【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は感湿素子、特には応答特性が速くてヒステリシ
スも小さく、しかも100℃以上の高温下でも感湿特性が
低下せず、耐熱性がすぐれているので、自動車のエンジ
ンルームや衣類乾燥機、さらにはサウナルームなどにお
ける湿度センサーとして有用とされる感湿素子に関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to a moisture-sensitive element, in particular, a response characteristic is fast and hysteresis is small, and the humidity-sensitive characteristic does not deteriorate even at a high temperature of 100 ° C. or higher, and the heat resistance Therefore, the present invention relates to a humidity sensitive element which is useful as a humidity sensor in an automobile engine room, a clothes dryer, a sauna room and the like.
［従来の技術］ 感湿素子については湿度による電気抵抗値の変化から湿
度を検知するものが汎用されており、これには感湿部に
塩化リチウムなどの無機系の電解質物を用いたものが公
知とされている。[Prior Art] As a humidity sensitive element, one that detects humidity from the change in electric resistance value due to humidity is widely used, and one that uses an inorganic electrolyte such as lithium chloride in the humidity sensitive part is commonly used. It is known.
また、最近ではこの感湿部に有機電解質としての高分子
電解質膜を用いたものも開発されているが、この高分子
電解質膜を用いた感湿素子は応答速度が速く、ヒステリ
シスも小さいという利点がある反面において、耐熱性が
わるく、一般的には60℃以上の高温雰囲気中で使用する
と感湿膜が変質して感度が低下するという欠点がある。Further, recently, a device using a polymer electrolyte membrane as an organic electrolyte has been developed in the moisture sensitive part, but a moisture sensitive element using this polymer electrolyte membrane has an advantage that the response speed is fast and the hysteresis is small. On the other hand, it has poor heat resistance, and generally has the drawback that when used in a high temperature atmosphere of 60 ° C. or higher, the moisture-sensitive film deteriorates to lower the sensitivity.
また、これらはいずれも電解質物を含有しているので耐
水性がわるく、結露雰囲気中で使用すると感湿膜中のキ
ャリアイオンが流出し、感度が低下するという欠点もあ
る。Further, since all of them contain an electrolyte, they are poor in water resistance, and when used in a dew-condensing atmosphere, carrier ions in the moisture-sensitive film flow out, and the sensitivity is lowered.
［発明が解決しようとする課題］ そのため、これらの欠点を改善する目的において、この
感湿素子についてはオルガノポリシロキサン膜を用いる
ものも提案されている（特開昭62-247239号公報参照）
が、このものはここに使用される有機電解質がカチオン
系の第４級アンモニウム基を有するものであるために10
0℃以上の高温雰囲気では分解が起きて感湿素子の感度
が低下してしまうという欠点がある。[Problems to be Solved by the Invention] Therefore, for the purpose of improving these drawbacks, there has been proposed a moisture sensitive element using an organopolysiloxane film (see JP-A-62-247239).
However, this is because the organic electrolyte used here has a cationic quaternary ammonium group.
In a high temperature atmosphere of 0 ° C. or higher, there is a drawback that decomposition occurs and the sensitivity of the moisture sensitive element decreases.
［課題を解決するための手段］ 本発明はこのような不利、欠点を解決することのできる
感湿素子に関するもので、これは表面に水酸基を有する
絶縁性基板上に形成された電極の表面に、カルボキシル
基またはその塩を含有するオルガノポリシロキサン膜を
形成させてなることを特徴とするものである。[Means for Solving the Problems] The present invention relates to a moisture-sensitive element capable of solving such disadvantages and drawbacks, which is formed on the surface of an electrode formed on an insulating substrate having a hydroxyl group on the surface. It is characterized in that an organopolysiloxane film containing a carboxyl group or a salt thereof is formed.
