【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイなどの
フラットディスプレイに使用されるカラーフィルタおよ
びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter used for a flat display such as a liquid crystal display and a method for manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイなどのフラット
ディスプレイはＯＡ機器やテレビジョンの表示パネルと
して注目されている。従来、液晶ディスプレイなどのフ
ラットディスプレイに使用されるカラーフィルタは図３
に示すような構成が一般的であった。このカラーフィル
タは以下のような工程で作製される。図３に示すように
ガラス基板１１上に遮光部１２とＲ（赤），Ｇ（緑），
Ｂ（青）の画素１３がパターニングされており、その上
をアクリル系の樹脂の保護膜１４が覆い、さらにその上
に透明電極（ＩＴＯなど）１５が形成されている。この
カラーフィルタの製造方法は図４（ａ）に示すようにガ
ラス基板１１上にＣｒなどの金属膜を製膜した後、フォ
トリソグラフィ工程を用いて遮光部１２を形成する。つ
ぎに着色レジスト材料とフォトリソグラフィ工程を用い
てＲ，Ｇ，Ｂの画素１３を形成する（図４（ｂ））。つ
ぎに遮光部１２Ｒ，Ｇ，Ｂの画素１３の上にアクリル系
の樹脂を塗布し、保護膜１４を形成する。つぎに保護膜
１４の上にスパッタリング法などの手法を用いて透明導
電膜（ＩＴＯなど）１５を製膜する（図４（ｃ））。以
上の工程によりカラーフィルタが形成される。2. Description of the Related Art In recent years, flat displays such as liquid crystal displays have attracted attention as display panels for office automation equipment and televisions. Conventionally, color filters used for flat displays such as liquid crystal displays are shown in FIG.
The structure shown in FIG. This color filter is manufactured by the following steps. As shown in FIG. 3, on the glass substrate 11, the light-shielding portion 12 and R (red), G (green),
A B (blue) pixel 13 is patterned, an acrylic resin protective film 14 covers the pixel 13 and a transparent electrode (ITO or the like) 15 is formed thereon. In this color filter manufacturing method, as shown in FIG. 4A, after forming a metal film such as Cr on the glass substrate 11, the light shielding portion 12 is formed by using a photolithography process. Next, R, G, and B pixels 13 are formed by using a colored resist material and a photolithography process (FIG. 4B). Next, an acrylic resin is applied on the pixels 13 of the light shielding portions 12R, G, B to form the protective film 14. Next, a transparent conductive film (ITO or the like) 15 is formed on the protective film 14 by using a method such as a sputtering method (FIG. 4C). A color filter is formed by the above steps.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、透明導電膜１５に電圧を印加する入力端
子から遠くなるほど、電圧効果が大きくなる。すなわ
ち、入力端子からの距離により印加できる電圧が大きく
異なり、輝度むらなどの問題を生じる。透明導電膜の抵
抗値を下げるために、透明導電膜の膜厚を増加させるこ
とも考えられるが、透明導電膜は膜厚の増加に伴い、干
渉を生じて急激に透過率が減少するため、コントラスト
の低下を生じてしまう。以上の問題点により、高品質で
大面積のディスプレイを作製するのが困難であるという
課題があった。However, in the above structure, the voltage effect increases as the distance from the input terminal for applying a voltage to the transparent conductive film 15 increases. That is, the voltage that can be applied varies greatly depending on the distance from the input terminal, which causes problems such as uneven brightness. It may be possible to increase the film thickness of the transparent conductive film in order to reduce the resistance value of the transparent conductive film, but as the film thickness of the transparent conductive film increases, interference occurs and the transmittance sharply decreases. This causes a decrease in contrast. Due to the above problems, it is difficult to manufacture a high quality display having a large area.
【０００４】本発明はこのような課題を解決するもの
で、輝度むらを生じない高品質なディスプレイを実現す
るためのカラーフィルタおよびその製造方法を提供する
ことを目的とするものである。The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a color filter and a manufacturing method thereof for realizing a high-quality display without uneven brightness.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は基板上に遮光部、画素および保護膜を形成
し、前記保護膜上にパターニングした金属膜と、前記金
属膜を覆って透明導電膜を形成したものである。In order to solve this problem, the present invention forms a light-shielding portion, a pixel and a protective film on a substrate, and coats the patterned metal film on the protective film and the metal film. A transparent conductive film is formed.
