JPH02200788A - Buffing detergent - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To produce a buffing detergent having a significant removing effect by preparing a detergent contg. a specified chlorofluorohydrocarbon having a specified number of carbon atoms as an effective component. CONSTITUTION:A buffing detergent contg. at least one kind of 3C chlorofluorohydrocarbon selected among CF3CF2CHClF, CClF2CF2CHF2, CCl3CF2 CHCl2, CCl2FCF2CHCl2, CCl3CF2CHClF, CCl3CF2CHF2, CHCl2CF2CHCl2, CCl3CF2 CH2Cl, CCl2FCF2CH2Cl, CHCl2CF2CHClF, CCl3CF2CH2F, CCl3CF2CH3 and CHCl2 CF2CH2Cl as an effective component is prepd. At least one kind of org. solvent selected among hydrocarbons such as n-pentane, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, chlorohydrocarbons such as methylene chloride, esters such as methyl formate, etc., may be added to the detergent by about 0-50wt.% in acordance with various purposes for which the detergent is used.

Description

Translated fromJapanese

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明はパフ研磨剤を用いて研磨した金属部品等に付着
した研磨剤類を除去するために用いるパフ研磨洗浄剤に
関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a puff polishing cleaning agent used for removing abrasives adhering to metal parts and the like that have been polished using a puff polishing agent.

［従来の技術］精密金属部品、装飾部品等のパフ研磨工程で研磨剤類が
使われるが、これらが付着したままでは製品とはならな
い場合が多い。従って、このような部品の仕上げ工程で
は有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種類と
しては１．１．１−トリクロルエタンが広く使われてい
る。[Prior Art] Abrasives are used in the puff polishing process for precision metal parts, decorative parts, etc., but in many cases, products cannot be produced if these remain attached. Therefore, in the finishing process of such parts, organic solvents are used for cleaning. As a type of solvent, 1.1.1-trichloroethane is widely used.

［発明が解決しようとする課題］本発明は従来使用されていたｉ、ｉ、１−ｔ−リクロル
エタンは地下水汚染の点から好ましくないため、その使
用量を抑えるべく　１．１．１４リクロルエタンにかわ
る新規のパフ研磨洗浄剤を提供することを目的とするも
のである。[Problems to be Solved by the Invention] The present invention aims to reduce the amount of i, i, 1-t-lichloroethane used in the past because it is undesirable in terms of groundwater contamination. The object of the present invention is to provide a novel puff polishing cleaning agent.

［課題を解決するための手段］本発明は前述の目的を達成すべく成されたものであり炭
素数が３である特定の塩化弗化炭化水素を有効成分とし
て含有するパフ研磨洗浄剤を提供するものである。[Means for Solving the Problems] The present invention was made to achieve the above-mentioned object, and provides a puff polishing cleaning agent containing a specific chlorofluorohydrocarbon having 3 carbon atoms as an active ingredient. It is something to do.

本発明の塩化弗化炭化水素としてはＣＦｓ（：Ｆｔ（：ＨＣＱＦ（Ｒ２２６ｅａ）、ＣＧ１
２ＦａＣＦ＊Ｃ）ＩＦｉ　（Ｒ２２６ｃｂ）。Examples of the chlorofluorinated hydrocarbons of the present invention include CFs(:Ft(:HCQF(R226ea), CG1
2FaCF*C)IFi (R226cb).

ＣＣＱ１ＣＦ２ＣＨＣＱＮ（Ｒ２２２ｃ）、（：ＣＬＦ
ＣＦＩＣＨＣＩ２！（Ｒ２２３ｅａ）。CCQ1CF2CHCQN (R222c), (:CLF
CFICHCI2! (R223ea).