すなわち、本発明者らは特に耐熱性のすぐれた感湿素子
を開発すべく種々検討した結果、表面に水酸基を有する
絶縁性基板上に形成した電極の表面に、カルボキシル基
またはその塩を含有する、オルガノポリシロキサン膜を
形成させると、このオルガノポリシロキサン膜が耐熱性
のすぐれたものであることから、耐熱性のすぐれた感湿
素子が得られることを見出すと共に、このようにして得
られた感湿素子は応答特性がよく、ヒステリシスも小さ
いものになるということを確認して本発明を完成させ
た。That is, as a result of various investigations to develop a moisture-sensitive element having particularly excellent heat resistance, the present inventors have found that a surface of an electrode formed on an insulating substrate having a hydroxyl group on the surface contains a carboxyl group or a salt thereof. When the organopolysiloxane film was formed, it was found that a moisture-sensitive element having excellent heat resistance can be obtained because the organopolysiloxane film has excellent heat resistance, and the organopolysiloxane film thus obtained was obtained. The present invention has been completed by confirming that the humidity sensitive element has good response characteristics and small hysteresis.
つぎにこれをさらに詳述する。Next, this will be described in more detail.
［作 用］ 本発明の感湿素子は第１図に示したように絶縁性基板１
の上にくし型状の電極２をスクリーン印刷などで形成さ
せ、これを焼き付けたのち、この上にカルボキシル基ま
たはその塩を含有するオルガノポリシロキサン膜を感湿
層３として形成させ、ついでこの電極取出し部４にリー
ド線５を半田付けすることによって製造される。[Operation] The moisture-sensitive element of the present invention has an insulating substrate 1 as shown in FIG.
A comb-shaped electrode 2 is formed on the above by screen printing, etc., and after baking this, an organopolysiloxane film containing a carboxyl group or its salt is formed as a moisture-sensitive layer 3 on this electrode. It is manufactured by soldering the lead wire 5 to the take-out portion 4.
この絶縁性基板１はアルミナ，石英ガラス，ステアタイ
トなどから作られたものとすればよいが、このものは後
記するオルガノシランとの反応により、この上にオルガ
ノポリシロキサン膜を形成させるものであることから、
その表面に水酸基を有するものとする必要がある。The insulating substrate 1 may be made of alumina, quartz glass, steatite, or the like, which forms an organopolysiloxane film on it by reaction with organosilane described later. From that,
It is necessary to have a hydroxyl group on its surface.
また、この絶縁性基板１の上に形成される電極２は金，
銀−パラジウム，酸化ルテニウムなどのような導電性材
料をスクリーン印刷，スパッタリングなどで形成させれ
ばよいが、この形状はくし型状とすることがよく、これ
は好ましくは焼付けによって固定化することがよい。The electrode 2 formed on the insulating substrate 1 is made of gold,
A conductive material such as silver-palladium or ruthenium oxide may be formed by screen printing, sputtering or the like, but this shape is preferably comb-shaped, which is preferably fixed by baking. .
つぎに、この電極上に形成される感湿層３は本発明では
カルボキシル基またはその塩を含有するオルガノポリシ
ロキサン膜とされる。このオルガノポリシロキサン膜は
カルボキシル基またはその塩を含有する加水分解性を有
するオルガノシラン、例えば式 XOOC-R-SiY3 で示され、Ｒが炭素数１〜10の２価の炭化水素基、Ｘが
水素原子、Na,K,Liなどのアルカリ金属原子、Ｙが炭素
数１〜４のアルコキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、
アミノオキシ基、オキシム基、アルケニルオキシ基ある
いはハロゲン原子（これらのうち好ましくはアルコキシ
基あるいはハロゲン原子）などとされるオルガノシラン
を絶縁性基板１の上にディッピング，スプレーコートな
どで塗布してから加熱すると、絶縁性基板上のOH基とこ
のオルガノシランの≡SiY3基との反応によってこの≡Si
Y3基が≡SiO-となり、この絶縁性基板１の上にオルガノ
シロキサン膜が形成されるが、このオルガノシロキサン
膜は上記した電極２が好ましくはすき間の大きいくし型
状とされているので、この電極３を覆った形で絶縁性基
板１の上に形成され、これが感湿層３となる。Next, the moisture sensitive layer 3 formed on this electrode is an organopolysiloxane film containing a carboxyl group or a salt thereof in the present invention. This organopolysiloxane film is a hydrolyzable organosilane containing a carboxyl group or a salt thereof, for example, represented by the formula XOOC-R-SiY3 , where R is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, X Is a hydrogen atom, an alkali metal atom such as Na, K, Li, Y is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an acyloxy group, an amino group,
Organosilane, which is considered to be an aminooxy group, an oxime group, an alkenyloxy group, or a halogen atom (among these, preferably an alkoxy group or a halogen atom), is applied onto the insulating substrate 1 by dipping, spray coating, or the like, and then heated. Then, by the reaction of the OH group on the insulating substrate with the ≡SiY3 group of the organosilane, the ≡Si
The Y3 group becomes ≡SiO −, and an organosiloxane film is formed on this insulating substrate 1. This organosiloxane film has the above-mentioned electrode 2 preferably in the shape of a comb having a large gap. It is formed on the insulating substrate 1 so as to cover the electrode 3, and this becomes the moisture sensitive layer 3.
