【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は光線カットフィルター、特に紫外線および赤外
線カットフィルターに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Field of Application) The present invention relates to a light cut filter, particularly an ultraviolet and infrared cut filter.
（従来の技術）従来、赤外線カットフィルターとしては、高屈折率層と
低屈折率層とを交互に多層積層してなる多層薄膜をガラ
ス等の透明基板上に形成することによって形成されたも
のがある。このような多層薄膜としては、たとえば高屈
折率層としてＴｉｅ、層、低屈折率層としてＳｉＯ２層
を積層した多層膜がある。(Prior Art) Conventionally, infrared cut filters have been formed by forming a multilayer thin film made by laminating high refractive index layers and low refractive index layers alternately on a transparent substrate such as glass. be. Such a multilayer thin film includes, for example, a multilayer film in which a Tie layer is laminated as a high refractive index layer and an SiO2 layer is laminated as a low refractive index layer.
しかしながら、従来のこのような方法で得られた多層膜
には以下に述べる欠点がある。However, the multilayer film obtained by this conventional method has the following drawbacks.
即ち、この多層膜では、赤外線のみはカットできるが、
他の領域の光線たとえば紫外線、特に３５０〜４００ｎ
−の長波長側の紫外線はＴｉＯ２やＳｉｎｇではカット
できないのである。また、紫外線のカット率を増大させ
ようとすると、可視域にも吸収を持ち着色し好ましくな
い。In other words, this multilayer film can only cut infrared rays, but
Light in other regions such as ultraviolet rays, especially 350-400n
- Ultraviolet rays on the longer wavelength side cannot be cut by TiO2 or Sing. Furthermore, if an attempt is made to increase the ultraviolet ray cut rate, the material absorbs even in the visible region and becomes colored, which is undesirable.
（発明が解決しようとする課題）従って本発明の目的は、紫外線、特に３５０〜４００ｎ
ｓ＋の長波長側の紫外線および赤外線域の光線を同時に
カットするフィルターを提供することにある。(Problems to be Solved by the Invention) Therefore, the object of the present invention is to
The object of the present invention is to provide a filter that simultaneously cuts ultraviolet rays and infrared rays on the long wavelength side of s+.
本発明の他の目的は、着色のない上記フィルターを提供
することにある。Another object of the present invention is to provide the above filter without coloring.
さらに、本発明の他の目的は上記フィルターを低コスト
で提供することにある。Furthermore, another object of the present invention is to provide the above filter at low cost.
（課題を解決するための手段）本発明の目的は、透明基板上に高屈折率層と低屈折率層
が交互に積層されて成り、高屈折率層の少なくとも１層
がチタン酸化物およびセリウム酸化物を含有したフィル
ターによって達成される。(Means for Solving the Problems) An object of the present invention is to provide a structure in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated on a transparent substrate, and at least one of the high refractive index layers is made of titanium oxide and cerium. This is achieved by a filter containing oxides.
以下本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.
本発明の紫外線および赤外線カットフィルターにおける
多層膜は高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されて
いる。高屈折率層は好ましくは、金属の酸化物層が用い
られる。たとえば、チタン、ジルコニウム、スズなどの
酸化物が用いられる。The multilayer film in the ultraviolet and infrared cut filter of the present invention has high refractive index layers and low refractive index layers stacked alternately. The high refractive index layer is preferably a metal oxide layer. For example, oxides of titanium, zirconium, tin, etc. are used.
本発明においては、高屈折率層の少なくとも１層がチタ
ン酸化物およびセリウム酸化物を含有することによって
、３５０ｎ■より長波長の紫外線および赤外線の両方を
同時にカットするフィルターを提供できる。In the present invention, since at least one of the high refractive index layers contains titanium oxide and cerium oxide, it is possible to provide a filter that simultaneously cuts both ultraviolet rays and infrared rays with wavelengths longer than 350 nm.
チタン酸化物、セリウム酸化物単独では３５０ ｎｍよ
り長波長の紫外線をカットできないが、両者を混合する
ことによって３５０ ｎｍより長波長の紫外線カツト効
果を持つ、しかし、両者を混合させたのみではカットす
る波長は可視域にまでのびてしまい紫外線のみをカット
することができない。Titanium oxide and cerium oxide alone cannot cut ultraviolet rays with wavelengths longer than 350 nm, but by mixing the two, they have the effect of blocking ultraviolet rays with wavelengths longer than 350 nm.However, mixing the two alone does not cut UV rays with wavelengths longer than 350 nm. The wavelength extends into the visible range, making it impossible to cut only ultraviolet rays.
