本発明は、観察装置に関する。The present invention relates to an observation device.
対象物に透過性を有する透過光を用いて、対象物を観察する観察装置が知られている。この種の技術として、例えば特許文献1には、レーザ加工装置に備え付けられた赤外線カメラにより、半導体基板の内部に形成された改質領域、機能素子層に形成された加工ダメージ等を観察することが記載されている。Observation devices are known that observe objects using transmitted light that is transparent to the object. For example, Patent Document 1 describes this type of technology, in which an infrared camera attached to a laser processing device is used to observe modified areas formed inside a semiconductor substrate, processing damage formed in a functional element layer, and the like.
上述したような観察装置では、対象物の正確な観察を実現するべく、透過光の球面収差等を補正する収差補正が行われる場合がある。この場合、収差補正の補正量を固定すると、タクト(作業効率)は高いものの収差を十分に補正できないおそれがある。一方、集光レンズに設けられた補正環を観察の都度にユーザが回すことで、収差補正の補正量を最適化することも考えられる。しかしこの場合、例えば対象物において観察する深さ位置が変わると適正な補正量も変わることから、補正量の調整のためにタクトが低下するおそれがある。In the observation device described above, aberration correction may be performed to correct spherical aberration of transmitted light, etc., in order to achieve accurate observation of the object. In this case, if the amount of aberration correction is fixed, the tact time (work efficiency) is high, but there is a risk that the aberration cannot be sufficiently corrected. On the other hand, it is also possible for the user to optimize the amount of aberration correction by rotating the correction ring provided on the focusing lens each time an observation is made. However, in this case, for example, if the depth position observed in the object changes, the appropriate correction amount also changes, and there is a risk that the tact time will decrease due to the adjustment of the correction amount.
そこで、本発明は、高いタクトと対象物の正確な観察との両立を実現することが可能な観察装置を提供することを目的とする。The present invention aims to provide an observation device that can achieve both high tact time and accurate observation of objects.
本発明に係る観察装置は、対象物に透過性を有する透過光を用いて対象物を観察する装置であって、透過光を対象物に向けて集光する集光レンズと、対象物で反射した透過光を受光し、対象物を撮像する撮像部と、集光レンズを対象物に対して相対的に移動させる移動部と、ユーザからの入力を受け付ける入力部と、透過光の収差補正を行う収差補正部と、少なくとも収差補正部を制御する制御部と、を備え、収差補正部は、収差補正の補正量を切替え可能に構成され、制御部は、対象物における透過光入射面側の第1区間を撮像部で撮像する場合の収差補正部による収差補正である第1区間用収差補正と、対象物における内部の第2区間を撮像部で撮像する場合の収差補正部による収差補正である第2区間用収差補正と、対象物における透過光入射面の反対面側の第3区間を撮像部で撮像する場合の収差補正部による収差補正である第3区間用収差補正と、の少なくとも何れかの補正量を、入力部で受け付けた入力に応じて切り替える。The observation device according to the present invention is a device for observing an object using transmitted light that is transparent to the object, and includes a focusing lens that focuses the transmitted light toward the object, an imaging unit that receives the transmitted light reflected by the object and images the object, a moving unit that moves the focusing lens relative to the object, an input unit that receives input from a user, an aberration correction unit that performs aberration correction of the transmitted light, and a control unit that controls at least the aberration correction unit, and the aberration correction unit is configured to be able to switch the amount of correction for aberration correction, The control unit switches between at least one of the following correction amounts in response to the input received by the input unit: aberration correction for a first section, which is aberration correction by the aberration correction unit when the imaging unit images a first section on the side of the transmitted light incidence surface of the object; aberration correction for a second section, which is aberration correction by the aberration correction unit when the imaging unit images a second section inside the object; and aberration correction for a third section, which is aberration correction by the aberration correction unit when the imaging unit images a third section on the side opposite the transmitted light incidence surface of the object.
この観察装置では、対象物において観察する区間を第1~第3区間(すなわち、対象物の透過光入射面側、内部、及び、透過光入射面の反対面側)に分け、これら第1~第3区間を観察する場合に、そのそれぞれ毎にユーザの入力に応じて切り替えられた補正量で収差補正を行うことができる。これにより、ユーザの入力に応じて適正化されるように補正量を切り替えることができると共に、当該切替えの頻度を抑えて高いタクトを維持することが可能となる。すなわち、高いタクトと対象物の正確な観察との両立を実現することが可能となる。In this observation device, the section to be observed in the object is divided into first to third sections (i.e., the transmitted light incident surface side of the object, the inside, and the side opposite the transmitted light incident surface), and when observing these first to third sections, aberration correction can be performed for each of them with a correction amount switched according to user input. This makes it possible to switch the correction amount so as to optimize it according to user input, and to maintain a high tact time by suppressing the frequency of such switching. In other words, it is possible to achieve both a high tact time and accurate observation of the object.
本発明に係る観察装置では、収差補正部は、収差補正の補正量を少なくとも第1補正量と第2補正量と第3補正量との間で切替え可能に構成され、制御部は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、入力部で受け付けた入力に応じて、第1補正量、第2補正量及び第3補正量の中で切り替えてもよい。この場合、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の各補正量の切替えを、簡易に実現することが可能となる。In the observation device according to the present invention, the aberration correction unit is configured to be able to switch the amount of aberration correction between at least the first correction amount, the second correction amount, and the third correction amount, and the control unit may switch the amount of aberration correction for the first interval, the second interval, and the third interval among the first correction amount, the second correction amount, and the third correction amount according to the input received by the input unit. In this case, it is possible to easily realize switching between the correction amounts of the aberration correction for the first interval, the second interval, and the third interval.
本発明に係る観察装置では、集光レンズは、第1集光レンズ、第2集光レンズ及び第3集光レンズを有し、収差補正部は、第1集光レンズに設けられ、第1補正量の収差補正を実現する第1収差補正部と、第2集光レンズに設けられ、第2補正量の収差補正を実現する第2収差補正部と、第3集光レンズに設けられ、第3補正量の収差補正を実現する第3収差補正部と、第1集光レンズ、第2集光レンズ及び第3集光レンズが取り付けられ、第1集光レンズ、第2集光レンズ及び第3集光レンズの何れかを透過光の光軸上に配置すると共に、透過光の光軸上に配置する第1集光レンズ、第2集光レンズ及び第3集光レンズの何れかが切り替わるように可動するレボルバと、を有していてもよい。この場合、レボルバにより透過光の光軸上の集光レンズを第1~第3集光レンズの間で切り替えることで、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の各補正量を第1~第3補正量の間で切り替えることが可能となる。In the observation device according to the present invention, the condenser lens may have a first condenser lens, a second condenser lens, and a third condenser lens, and the aberration correction unit may include a first aberration correction unit provided on the first condenser lens and realizing a first correction amount of aberration correction, a second aberration correction unit provided on the second condenser lens and realizing a second correction amount of aberration correction, a third aberration correction unit provided on the third condenser lens and realizing a third correction amount of aberration correction, and a revolver to which the first condenser lens, the second condenser lens, and the third condenser lens are attached, which positions one of the first condenser lens, the second condenser lens, and the third condenser lens on the optical axis of the transmitted light, and which is movable to switch between one of the first condenser lens, the second condenser lens, and the third condenser lens that are positioned on the optical axis of the transmitted light. In this case, by using the revolver to switch the focusing lens on the optical axis of the transmitted light between the first, second, and third focusing lenses, it is possible to switch the correction amounts for the first section aberration correction, the second section aberration correction, and the third section aberration correction between the first, second, and third correction amounts.
本発明に係る観察装置では、第1補正量は、第2補正量よりも小さく、第2補正量は、第3補正量よりも小さくてもよい。このような大小関係の第1~第3補正量を利用して、補正量を適正化することが可能となる。In the observation device according to the present invention, the first correction amount may be smaller than the second correction amount, and the second correction amount may be smaller than the third correction amount. By utilizing the first to third correction amounts, which have such a magnitude relationship, it is possible to optimize the correction amounts.