しかし、前記した式XOOC-R-SiY3で示されるオルガノシ
ランは絶縁性基板１の上に塗布されたのち、絶縁性基板
１の表面に存在するOH基と反応してオルガノポリシロキ
サン膜を形成させる際には加熱することが必要とされ、
この際式XOOC-R-SiY3で示されるオルガノシランのXOOC-
基が官能基であるためにこの加熱によって例えばＹがア
ルコキシ基である場合には脱アルコール反応が起こり、
シリルエステルに変性されるおそれがあり、したがって
得られるオルガノポリシロキサン膜がカルボキシル基ま
たはその塩を含有しないものになってしまうおそれがあ
るので、このオルガノポリシロキサン膜の形成にはつぎ
のような手段をとることがよい。However, the organosilane represented by the above formula XOOC-R-SiY3 is coated on the insulating substrate 1 and then reacts with OH groups present on the surface of the insulating substrate 1 to form an organopolysiloxane film. It is necessary to heat when doing,
At this time, XOOC- of organosilane represented by the formula XOOC-R-SiY3
Since the group is a functional group, this heating causes a dealcoholization reaction when Y is an alkoxy group,
The organopolysiloxane film may be modified to a silyl ester, and thus the resulting organopolysiloxane film may not contain a carboxyl group or a salt thereof. Good to take.
すなわち、このカルボキシル基またはその塩を含有する
オルガノポリシロキサン膜を形成させるためには表面に
水酸基を有する絶縁性基板の上にくし型状の電極を形成
したのち、まずこの電極上にトリアルキルシリルエステ
ル基を含有し、かつ加水分解性基をもつオルガノシラ
ン、例えばR23SiOOC-R1-Si-Y3で示され、R1が炭素数１
〜10の二価炭化水素基、R2がメチル基、エチル基、プロ
ピル基等の炭素数１〜６のアルキル基、Ｙは前記に同じ
であるオルガノシランを塗布し、このオルガノシランの
≡SiY3基と絶縁性基板のOH基との反応でこれを絶縁性基
板上に結合させ、加熱による架橋重合によってこれをで示されるオルガノポリシロキサン膜とし、ついでこれ
に塩酸水溶液をディッピング，スプレーコートなどで塗
布し、50〜150℃で0.1〜２時間加熱してから蒸留水中に
浸漬すると、このオルガノポリシロキサン膜におけるト
リオルガノシリルエステル基（R23SiOOC-）がカルボキ
シル化されてで示されるカルボキシル基を含有するオルガノポリシロ
キサン膜となって本発明の感湿素子用部材が形成され
る。That is, in order to form an organopolysiloxane film containing this carboxyl group or its salt, a comb-shaped electrode is formed on an insulating substrate having hydroxyl groups on its surface, and then a trialkylsilyl group is first formed on this electrode. An organosilane containing an ester group and having a hydrolyzable group, for example, R23 SiOOC-R1 -Si-Y3 , represented by R1 having 1 carbon atom
~ 10 divalent hydrocarbon groups, R2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Y is the same as described above, organosilane is applied, and ≡SiY of this organosilane is applied. The reaction between the3 groups and the OH groups on the insulating substrate binds it to the insulating substrate, and this is crosslinked by heating to produce it. When the organopolysiloxane film shown in Fig. 1 is coated with an aqueous solution of hydrochloric acid by dipping, spray coating, etc., heated at 50 to 150 ° C for 0.1 to 2 hours and then immersed in distilled water, the tripolyorganosiloxane film When the organosilyl ester group (R23 SiOOC-) is carboxylated The moisture-sensitive element member of the present invention is formed by forming an organopolysiloxane film containing a carboxyl group represented by
なお、このものはカルボキシル基を含有するオルガノポ
リシロキサン膜が形成されているので、これによれば耐
熱性がよく、応答特性が速くてヒステリシスも小さい感
湿素子が得られるけれども、電気抵抗値が低く、回路上
使い易いという点からはこのカルボキシル基をアルカリ
金属塩とすることが好ましいので、これについてはこの
表面にさらにアルカリ金属水酸化物の水溶液をディッピ
ング，スプレーコートなどで塗布し、室温で乾燥すれば