本発明においては、チタン酸化物およびセリウム酸化物
を含む薄膜を以下の工程で作製することにより、３５０
ｎｍより長波長の紫外線のみをカットすることができ
た。In the present invention, by producing a thin film containing titanium oxide and cerium oxide in the following steps,
It was possible to cut only ultraviolet rays with wavelengths longer than nm.
すなわち、少なくとも１つ以上の水酸基と少なくとも１
つ以上のエーテル基を有する有機化合物の存在下で、チ
タン有機化合物とセリウム化合物を加水分解し、ゾル化
し塗布焼結することによって得られたチタン酸化物とセ
リウム酸化物を含む薄膜により、３５０ ｎｓより長波
長の紫外線のみをカットし、着色のないフィルターを作
製することができた。このような方法により、３５０
ｎｓより長波長の紫外線をカットし着色のないフィルタ
ーが得られることは従来予想もつかなかったことである
。That is, at least one hydroxyl group and at least one
A thin film containing titanium oxide and cerium oxide obtained by hydrolyzing a titanium organic compound and a cerium compound, forming a sol, coating and sintering in the presence of an organic compound having three or more ether groups, We were able to create a color-free filter that only blocks longer wavelength ultraviolet rays. With this method, 350
It was previously unimaginable to be able to obtain a color-free filter that cuts ultraviolet rays with wavelengths longer than ns.
このような金属化合物の混合溶液に水を添加して金属イ
オンをゾル化する方法は、一般にはゾルゲル法といわれ
ているものである。The method of adding water to such a mixed solution of metal compounds to turn metal ions into a sol is generally referred to as a sol-gel method.
ゾルゲル法による薄膜の形成方法は、たとえば「ゾル・
ゲル法によるガラス・セラミックスの製造技術とその応
用」（山根正之監著 応用技術出版１９８９年）１０８
〜１４０ページに記載されている。For example, the method for forming thin films using the sol-gel method is
"Production technology of glass and ceramics by gel method and its application" (edited by Masayuki Yamane, Applied Technology Publishing, 1989) 108
It is described on pages 140 to 140.
たとえば、チタンテトラメトキシドをメタノールに溶解
しておく、これに、塩酸などの酸、および水などチタン
テトラメキシドの分解剤を加える。For example, titanium tetramethoxide is dissolved in methanol, and to this is added an acid such as hydrochloric acid and a decomposing agent for titanium tetramethoxide such as water.
チタンテトラメキシドが加水分解されＴｉ −０−Ｔｉ
結合を有するゾルが形成される。粘度を適切に選択する
ことにより、任意の手段で塗布し薄膜を形成する。ｖ！
布方法としては、デイツプ法、スピン塗布法、スプレー
法などから選択される。ついで、焼結する。Titanium tetramexide is hydrolyzed to form Ti -0-Ti
A sol with bonds is formed. By appropriately selecting the viscosity, it can be applied by any means to form a thin film. v!
The fabric method is selected from dip methods, spin coating methods, spray methods, etc. Then, it is sintered.
本発明で用いられるチタンの有機金属化合物としては、
好ましくはチタンアルコキシドである。The titanium organometallic compound used in the present invention includes:
Titanium alkoxide is preferred.
チタンアルコキシドは一般式Ｔｉ（ＯＲ）イであられさ
れる。ここでｎは整数であり、アルコラード基の配位数
をあられし、−船釣には１〜４である。Ｒは任意のアル
キル基から選択される。Ｒとしては、たとえばメチル基
、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、
などがある。Titanium alkoxide has the general formula Ti(OR). Here, n is an integer representing the coordination number of the alcoholade group, and is 1 to 4 for boat fishing. R is selected from any alkyl group. R is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group,
and so on.
セリウム化合物としては、セリウムの無機化合物、たと
えば硝酸セリウム、塩化セリウム、硫酸セリウムなどが
好ましく用いられる。As the cerium compound, inorganic cerium compounds such as cerium nitrate, cerium chloride, and cerium sulfate are preferably used.
