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JPH0462190A - Resin relief printing plate and its manufacture - Google Patents

Resin relief printing plate and its manufacture

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Publication number
JPH0462190A
JPH0462190AJP16802490AJP16802490AJPH0462190AJP H0462190 AJPH0462190 AJP H0462190AJP 16802490 AJP16802490 AJP 16802490AJP 16802490 AJP16802490 AJP 16802490AJP H0462190 AJPH0462190 AJP H0462190A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
photoresist
plate
ink
mold
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16802490A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsunori Dochi
洞地 克敬
Dainosuke Watanabe
渡辺 大之輔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co LtdfiledCriticalToppan Printing Co Ltd
Priority to JP16802490ApriorityCriticalpatent/JPH0462190A/en
Publication of JPH0462190ApublicationCriticalpatent/JPH0462190A/en
Pendinglegal-statusCriticalCurrent

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Abstract

Translated fromJapanese

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

Translated fromJapanese

【発明の詳細な説明】[産業上の利用分野コ本発明は、特にミクロン単位の高精細なパターンを鮮明
に印刷出来るようにした樹脂凸版及びその製造方法に関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a resin letterpress plate that can clearly print high-definition patterns, particularly in micron units, and a method for manufacturing the same.

[従来の技術]従来、ベタ状のパターンを凸版で印刷すると、第3図に
示すようにインキパターンaの周囲にマージナルゾーン
bと称する一種の隈取り現象が生じる。これは、凸版の
インキが高い印圧により周囲に押しやられるため、パタ
ーンの周囲は濃くはっきり印刷されるが、中央部は薄く
なったり或は白抜けになったりするからである。このよ
うなマージナルゾーンは、凸版独特の力強い調子の印刷
が得られる反面、インキの中抜は現象であるので、パタ
ーンがミクロンオーダーの高精細の場合にはパターンの
印刷不鮮明の原因になる。
[Prior Art] Conventionally, when a solid pattern is printed using a letterpress, a type of shading phenomenon called a marginal zone b occurs around the ink pattern a, as shown in FIG. This is because the letterpress ink is pushed to the periphery by the high printing pressure, so the periphery of the pattern is printed darkly and clearly, but the center becomes thinner or has white spots. Although such a marginal zone provides printing with a strong tone unique to letterpress printing, hollowing out of the ink is a phenomenon, and when the pattern is high-definition on the order of microns, it causes the pattern to be printed indistinctly.

[発明が解決しようとする課題]本発明は、このような従来の問題点を解決するためにな
され、ミクロンオーダーの高精細なバターンであっても
、インキの中抜は現象が生じることなく鮮明に印刷出来
るようにした樹脂凸版及びその製造方法を提供すること
を課題としたものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made to solve these conventional problems, and even for high-definition patterns on the micron order, hollowing out of ink can be performed clearly without causing any phenomena. The object of the present invention is to provide a resin letterpress plate that can be printed on and a method for manufacturing the same.

[課題を解決するための手段コこの課題を技術的に解決するための手段として、本発明
は合成樹脂で形成された凸版のインキ受容部である凸部
面に、この凸部面の周辺を除いてインキ溜りとなる凹部
を形成した樹脂凸版を要旨とするものである。また、本
発明は、基板の表面にフォトレジスト像を形成し、この
フォトレジスト像を含む前記基板の表面にフォトレジス
トを塗布し、その上にマスク板を被せて露光しかつ現像
することによって前記フォトレジスト像を底部に何する
マスター版を形成し、このマスター版面に薄膜導電層を
施すと共に電鋳層を施して剥離することによりファーザ
ー型を形成し、このファーザー型に電鋳層を施し剥離し
てマザー型を形成し、このマザー型を用いて樹脂成形手
段により前記樹脂凸版を成形することを要旨とするもの
である。
[Means for Solving the Problem] As a means for technically solving this problem, the present invention provides a method for forming a periphery of the convex surface on the convex surface which is the ink receiving part of a letterpress made of synthetic resin. The gist is a resin letterpress printing plate with recesses that serve as ink reservoirs. The present invention also provides a method for forming a photoresist image on the surface of a substrate, applying a photoresist to the surface of the substrate including the photoresist image, covering the photoresist with a mask plate, exposing the photoresist to light, and developing the photoresist. A master plate with a photoresist image on the bottom is formed, a thin conductive layer is applied to the surface of this master plate, and an electroformed layer is applied and peeled off to form a further mold, and an electroformed layer is applied to this further mold and peeled off. The gist of this method is to form a mother mold, and use this mother mold to mold the resin relief plate by a resin molding means.