このオルガノポリシロキサン膜をXOOC-R1-Si-O-で示さ
れるカルボキシアルカリ金属塩を含有するものとするこ
とができ、これによれば電気抵抗値が低く、回路上使い
易い上に感度も良いという有利性が与えられるし、これ
についてはこのオルガノポリシロキサン膜の表面にシリ
コーンワニスなどを塗布してシリコーン保護皮膜６を形
成させれば耐水性が付与されるという有利性が与えられ
る。Since this product has an organopolysiloxane film containing a carboxyl group formed thereon, a heat-sensitive element having good heat resistance, quick response characteristics and small hysteresis can be obtained, but the electric resistance value is low. Since it is low and easy to use on a circuit, it is preferable to use this carboxyl group as an alkali metal salt. For this, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide is further applied to this surface by dipping, spray coating, etc. If dried, this organopolysiloxane film can be made to contain a carboxyalkali metal salt represented by XOOC-R1 -Si-O-, which has a low electric resistance value and is easy to use in a circuit. Has the advantage of good sensitivity. For this, apply a silicone varnish or the like to the surface of the organopolysiloxane film. If caused to form a silicone protective coating 6 advantage that water resistance is imparted it is given by.
［実施例］ つぎに本発明の実施例をあげるが、例中における感湿素
子の感湿特性、応答特性、ヒステリシス特性は温度湿度
試験器中において30℃,1KHz,1Vの条件でLCRメーター・H
P4284A［横河ヒューレットパッカード社製商品名］を用
いて測定した結果を示したものであり、この経時変化は
120℃の乾燥器中に３ケ月間放置した場合の試験結果を
示したものである。[Examples] Next, examples of the present invention will be described. The humidity-sensitive characteristics, response characteristics, and hysteresis characteristics of the humidity-sensitive element in the examples are LCR meters under the conditions of 30 ° C, 1KHz, 1V in a temperature-humidity tester. H
It shows the results measured using P4284A [trade name of Yokogawa Hewlett-Packard Co.].
It shows the test results when left in a dryer at 120 ° C for 3 months.
実施例１ 17mm×7mm×0.635mmのアルミナ製絶縁基板上に、銀−パ
ラジウム合金系ペーストを用いてくし型状電極をスクリ
ーン印刷し、焼き付けを行なって電極付きアルミナ基板
を製作した。Example 1 A comb-shaped electrode was screen-printed on a 17 mm × 7 mm × 0.635 mm alumina insulating substrate using a silver-palladium alloy-based paste, and baked to manufacture an alumina substrate with an electrode.
ついでこの基板を式 （CH3）3SiOOCCH24Si（OCH3）３で示されるトリメ
トキシシランの10％メタノール溶液に浸漬し、室温で乾
燥してから100℃で１時間加熱したところ、該基板上に
トリメチルシリルエステル基を有するオルガノポリシロ
キサン膜が形成されたので、これを３％の塩酸水溶液中
に１時間浸漬したのち、100℃で１時間加熱し、蒸留水
中に６時間浸漬したところ、このオルガノポリシロキサ
ン中のトリメチルシリルエステル基がカルボキシル基に
変性された。Then, the substrate was immersed in a 10% methanol solution of trimethoxysilane represented by the formula (CH3 )3 SiOOCCH24 Si (OCH3 )3 , dried at room temperature, and then heated at 100 ° C. for 1 hour. Since an organopolysiloxane film having a trimethylsilyl ester group was formed on the substrate, it was immersed in a 3% aqueous solution of hydrochloric acid for 1 hour, then heated at 100 ° C. for 1 hour, and immersed in distilled water for 6 hours. The trimethylsilyl ester group in this organopolysiloxane was modified to a carboxyl group.