チタンの有機金属化合物とセリウム化合物の混合割合と
しては、モル比でＴｉ ： Ｃｅ＝ １ ： ５〜１０
０：１の範囲であることが好ましい。The mixing ratio of the titanium organometallic compound and the cerium compound is Ti:Ce=1:5-10 in molar ratio.
A range of 0:1 is preferred.
少なくとも１つ以上の水酸基と少なくとも１つ以上のエ
ーテル基を有する有機化合物としては、グリコールのエ
ーテル体が好ましく、具体的には、２−（２−メトキシ
エトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）
エタノール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコー
ルジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、
２−（２−メトキシプロピル）エタノール、２− （２
−エトキシエトキシ）プロパツール、などが好ましく用
いられる。この有機化合物の全金属イオンに対する添加
量はモル比で０．１〜１０の範囲が好ましい。As the organic compound having at least one hydroxyl group and at least one ether group, glycol ethers are preferable, and specifically, 2-(2-methoxyethoxy)ethanol, 2-(2-ethoxyethoxy) )
Ethanol, diethylene glycol dimethyl ether,
Diethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether,
2-(2-methoxypropyl)ethanol, 2-(2
-ethoxyethoxy) propatool, etc. are preferably used. The amount of this organic compound added to the total metal ions is preferably in the range of 0.1 to 10 in terms of molar ratio.
本発明においては、少なくとも１つ以上の水酸基と少な
くとも１つ以上のエーテル基を有する有機化合物の存在
下で、チタン有機化合物、好ましくはチタンアルコキシ
ドとセリウム化合物を加水分解し、ゾル化することを特
徴としている。ゾルゲル法においては、２種以上の金属
アルコラードを加水分解するときその反応速度が異なる
と一方のみが加水分解してしまい均一な反応液が得られ
ない。また、ゾル化反応液が不安定になることが多い。The present invention is characterized in that a titanium organic compound, preferably a titanium alkoxide and a cerium compound, are hydrolyzed and sol-formed in the presence of an organic compound having at least one hydroxyl group and at least one ether group. It is said that In the sol-gel method, when two or more types of metal alcoholides are hydrolyzed, if their reaction rates are different, only one of them will be hydrolyzed, making it impossible to obtain a uniform reaction solution. Moreover, the sol-forming reaction solution often becomes unstable.
しかし２種以上のアルコラードを加水分解する場合でも
本発明において用いられる上記有機化合物はこのような
不安定性をも解決する。However, even when two or more types of alcoholades are hydrolyzed, the organic compounds used in the present invention solve this instability.
本発明においては、水を添加して金属イオンをゾル化さ
せるのだが、水の量は任意でよい。好ましくは、金属イ
オンに対し１〜１０倍モル量である。In the present invention, water is added to solize the metal ions, but the amount of water may be arbitrary. Preferably, the molar amount is 1 to 10 times that of the metal ion.
また、ゾル化するときに、酸を添加してもよい。Furthermore, an acid may be added when forming a sol.
添加する場合の酸としては硝酸、塩酸、酢酸、硫酸など
が好ましい。反応温度は任意のもので良いが、好ましく
は５０〜８０℃である。溶媒は、これらの化合物が溶解
するものであれば任意で良いが、好ましくはエチルアル
コール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどア
ルコール類が用いられる。焼結は有機化合物が除去され
る温度であるべきであり、好ましくは１００ ’Ｃ以上
がよい、また基板が変形または変質しない温度であるべ
きで、本発明の場合は７００°Ｃ以下が好ましい。加熱
時間は５〜１２０分でよい。Preferred acids when added include nitric acid, hydrochloric acid, acetic acid, and sulfuric acid. The reaction temperature may be arbitrary, but preferably 50 to 80°C. Any solvent may be used as long as these compounds can be dissolved therein, but alcohols such as ethyl alcohol, propyl alcohol, and butyl alcohol are preferably used. The sintering should be carried out at a temperature at which organic compounds are removed, preferably at least 100'C, and at a temperature at which the substrate is not deformed or altered, preferably at most 700'C in the present invention. The heating time may be 5 to 120 minutes.
低屈折率層は、好ましくは金属の酸化物層またはフッ化
物層からなる。たとえば、シリコン、ホウソの酸化物層
またはカルシウム、マグネシウムのフッ化物層が用いら
れる。The low refractive index layer preferably consists of a metal oxide layer or a fluoride layer. For example, an oxide layer of silicon or borax or a fluoride layer of calcium or magnesium is used.
