について説明する。なお第１実施例と均等の部材に
は同一の引用符号を用いている。図中ｂはメインタンク
であり、その横壁の上縁ｂ３はノコギリ歯状となってい
る。このノコギリ歯状の上縁ｂ３は、液の表面張力によ
ってメインタンクｂ内の液位が上縁ｂ３以上となってし
まう要素を可及的に減少させる効果をもつ。液はノコギ
リ歯状の上縁ｂ３のうち最も低い部分ｂ１を流れてオー
バーフローする。なおこのノコギリ歯状の上縁はメイン
タンクの全周にわたって設けられる必要はなく、上縁の
一部がオーバーフロー用に低くされているときにはその
低くされているところにのみ設けられていればよい。ま
たその形状はノコギリ歯状に限られるものでなく、Ｖ字
やＵ字が繰返されるもの、あるいは波打っているもの等
であってもよい。すなわち広義の意味での波形であれば
よい。(Second Embodiment) Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. The same reference numerals are used for the same members as in the first embodiment. In the figure, b is a main tank, and the upper edge b3 of its lateral wall has a sawtooth shape. The sawtooth-shaped upper edge b3 has an effect of reducing as much as possible the element in which the liquid level in the main tank b becomes equal to or higher than the upper edge b3 due to the surface tension of the liquid. The liquid flows through the lowest portion b1 of the sawtooth-shaped upper edge b3 and overflows. The saw-toothed upper edge does not have to be provided over the entire circumference of the main tank, and when a part of the upper edge is lowered for overflow, it may be provided only at the lowered portion. The shape is not limited to the sawtooth shape, and may be a V-shaped or U-shaped repeated shape or a wavy shape. That is, any waveform may be used in a broad sense.
【００１９】図中ｃ１はメインタンクｂの上縁ｂ３を取
囲んでいる底面ｃ３付の枠であり、上縁ｂ３の最も低い
部分ｂ１をオーバーフローした液を回収する。この実施
例ではメインタンクｂの上縁ｂ３がほぼ水平なため枠ｃ
１は上縁の全部を取囲んでいる。しかし上縁ｂ３のうち
の一部が低いときには低い部分のみをカバーするもので
あってもよい。In the figure, c1 is a frame with a bottom surface c3 that surrounds the upper edge b3 of the main tank b, and collects the liquid overflowing the lowest portion b1 of the upper edge b3. In this embodiment, since the upper edge b3 of the main tank b is substantially horizontal, the frame c
1 surrounds the entire upper edge. However, when a part of the upper edge b3 is low, it may cover only the low part.
【００２０】枠ｃ１の底ｃ３は後述のウェルｃ４に向け
て傾斜している。ただしこの傾斜は不可欠でない。図中
ｃ４は枠ｃ１の一部が外方に張出した部分であり、この
部分の底板ｃ５は傾斜しており他の部分より深くなって
いる。ここにパイプｃ２の大径部ｃ６が取付けられてい
る。パイプｃ２はポンプｐとパイプｄを介してウェルｃ
４内の液をサブタンクｅ内に送る。サブタンクｅはメイ
ンタンクｂのコーナ部で横壁に固定されている。サブタ
ンクｅの４つの横壁のうち、横壁ｅ２のみ他の壁より低
くなっており、この上縁ｅ１がオーバーフロー用の上縁
ｅ１となっている。サブタンクｅの上縁ｅ１からオーバ
ーフローした液は枠ｃ１内に流下する。The bottom c3 of the frame c1 is inclined toward a well c4 described later. However, this slope is not essential. In the figure, c4 is a part of the frame c1 that projects outward, and the bottom plate c5 in this part is inclined and deeper than the other parts. The large diameter portion c6 of the pipe c2 is attached here. The pipe c2 is connected to the well c via the pump p and the pipe d.
The liquid in 4 is sent to the sub tank e. The sub tank e is fixed to the lateral wall at the corner of the main tank b. Of the four lateral walls of the sub tank e, only the lateral wall e2 is lower than the other walls, and the upper edge e1 is the overflow upper edge e1. The liquid overflowing from the upper edge e1 of the sub tank e flows down into the frame c1.