本発明に係る観察装置では、第1区間用収差補正は、対象物における透過光入射面に露出する亀裂の有無を検査するための収差補正であり、第3区間用収差補正は、対象物における透過光入射面の反対面に露出する亀裂の有無を検査するための収差補正であってもよい。この場合、対象物における透過光入射面に露出する亀裂の有無、及び、対象物における透過光入射面の反対面に露出する亀裂の有無について、精度よく検査することが可能となる。また、本発明に係る観察装置では、第2区間用収差補正は、対象物の内部に形成された改質領域を検査するための収差補正であってもよい。この場合、対象物の内部に形成された改質領域について精度よく検査することが可能となる。In the observation device according to the present invention, the aberration correction for the first section may be an aberration correction for inspecting the presence or absence of cracks exposed on the surface of the object where the transmitted light is incident, and the aberration correction for the third section may be an aberration correction for inspecting the presence or absence of cracks exposed on the surface of the object opposite the surface of the transmitted light incident. In this case, it is possible to inspect with high accuracy the presence or absence of cracks exposed on the surface of the object where the transmitted light is incident, and the presence or absence of cracks exposed on the surface of the object opposite the surface of the transmitted light incident. In addition, in the observation device according to the present invention, the aberration correction for the second section may be an aberration correction for inspecting a modified region formed inside the object. In this case, it is possible to inspect with high accuracy the modified region formed inside the object.
本発明に係る観察装置では、制御部は、移動部による集光レンズの移動量と補正係数とに基づいて、検出対象の位置に関する情報を取得し、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の切替えに応じて、補正係数を切り替えてもよい。この場合、対象物における検出対象(例えば改質領域等)の深さ位置を精度よく取得することが可能となる。In the observation device according to the present invention, the control unit may acquire information regarding the position of the detection target based on the amount of movement of the focusing lens by the moving unit and the correction coefficient, and may switch the correction coefficient in response to switching between the correction amounts of the aberration correction for the first interval, the aberration correction for the second interval, and the aberration correction for the third interval. In this case, it is possible to acquire the depth position of the detection target (e.g., modified region, etc.) in the object with high accuracy.
本発明に係る観察装置では、入力部は、対象物に対して行う検査の内容に関する入力を受け付け、制御部は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、入力部で受け付けた検査の内容に関する入力に応じて切り替えてもよい。この場合、ユーザからの検査の内容に関する入力に応じて、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を適正化することが可能となる。In the observation device according to the present invention, the input unit may receive input regarding the contents of the inspection to be performed on the object, and the control unit may switch the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the contents of the inspection received by the input unit. In this case, it is possible to optimize the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the contents of the inspection from the user.
本発明に係る観察装置では、入力部は、対象物に対して行うレーザ加工の加工条件の種類に関する入力を受け付け、制御部は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、入力部で受け付けた加工条件の種類に関する入力に応じて切り替えてもよい。この場合、ユーザからの加工条件の種類に関する入力に応じて、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を適正化することが可能となる。In the observation device according to the present invention, the input unit may receive input regarding the type of processing conditions for the laser processing performed on the object, and the control unit may switch the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the type of processing conditions received by the input unit. In this case, it is possible to optimize the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the type of processing conditions from the user.
本発明に係る観察装置では、入力部は、対象物の厚さに関する入力を受け付け、制御部は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、入力部で受け付けた対象物の厚さに関する入力に応じて切り替えてもよい。この場合、ユーザからの対象物の厚さに関する入力に応じて、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を適正化することが可能となる。In the observation device according to the present invention, the input unit may receive an input regarding the thickness of the object, and the control unit may switch the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the thickness of the object received by the input unit. In this case, it is possible to optimize the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the thickness of the object from the user.
本発明に係る観察装置では、入力部は、入力モードが簡易入力モード及び詳細入力モードの何れであるかに関する入力を受け付けると共に、入力モードとして詳細入力モードに関する入力を受け付けた場合に、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の入力を受け付けてもよい。この場合、ユーザは、入力モードとして詳細入力モードを入力することで、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を入力することが可能となる。In the observation device according to the present invention, the input unit accepts an input regarding whether the input mode is a simple input mode or a detailed input mode, and may accept an input of the correction amounts for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction when an input regarding the detailed input mode is accepted as the input mode. In this case, the user can input the correction amounts for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction by inputting the detailed input mode as the input mode.
本発明に係る観察装置では、第1区間の第2区間側と第2区間の第1区間側とは、第1重複区間で互いに重複し、第2区間の第3区間側と第3区間の第2区間側とは、第2重複区間で互いに重複し、制御部は、収差補正部により第1区間用収差補正を行いながら第1重複区間を撮像部で撮像する処理と、収差補正部により第2区間用収差補正を行いながら第1重複区間を撮像部で撮像する撮像処理と、収差補正部により第2区間用収差補正を行いながら第2重複区間を撮像部で撮像する処理と、収差補正部により第3区間用収差補正を行いながら第2重複区間を撮像部で撮像する撮像処理と、を実行してもよい。この場合、対象物の第1及び第2重複区間において、より正確な観察が可能となる。また、対象物の厚さ等の入力内容に応じて第1及び第3区間用収差収差補正のみでも正確に観察可能な場合もある。In the observation device according to the present invention, the second section side of the first section and the first section side of the second section overlap each other in the first overlapping section, and the third section side of the second section and the second section side of the third section overlap each other in the second overlapping section, and the control unit may execute a process of imaging the first overlapping section with the imaging unit while performing aberration correction for the first section with the aberration correction unit, an imaging process of imaging the first overlapping section with the imaging unit while performing aberration correction for the second section with the aberration correction unit, a process of imaging the second overlapping section with the imaging unit while performing aberration correction for the second section with the aberration correction unit, and an imaging process of imaging the second overlapping section with the imaging unit while performing aberration correction for the third section with the aberration correction unit. In this case, more accurate observation is possible in the first and second overlapping sections of the object. In addition, accurate observation may be possible with only aberration correction for the first and third sections depending on the input contents such as the thickness of the object.
本発明によれば、高いタクトと対象物の正確な観察との両立を実現することが可能な観察装置を提供することができる。The present invention provides an observation device that can achieve both high tact time and accurate observation of the object.
以下、実施形態について、図面を参照して詳細を説明する。各図の説明において、同一又は相当する部分には同一の符号を付し、重複する説明を省略する場合がある。各図には、X軸、Y軸及びZ軸によって規定される直交座標系を示す場合がある。一例として、X方向及びY方向は、互いに交差(直交)する第1水平方向及び第2水平方向であり、Z方向は、X方向及びY方向に交差(直交)する鉛直方向である。The following describes the embodiments in detail with reference to the drawings. In the description of each figure, the same or corresponding parts are given the same reference numerals, and duplicate descriptions may be omitted. Each figure may show an orthogonal coordinate system defined by an X-axis, a Y-axis, and a Z-axis. As an example, the X-direction and the Y-direction are a first horizontal direction and a second horizontal direction that intersect (are perpendicular to) each other, and the Z-direction is a vertical direction that intersects (is perpendicular to) the X-direction and the Y-direction.
図1に示されるように、実施形態に係るレーザ加工装置1は、ステージ2と、レーザ加工ヘッド3と、アライメント用カメラ5,6と、観察ユニット4と、第1鉛直移動機構7Aと、第2鉛直移動機構7Bと、第1水平移動機構8Aと、第2水平移動機構8Bと、制御部9と、GUI(Graphical User Interface)10と、を備える。レーザ加工装置1は、対象物20にレーザ光Lを照射することにより、対象物20に改質領域12(図4参照)を形成する装置である。As shown in Fig. 1, the laser processing device 1 according to the embodiment includes a stage 2, a laser processing head 3, alignment cameras 5 and 6, an observation unit 4, a first vertical movement mechanism 7A, a second vertical movement mechanism 7B, a first horizontal movement mechanism 8A, a second horizontal movement mechanism 8B, a control unit 9, and a GUI (Graphical User Interface) 10. The laser processing device 1 is a device that forms a modified region 12 (see Fig. 4) in an object 20 by irradiating the object 20 with laser light L.