チタンおよびセリウム化合物の混合層以外の高屈折率層
と低屈折率層は、各種薄膜の製造法により作製すること
ができる。好ましくは、スパッター法、蒸着法、ＰＣＶ
Ｄ法、ゾルゲル法などで作製することができる。The high refractive index layer and the low refractive index layer other than the mixed layer of titanium and cerium compounds can be manufactured by various thin film manufacturing methods. Preferably, sputtering method, vapor deposition method, PCV
It can be produced by method D, sol-gel method, etc.
積層方法は１層塗布後続いて塗布してもよいし、焼結後
さらに塗布してもよい。本発明で用いられる薄膜は少な
くとも２層以上積層されることが必要である。The lamination method may be such that one layer is applied and then another layer is applied, or another layer is applied after sintering. The thin film used in the present invention needs to be laminated in at least two layers.
塗布する基板としては、透明な基板であれば何でも良い
が、好ましくはソーダライムなどのガラス基板、石英基
板、ポリカーボネートなどのプラスチック基板などから
選択される。The substrate to be coated may be any transparent substrate, but is preferably selected from glass substrates such as soda lime, quartz substrates, and plastic substrates such as polycarbonate.
カットする赤外線の波長は、構成する薄膜の屈折率と膜
厚を変化させることにより任意に選択することができる
。The wavelength of the infrared rays to be cut can be arbitrarily selected by changing the refractive index and film thickness of the constituent thin films.
（作 用）本発明によれば、透明基板上に高屈折率層と低屈折率層
が交互に積層され、高屈折率層の少なくとも１層がチタ
ン酸化物およびセリウム酸化物を含有することにより、
紫外線、特に３５０〜４００ ｎｍの長波長側の紫外線
および赤外線域の光線を同時にカットするフィルターを
提供することができる。(Function) According to the present invention, high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated on a transparent substrate, and at least one layer of the high refractive index layers contains titanium oxide and cerium oxide. ,
It is possible to provide a filter that simultaneously cuts ultraviolet rays, particularly ultraviolet rays on the longer wavelength side of 350 to 400 nm, and rays in the infrared region.
また、着色のないフィルターを提供することができる。Moreover, a filter without coloring can be provided.
（実施例）以下実施例および比較例でさらに詳細に述べる。(Example)Further details will be described below in Examples and Comparative Examples.
上」列外チタンテトライソプロポキシド１８ｇをエタノール２０
０ ｍｌに加えた。水２ｍ＋１およびＨＮＯｓ （６１
％）３１を加え、４０℃で１時間加熱した。溶液の粘度
は１．８ ｃｐであった。スピンナーによりソーダライ
ムガラス上に塗布した。スピンナー塗布条件は３００ｒ
ｐｍで３０秒であった。塗布試料を大気中で乾燥させた
後、電気炉中に入れ、５００℃で１０分間焼結した。18g of titanium tetraisopropoxide outside the top column and 20g of ethanol
Added to 0 ml. 2m+1 water and HNOs (61
%) 31 was added and heated at 40°C for 1 hour. The viscosity of the solution was 1.8 cp. It was applied onto soda lime glass using a spinner. Spinner application conditions are 300r
pm and 30 seconds. After drying the coated sample in the air, it was placed in an electric furnace and sintered at 500° C. for 10 minutes.
得られた薄膜試料の膜厚は０．３μ−であった。The thickness of the obtained thin film sample was 0.3 μ-.
２ の ！シリコンエトキシド１６ｇをエタノール１００ ｍｌ中
に加えた。水２＋＋＋１およびＨＮＯｉ （６１％）３
鵬１を加え、４０″Ｃで１時間加熱した。溶液の粘度は
１．８ ｃｐであった。溶液の一部をとり上で作成した
塗膜の上に上記と同様の条件で塗布した。塗布試料を大
気中で乾燥させた後、電気炉中に入れ、５００°Ｃで１
０分間焼結した。第２層の膜厚は０．２９μ謡であった
。2! 16 g of silicon ethoxide was added to 100 ml of ethanol. Water 2+++1 and HNOi (61%)3
Peng 1 was added and heated at 40"C for 1 hour. The viscosity of the solution was 1.8 cp. A portion of the solution was taken and applied on the coating film prepared above under the same conditions as above. After drying the coated sample in the air, it was placed in an electric furnace and heated at 500°C for 1
Sintered for 0 minutes. The thickness of the second layer was 0.29 μm.