つぎにこの基板の取り出し電極部分にリード線を半田付
けしたところ、電極上にカルボキシル基を含有するオル
ガノポリシロキサン膜を形成させた感湿素子が得られた
ので、このものの感湿特性をしらべたところ、第２図に
示したとおりの結果が、またこの応答特性、ヒステリシ
ス特性については第３図，第４図に示したとおりの結果
が得られたので、これらは応答特性が速く、ヒステリシ
スも小さい、すぐれた特性を有するものであることが確
認されたし、このものはまたその経時変化をしらべたと
ころ、第５図に示したとおりの結果を示し、高温雰囲気
でもその感湿特性が殆ど変化しないことから耐熱性の極
めてすぐれたものであることが確認された。Next, when a lead wire was soldered to the extraction electrode portion of this substrate, a humidity sensitive element having an organopolysiloxane film containing a carboxyl group formed on the electrode was obtained. However, since the results shown in FIG. 2 and the response characteristics and the hysteresis characteristics shown in FIGS. 3 and 4 were obtained, the response characteristics are fast and the hysteresis is also high. It was confirmed that it had a small and excellent characteristic, and when it was also examined its change over time, it showed the results as shown in FIG. Since it did not change, it was confirmed that the heat resistance was extremely excellent.
実施例２ 8mm×6mm×0.635mmのアルミナ製絶縁基板上に、くし型
状の金電極をスパッタリングで形成して電極付きアルミ
ナ基板を作った。Example 2 A comb-shaped gold electrode was formed by sputtering on an alumina insulating substrate of 8 mm × 6 mm × 0.635 mm to prepare an alumina substrate with electrodes.
ついでこの基板上に式で示されるトリメトキシシランの10％メタノール溶液を
スプレーコート法で塗布し、室温で１時間乾燥してから
100℃で１時間加熱したところ、該基板上にトリメチル
シリルエステル基を含有するオルガノポリシロキサン膜
が形成されたので、これを３％の塩酸水溶液中に１時間
浸漬し、100℃で１時間加熱してから蒸留水中で６時間
浸漬したところ、このオルガノポリシロキサン膜中のト
リメチルシリルエステル基がカルボキシル基に変性され
たが、このものをさらに水酸化ナトリウムの１％水溶液
中に30分間浸漬し、室温で３時間乾燥したところ、この
カルボキシル基がカルボン酸ナトリウムに変性されたオ
ルガノポリシロキサン膜をもつ電極付きアルミナ基板が
得られた。Then the formula on this board After applying 10% methanol solution of trimethoxysilane shown in the figure by spray coating method and drying at room temperature for 1 hour,
When heated at 100 ° C for 1 hour, an organopolysiloxane film containing trimethylsilyl ester groups was formed on the substrate, so this was immersed in a 3% hydrochloric acid aqueous solution for 1 hour and heated at 100 ° C for 1 hour. Then, when it was soaked in distilled water for 6 hours, the trimethylsilyl ester group in this organopolysiloxane film was modified to a carboxyl group, but this was further soaked in a 1% aqueous solution of sodium hydroxide for 30 minutes at room temperature. After drying for 3 hours, an alumina substrate with electrodes having an organopolysiloxane film in which the carboxyl group was modified to sodium carboxylate was obtained.
つぎにこのようにして得られたカルボン酸ナトリウムを
含有するオルガノポリシロキサン膜を表面にもつ電極付
きアルミナ基板のオルガノポリシロキサン膜の上にシリ
コーンワニス・Ｓコート58［信越化学工業（株）製商品
名］をスプレーコート法で塗布し、室温で１時間乾燥後
に150℃で30分間加熱してオルガノポリシロキサン膜の
上にシリコーン保護皮膜６を設け、この基板の取り出し
電極部分にリード線を半田付けして第６図に示したよう
な感湿素子を作り、このものの感湿特性、経時変化をし
らべたところ、第７図，第８図に示したとおりの結果が
得られ、さらにこのものを水道水中に１週間浸漬したと
きの経時変化をしらべたところ、第９図に示したとおり
の結果が得られたので、このものは耐熱性，耐水性にす
ぐれたものであることが確認された。Next, on the organopolysiloxane film of the alumina substrate with an electrode having the organopolysiloxane film containing sodium carboxylate on the surface thus obtained, the silicone varnish / S coat 58 [a product manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] Name] by spray coating and drying at room temperature for 1 hour, then heating at 150 ° C for 30 minutes to provide a silicone protective film 6 on the organopolysiloxane film, and solder the lead wire to the extraction electrode part of this substrate. Then, a moisture sensitive element as shown in FIG. 6 was produced, and the moisture sensitive characteristics and changes with time of this element were examined. The results shown in FIGS. 7 and 8 were obtained. When the change over time when immersed in tap water for 1 week was examined, the results shown in Fig. 9 were obtained. Therefore, this one has excellent heat resistance and water resistance. Was confirmed.