ＣＣＱｓＣＦｔＣｌ（ＣＱＦ（Ｒ２２３ｃｂ）、（：Ｃ
Ｉ２ｍＣＦ＊Ｃ１（Ｆｔ　（Ｒ２２４ｅｅ）　−ＣＨＣ
（ｌｓＣＦ−ＣＨＣＱ２（Ｒ２３２ｃａ１．ＣＣ１２−
ＣＦｓＣＨ−ＣＱ（Ｒ２３２ｃｂ）、ＣＯＧ！、ＦＣＦ
、ＣＩｌ、ＣＱ（Ｒ２３３ｃｂ）、ＣＨＣＱ、ＣＦ、Ｃ
ＨＣ（！Ｆ（Ｒ２３３ｅａ）、ＧＣｆ２ｍＣＦ２ＣＨ，
Ｆ（Ｒ２３３ｃＣ）、ｃｃＬｃＦ２ｃＨｓ（Ｒ２４２ｅ
ｂ）、ｅｌｌＣＱ、ＣＦＩＣ：ＨＩＣＱ（Ｒ２４２Ｃａ
）等の水素含有塩化弗化炭化水素から選ばれる１種又は
２種以上の混合物が好ましい。CCQsCFtCl(CQF(R223cb), (:C
I2mCF*C1(Ft (R224ee) -CHC
(lsCF-CHCQ2(R232ca1.CC12-
CFsCH-CQ (R232cb), COG! ,FCF
, CIl, CQ (R233cb), CHCQ, CF, C
HC(!F(R233ea), GCf2mCF2CH,
F (R233cC), ccLcF2cHs (R242e
b), ellCQ, CFIC:HICQ (R242Ca
) or a mixture of two or more selected from hydrogen-containing chlorinated fluorinated hydrocarbons such as

本発明のパフ研磨洗浄剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
側の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも１種を含有させることが
できる。これらの有機溶剤のパフ研磨洗浄剤中の含有割
合は、０〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％、
さらに好ましくは２０〜３０重量％である。本発明の塩
化弗化炭化水素類と有機溶剤との混合物に共沸組成が存
在する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。The puff polish cleaning agent of the present invention can contain various other components depending on various purposes. For example, in order to enhance the removal effect on the polishing side, at least one organic solvent selected from hydrocarbons, alcohols, ketones, chlorinated hydrocarbons, or esters can be included. The content of these organic solvents in the puff polishing cleaning agent is 0 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight,
More preferably, it is 20 to 30% by weight. When the mixture of the chlorofluorinated hydrocarbon and the organic solvent of the present invention has an azeotropic composition, it is preferable to use the azeotropic composition.

炭化水素類としては炭素数１〜１５の直鎖又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、Ｉ〕−ペンタン、
インペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチ
ルペンタン、２．２−ジメチルブタン、２．３−ジメチ
ルブタン、ｎ−へブタン。The hydrocarbons are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbons having 1 to 15 carbon atoms, such as I]-pentane,
Impentane, n-hexane, isohexane, 2-methylpentane, 2,2-dimethylbutane, 2,3-dimethylbutane, n-hebutane.

イソへブタン、３−メチルヘキサン、２，４−ジメヂル
ベンタン、ｎ−オクタン、２−メヂルヘブタン、３−メ
チルへブタン、４−メチルへブタン、２．２−ジメチル
ヘキサン、２．５−ジメチルヘキサン、３．３−ジメチ
ルヘキサン、２−メチル−３−工、チルペンタン、３−
メチル−３−エチルペンタン、２、３．３−トリメチル
ペンタン、２，３．４−トリメチルペンタン、２，２．
３−トリメチルペンタン、イソオクタン、ノナン、２，
２．５−トリメチルヘキサン、デカン、ドデンカン、■
−ペンテン、２−ペンテン、ｌ−ヘキセン、１−オクテ
ン、■−ノネン、１−デセン、シクロペンタン、メチル
シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキサン、シクロ
ヘキセン、α−ピネン、ジペンテン、デカリン、テトラ
リン、アミレン、アミルナフタレン等から選ばれるもの
である。より好ましくは、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン
、シクロヘキサン、ｎ−へブタン等である。Isohebutane, 3-methylhexane, 2,4-dimethylbentane, n-octane, 2-methylhebutane, 3-methylhebutane, 4-methylhebutane, 2.2-dimethylhexane, 2.5-dimethylhexane, 3 .3-dimethylhexane, 2-methyl-3-ethyl, chilpentane, 3-
Methyl-3-ethylpentane, 2,3.3-trimethylpentane, 2,3.4-trimethylpentane, 2,2.
3-trimethylpentane, isooctane, nonane, 2,
2.5-trimethylhexane, decane, dodencane, ■
-Pentene, 2-pentene, l-hexene, 1-octene, ■-nonene, 1-decene, cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, bicyclohexane, cyclohexene, α-pinene, dipentene, decalin , tetralin, amylene, amylnaphthalene, etc. More preferred are n-pentane, n-hexane, cyclohexane, n-hebutane and the like.