[作 用]凸版面に形成された凹部がインキ溜りとなるので、高い
印圧が掛かってもインキが周囲に押しやられることがな
くインキの中抜は現象を未然に防止することが出来る。
[Function] Since the recesses formed on the letterpress surface serve as ink reservoirs, the ink is not pushed to the surrounding area even when high printing pressure is applied, and the phenomenon of ink hollowing out can be prevented.

[実施例コ以下、本発明の実施例について添付図面により詳細に説
明する。
[Embodiments] Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

第1図は、本発明に係る樹脂凸版1の一例を示すもので
、その凸版面1aには周辺を除いてインキ溜りとなる凹
部1bがそれぞれ形成されている。
FIG. 1 shows an example of a resin relief printing plate 1 according to the present invention, in which a relief surface 1a is formed with recesses 1b, which serve as ink reservoirs, except for the periphery.

この樹脂凸版1を製造するには、先ず第2図(イ)に示
すように表面を平滑に研磨したガラス基板11の上に、
水溶性フォトレジストか油溶性フォトレジストを用いて
厚さ0.3〜1.0μ程度のフォトレジスト保工2を形
成する。このフォトレジスト像12の形成工程は、前記
ガラス基板IIの上にポジ型もしくはネガ型のフォトレ
ジスト又は電子線レノストをコーティングした後、所望
の高精細パターンが形成された遮光膜のマスクを密着さ
せ、近紫外線で露光するか又は電子線をパターン状に照
射し、育機アルカリ性現像液で現像することにより行う
ことが出来る。
In order to manufacture this resin relief printing plate 1, first, as shown in FIG.
A photoresist coating 2 having a thickness of about 0.3 to 1.0 μm is formed using a water-soluble photoresist or an oil-soluble photoresist. In the step of forming the photoresist image 12, after coating the glass substrate II with a positive or negative photoresist or electron beam renost, a mask of a light-shielding film on which a desired high-definition pattern is formed is tightly attached. This can be carried out by exposing to near ultraviolet rays or irradiating with electron beams in a pattern, and developing with an alkaline developer.

次に、第2図(ロ)のようにフォトレジスト像12の形
成されたガラス基板11の上に、5〜lOμ程度の厚い
フォトレジスト13を塗布し、第2図(ハ)のようにそ
の上に所定のマスク板14を密着させて露光し、かつ現
像することによって第2図(ニ)のような前記フォトレ
ジスト像12を底部に有するマスター版I5を形成する
。この場合、現像後に加熱処理する等してマスター版1
5及び前記フォトレジスト像12の断面形状を台形にす
ると実際の使用上好ましい。
Next, as shown in FIG. 2(B), a thick photoresist 13 of about 5 to 10 μm is coated on the glass substrate 11 on which the photoresist image 12 is formed, and as shown in FIG. 2(C), A master plate I5 having the photoresist image 12 on the bottom as shown in FIG. 2(d) is formed by exposing and developing a predetermined mask plate 14 on the top. In this case, the master plate 1 is
5 and the cross-sectional shape of the photoresist image 12 is preferably trapezoidal for practical use.