図2及び図3に示されるように、対象物20は、例えばウェハである。対象物20は、半導体基板21と、機能素子層22と、を備えている。半導体基板21は、表面21a及び裏面21bを有する。半導体基板21は、例えば、シリコン基板である。機能素子層22は、半導体基板21の表面21aに形成されている。機能素子層22は、表面21aに沿って2次元に配列された複数の機能素子22aを含む。機能素子22aは、例えば、フォトダイオード等の受光素子、レーザダイオード等の発光素子、メモリ等の回路素子等である。機能素子22aは、複数の層がスタックされて3次元的に構成される場合もある。なお、対象物20は機能素子層22を有していても有していなくてもよく、ベアウェハであってもよい。半導体基板21には、結晶方位を示すノッチ21cが設けられているが、ノッチ21cの替わりにオリエンテーションフラットが設けられていてもよい。2 and 3, the object 20 is, for example, a wafer. The object 20 includes a semiconductor substrate 21 and a functional element layer 22. The semiconductor substrate 21 has a front surface 21a and a back surface 21b. The semiconductor substrate 21 is, for example, a silicon substrate. The functional element layer 22 is formed on the front surface 21a of the semiconductor substrate 21. The functional element layer 22 includes a plurality of functional elements 22a arranged two-dimensionally along the front surface 21a. The functional elements 22a are, for example, light receiving elements such as photodiodes, light emitting elements such as laser diodes, and circuit elements such as memories. The functional elements 22a may be three-dimensionally configured by stacking a plurality of layers. The object 20 may or may not have a functional element layer 22, and may be a bare wafer. The semiconductor substrate 21 has a notch 21c indicating the crystal orientation, but an orientation flat may be provided instead of the notch 21c.
対象物20は、複数のライン15のそれぞれに沿って機能素子22aごとに切断される。複数のライン15は、対象物20の厚さ方向から見た場合に複数の機能素子22aのそれぞれの間を通っている。より具体的には、ライン15は、対象物20の厚さ方向から見た場合にストリート領域23の中心(幅方向における中心)を通っている。ストリート領域23は、機能素子層22において、隣り合う機能素子22aの間を通るように延在している。本実施形態では、複数の機能素子22aは、表面21aに沿ってマトリックス状に配列されており、複数のライン15は、格子状に設定されている。なお、ライン15は、仮想的なラインであるが、実際に引かれたラインであってもよい。The object 20 is cut into functional elements 22a along each of the lines 15. When viewed from the thickness direction of the object 20, the lines 15 pass between each of the functional elements 22a. More specifically, the lines 15 pass through the center of the street region 23 (the center in the width direction) when viewed from the thickness direction of the object 20. The street region 23 extends in the functional element layer 22 so as to pass between adjacent functional elements 22a. In this embodiment, the functional elements 22a are arranged in a matrix along the surface 21a, and the lines 15 are set in a lattice pattern. Note that the lines 15 are virtual lines, but may be lines that are actually drawn.
図1に示されるように、ステージ2上には、対象物20が載置される。ステージ2は、例えば対象物20を吸着することにより、対象物20を支持する。ステージ2は、第1水平移動機構8AによりX方向に沿って移動可能である。ステージ2は、第2水平移動機構8BによりY方向に沿って移動可能である。ステージ2は、Z方向に沿う回転軸を中心に回転可能に構成されている。ステージ2は、モータ等の公知の回転駆動装置(不図示)を有し、その駆動力により回転軸を中心回転駆動される。ステージ2の回転は、制御部9により制御される。As shown in FIG. 1, an object 20 is placed on the stage 2. The stage 2 supports the object 20, for example, by adsorbing the object 20. The stage 2 can be moved along the X direction by a first horizontal movement mechanism 8A. The stage 2 can be moved along the Y direction by a second horizontal movement mechanism 8B. The stage 2 is configured to be rotatable around a rotation axis along the Z direction. The stage 2 has a known rotation drive device (not shown) such as a motor, and is driven to rotate around the rotation axis by the driving force of the motor. The rotation of the stage 2 is controlled by a control unit 9.
図1及び図4に示されるように、レーザ加工ヘッド3は、ステージ2に支持された対象物20に対して透過性を有するレーザ光Lを照射する照射部である。レーザ加工ヘッド3は、対象物20の内部にレーザ光Lを集光する。ステージ2に支持された対象物20の内部にレーザ光Lが集光されると、レーザ光Lの集光位置(集光領域の少なくとも一部)に対応する部分においてレーザ光Lが特に吸収され、対象物20の内部に改質領域12が形成される。As shown in Figures 1 and 4, the laser processing head 3 is an irradiation unit that irradiates the object 20 supported on the stage 2 with a transparent laser light L. The laser processing head 3 focuses the laser light L inside the object 20. When the laser light L is focused inside the object 20 supported on the stage 2, the laser light L is particularly absorbed in a portion corresponding to the focusing position of the laser light L (at least a portion of the focusing area), and a modified area 12 is formed inside the object 20.
改質領域12は、密度、屈折率、機械的強度、その他の物理的特性が周囲の非改質領域とは異なる領域である。改質領域12としては、例えば、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域等がある。改質領域12は、改質領域12からレーザ光Lの入射側及びその反対側に亀裂が延び易いという特性を有している。このような改質領域12の特性は、対象物20の切断に利用される。The modified region 12 is a region whose density, refractive index, mechanical strength, and other physical properties differ from those of the surrounding unmodified region. Examples of modified regions 12 include melting treatment regions, crack regions, dielectric breakdown regions, and refractive index change regions. The modified region 12 has the property that cracks tend to extend from the modified region 12 to the incident side of the laser light L and to the opposite side. These properties of the modified region 12 are utilized to cut the object 20.
レーザ加工ヘッド3は、レーザ光集光レンズ33及び観察カメラ35を筐体H3内に有する。レーザ加工ヘッド3の筐体H3内には、外部の光源31からレーザ光Lが入射される。光源31は、例えばパルス発振方式によって、レーザ光Lを出力する。レーザ光集光レンズ33は、レーザ光Lをステージ2に支持された対象物20に集光する。レーザ加工ヘッド3では、光源31から入射されたレーザ光Lは、筐体H3内においてダイクロイックミラー32を介してレーザ光集光レンズ33に入射し、レーザ光集光レンズ33により対象物20に集光される。レーザ光集光レンズ33は、複数の対物レンズを含むレンズユニットであってもよい。筐体H3は、その側面に設けられた取付部39を含み、この取付部39を介して後述の第1鉛直移動機構7Aに接続されて支持されている。The laser processing head 3 has a laser beam focusing lens 33 and an observation camera 35 in the housing H3. Laser light L is incident from an external light source 31 into the housing H3 of the laser processing head 3. The light source 31 outputs the laser light L, for example, by a pulse oscillation method. The laser beam focusing lens 33 focuses the laser light L on the object 20 supported on the stage 2. In the laser processing head 3, the laser light L incident from the light source 31 is incident on the laser beam focusing lens 33 via the dichroic mirror 32 in the housing H3, and is focused on the object 20 by the laser beam focusing lens 33. The laser beam focusing lens 33 may be a lens unit including multiple objective lenses. The housing H3 includes an attachment portion 39 provided on its side, and is connected to and supported by the first vertical movement mechanism 7A described later via this attachment portion 39.
観察カメラ35は、ステージ2に支持された対象物20を可視光Vにより撮像する。観察カメラ35は、可視光源36から出射した可視光Vによる対象物20の像を撮像する。具体的には、可視光源36から出射した可視光Vは、ダイクロイックミラー37で反射され、ダイクロイックミラー32を透過した後、レーザ光集光レンズ33を介して対象物20に照射される。当該可視光Vは、対象物20のレーザ光入射面で反射され、レーザ光集光レンズ33及びダイクロイックミラー32,37を透過し、レンズ38を介して観察カメラ35で受光される。可視光Vの光路上には、可視光Vに目盛り線を付与するレチクル(不図示)が設けられていてもよい。観察カメラ35は、制御部9に接続されている。観察カメラ35は、撮像した可視画像を制御部9に出力する。観察カメラ35としては、特に限定されず、要求される性能を満たしていれば、公知の種々のカメラを用いることができる。The observation camera 35 captures an image of the object 20 supported on the stage 2 with visible light V. The observation camera 35 captures an image of the object 20 with visible light V emitted from the visible light source 36. Specifically, the visible light V emitted from the visible light source 36 is reflected by the dichroic mirror 37, passes through the dichroic mirror 32, and is then irradiated onto the object 20 via the laser light condensing lens 33. The visible light V is reflected by the laser light incidence surface of the object 20, passes through the laser light condensing lens 33 and the dichroic mirrors 32 and 37, and is received by the observation camera 35 via the lens 38. A reticle (not shown) that gives a scale line to the visible light V may be provided on the optical path of the visible light V. The observation camera 35 is connected to the control unit 9. The observation camera 35 outputs the captured visible image to the control unit 9. The observation camera 35 is not particularly limited, and various known cameras can be used as long as they meet the required performance.