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、　ＥｉｅＣ−アミルア
ルコール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル
−１−ブタノール、イソペンチルアルコール％ｔａｒｔ
−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、
ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチ
ル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール
、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２
−ヘプタツール、３−ヘプタツール、１−オクタノール
、２−オクタツール、２−エチル−ｌ−ヘキサノール、
１−ノナノール、３．５．５−１−リメヂルー１−ヘキ
サノール、■−デカノール、１−ウンデカノール、ｌ−
ドデカノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコ
ール、ベンジルアルコール、シクロヘキザノール、１−
メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノ
ール、３−メチルシクロヘキサノール％４−メチルシク
ロヘキサノール、α−テルピネオール、アビニチノール
、２，６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノ
ニルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシ
ルアルコール等から選ばれるものである。より好ましく
はメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等
である。The alcohols are preferably linear or cyclic saturated or unsaturated alcohols having 1 to 17 carbon atoms, such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, 5ec-butyl alcohol, isobutyl alcohol, tert-butyl alcohol, pentyl alcohol, EieC-amyl alcohol, 1-ethyl-1-propatol, 2-methyl-1-butanol, isopentyl alcohol%tart
-pentyl alcohol, 3-methyl-2-butanol,
Neopentyl alcohol, 1-hexanol, 2-methyl-1-pentanol, 4-methyl-2-pentanol, 2-ethyl-1-butanol, 1-heptatool, 2
- heptatool, 3-heptatool, 1-octanol, 2-octatool, 2-ethyl-l-hexanol,
1-nonanol, 3.5.5-1-rimedyl-1-hexanol, ■-decanol, 1-undecanol, l-
Dodecanol, allyl alcohol, propargyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 1-
Methylcyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol%4-methylcyclohexanol, α-terpineol, avinitinol, 2,6-dimethyl-4-heptatool, trimethylnonyl alcohol, tetradecyl alcohol, heptadecyl alcohol etc. More preferred are methanol, ethanol, isopropyl alcohol and the like.

炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）のいずれか
の一般式で示されるものが好ましく、アセトン、メチル
エチルケトン％２−ペンタ、ノン、３−ペンタノン、２
−ヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチルブチ
ルケトン、２−へブタノン、４−ヘプタノン、ジイソブ
チルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、
ホロン、メチル−ｎ−アミルケトン、エチルブチルケト
ン、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、メチル
シクロヘキサノン、イソボロン、２４−ペンタンジオン
、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フエンチョ
ン等から選ばれるものである。より好ましくはアセトン
、メチルエチルゲトン等である。Acetone, methyl ethyl ketone% 2-penta, non, 3-pentanone, 2
-hexanone, methyl-n-butyl ketone, methyl butyl ketone, 2-hebutanone, 4-heptanone, diisobutyl ketone, acetonylacetone, mesityl oxide,
It is selected from holone, methyl-n-amyl ketone, ethyl butyl ketone, methylhexyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, isoborone, 24-pentanedione, diacetone alcohol, acetophenone, fenchone, and the like. More preferred are acetone, methyl ethyl getone and the like.