この後、第2図(ネ)のように無電解メツキ法もしくは
真空蒸着法、スパッター蒸着法等を用いてマスター版I
5の表面に0.05〜0.2μ厚の薄膜導電層16を形
成して表面を導体化する。次いで第2図(へ)のように
、厚さ 0.2〜1.0■■の電鋳層17を形成するが
、これは例えば陽極ニッケルのスルファミン酸ニッケル
浴にて行い、ニッケル電鋳層を析出させることにより行
う。スルファミン酸ニッケル浴の一例としては、スルフ
ァミン酸ニッケルを500 g/ノにッケル換算)、硼
酸を30g/ 1、臭化ニッケルを3g/!で、電流密
度は最高時で4OA/dm2にて行うことが出来る。
After this, as shown in Fig. 2 (N), the master plate I
A thin film conductive layer 16 having a thickness of 0.05 to 0.2 μm is formed on the surface of 5 to make the surface conductive. Next, as shown in FIG. 2(f), an electroformed layer 17 with a thickness of 0.2 to 1.0 mm is formed, for example, in a nickel sulfamate bath of anode nickel, and the nickel electroformed layer 17 is formed. This is done by precipitating. An example of a nickel sulfamate bath is nickel sulfamate (500 g/1), boric acid 30 g/1, and nickel bromide 3 g/1! The current density can be set at a maximum of 4OA/dm2.

電鋳層17を形成した後、これを前記マスター版15か
ら剥離させると共に、表面に酸化膜又はクロム酸塩被膜
等の剥離層を形成する工程を施すことにより、第2図(
ト)に示すようにファーザー型Fを形成する。剥離層と
なる酸化膜を形成する場合には、電解脱脂液あるいは1
0%NaOR溶液中において電圧6Vで5〜60秒間陽
極酸化するか、或はクロム酸又は重クロム酸塩溶液(0
,7〜12g#)中に5〜45秒間浸漬すれば良い。こ
の後、第2図(チ)に示すようにファーザー型Fの上に
電鋳層18を形成し、これを剥離することによって第2
回(す)のようなマザー型Mを形成する。
After forming the electroformed layer 17, a process of peeling it off from the master plate 15 and forming a peeling layer such as an oxide film or a chromate film on the surface is performed, as shown in FIG.
Form father type F as shown in g). When forming an oxide film that will become a peeling layer, use an electrolytic degreasing solution or
Anodize in 0% NaOR solution at a voltage of 6 V for 5-60 seconds or in chromic acid or dichromate solution (0%
, 7-12g#) for 5-45 seconds. Thereafter, as shown in FIG.
A mother mold M like a circle is formed.

このようにして形成したマザー型Mを用いて、樹脂成形
手段により前記樹脂凸版1を成形するが、その−例とし
ては第2図(ヌ)に示すように射出成形金型19を利用
して溶融樹脂を注入することにより行うことが出来る。
Using the mother mold M thus formed, the resin relief plate 1 is molded by a resin molding means, for example, by using an injection mold 19 as shown in FIG. This can be done by injecting molten resin.

これ以外に、プレス成形手段によっても樹脂凸版1を成
形することが可能である。
In addition to this, it is also possible to mold the resin relief plate 1 by press molding means.

樹脂凸版1による印刷方式は、直刷りでもオフセット刷
りでもどちらでも良いが、前記のように樹脂凸版1の凸
部面1aの中央部にはインキ溜りとなる凹部1bがそれ
ぞれ形成されているので、印圧時にインキが中央部に維
持されてインキの中抜は現象が生じることはない。被印
刷体は紙以外にガラス、セラミック、樹脂、半導体基体
、金属板であって特に限定されない。
The printing method using the resin letterpress plate 1 may be either direct printing or offset printing, but as mentioned above, the concave portions 1b that serve as ink reservoirs are formed in the center of the convex surface 1a of the resin letterpress plate 1. During printing, the ink is maintained in the center and no hollowing out of the ink occurs. In addition to paper, the printing material may be glass, ceramic, resin, semiconductor substrate, or metal plate, and is not particularly limited.