アライメント用カメラ5,6は、対象物20におけるレーザ光Lの集光位置の位置合わせ(以下、単に「アライメント」ともいう)に用いられる情報を取得する。アライメント用カメラ5,6は、光を対象物20に照射し、対象物20から戻る当該光を検出することで、アライメントに用いられる情報として画像を取得する。アライメント用カメラ5,6は、ステージ2に支持された対象物20を撮像する。The alignment cameras 5 and 6 acquire information used to align the focusing position of the laser light L on the object 20 (hereinafter simply referred to as "alignment"). The alignment cameras 5 and 6 irradiate the object 20 with light and detect the light returning from the object 20 to acquire an image as information used for alignment. The alignment cameras 5 and 6 capture an image of the object 20 supported by the stage 2.
アライメント用カメラ5は、対象物20に対して透過性を有する光を出力する光源を有する。光源は、例えば、ハロゲンランプ及びフィルタによって構成されており、近赤外領域の光を出力する。アライメント用カメラ5は、対象物20における表面21aで反射された光を検出する光検出部を有する。光検出部は、例えば、Siカメラ又はInGaAsカメラによって構成されており、近赤外領域の光を検出する。The alignment camera 5 has a light source that outputs light that is transparent to the object 20. The light source is, for example, composed of a halogen lamp and a filter, and outputs light in the near-infrared region. The alignment camera 5 has a light detection unit that detects light reflected by the surface 21a of the object 20. The light detection unit is, for example, composed of a Si camera or an InGaAs camera, and detects light in the near-infrared region.
例えばアライメント用カメラ5は、レーザ光入射面である裏面21b側から光を対象物20に照射すると共に、表面21a(機能素子層22)から戻る光を検出することにより、機能素子層22を撮像する。また例えば、アライメント用カメラ5は、同様に、裏面21b側から光を対象物20に照射すると共に、半導体基板21における改質領域12の形成位置から戻る光を検出することにより、改質領域12を含む領域の画像を取得する。これらの画像は、アライメントに用いられる。アライメント用カメラ6は、そのレンズがより低倍率である点を除いて、アライメント用カメラ5と同様の構成を備える。アライメント用カメラ6は、アライメント用カメラ5と同様にアライメントに用いられる。For example, the alignment camera 5 irradiates the object 20 with light from the back surface 21b, which is the laser light incident surface, and detects the light returning from the front surface 21a (functional element layer 22), thereby capturing an image of the functional element layer 22. Similarly, the alignment camera 5 irradiates the object 20 with light from the back surface 21b, and detects the light returning from the position where the modified region 12 is formed in the semiconductor substrate 21, thereby capturing an image of the region including the modified region 12. These images are used for alignment. The alignment camera 6 has a similar configuration to the alignment camera 5, except that its lens has a lower magnification. The alignment camera 6 is used for alignment in the same way as the alignment camera 5.
アライメント用カメラ5,6は、レーザ加工ヘッド3に設けられ、レーザ加工ヘッド3と一体で移動する。図示する例では、アライメント用カメラ5,6は、レーザ加工ヘッド3の取付部39に固定されている。アライメント用カメラ5,6は、制御部9に接続されている。アライメント用カメラ5,6は、撮像した画像を制御部9に出力する。アライメント用カメラ5,6としては、特に限定されず、要求される性能を満たしていれば、公知の種々のカメラを用いることができる。The alignment cameras 5, 6 are provided on the laser processing head 3 and move integrally with the laser processing head 3. In the illustrated example, the alignment cameras 5, 6 are fixed to the mounting portion 39 of the laser processing head 3. The alignment cameras 5, 6 are connected to the control unit 9. The alignment cameras 5, 6 output the captured images to the control unit 9. There are no particular limitations on the alignment cameras 5, 6, and various known cameras can be used as long as they meet the required performance.
図1及び図5に示されるように、観察ユニット4は、対象物20に透過性を有する透過光を用いて対象物20を観察する。観察ユニット4は、対象物20に透過光を照射し、対象物20から戻る当該透過光を検出することで、対象物20の内部を観察する。例えば観察ユニット4は、対象物20に形成された改質領域12及び改質領域12から延びた亀裂14の先端を撮像する。As shown in Figures 1 and 5, the observation unit 4 observes the object 20 using transmitted light that is transparent to the object 20. The observation unit 4 observes the inside of the object 20 by irradiating the object 20 with transmitted light and detecting the transmitted light returning from the object 20. For example, the observation unit 4 captures an image of the modified region 12 formed in the object 20 and the tip of the crack 14 extending from the modified region 12.
図5に示されるように、観察ユニット4は、光源41と、ミラー42と、透過光集光レンズ(集光レンズ)43と、光検出部44と、を筐体H4内に備える。筐体H4は、その側面に設けられた取付部49を含み、この取付部49を介して後述の第2鉛直移動機構7Bに接続されて支持されている。観察ユニット4は、制御部9に接続されている。観察ユニット4は、光検出部44で撮像した画像(内部画像)を制御部9に出力する。As shown in FIG. 5, the observation unit 4 includes a light source 41, a mirror 42, a transmitted light focusing lens (focusing lens) 43, and a light detection unit 44 in a housing H4. The housing H4 includes an attachment portion 49 provided on its side, and is connected to and supported by a second vertical movement mechanism 7B (described below) via this attachment portion 49. The observation unit 4 is connected to the control unit 9. The observation unit 4 outputs an image (internal image) captured by the light detection unit 44 to the control unit 9.
光源41は、透過性を有する透過光I1を出力する。光源41は、例えば、ハロゲンランプ及びフィルタによって構成されており、近赤外領域の透過光I1を出力する。光源41から出力された透過光I1は、ミラー42によって反射されて透過光集光レンズ43を通過し、半導体基板21の裏面21b側から対象物20に照射される。The light source 41 outputs a transparent transmitted light I1. The light source 41 is, for example, composed of a halogen lamp and a filter, and outputs transmitted light I1 in the near-infrared region. The transmitted light I1 output from the light source 41 is reflected by the mirror 42, passes through the transmitted light condenser lens 43, and is irradiated onto the object 20 from the back surface 21b side of the semiconductor substrate 21.
透過光集光レンズ43は、透過光I1を対象物20の半導体基板21に向けて集光するレンズである。透過光集光レンズ43は、半導体基板21の表面21aで反射された透過光I1を通過させる。透過光集光レンズ43は、第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B及び第3集光レンズ43Cを有する(図6参照)。第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B及び第3集光レンズ43Cの各仕様は、互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B及び第3集光レンズ43Cの外形は、その光軸を軸方向とする円柱状を呈している。The transmitted light focusing lens 43 is a lens that focuses the transmitted light I1 toward the semiconductor substrate 21 of the object 20. The transmitted light focusing lens 43 passes the transmitted light I1 reflected by the surface 21a of the semiconductor substrate 21. The transmitted light focusing lens 43 has a first focusing lens 43A, a second focusing lens 43B, and a third focusing lens 43C (see FIG. 6). The specifications of the first focusing lens 43A, the second focusing lens 43B, and the third focusing lens 43C may be the same as or different from each other. The outer shapes of the first focusing lens 43A, the second focusing lens 43B, and the third focusing lens 43C are cylindrical with their optical axes as the axial direction.
光検出部44は、透過光集光レンズ43及びミラー42を透過した透過光I1を検出する。光検出部44は、例えば、InGaAsカメラによって構成されている。光検出部44は、対象物20で反射した近赤外領域の透過光I1を受光し、対象物20を撮像する。光検出部44は、撮像部を構成する。The light detection unit 44 detects the transmitted light I1 that has passed through the transmitted light focusing lens 43 and the mirror 42. The light detection unit 44 is composed of, for example, an InGaAs camera. The light detection unit 44 receives the transmitted light I1 in the near-infrared region that has been reflected by the object 20, and captures an image of the object 20. The light detection unit 44 constitutes an imaging unit.