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１．２−ジクロロ
エタン、１，１．．１−）ジクロルエタン、１，１．２
１−ジクロルエタン、１．１．１．２−テトラクロルエ
タン、ＩＪ、２．２−テトラクロルエタン、ペンタクロ
ルエタン、１，１−ジクロルエチレン、１゜２−ジクロ
ルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メチ
レン。The chlorinated hydrocarbons are preferably saturated or unsaturated chlorinated hydrocarbons having 1 to 2 carbon atoms, such as methylene chloride, carbon tetrachloride, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1. ．． 1-) Dichloroethane, 1,1.2
1-dichloroethane, 1.1.1.2-tetrachloroethane, IJ, 2.2-tetrachloroethane, pentachloroethane, 1,1-dichloroethylene, 1゜2-dichloroethylene, trichlorethylene, tetra It is selected from chlorethylene and the like. More preferably methylene chloride.

１．１．ｉ−トリクロルエタン、トリクロルエチレン、
テトラクロルエチレン等である。1.1. i-trichloroethane, trichlorethylene,
Tetrachlorethylene, etc.

エステル類としては、次の一般式で示されるものが好ま
しく　、　Ｒ，−ＣＯＯ−Ｒ，、Ｒ，−Ｃ−Ｒ，−Ｃｏ
ｏ−Ｒ，。The esters are preferably those represented by the following general formula: R, -COO-R,, R, -C-R, -Co
o-R,.

Ｒａ０ＯＲ４（ここでＲ，、Ｒ１，Ｒ１，Ｒ，、Ｒｆｉ、Ｒ，ｔは１
１又はＯｌｌ又は炭素数１〜１９の飽和ないし、不飽和
結合を有する炭化水素基。）具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンデル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸５ｅｃ−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、３−メトキシブチルアセ
テート、酢酸５ｅｃ−ヘキシル、２−エチルブチルアセ
テート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シフ１］
ヘキシル、酢酸ベンジル、プロピモノ駿メチル、プロピ
オン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イン
ペンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸
イソペンチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−
２−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、
ステアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エヂ
ル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソ
ペンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−２−エチルヘキ
シル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエヂル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブチル、セバシン酸ビス−２−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオ
クヂル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メ
チル、酢酸ｔチル等である。Ra 0OR4 (where R,, R1, R1, R,, Rfi, R, t are 1
1 or Oll or a hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms and having a saturated or unsaturated bond. ) Specifically, methyl formate, ethyl formate, propyl formate,
Butyl formate, isobutyl formate, pendel formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, 5ec-butyl acetate, pentyl acetate, isopentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 5ec-hexyl acetate, 2 -ethyl butyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, acetic acid Schiff 1]
Hexyl, benzyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, impentyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, isopentyl butyrate, isobutyl isobutyrate, 2-hydroxy-
Ethyl 2-methylpropionate, butyl stearate,
Pentyl stearate, methyl benzoate, edyl benzoate, propyl benzoate, butyl benzoate, isopentyl benzoate, benzyl benzoate, ethyl abietate, benzyl abietate, bis-2-ethylhexyl adipate, γ-butyrolact, oxalic acid Diethyl, dibutyl oxalate, dipentyl oxalate, diethyl malonate, dimethyl maleate, diethyl maleate, dibutyl maleate, dibutyl tartrate, tributyl citrate, dibutyl sebacate, bis-2-ethylhexyl sebacate,
Some are selected from dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, bis-2-ethylhexyl phthalate, dioquidyl phthalate, and the like. More preferred are methyl acetate, t-tyl acetate, and the like.