３の第１層で作製した溶液の一部を取り、第１層と同様の条
件で塗布、焼結した。第３層の膜厚は０．３μ−であっ
た・４ の °１１層層で作製
した溶液の一部を取り、第２層と同様の条件で塗布、焼
結した。第４層の膜厚は０．２９μ−であった。A portion of the solution prepared in the first layer of No. 3 was taken and applied and sintered under the same conditions as the first layer. The thickness of the third layer was 0.3 μ-. A portion of the solution prepared in the 4°11 layer was applied and sintered under the same conditions as the second layer. The thickness of the fourth layer was 0.29μ.
得られた多層膜の透過率曲線を第２図に示した。The transmittance curve of the obtained multilayer film is shown in FIG.
７８０ｎ−より長波長の赤外域では透過率が５７％にま
で低下し赤外線をカットしていることがわかる。In the infrared region with a wavelength longer than 780n-, the transmittance decreases to 57%, indicating that infrared rays are cut.
しかし、３５０〜４００ ｎ−の紫外域では高い透過率
を示し紫外線をカットしていない。However, it exhibits high transmittance in the ultraviolet region of 350 to 400 n- and does not block ultraviolet rays.
塩化セリウム１．９ｇをエタノール３０ ｃｃ中に加え
溶解した。この溶液にチタニウムテトライソプロポキシ
ド１．４ｇを添加し、さらに２−（２−メトキシエトキ
シ）エタノール１．５ｇを加え、８０°Ｃで１時間攪拌
、加熱した。室温まで冷却した後、水０．２５−１およ
び６１％硝酸０．１■１を加え、８０℃で１時間攪拌、
加熱した。この時のｐＨは２であった。この溶液を室温
まで冷却した後、溶液の一部を取り、スピンナーにより
ソーダライムガラス上に塗布した。スピンナー塗布条件
は３００ｒｐｍで３０秒であった。塗布試料を大気中で
乾燥させた後、電気炉中に入れ、５００℃で１０分間焼
結した。得られた薄膜試料の膜厚は０．２９μ−であっ
た。1.9 g of cerium chloride was added and dissolved in 30 cc of ethanol. 1.4 g of titanium tetraisopropoxide was added to this solution, and further 1.5 g of 2-(2-methoxyethoxy)ethanol was added, followed by stirring and heating at 80°C for 1 hour. After cooling to room temperature, add 0.25-1 of water and 0.1-1 of 61% nitric acid, stir at 80°C for 1 hour,
Heated. The pH at this time was 2. After cooling the solution to room temperature, a portion of the solution was taken and applied onto soda lime glass using a spinner. The spinner coating conditions were 300 rpm and 30 seconds. After drying the coated sample in the air, it was placed in an electric furnace and sintered at 500° C. for 10 minutes. The thickness of the obtained thin film sample was 0.29μ.
２ の “ｉシリコンエト
キシド１６ｇをエタノール１００１中に加えた。水２＊
１およびＨＮＯ３（６１％）３１を加え、４０℃で１時
間加熱した。溶液の粘度は１．８ ｃｐであった。ｆ＠
液の一部をとり上で作成した塗膜の上に上記と同様の条
件で塗布した。塗布試料を大気中で乾燥させた後、電気
炉中に入れ、５００°Ｃで１０分間焼結した。第２層の
膜厚は０．２８μｍであった。2. 16g of silicon ethoxide was added to ethanol 1001.Water 2*
1 and HNO3 (61%) were added and heated at 40°C for 1 hour. The viscosity of the solution was 1.8 cp. f@
A portion of the solution was taken and applied onto the coating film prepared above under the same conditions as above. After drying the coated sample in the air, it was placed in an electric furnace and sintered at 500°C for 10 minutes. The thickness of the second layer was 0.28 μm.
３ の １第１層で作製した溶液の一部を取り、第１層と同様の条
件で塗布、焼結した。第３層の膜厚は０．２９μｌであ
った。3-1 A portion of the solution prepared in the first layer was taken and applied and sintered under the same conditions as the first layer. The thickness of the third layer was 0.29 μl.