観察ユニット4は、透過光I1の収差補正(以下、単に「収差補正」ともいう)を行う収差補正部46を備える。収差補正部46は、収差補正の補正量を切替え可能に構成されている。収差補正部46は、透過光I1に生じる球面収差を補正する。球面収差は、球面を含む光学系において、点光源からの光線が焦点に収束せずばらつく収差をいう。例えばレンズに光が入射されると、レンズの光軸に近いところを通る光と光軸から離れたところを通る光とは1点に集まらず広がってしまう場合があり、これが球面収差である。収差補正部46は、第1収差補正部47A、第2収差補正部47B、第3収差補正部47C及びレボルバ48を含む。The observation unit 4 includes an aberration correction section 46 that performs aberration correction (hereinafter, simply referred to as "aberration correction") on the transmitted light I1. The aberration correction section 46 is configured to be able to switch the amount of aberration correction. The aberration correction section 46 corrects spherical aberration occurring in the transmitted light I1. Spherical aberration refers to an aberration in which light rays from a point light source do not converge to a focus and scatter in an optical system including a spherical surface. For example, when light is incident on a lens, light passing close to the optical axis of the lens and light passing away from the optical axis may not converge to a single point and may spread out, which is spherical aberration. The aberration correction section 46 includes a first aberration correction section 47A, a second aberration correction section 47B, a third aberration correction section 47C, and a revolver 48.
第1収差補正部47Aは、第1集光レンズ43Aに設けられ、第1補正量の収差補正を実現する。第1収差補正部47Aは、補正環47xを有する。つまり、第1集光レンズ43Aは、いわゆる補正環レンズを構成する。第1収差補正部47Aでは、補正環47xを回転させることで第1集光レンズ43Aを構成するレンズ群の一部を光軸方向に移動させ、これにより、第1補正量を調整する。第2収差補正部47Bは、第2集光レンズ43Bに設けられ、第2補正量の収差補正を実現する。第2収差補正部47Bは、補正環47yを有する。つまり、第2集光レンズ43Bは、いわゆる補正環レンズを構成する。第2収差補正部47Bでは、補正環47yを回転させることで第2集光レンズ43Bを構成するレンズ群の一部を光軸方向に移動させ、これにより、第2補正量を調整する。The first aberration correction unit 47A is provided on the first focusing lens 43A and realizes aberration correction of a first correction amount. The first aberration correction unit 47A has a correction ring 47x. That is, the first focusing lens 43A constitutes a so-called correction ring lens. In the first aberration correction unit 47A, a part of the lens group constituting the first focusing lens 43A is moved in the optical axis direction by rotating the correction ring 47x, thereby adjusting the first correction amount. The second aberration correction unit 47B is provided on the second focusing lens 43B and realizes aberration correction of a second correction amount. The second aberration correction unit 47B has a correction ring 47y. That is, the second focusing lens 43B constitutes a so-called correction ring lens. In the second aberration correction unit 47B, a part of the lens group constituting the second focusing lens 43B is moved in the optical axis direction by rotating the correction ring 47y, thereby adjusting the second correction amount.
第3収差補正部47Cは、第3集光レンズ43Cに設けられ、第3補正量の収差補正を実現する。第3収差補正部47Cは、補正環47zを有する。つまり、第3集光レンズ43Cは、いわゆる補正環レンズを構成する。第3収差補正部27Cは、補正環47zを回転させることで第3集光レンズ43Cを構成するレンズ群の一部を光軸方向に移動させ、これにより、第3補正量を調整する。補正環47x,47y,47zの回転は、ユーザによる手動で実現されてもよいし、制御部9の制御下において不図示の駆動部により実現されてもよい。第1収差補正部47A、第2収差補正部47B及び第3収差補正部47Cとしては、特に限定されず、例えば非球面レンズを用いてもよい。The third aberration correction unit 47C is provided in the third condenser lens 43C and realizes the third correction amount of aberration correction. The third aberration correction unit 47C has a correction ring 47z. In other words, the third condenser lens 43C constitutes a so-called correction ring lens. The third aberration correction unit 27C moves a part of the lens group constituting the third condenser lens 43C in the optical axis direction by rotating the correction ring 47z, thereby adjusting the third correction amount. The rotation of the correction rings 47x, 47y, and 47z may be realized manually by the user, or may be realized by a driving unit (not shown) under the control of the control unit 9. The first aberration correction unit 47A, the second aberration correction unit 47B, and the third aberration correction unit 47C are not particularly limited, and may be, for example, an aspheric lens.
レボルバ48は、固定部48a及び回転部48bを含む。固定部48aは、筐体H4に固定されている。回転部48bは、Z方向を厚さ方向とする円板状を呈し、その中心を通る回転軸を基軸に固定部48aに対して回転可能に設けられている。回転部48bにおいて周方向に等間隔の3つの位置には、第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B及び第3集光レンズ43Cが取り付けられている。第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B及び第3集光レンズ43Cは、その光軸をZ方向に沿う向きにして配置されている。The revolver 48 includes a fixed portion 48a and a rotating portion 48b. The fixed portion 48a is fixed to the housing H4. The rotating portion 48b is disk-shaped with its thickness direction in the Z direction, and is rotatable relative to the fixed portion 48a around a rotation axis passing through its center. A first collecting lens 43A, a second collecting lens 43B, and a third collecting lens 43C are attached to three positions on the rotating portion 48b that are equally spaced in the circumferential direction. The first collecting lens 43A, the second collecting lens 43B, and the third collecting lens 43C are arranged with their optical axes oriented along the Z direction.
レボルバ48は、第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B及び第3集光レンズ43Cの何れかを透過光I1の光軸上に配置すると共に、透過光I1の光軸上に配置する第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B及び第3集光レンズ43Cの何れかが切り替わるように可動(回転軸を基軸に固定部48aに対して回転)する。以上の構成により、収差補正部46は、レボルバ48の回転部48bを回転させることで、収差補正の補正量を少なくとも第1補正量と第2補正量と第3補正量との間で切替え可能に構成される。The revolver 48 positions one of the first focusing lens 43A, the second focusing lens 43B, and the third focusing lens 43C on the optical axis of the transmitted light I1, and is movable (rotates with respect to the fixed part 48a around the rotation axis) so as to switch between one of the first focusing lens 43A, the second focusing lens 43B, and the third focusing lens 43C positioned on the optical axis of the transmitted light I1. With the above configuration, the aberration correction part 46 is configured to be able to switch the amount of aberration correction between at least the first correction amount, the second correction amount, and the third correction amount by rotating the rotating part 48b of the revolver 48.
図1に示されるように、第1鉛直移動機構7Aは、Z方向に沿ってレーザ加工ヘッド3をアライメント用カメラ5,6と共に移動させる移動機構である。第1鉛直移動機構7Aは、柱状の第1ベース部75に設けられた第1鉛直軸71を有する。第1ベース部75は、例えば設置面等に固定されている。第1鉛直軸71は、Z方向に沿って延在する。第1鉛直軸71には、レーザ加工ヘッド3の取付部39がZ方向に沿って移動可能に取り付けられている。このような第1鉛直移動機構7Aは、不図示の駆動源の駆動力により、レーザ加工ヘッド3を第1鉛直軸71に沿ってZ方向に移動させる。第1鉛直移動機構7Aとしては、特に限定されず、レーザ加工ヘッド3をZ方向に移動できれば種々の機構を用いることができる。As shown in FIG. 1, the first vertical movement mechanism 7A is a movement mechanism that moves the laser processing head 3 together with the alignment cameras 5 and 6 along the Z direction. The first vertical movement mechanism 7A has a first vertical shaft 71 provided on a columnar first base portion 75. The first base portion 75 is fixed to, for example, an installation surface. The first vertical shaft 71 extends along the Z direction. The mounting portion 39 of the laser processing head 3 is attached to the first vertical shaft 71 so as to be movable along the Z direction. Such a first vertical movement mechanism 7A moves the laser processing head 3 in the Z direction along the first vertical shaft 71 by the driving force of a driving source (not shown). The first vertical movement mechanism 7A is not particularly limited, and various mechanisms can be used as long as they can move the laser processing head 3 in the Z direction.
第2鉛直移動機構7Bは、Z方向に沿って観察ユニット4を移動させる移動機構である。第2鉛直移動機構7Bは、例えば設置面等に固定された柱状の第2ベース部76に設けられた第2鉛直軸72を有する。第2ベース部76は、第1ベース部75に対してX方向に離間する。例えば第1ベース部75に対する第2ベース部76の離間距離は、レーザ加工ヘッド3のX方向の幅以上である。The second vertical movement mechanism 7B is a movement mechanism that moves the observation unit 4 along the Z direction. The second vertical movement mechanism 7B has a second vertical shaft 72 provided on a columnar second base portion 76 fixed to, for example, an installation surface. The second base portion 76 is spaced apart in the X direction from the first base portion 75. For example, the distance between the second base portion 76 and the first base portion 75 is equal to or greater than the width of the laser processing head 3 in the X direction.