【００２１】サブタンクｅのオーバーフロー用上縁ｅ１
はメインタンクｂのオーバーフロー用上縁ｂ１よりも高
い位置にある。このためサブタンクｅ内の液位ａ２はメ
インタンクｂ内の液位ａ１よりも高く維持される。サブ
タンクｅの底面にはサプライ用開孔ｅ３が設けられてい
る。この開孔ｅ３はメインタンクｂの上縁ｂ１よりも低
い位置にあり、サブタンクｅ内の液とメインタンクｂ内
の液は開孔ｅ３を介して連通している。このためサブタ
ンクｅ内の液位ａ２とメインタンクｂ内の液位ａ１の差
によって決定される量がサブタンクｅからメインタンク
ｂにリターンする。Upper edge e1 for overflow of sub tank e
Is at a position higher than the overflow upper edge b1 of the main tank b. Therefore, the liquid level a2 in the sub tank e is maintained higher than the liquid level a1 in the main tank b. An opening e3 for supply is provided on the bottom surface of the sub tank e. The opening e3 is located lower than the upper edge b1 of the main tank b, and the liquid in the sub tank e and the liquid in the main tank b communicate with each other through the opening e3. Therefore, the amount determined by the difference between the liquid level a2 in the sub tank e and the liquid level a1 in the main tank b returns from the sub tank e to the main tank b.
【００２２】ウェルｃ４を仕切る孔あき板３は第１フィ
ルタを示し、パイプｃ２の大径部ｃ６中に第２フィルタ
４が取付けられており、またパイプｄの出口に底面５ａ
がメッシュとなっている枠状の第３フィルタ５が取付け
られている。この実施例による場合も、液量の変化はウ
ェルｃ４内の液位変化に影響するのみで、サブタンクｅ
内の液位に影響しない。またポンプ吐出量に変動があっ
てもサブタンクｅ内の液位は変動しない。このためメイ
ンタンクｂ内の液位も正確に一定に維持される。The perforated plate 3 for partitioning the well c4 shows the first filter, the second filter 4 is mounted in the large diameter portion c6 of the pipe c2, and the bottom face 5a is provided at the outlet of the pipe d.
A frame-shaped third filter 5 having a mesh is attached. Also in the case of this embodiment, the change in the liquid amount only affects the change in the liquid level in the well c4.
Does not affect the liquid level inside. Further, even if the pump discharge amount changes, the liquid level in the sub tank e does not change. Therefore, the liquid level in the main tank b is also accurately kept constant.
【００２３】[0023]
【発明の効果】この発明によると、メインタンク内の液
位が一定に保たれるために１層当りの厚みが精度よく管
理される。このため造形物の高さ方向の寸法精度が著し
く向上する。特になんらかの原因でポンプ吐出量が変動
しても、メインタンク内の液位が一定に保たれるため
に、光硬化造形装置の信頼性が向上する。また液位を一
定に保つための構造は極めて単純であり、既設の光硬化
造形装置を容易に改良することもできる。According to the present invention, since the liquid level in the main tank is kept constant, the thickness of each layer is accurately controlled. Therefore, the dimensional accuracy in the height direction of the modeled object is significantly improved. In particular, even if the pump discharge amount fluctuates for some reason, the liquid level in the main tank is kept constant, so the reliability of the photo-curing modeling apparatus is improved. Further, the structure for keeping the liquid level constant is extremely simple, and the existing photo-curing molding apparatus can be easily improved.
【図１】本発明の概念を模式的に示す図FIG. 1 is a diagram schematically showing the concept of the present invention.
【図２】第１実施例を示す図FIG. 2 is a diagram showing a first embodiment.
【図３】第２実施例を示す図FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment.
【図４】従来技術を示す図FIG. 4 is a diagram showing a conventional technique.
【図５】従来技術の発展型を示す図FIG. 5 is a diagram showing an advanced type of conventional technology.
【図６】図５の問題点を示す図FIG. 6 is a diagram showing the problems of FIG. 5;
Ａ 光硬化性液 Ｂ メインタンク Ｃ 第１回収路 Ｄ 第２回収路 Ｅ サブタンク Ｅ１ オーバーフロー用上縁 Ｅ２ 壁 Ｐ ポンプ A photocurable liquid B main tank C first recovery path D second recovery path E sub-tank E1 overflow upper edge E2 wall P pump
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5041951AJPH06226864A (en) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | Photo-setting shaping device fitted with inflow stabilizer |
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5041951AJPH06226864A (en) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | Photo-setting shaping device fitted with inflow stabilizer |
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06226864Atrue JPH06226864A (en) | 1994-08-16 |
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5041951APendingJPH06226864A (en) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | Photo-setting shaping device fitted with inflow stabilizer |
| Country | Link |
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