[発明の効果コ以上説明したように、本発明によれば、合成樹脂で形成
された凸版のインキ受容部である凸部面に、この凸部面
の周辺を除いてインキ溜りとなる凹部を形成したので、
高い印圧が掛かってもインキが周囲に押しやられること
がなく、このためインキ中抜は現象を未然に防止し、ミ
クロンオーダーの高精細なパターンであっても鮮明に印
刷出来る等の優れた効果を奏する。また、本発明方法に
よれば、樹脂凸版はマザー型を用いて射出成形するか又
はプレス成形によって簡単に製造することが出来る。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, in the convex surface which is the ink receiving part of a letterpress made of synthetic resin, a concave part which becomes an ink reservoir is formed except for the periphery of the convex part surface. Since it was formed,
Even when high printing pressure is applied, the ink is not pushed away to the surrounding area, which prevents the phenomenon of ink hollowing, and has excellent effects such as being able to print clearly even with high-definition patterns on the micron order. play. Further, according to the method of the present invention, a resin relief plate can be easily manufactured by injection molding using a mother mold or press molding.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る樹脂凸版の一部の断面図、第2図
(イ)〜(ヌ)は本発明に係る樹脂凸版の製造を工程順
に示す説明図、第3図はマージナルゾーンを示す説明図
である。1・・・樹脂凸版     1a・・・凸部面1b・・
・凹部
Fig. 1 is a cross-sectional view of a part of the resin relief printing plate according to the present invention, Figs. FIG. 1... Resin letterpress 1a... Convex surface 1b...
・Concavity

Claims (2)

Translated fromJapanese
【特許請求の範囲】[Claims](1)合成樹脂で形成された凸版のインキ受容部である
凸部面に、この凸部面の周辺を除いてインキ溜りとなる
凹部を形成したことを特徴とする樹脂凸版。
(1) A resin letterpress plate made of synthetic resin, characterized in that a concave portion serving as an ink reservoir is formed on a convex surface serving as an ink receiving portion except for the periphery of the convex portion surface.
(2)基板の表面にフォトレジスト像を形成し、このフ
ォトレジスト像を含む前記基板の表面にフォトレジスト
を塗布し、その上にマスク板を被せて露光しかつ現像す
ることによって前記フォトレジスト像を底部に有するマ
スター版を形成し、このマスター版面に薄膜導電層を施
すと共に電鋳層を施して剥離することによりファーザー
型を形成し、このファーザー型に電鋳層を施し剥離して
てマザー型を形成し、このマザー型を用いて樹脂成形手
段により第1項記載の樹脂凸版を成形することを特徴と
する樹脂凸版の製造方法。
(2) Forming a photoresist image on the surface of a substrate, applying a photoresist to the surface of the substrate including the photoresist image, covering the photoresist with a mask plate, exposing and developing the photoresist image; A master plate is formed on the bottom, a thin conductive layer is applied to the surface of the master plate, and an electroformed layer is applied and peeled off to form a father mold. 1. A method for producing a resin relief printing plate, which comprises forming a mold, and using this mother mold, molding the resin relief printing plate according to item 1 by a resin molding means.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication numberPriority datePublication dateAssigneeTitle
JP2002178654A (en)*2000-12-132002-06-26Dainippon Printing Co Ltd Letterpress printing plate and plate making method
KR100880345B1 (en)*2001-07-132009-01-28가부시키가이샤 고무라테크 Printing plate for transferring the sealing compound for liquid crystal-based bonding
US20100180782A1 (en)*2002-09-092010-07-22International Business Machines CorporationPrinting in a Medium
JP2020524097A (en)*2017-07-052020-08-13ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニーThe Procter & Gamble Company Method for printing 3D micro-optical image on packaging system

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication numberPriority datePublication dateAssigneeTitle
JP2002178654A (en)*2000-12-132002-06-26Dainippon Printing Co Ltd Letterpress printing plate and plate making method
KR100880345B1 (en)*2001-07-132009-01-28가부시키가이샤 고무라테크 Printing plate for transferring the sealing compound for liquid crystal-based bonding
US20100180782A1 (en)*2002-09-092010-07-22International Business Machines CorporationPrinting in a Medium
US8267011B2 (en)*2002-09-092012-09-18International Business Machines CorporationStamp with drainage channels for transferring a pattern in the presence of a third medium
US8336456B2 (en)2002-09-092012-12-25International Business Machines CorporationPrinting in a medium
US8453569B2 (en)2002-09-092013-06-04International Business Machines CorporationStamp with permeable hydrophylic matrix
JP2020524097A (en)*2017-07-052020-08-13ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニーThe Procter & Gamble Company Method for printing 3D micro-optical image on packaging system
JP2022044672A (en)*2017-07-052022-03-17ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニーMethod of printing 3d-microoptic images on packaging systems
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