【０００６】また、基板上に遮光部、画素および保護膜
を形成し、前記遮光部をマスクとして用いて前記保護膜
上に形成した金属膜をパターニングし、前記金属膜を覆
って透明導電膜を形成してカラーフィルタを製造するよ
うにしたものである。Further, a light-shielding portion, a pixel and a protective film are formed on a substrate, the metal film formed on the protective film is patterned using the light-shielding portion as a mask, and a transparent conductive film is covered to cover the metal film. The color filter is formed to manufacture a color filter.
【０００７】[0007]
【作用】本発明は上記した構成によって透明導電膜と金
属膜とを導電体として電圧を印加することができるた
め、抵抗が小さくなり、入力端子から離れた位置でも抵
抗分布の差による輝度むらを生じなくなる。According to the present invention, since the voltage can be applied by using the transparent conductive film and the metal film as the conductors with the above-described structure, the resistance becomes small, and the uneven brightness due to the difference in the resistance distribution is caused even at the position away from the input terminal. It will not occur.
【０００８】また金属膜のパターニングを遮光部をマス
クとして行うことにより遮光部に対応した位置に同じ大
きさの開口部が作製できるため、金属膜のパターニング
の際におこなう、パターンずれによって発生する開口率
の減少を生じなくてすむこととなる。By patterning the metal film using the light-shielding portion as a mask, openings of the same size can be formed at positions corresponding to the light-shielding portion. It is not necessary to reduce the rate.
【０００９】[0009]
【実施例】以下に本発明の一実施例のカラーフィルタお
よびその製造方法について、図面を参照しながら説明す
る。図１に本実施例のカラーフィルタの構成を示す。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A color filter according to an embodiment of the present invention and a method for manufacturing the same will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the configuration of the color filter of this embodiment.
【００１０】また、図２に本発明の実施例のカラーフィ
ルタの製造工程を示す。遮光部２、画素３、保護膜４を
形成する工程は従来と同じである（図２（ａ））。この
上に例えばＣｒ，Ａｌなどの抵抗値の低い金属膜６をス
パッタリング法などの薄膜形成法を用いて形成する（図
２（ｂ））。この上にポジレジスト７を塗布し基板裏面
より露光を行う（図２（ｃ））。ポジレジスト７を現像
し、遮光部２に対応したところだけポジレジスト７を残
す（図２（ｄ））。その後、金属膜６をエッチングし開
口部を作製する（図２（ｅ））。最後に透明導電膜５を
スパッタリング法などを用いて製膜する（図２
（ｆ））。FIG. 2 shows the manufacturing process of the color filter of the embodiment of the present invention. The process of forming the light-shielding portion 2, the pixel 3, and the protective film 4 is the same as the conventional process (FIG. 2A). A metal film 6 having a low resistance value such as Cr or Al is formed thereon by a thin film forming method such as a sputtering method (FIG. 2B). A positive resist 7 is applied on this and exposure is performed from the back surface of the substrate (FIG. 2C). The positive resist 7 is developed, and the positive resist 7 is left only at the portion corresponding to the light shielding portion 2 (FIG. 2D). After that, the metal film 6 is etched to form an opening (FIG. 2E). Finally, the transparent conductive film 5 is formed by a sputtering method or the like (FIG. 2).
(F)).
【００１１】以上のように本実施例によれば、配線が透
明導電膜５と金属膜６により形成されるため配線抵抗に
よる電圧降下を小さくすることができる。As described above, according to this embodiment, since the wiring is formed by the transparent conductive film 5 and the metal film 6, the voltage drop due to the wiring resistance can be reduced.
【００１２】また、遮光部２をマスクとして用い、金属
膜６をパターニングするので開口率を低下させることな
く金属膜６をパターニングできる。Further, since the metal film 6 is patterned by using the light shielding portion 2 as a mask, the metal film 6 can be patterned without lowering the aperture ratio.
【００１３】なお、本実施例では金属膜６を形成した
後、透明導電膜５を形成したが、透明導電膜５を形成し
た後、金属膜６を形成してもよい。Although the transparent conductive film 5 is formed after the metal film 6 is formed in this embodiment, the metal film 6 may be formed after the transparent conductive film 5 is formed.