第2鉛直軸72は、Z方向に沿って延在する。第2鉛直軸72には、観察ユニット4の取付部49がZ方向に沿って移動可能に取り付けられている。このような第2鉛直移動機構7Bは、不図示の駆動源の駆動力により、観察ユニット4を第2鉛直軸72に沿ってZ方向に移動させる。第2鉛直移動機構7Bとしては、特に限定されず、観察ユニット4をZ方向に移動できれば種々の機構を用いることができる。第2鉛直移動機構7Bは、透過光集光レンズ43を対象物20に対して相対的に移動させる移動部を構成する。The second vertical axis 72 extends along the Z direction. The mounting portion 49 of the observation unit 4 is attached to the second vertical axis 72 so as to be movable along the Z direction. Such a second vertical movement mechanism 7B moves the observation unit 4 in the Z direction along the second vertical axis 72 by the driving force of a driving source (not shown). The second vertical movement mechanism 7B is not particularly limited, and various mechanisms can be used as long as they can move the observation unit 4 in the Z direction. The second vertical movement mechanism 7B constitutes a movement portion that moves the transmitted light focusing lens 43 relative to the object 20.
第1水平移動機構8Aは、X方向に沿ってステージ2を移動させる移動機構である。第1水平移動機構8Aは、例えば設置面等に固定された第1水平軸81を有する。第1水平軸81は、X方向に沿って延在する。第1水平軸81には、第2水平移動機構8Bを介してステージ2がX方向に沿って移動可能に取り付けられている。このような第1水平移動機構8Aは、不図示の駆動源の駆動力により、ステージ2及び第2水平移動機構8Bを第1水平軸81に沿ってX方向に移動させる。第1水平移動機構8Aとしては、特に限定されず、ステージ2をX方向に移動できれば種々の機構を用いることができる。The first horizontal movement mechanism 8A is a movement mechanism that moves the stage 2 along the X direction. The first horizontal movement mechanism 8A has a first horizontal shaft 81 fixed to, for example, an installation surface. The first horizontal shaft 81 extends along the X direction. The stage 2 is attached to the first horizontal shaft 81 via the second horizontal movement mechanism 8B so as to be movable along the X direction. Such a first horizontal movement mechanism 8A moves the stage 2 and the second horizontal movement mechanism 8B in the X direction along the first horizontal shaft 81 by the driving force of a driving source (not shown). The first horizontal movement mechanism 8A is not particularly limited, and various mechanisms can be used as long as they can move the stage 2 in the X direction.
第2水平移動機構8Bは、Y方向に沿ってステージ2を移動させる移動機構である。第2水平移動機構8Bは、例えば第1水平移動機構8A上に設けられた第2水平軸82を有する。第2水平軸82は、Y方向に沿って延在する。第2水平軸82には、ステージ2がY方向に沿って移動可能に取り付けられている。第2水平軸82は、ステージ2と共に第1水平軸81に沿って移動可能である。このような第2水平移動機構8Bは、不図示の駆動源の駆動力により、ステージ2を第2水平軸82に沿ってY方向に移動させる。第2水平移動機構8Bとしては、特に限定されず、ステージ2をY方向に移動できれば種々の機構を用いることができる。The second horizontal movement mechanism 8B is a movement mechanism that moves the stage 2 along the Y direction. The second horizontal movement mechanism 8B has, for example, a second horizontal shaft 82 provided on the first horizontal movement mechanism 8A. The second horizontal shaft 82 extends along the Y direction. The stage 2 is attached to the second horizontal shaft 82 so as to be movable along the Y direction. The second horizontal shaft 82 is movable along the first horizontal shaft 81 together with the stage 2. Such a second horizontal movement mechanism 8B moves the stage 2 in the Y direction along the second horizontal shaft 82 by the driving force of a driving source (not shown). The second horizontal movement mechanism 8B is not particularly limited, and various mechanisms can be used as long as they can move the stage 2 in the Y direction.
制御部9は、プロセッサ、メモリ、ストレージ及び通信デバイス等を含むコンピュータ装置として構成されている。制御部9では、プロセッサが、メモリ等に読み込まれたソフトウェア(プログラム)を実行し、メモリ及びストレージにおけるデータの読み出し及び書き込み、並びに、通信デバイスによる通信を制御する。制御部9は、レーザ加工装置1の各種の動作を制御する。制御部9は、ステージ2の回転駆動装置、レーザ加工ヘッド3、アライメント用カメラ5,6、観察ユニット4、第1鉛直移動機構7A、第2鉛直移動機構7B、第1水平移動機構8A、第2水平移動機構8B及びGUI10の動作を制御する。The control unit 9 is configured as a computer device including a processor, memory, storage, and a communication device. In the control unit 9, the processor executes software (programs) loaded into the memory, etc., and controls the reading and writing of data in the memory and storage, as well as communication by the communication device. The control unit 9 controls various operations of the laser processing device 1. The control unit 9 controls the operations of the rotation drive device of the stage 2, the laser processing head 3, the alignment cameras 5 and 6, the observation unit 4, the first vertical movement mechanism 7A, the second vertical movement mechanism 7B, the first horizontal movement mechanism 8A, the second horizontal movement mechanism 8B, and the GUI 10.
GUI10は、各種の情報を表示する。GUI10は、観察ユニット4の撮像結果、及び、アライメント用カメラ5,6の撮像結果を表示する。GUI10は、例えばタッチパネルディスプレイを含む。GUI10には、ユーザのタッチ等の操作により、加工条件等に関する各種の設定が入力される。GUI10は、ユーザからの入力を受け付ける入力部を構成する。The GUI 10 displays various types of information. The GUI 10 displays the imaging results of the observation unit 4 and the imaging results of the alignment cameras 5 and 6. The GUI 10 includes, for example, a touch panel display. Various settings related to processing conditions, etc. are input to the GUI 10 by the user's touch or other operations. The GUI 10 constitutes an input unit that accepts input from the user.
レーザ加工装置1では、一例として、半導体基板21の裏面21b側から対象物20にレーザ光Lを照射すると共に、ステージ2をライン15に沿って移動させ、対象物20に対してレーザ光Lの集光位置(集光点)をライン15に沿って相対的に移動させることにより、複数の改質スポットがライン15に沿って並ぶように形成される。1つの改質スポットは、1パルスのレーザ光Lの照射によって形成される。1列の改質領域12は、1列に並んだ複数の改質スポットの集合である。隣り合う改質スポットは、対象物20に対する集光位置の相対的な移動速度及びレーザ光Lの繰り返し周波数によって、互いに繋がる場合も、互いに離れる場合もある。本実行形態では、図4に示されるように、ライン15に沿って半導体基板21の内部に2列の改質領域12を形成する。2列の改質領域12は、対象物20の厚さ方向(Z方向)において隣り合っている。2列の改質領域12は、半導体基板21に対して2つの集光位置Cがライン15に沿って相対的に移動させられることにより形成される。In the laser processing device 1, as an example, the laser light L is irradiated onto the object 20 from the back surface 21b side of the semiconductor substrate 21, and the stage 2 is moved along the line 15 to move the focal position (focus point) of the laser light L relative to the object 20 along the line 15, thereby forming a plurality of modified spots aligned along the line 15. One modified spot is formed by irradiating one pulse of laser light L. A row of modified regions 12 is a collection of a plurality of modified spots aligned in a row. Adjacent modified spots may be connected to each other or separated from each other depending on the relative moving speed of the focal position with respect to the object 20 and the repetition frequency of the laser light L. In this embodiment, as shown in FIG. 4, two rows of modified regions 12 are formed inside the semiconductor substrate 21 along the line 15. The two rows of modified regions 12 are adjacent to each other in the thickness direction (Z direction) of the object 20. The two rows of modified regions 12 are formed by moving the two focusing positions C relative to the semiconductor substrate 21 along the line 15.