４ の １１第２層で作製
した溶液の一部を取り、第２層と同様の条件で塗布、焼
結した。第４層の膜厚は０．２８μ園であった。4-11 A portion of the solution prepared in the second layer was taken and applied and sintered under the same conditions as the second layer. The thickness of the fourth layer was 0.28 μm.
得られた多層膜の透過率曲線を第１図に示した。The transmittance curve of the obtained multilayer film is shown in FIG.
７８０ｎ−より長波長の赤外域では透過率が５７％にま
で低下し赤外線をカットしていることがわかる。In the infrared region with a wavelength longer than 780n-, the transmittance decreases to 57%, indicating that infrared rays are cut.
また、３５０〜４００ ｎｍの紫外域では透過率が低下
し紫外線をカットしていることがわかる。Furthermore, the transmittance decreases in the ultraviolet region of 350 to 400 nm, indicating that ultraviolet rays are blocked.
皇ｌ■Ｉ実施例１の高屈折率層の作製における塩化セリウムに変
えてチタニウム−ｎ−ブトキシドを２．０ｇ用い、チタ
ニウムテトライソプロポキシドに変えてトリエチレング
リコールモノメチルエーテルを１．８ｇ用いた他は、実
施例１と同様にして薄膜試料を作製した。In the production of the high refractive index layer in Example 1, 2.0 g of titanium-n-butoxide was used instead of cerium chloride, and 1.8 g of triethylene glycol monomethyl ether was used instead of titanium tetraisopropoxide. Otherwise, a thin film sample was prepared in the same manner as in Example 1.
得られた多層膜は実施１と同様に３５０〜４００ ｎｍ
の紫外線と赤外線をカットしていた。The obtained multilayer film had a thickness of 350 to 400 nm as in Example 1.
It blocks ultraviolet and infrared rays.
裏旌貫主実施例１における第３層（高屈折率層）の作製に変えて
以下に記述する方法により第３層を作製した他は、実施
例１と同様にして多層膜を作製した。A multilayer film was produced in the same manner as in Example 1, except that instead of producing the third layer (high refractive index layer) in Example 1, the third layer was produced by the method described below.
ＲＦスパッター法によりＴｉＯ２膜を作製した。作製条
件は、圧力はＩ Ｘ １０− ”Ｔｏｒｒ、基板温度は
３００°Ｃ、ターゲットはＴｉ０ｚ、 ５％のＯｚガス
を含むＡｒガスを用いた。膜厚は０．２９μ−であった
。A TiO2 film was produced by RF sputtering. The manufacturing conditions were as follows: the pressure was I x 10-'' Torr, the substrate temperature was 300° C., the target was TiOz, and Ar gas containing 5% Oz gas was used. The film thickness was 0.29 μ-.
得られた多層膜は実施例１と同様に３５０〜４００ｎｍ
の紫外線と赤外線をカットしていた。The obtained multilayer film had a thickness of 350 to 400 nm as in Example 1.
It blocks ultraviolet and infrared rays.
裏隻班土実施例３における第２．４層（低屈折率層）の作製に変
えて、以下に記述する方法により第２．４層を作製した
他は、実施例３と同様にして多層膜を作製した。A multilayer fabric was fabricated in the same manner as in Example 3, except that instead of fabricating the 2.4 layer (low refractive index layer) in Example 3, the 2.4 layer was fabricated by the method described below. A membrane was prepared.
ＲＦスパッター法により５ｔｏｚｌｌｌを作製した。作
製条件は、圧力は８ Ｘ １０” ３Ｔｏｒｒ、基板温
度は２５０℃、ターゲットはＳｉｎ、、 ８％の０□ガ
スを含むＡｒガスを用いた。膜厚はそれぞれ０．２８μ
閣であった。5tozllll was produced by RF sputtering method. The manufacturing conditions were a pressure of 8 x 10'' 3 Torr, a substrate temperature of 250°C, a target of Sin, and an Ar gas containing 8% 0□ gas.The film thickness was 0.28μ for each.
It was a cabinet.
得られた多層膜は実施例１と同様に３５０〜４００ｉｓ
の紫外線と赤外線をカットしていた。The obtained multilayer film had a thickness of 350 to 400 is as in Example 1.
It blocks ultraviolet and infrared rays.
１隻１一実施例１における第３層（高屈折率層）の作製に変えて
、以下に記述する方法により第３層を作製した他は、実
施例１と同様にして多層膜を作製した。1 boat 11 A multilayer film was produced in the same manner as in Example 1, except that instead of producing the third layer (high refractive index layer) in Example 1, the third layer was produced by the method described below. .