本発明のパフ研磨洗浄剤には、各種の洗浄助剤、水、界
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混
合してもよい。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプ
レー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用
することができる。The puff polish cleaning agent of the present invention may further contain various cleaning aids, water, surfactants, stabilizers, or hydrogen-containing chlorinated fluorinated hydrocarbons that have little effect on ozone destruction. As a cleaning method, conventional methods such as hand wiping, dipping, spraying, shaking, ultrasonic cleaning, and steam cleaning can be used.

［実施例］実施例１〜１８下記第１表に示すパフ研磨洗浄剤を用いて研磨剤の除去
試験を行なった。[Examples] Examples 1 to 18 A polishing agent removal test was conducted using the puff polishing cleaning agents shown in Table 1 below.

腕時計のフレームをパフ研磨剤（ＧＳ−１、創研工業■
製）で研磨後、パフ研磨洗浄剤に浸漬し、３分間超音波
をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を観察し
た。その結果を第１表に示す。Puff polishing agent (GS-1, Soken Kogyo) for the watch frame
After polishing with a polishing agent (manufactured by Kawasaki Co., Ltd.), the specimen was immersed in a puff polishing detergent, subjected to ultrasonic waves for 3 minutes, and then taken out to observe the removal of the polishing agent. The results are shown in Table 1.

第表）内は混合比［重量％］０；良好に除去できる△；微量残存Ｏ；はぼ良好×；かなり残存［発明の効果］本発明のパフ研磨洗浄剤は実施例から明らかなように研
磨剤の除去効果の優れたものである。Figures in Table 1) indicate the mixing ratio [wt%] 0; Good removal △; Trace amount of residual O; Good quality It has an excellent abrasive removal effect.

又、従来使用されていた１、１．、ｌ−トリクロルエタ
ンに比べ、金属、プラスチック及びエラストマー等から
成る研磨剤を除去すべき物品に悪影響を与えることが少
ない点で有利である。In addition, the conventionally used 1, 1. , 1-trichloroethane in that the abrasive agent made of metals, plastics, elastomers, etc. has less adverse effect on the articles to be removed.

Claims (2)

Translated fromJapanese

【特許請求の範囲】[Claims]（１）ＣＦ＿３ＣＦ＿２ＣＨＣｌＦ、ＣＣｌＦ＿２ＣＦ
＿２ＣＨＦ＿３、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨＣｌ＿２、Ｃ
Ｃｌ＿２ＦＣＦ＿２ＣＨＣｌ＿２、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２
ＣＨＣｌＦ、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨＦ＿３、ＣＨＣｌ
＿２ＣＦ＿２ＣＨＣｌ＿２、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨ＿
２Ｃｌ、ＣＣｌ＿２ＦＣＦ＿２ＣＨ＿３Ｃｌ、ＣＨＣｌ
＿２ＣＦ＿２ＣＨＣｌＦ、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨ＿２
Ｆ、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨ＿３、ＣＨＣｌ＿２ＣＦ＿
２ＣＨ＿２Ｃｌの群から選ばれる少なくとも１種を有効
成分として含有するパラ研磨洗浄剤。(1) CF_3CF_2CHClF, CClF_2CF
_2CHF_3, CCl_3CF_2CHCl_2, C
Cl_2FCF_2CHCl_2, CCl_3CF_2
CHClF, CCl_3CF_2CHF_3, CHCl
_2CF_2CHCl_2, CCl_3CF_2CH_
2Cl, CCl_2FCF_2CH_3Cl, CHCl
_2CF_2CHClF, CCl_3CF_2CH_2
F, CCl_3CF_2CH_3, CHCl_2CF_
A para-abrasive cleaning agent containing at least one member selected from the group 2CH_2Cl as an active ingredient.（２）パラ研磨洗浄剤中には、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
ばれる少なくとも１種が含まれている請求項１記載のパ
ラ研磨洗浄剤。(2) The para-polish cleaning agent according to claim 1, wherein the para-polish cleaning agent contains at least one selected from hydrocarbons, alcohols, ketones, chlorinated hydrocarbons, or esters.