レーザ加工装置1では、上述したように、レーザ加工ヘッド3の筐体H3が第1鉛直移動機構7AでZ方向に移動可能に支持されており、これにより、レーザ加工ヘッド3及びレーザ加工ヘッド3に設けられたアライメント用カメラ5,6は、Z方向に移動可能で、且つ、X方向及びY方向には移動不能に構成される。レーザ加工装置1では、上述したように、観察ユニット4の筐体H4が第2鉛直移動機構7BでZ方向に移動可能に支持されており、これにより、観察ユニット4は、Z方向に移動可能で、且つ、X方向及びY方向には移動不能に構成される。上記において、ステージ2、観察ユニット4、第2鉛直移動機構7B、制御部9、GUI10、第1水平移動機構8A及び第2水平移動機構8Bは、観察装置100を構成する。As described above, in the laser processing device 1, the housing H3 of the laser processing head 3 is supported by the first vertical movement mechanism 7A so as to be movable in the Z direction, and as a result, the laser processing head 3 and the alignment cameras 5, 6 provided on the laser processing head 3 are configured to be movable in the Z direction but not movable in the X direction or Y direction. As described above, in the laser processing device 1, the housing H4 of the observation unit 4 is supported by the second vertical movement mechanism 7B so as to be movable in the Z direction, and as a result, the observation unit 4 is configured to be movable in the Z direction but not movable in the X direction or Y direction. In the above, the stage 2, the observation unit 4, the second vertical movement mechanism 7B, the control unit 9, the GUI 10, the first horizontal movement mechanism 8A, and the second horizontal movement mechanism 8B constitute the observation device 100.
次に、レーザ加工装置1の動作の概要について、図7のフローチャートを参照して例示する。まず、起動後、各装置のウォームアップ及びキャリブレーションを行った後、不図示のロボットアームによりステージ2上に対象物20を載置し、対象物20をステージ2上に吸着させる(ステップS101)。続いて、アライメントを行う(ステップS102)。ステップS102では、制御部9により、アライメント用カメラ5又はアライメント用カメラ6で取得された画像(例えば、対象物20が有する機能素子層22の像)に基づいて第1水平移動機構8A及び第2水平移動機構8Bの動作を制御し、レーザ光Lの集光位置がアライメント位置に合うようにX方向及びY方向に沿ってステージ2を移動させる。例えばアライメント位置は、Z方向から見てライン15上の加工開始位置(所定位置)である。また、ステップS102では、アライメント時のステージ2の位置情報を、アライメント情報として取得する。Next, an overview of the operation of the laser processing device 1 will be illustrated with reference to the flowchart of FIG. 7. First, after starting up, each device is warmed up and calibrated, and then the target 20 is placed on the stage 2 by a robot arm (not shown), and the target 20 is adsorbed onto the stage 2 (step S101). Then, alignment is performed (step S102). In step S102, the control unit 9 controls the operation of the first horizontal movement mechanism 8A and the second horizontal movement mechanism 8B based on an image (for example, an image of the functional element layer 22 of the target 20) acquired by the alignment camera 5 or the alignment camera 6, and moves the stage 2 along the X direction and the Y direction so that the focusing position of the laser light L matches the alignment position. For example, the alignment position is the processing start position (predetermined position) on the line 15 when viewed from the Z direction. In addition, in step S102, position information of the stage 2 during alignment is acquired as alignment information.
続いて、ハイトセットを行う(ステップS103)。ステップS103では、制御部9により、観察カメラ35によって取得された可視画像(例えば、対象物20のレーザ光入射面の像)に基づいて第1鉛直移動機構7Aの動作を制御し、レーザ光Lの集光位置がレーザ光入射面上に位置するように、Z方向に沿ってレーザ加工ヘッド3(すなわち、レーザ光集光レンズ33)を移動させる。続いて、制御部9により第1鉛直移動機構7Aの動作を制御し、ハイトセット時の位置を基準としてレーザ光Lの集光位置がレーザ光入射面から所定深さに位置するように、Z方向に沿ってレーザ加工ヘッド3を移動させる。続いて、制御部9により、レーザ加工ヘッド3からのレーザ光LのON/OFF、並びに、第1水平移動機構8A、第2水平移動機構8B及びステージ2の回転駆動装置の動作を適宜制御し、レーザ光Lの集光位置が複数のライン15に沿って相対的に移動するようにステージ2を移動させる。これにより、複数のライン15に沿って対象物20の内部に改質領域12を形成する(ステップS104)。Next, the height is set (step S103). In step S103, the control unit 9 controls the operation of the first vertical movement mechanism 7A based on the visible image (for example, an image of the laser light incident surface of the object 20) acquired by the observation camera 35, and moves the laser processing head 3 (i.e., the laser light focusing lens 33) along the Z direction so that the focusing position of the laser light L is located on the laser light incident surface. Next, the control unit 9 controls the operation of the first vertical movement mechanism 7A, and moves the laser processing head 3 along the Z direction so that the focusing position of the laser light L is located at a predetermined depth from the laser light incident surface based on the position at the time of height setting. Next, the control unit 9 appropriately controls the ON/OFF of the laser light L from the laser processing head 3, as well as the operation of the first horizontal movement mechanism 8A, the second horizontal movement mechanism 8B, and the rotation drive device of the stage 2, and moves the stage 2 so that the focusing position of the laser light L moves relatively along the multiple lines 15. This forms modified regions 12 inside the object 20 along multiple lines 15 (step S104).
続いて、対象物20の内部観察を行う。対象物20の内部観察では、制御部9によりステージ2の回転駆動装置、第1水平移動機構8A及び第2水平移動機構8Bの動作を制御し、観察ユニット4による内部観察の開始位置に対象物20が位置するようにステージ2を移動させる(ステップS105)。ステップS105では、上記ステップS102で取得したアライメント情報に基づいて、対象物20のアライメント位置(ここでは、ライン15上の加工開始位置)に透過光集光レンズ43の光軸が合うように、X方向、Y方向及びθ方向における対象物20の位置を制御する。Next, the inside of the object 20 is observed. In the internal observation of the object 20, the control unit 9 controls the operation of the rotation drive device of the stage 2, the first horizontal movement mechanism 8A, and the second horizontal movement mechanism 8B, and moves the stage 2 so that the object 20 is located at the start position of the internal observation by the observation unit 4 (step S105). In step S105, based on the alignment information acquired in step S102 above, the position of the object 20 in the X direction, Y direction, and θ direction is controlled so that the optical axis of the transmitted light focusing lens 43 is aligned with the alignment position of the object 20 (here, the processing start position on the line 15).
続いて、観察ユニット4により対象物20の内部観察を行い、複数の内部画像を取得する(ステップS106)。ステップS106では、例えば各ライン15の少なくとも一箇所において、制御部9の制御のもと、観察ユニット4により次の内部観察処理を実行する。すなわち、第2鉛直移動機構7BによりZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、対象物20の内部の複数の位置に透過光I1の集光位置を合わせて対象物20を撮像し、複数の内部画像を取得する。複数の内部画像のそれぞれに対して観察ユニット4の移動量に関する情報を関連付け、これを撮像データとして取得する。このような撮像データの取得を、同じライン15上又は別のライン15上の他の箇所に透過光集光レンズ43の光軸を合わせて繰り返す。Next, the observation unit 4 observes the inside of the object 20 and acquires multiple internal images (step S106). In step S106, for example, under the control of the control unit 9, the observation unit 4 executes the next internal observation process at at least one location on each line 15. That is, the observation unit 4 is moved along the Z direction by the second vertical movement mechanism 7B, the focusing position of the transmitted light I1 is aligned with multiple positions inside the object 20, the object 20 is imaged, and multiple internal images are acquired. Information regarding the amount of movement of the observation unit 4 is associated with each of the multiple internal images, and this is acquired as imaging data. This acquisition of imaging data is repeated by aligning the optical axis of the transmitted light focusing lens 43 with other locations on the same line 15 or on another line 15.
続いて、制御部9により、取得した撮像データに基づいて加工状態を判定する(ステップS107)。ステップS107では、一例として、画像認識によって複数の撮像データにおける内部画像のうち亀裂14の像が相対的に鮮明な何れかを自動的に判定する(AI判定を行う)。制御部9は、判定した当該内部画像を撮像したときの移動量に基づいて亀裂位置を算出する。亀裂位置は、例えば、所定の補正係数を移動量に乗じることにより算出できる。補正係数については、後述する。また、制御部9は、取得された亀裂位置等に基づいて、改質領域12の位置等を推定する。続いて、制御部9は、上記ステップS107で判定した判定結果を任意の記憶装置に保存する。制御部9により、上記ステップS107で判定した判定結果をGUI10に表示させる(ステップS8)。以上により、処理を終了する。Then, the control unit 9 judges the processing state based on the acquired imaging data (step S107). In step S107, as an example, image recognition is used to automatically judge which of the internal images in the multiple imaging data has a relatively clear image of the crack 14 (AI judgment is performed). The control unit 9 calculates the crack position based on the movement amount when the judged internal image was captured. The crack position can be calculated, for example, by multiplying the movement amount by a predetermined correction coefficient. The correction coefficient will be described later. The control unit 9 also estimates the position of the modified region 12, etc. based on the acquired crack position, etc. Next, the control unit 9 saves the judgment result judged in the above step S107 in an arbitrary storage device. The control unit 9 causes the judgment result judged in the above step S107 to be displayed on the GUI 10 (step S8). This ends the process.