テトライソプロポキシジルコニウム１６ｇをエタノール
２００ ｍｌに加えた。水２ｍｌを加え、室温で１時間
放置した。溶液の粘度は１．７ ｃｐであった。スピン
ナーによりソーダライムガラス上に塗布した。16 g of tetraisopropoxyzirconium was added to 200 ml of ethanol. 2 ml of water was added and the mixture was left at room temperature for 1 hour. The viscosity of the solution was 1.7 cp. It was applied onto soda lime glass using a spinner.
スピンナー塗布条件は３００ ｒｐｍで３０秒であった
。Spinner application conditions were 300 rpm and 30 seconds.
塗布試料を大気中で乾燥させた後、電気炉中に入れ、５
００℃で１０分間焼結した。得られた薄膜試料の膜厚は
０．２９μ■であった。After drying the coated sample in the air, it was placed in an electric furnace and heated for 5 minutes.
Sintering was carried out at 00°C for 10 minutes. The thickness of the obtained thin film sample was 0.29 μm.
得られた多層膜は実施例１と同様に３５０〜４００ｎｗ
の紫外線と赤外線をカットしていた。The obtained multilayer film had a power of 350 to 400 nw as in Example 1.
It blocks ultraviolet and infrared rays.
（発明の効果）以上詳述した様に本発明によれば、高屈折率層と低屈折
率層が交互に透明基板上に多層積層されて成り、高屈折
率層の少なくとも１層が少なくとも１つ以上の水酸基と
少なくとも１つ以上のエーテル基を有する有機化合物の
存在下で、チタン有機化合物とセリウム化合物を加水分
解し、チタン酸化物およびセリウム酸化物を含む薄膜か
ら成り、紫外線、特に３５０〜４０００−の長波長側の
紫外線および赤外線域の光線を同時にカットするフィル
ターを提供することができる。また、着色のないフィル
ターを提供することができる。さらに、このフィルター
を低コストで作製できるという効果が得られる。(Effects of the Invention) As detailed above, according to the present invention, high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated on a transparent substrate, and at least one of the high refractive index layers is In the presence of an organic compound having at least one hydroxyl group and at least one ether group, a titanium organic compound and a cerium compound are hydrolyzed to form a thin film containing titanium oxide and cerium oxide, and UV light, especially at 350~ It is possible to provide a filter that simultaneously cuts out ultraviolet rays and infrared rays on the long wavelength side of 4000 -. Moreover, a filter without coloring can be provided. Furthermore, the effect that this filter can be produced at low cost can be obtained.
第１図は実施例１の多層膜の透過率を表わす線図、第２図は比較例の多層膜の透過率を表わす線図である。頚咽、鰹ド慎咽・軽状FIG. 1 is a diagram showing the transmittance of the multilayer film of Example 1,FIG. 2 is a diagram showing the transmittance of a multilayer film of a comparative example.Cervical throat, bonitoSore throat/mild condition
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30396790AJPH04177204A (en) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | Ultraviolet and infrared ray cut filter |
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30396790AJPH04177204A (en) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | Ultraviolet and infrared ray cut filter |
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04177204Atrue JPH04177204A (en) | 1992-06-24 |
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30396790APendingJPH04177204A (en) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | Ultraviolet and infrared ray cut filter |
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04177204A (en) |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5449413A (en)* | 1993-05-12 | 1995-09-12 | Optical Coating Laboratory, Inc. | UV/IR reflecting solar cell cover |
| JP2004131717A (en)* | 2002-09-20 | 2004-04-30 | Nippon Paper Industries Co Ltd | Film having high-refractive-index coating film layer |
| CN102537852A (en)* | 2009-05-13 | 2012-07-04 | 李欣洋 | LED light source using optical glass filter |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5449413A (en)* | 1993-05-12 | 1995-09-12 | Optical Coating Laboratory, Inc. | UV/IR reflecting solar cell cover |
| JP2004131717A (en)* | 2002-09-20 | 2004-04-30 | Nippon Paper Industries Co Ltd | Film having high-refractive-index coating film layer |
| CN102537852A (en)* | 2009-05-13 | 2012-07-04 | 李欣洋 | LED light source using optical glass filter |
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
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