［発明の効果］ 本発明は感湿素子に関するものであり、これは前記した
ように水酸基を有する絶縁性基板に電極を設け、これに
カルボキシル基またはその塩を含有するオルガノポリシ
ロキサン膜を形成させたものであるが、このものは感湿
層となるオルガノポリシロキサン膜が耐熱性を有するの
で、応答速度が速くてヒステリシスも小さく、高温雰囲
気でもその感湿特性が殆ど変化しない感湿素子が得られ
るという有利性が与えられる。[Advantages of the Invention] The present invention relates to a moisture-sensitive element, which is provided with an electrode on an insulating substrate having a hydroxyl group, and an organopolysiloxane film containing a carboxyl group or a salt thereof is formed on the electrode, as described above. However, since the organopolysiloxane film that serves as the moisture-sensitive layer has heat resistance, this gives a moisture-sensitive element that has a fast response speed and a small hysteresis, and its moisture-sensitive characteristics hardly change even in a high temperature atmosphere. The advantage of being provided is given.
また、本願はこの感湿素子の製造方法に関するものであ
り、これは電極付き絶縁性基板にトリアルキルシリルエ
ステル基含有加水分解性基を有するオルガノシランを作
用させてトリアルキルシリル基含有オルガノシロキサン
膜を形成させたのち、このトリアルキルシリル基をカル
ボキシル化し、さらにこれをカルボン酸アルカリ金属塩
としてカルボン酸金属塩を含有するオルガノポリシロキ
サン膜とするものであり、これによればカルボキシル基
またはその塩を含有する加水分解性を有するオルガノシ
ランの反応中の変性なしで目的とする感湿素子を容易に
得ることができるという有利性が与えられる。Further, the present application relates to a method for manufacturing the moisture-sensitive element, which comprises reacting an organosilane having a trialkylsilyl ester group-containing hydrolyzable group on an insulating substrate with an electrode to form a trialkylsilyl group-containing organosiloxane film. Is formed, and then the trialkylsilyl group is carboxylated to form an organopolysiloxane film containing a carboxylic acid metal salt as a carboxylic acid alkali metal salt. An advantage is provided that the desired moisture-sensitive element can be easily obtained without modification during the reaction of the hydrolyzable organosilane containing OH.
第１図は本発明の感湿素子の斜視図、第２図〜第５図は
本発明の実施例１で得られた感湿素子の物性を示すグラ
フで、第２図は感湿特性、第３図は応答特性、第４図は
ヒステリシス特性、第５図はその経時変化を示したもの
である。 また第６図ａ）は本発明の実施例２で得られた感湿素子
の斜視図、第６図ｂ）はその縦断面図、第７図〜第９図
はこの感湿素子の物性を示すグラフで、第７図はその感
湿特性、第８図は経時変化を示したもの、第９図はこれ
を水道水に浸したときの耐水性を示す経時変化のグラフ
を示したものである。FIG. 1 is a perspective view of the moisture sensitive element of the present invention, FIGS. 2 to 5 are graphs showing the physical properties of the moisture sensitive element obtained in Example 1 of the present invention, and FIG. FIG. 3 shows response characteristics, FIG. 4 shows hysteresis characteristics, and FIG. 5 shows changes with time. Further, FIG. 6a) is a perspective view of the moisture-sensitive element obtained in Example 2 of the present invention, FIG. 6b) is a longitudinal sectional view thereof, and FIGS. 7 to 9 show the physical properties of the moisture-sensitive element. In the graph shown in FIG. 7, FIG. 7 shows the moisture sensitivity characteristics, FIG. 8 shows the change over time, and FIG. 9 shows the graph of the change over time showing the water resistance when immersed in tap water. is there.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−247239（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−43552（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−51651（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−187841（ＪＰ，Ａ) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-62-247239 (JP, A) JP-A-56-43552 (JP, A) JP-A-56-51651 (JP, A) JP-A-58- 187841 (JP, A)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20829089AJPH06103286B2 (en) | 1989-08-11 | 1989-08-11 | Moisture-sensitive element and manufacturing method thereof |
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20829089AJPH06103286B2 (en) | 1989-08-11 | 1989-08-11 | Moisture-sensitive element and manufacturing method thereof |