【００１４】[0014]
【発明の効果】以上の実施例の説明から明らかなように
本発明によれば遮光部、画素、保護膜が形成されたガラ
ス基板上に金属膜と透明導電膜を形成するものであり、
また、遮光部、画素、保護膜が形成されたガラス基板上
に金属膜を形成する工程と、金属膜のパターニングを前
記遮光部をマスクとして行うものである。この構成と製
造方法により透明導電膜の抵抗値を低く設定でき、入力
端子からの距離差による印加電圧のバラツキが低減し、
輝度むらを生じない高品質なディスプレイを実現するこ
とができる。As is apparent from the above description of the embodiments, according to the present invention, the metal film and the transparent conductive film are formed on the glass substrate on which the light shielding part, the pixel and the protective film are formed.
Further, the step of forming a metal film on the glass substrate on which the light shielding portion, the pixel, and the protective film are formed, and the patterning of the metal film are performed using the light shielding portion as a mask. With this configuration and manufacturing method, the resistance value of the transparent conductive film can be set low, and variations in the applied voltage due to the distance difference from the input terminal are reduced,
It is possible to realize a high-quality display that does not cause uneven brightness.
【図１】本発明の一実施例のカラーフィルタの構成を示
す断面図FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a color filter according to an embodiment of the present invention.
【図２】（ａ）〜（ｆ）は同カラーフィルタ作製工程を
示す断面図2A to 2F are cross-sectional views showing the same color filter manufacturing process.
【図３】従来のカラーフィルタの構成を示す断面図FIG. 3 is a cross-sectional view showing the configuration of a conventional color filter.
【図４】（ａ）〜（ｄ）は同カラーフィルタの作製工程
を示す断面図4A to 4D are cross-sectional views showing a manufacturing process of the color filter.
１ 基板 ２ 遮光部 ３ 画素 ４ 保護膜 ５ 透明導電膜 ６ 金属膜 ７ ポジレジスト 1 substrate 2 light-shielding portion 3 pixel 4 protective film 5 transparent conductive film 6 metal film 7 positive resist
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32271991AJPH05157907A (en) | 1991-12-06 | 1991-12-06 | Color filter and manufacturing method thereof |
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32271991AJPH05157907A (en) | 1991-12-06 | 1991-12-06 | Color filter and manufacturing method thereof |
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05157907Atrue JPH05157907A (en) | 1993-06-25 |
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32271991APendingJPH05157907A (en) | 1991-12-06 | 1991-12-06 | Color filter and manufacturing method thereof |
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05157907A (en) |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7547494B2 (en)* | 2007-01-25 | 2009-06-16 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Color filter substrate, manufacturing method thereof and liquid crystal display |
| US7695874B2 (en)* | 2005-12-26 | 2010-04-13 | Au Optronics Corp. | Color filter and fabrication method thereof |
| CN104280930A (en)* | 2014-10-11 | 2015-01-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Color film substrate manufacture method, color film substrate and liquid crystal display panel |
| WO2017128477A1 (en)* | 2016-01-26 | 2017-08-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Colour film substrate structure and liquid crystal display using the structure |
| JP2017134426A (en)* | 2017-04-21 | 2017-08-03 | 凸版印刷株式会社 | Color filter and liquid crystal display device |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7695874B2 (en)* | 2005-12-26 | 2010-04-13 | Au Optronics Corp. | Color filter and fabrication method thereof |
| US7547494B2 (en)* | 2007-01-25 | 2009-06-16 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Color filter substrate, manufacturing method thereof and liquid crystal display |
| CN104280930A (en)* | 2014-10-11 | 2015-01-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Color film substrate manufacture method, color film substrate and liquid crystal display panel |
| WO2016054834A1 (en)* | 2014-10-11 | 2016-04-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Color film substrate manufacturing method, color film substrate and liquid crystal display panel |
| US9703155B2 (en) | 2014-10-11 | 2017-07-11 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Manufacture method of color filter, color filter and liquid crystal display panel |
| CN104280930B (en)* | 2014-10-11 | 2017-07-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Preparation method, color membrane substrates and the liquid crystal display panel of color membrane substrates |
| WO2017128477A1 (en)* | 2016-01-26 | 2017-08-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Colour film substrate structure and liquid crystal display using the structure |
| JP2017134426A (en)* | 2017-04-21 | 2017-08-03 | 凸版印刷株式会社 | Color filter and liquid crystal display device |
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8314911B2 (en) | Liquid crystal panel and manufacturing method thereof | |
| CN100507695C (en) | Manufacturing method of liquid crystal display device | |
| CN100593748C (en) | Color membrane substrates and manufacturing method thereof | |
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