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0372253A JPH0372253A (en) | 1991-03-27 |
| JPH06103286B2true JPH06103286B2 (en) | 1994-12-14 |
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20829089AExpired - LifetimeJPH06103286B2 (en) | 1989-08-11 | 1989-08-11 | Moisture-sensitive element and manufacturing method thereof |
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06103286B2 (en) |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7200574B2 (en) | 1994-11-23 | 2007-04-03 | Contentguard Holdings, Inc. | System for controlling the distribution and use digital works using digital tickets |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7200574B2 (en) | 1994-11-23 | 2007-04-03 | Contentguard Holdings, Inc. | System for controlling the distribution and use digital works using digital tickets |
| US7209902B2 (en) | 1994-11-23 | 2007-04-24 | Contentguard Holdings, Inc. | Repository with security class and method for use thereof |
| US7260556B2 (en) | 1994-11-23 | 2007-08-21 | Contentguard Holdings, Inc. | Content rendering device with usage rights |
| US7266529B2 (en) | 1994-11-23 | 2007-09-04 | Contentguard Holdings, Inc. | Method and apparatus for executing code in accordance with usage rights |
| US7269577B2 (en) | 1994-11-23 | 2007-09-11 | Contentguard Holdings, Inc. | System for controlling the distribution and use of digital works using digital tickets |
| US7359881B2 (en) | 1994-11-23 | 2008-04-15 | Contentguard Holdings, Inc. | System for controlling the distribution and use of digital works using secure components |
| US7523072B2 (en) | 1994-11-23 | 2009-04-21 | Contentguard Holdings, Inc. | System for controlling the distribution and use of digital works |
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0372253A (en) | 1991-03-27 |
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2021073433A (en) | Chemical sensor element, manufacturing method of chemical sensor element, and chemical sensor | |
| CN100439910C (en) | Polymer resistive thin film humidity sensor with high water resistance and manufacturing method thereof | |
| US20070139155A1 (en) | Humidity sensor and method for making the same | |
| JPH06103286B2 (en) | Moisture-sensitive element and manufacturing method thereof | |
| CN201016949Y (en) | Polymer resistive thin film humidity sensor with high water resistance | |
| JPS6036017B2 (en) | Manufacturing method of reducing gas detection element | |
| JPH0718833B2 (en) | Moisture sensitive element | |
| EP0187205A2 (en) | Moisture sensitive ceramic material and process for its production | |
| JPH0244390B2 (en) | KANSHITSUZAIRYO | |
| JP3384900B2 (en) | Pressure sensor | |
| US20070039385A1 (en) | Resistive thin film humidity sensitive device based on silicone-containing copolymer and its preparation method | |
| JP3557245B2 (en) | Humidity-sensitive element and method of manufacturing the same | |
| JPS62127661A (en) | Electric resistor and detecting method of humidity utilizingsaid resistor | |
| JP3596166B2 (en) | Humidity sensor | |
| JPH0318750A (en) | humidity sensor element | |
| JP2005257474A (en) | Capacity type humidity sensor and its manufacturing method | |
| JP2019184594A (en) | Sensor and method for manufacturing the same | |
| JP3967886B2 (en) | Humidity sensor element and manufacturing method thereof | |
| JPH02209702A (en) | Water resistant moisture sensing element | |
| JPH0718832B2 (en) | Moisture sensitive element | |
| JPH0484749A (en) | Humidity sensor | |
| JPS6345803A (en) | Moisture-sensitive device | |
| JPH051421B2 (en) | ||
| JPS632464B2 (en) | ||
| JPS59102150A (en) | Moisture sensitive material |