本実施形態の観察ユニット4による観察では、例えば「直接観察」及び「裏面反射観察」により、亀裂14及び改質領域12を検出し、それらの位置に関する情報を取得することができる。図8に示されるように、直接観察は、透過光I1を裏面21bから入射させつつ、表面21aでの反射を経ることなく直接的に透過光I1の集光点を亀裂14に合わせた場合(裏面21b側から亀裂14に焦点Fを合わせた場合)の観察である。裏面反射観察は、透過光I1を裏面21bから入射させつつ、表面21aで反射された透過光I1の集光点を亀裂14に合わせた場合(表面21aに対して裏面21bとは反対側の領域に裏面21b側から焦点を合わせて、表面21aに関して焦点と対称な仮想焦点を亀裂14に合わせた場合)の観察である。In the observation using the observation unit 4 of this embodiment, for example, the crack 14 and the modified region 12 can be detected by "direct observation" and "back surface reflection observation", and information on their positions can be obtained. As shown in FIG. 8, direct observation is an observation in which the transmitted light I1 is incident from the back surface 21b and the focal point of the transmitted light I1 is directly aligned with the crack 14 without being reflected by the front surface 21a (when the focal point F is aligned with the crack 14 from the back surface 21b side). Back surface reflection observation is an observation in which the transmitted light I1 is incident from the back surface 21b and the focal point of the transmitted light I1 reflected by the front surface 21a is aligned with the crack 14 (when the focal point is aligned with the area on the opposite side of the back surface 21b with respect to the front surface 21a from the back surface 21b side, and a virtual focal point symmetrical to the focal point with respect to the front surface 21a is aligned with the crack 14).
本実施形態における加工状態の判定(AI判定)では、例えば、対象物20の内部画像について、まず、直線群を検出する。直線群の検出には、Hough変換又はLSD(Line Segment Detector)等のアルゴリズムが用いられる。Hough変換とは、画像上の点に対してその点を通る全ての直線を検出し特徴点をより多く通る直線に重み付けしながら直線を検出する手法である。LSDとは、画像内の輝度値の勾配と角度を計算することにより線分となる領域を推定し、該領域を矩形に近似することにより直線を検出する手法である。直線群について亀裂線との類似度を算出することにより、直線群から亀裂14を検出する。In the present embodiment, in determining the processing state (AI determination), for example, first, a group of straight lines is detected from the internal image of the object 20. To detect the group of straight lines, an algorithm such as the Hough transform or LSD (Line Segment Detector) is used. The Hough transform is a method of detecting straight lines by detecting all straight lines passing through a point on an image and weighting the straight lines that pass through more feature points. The LSD is a method of detecting straight lines by estimating an area that will become a line segment by calculating the gradient and angle of the brightness values in the image and approximating the area to a rectangle. The crack 14 is detected from the group of straight lines by calculating the similarity between the group of straight lines and the crack line.
また、本実施形態における加工状態の判定(AI判定)では、例えば、対象物20の内部画像について、画像内のコーナー(エッジの集中)をキーポイントとして検出し、その位置、大きさ、方向を検出して特徴点を検出する。このようにして特徴点を検出する手法としては、Eigen、Harris、Fast、SIFT、SURF、STAR、MSER、ORB、AKAZE等が知られている。改質領域(だ痕)12は、円形や矩形等の形が一定間隔で並ぶため、コーナーとしての特徴が強い。このため、画像内の特徴点の特徴量を集計することにより、改質領域12を高精度に検出することが可能になる。深さ方向にシフトして撮像した画像毎の特徴量合計を比較すると、亀裂14の列量を示すような山の変化が確認できる。当該変化のピークを改質領域12の位置として推定する。In addition, in the determination of the processing state (AI determination) in this embodiment, for example, for the internal image of the object 20, corners (concentrations of edges) in the image are detected as key points, and their positions, sizes, and directions are detected to detect feature points. Methods for detecting feature points in this way include Eigen, Harris, Fast, SIFT, SURF, STAR, MSER, ORB, AKAZE, etc. Known methods for detecting feature points in this way include the following: The modified area (scratches) 12 has strong corner characteristics because it is a circle, a rectangle, or other shape that is arranged at regular intervals. Therefore, by aggregating the feature amounts of the feature points in the image, it is possible to detect the modified area 12 with high accuracy. When comparing the total feature amounts for each image captured by shifting in the depth direction, a change in the shape of a mountain indicating the number of rows of cracks 14 can be confirmed. The peak of the change is estimated as the position of the modified area 12.
次に、本実施形態の制御部9における処理及びGUI10の入力に関して、具体的に説明する。Next, we will explain in detail the processing in the control unit 9 and the input to the GUI 10 in this embodiment.
制御部9は、収差補正部46を制御する。制御部9は、対象物20における透過光入射面側の第1区間を光検出部44で撮像する場合の収差補正部46による収差補正である第1区間用収差補正と、対象物20における内部の第2区間を光検出部44で撮像する場合の収差補正部46による収差補正である第2区間用収差補正と、対象物20における透過光入射面の反対面側の第3区間を光検出部44で撮像する場合の収差補正部46による収差補正である第3区間用収差補正と、の少なくとも何れかの補正量を、GUI10で受け付けた入力に応じて切り替える。The control unit 9 controls the aberration correction unit 46. The control unit 9 switches between at least one of the following correction amounts in response to an input received by the GUI 10: aberration correction for the first section, which is aberration correction by the aberration correction unit 46 when the light detection unit 44 captures an image of a first section on the side of the transmitted light incidence surface of the object 20; aberration correction for the second section, which is aberration correction by the aberration correction unit 46 when the light detection unit 44 captures an image of a second section inside the object 20; and aberration correction for the third section, which is aberration correction by the aberration correction unit 46 when the light detection unit 44 captures an image of a third section on the opposite side of the transmitted light incidence surface of the object 20.
第1区間用収差補正は、対象物20における透過光I1が入射する透過光入射面である裏面21bに露出する亀裂14の有無を検査するための収差補正であってもよい。第1区間用収差補正は、対象物20における裏面21b側の改質領域12(打痕)を検査するための収差補正であってもよい。第2区間用収差補正は、対象物20における内部(表面21a側以外で且つ裏面21b側以外の部分)に形成された改質領域12を検査するための収差補正であってもよい。第2区間用収差補正は、対象物20の内部において、切断後の切断面に凹凸(いわゆる端面凹凸)として出現し得る箇所、及び、黒い筋状の箇所(いわゆる黒筋)の有無を検査するための収差補正であってもよい。第3区間用収差補正は、対象物20における透過光入射面の反対面である表面21aに露出する亀裂14の有無を検査するための収差補正であってもよい。第3区間用収差補正は、対象物20における表面21a側の改質領域12を検査するための収差補正であってもよい。The aberration correction for the first section may be an aberration correction for inspecting the presence or absence of cracks 14 exposed on the back surface 21b, which is the transmitted light incident surface on which the transmitted light I1 is incident in the object 20. The aberration correction for the first section may be an aberration correction for inspecting the modified region 12 (dent) on the back surface 21b side of the object 20. The aberration correction for the second section may be an aberration correction for inspecting the modified region 12 formed inside the object 20 (a part other than the front surface 21a side and other than the back surface 21b side). The aberration correction for the second section may be an aberration correction for inspecting the presence or absence of a portion that may appear as an unevenness (so-called end surface unevenness) on the cut surface after cutting, and a black streak-like portion (so-called black streak) inside the object 20. The aberration correction for the third section may be an aberration correction for inspecting the presence or absence of a crack 14 exposed on the front surface 21a, which is the opposite surface of the transmitted light incident surface in the object 20. The aberration correction for the third section may be an aberration correction for inspecting the modified region 12 on the surface 21a side of the object 20.
第1~第3区間の範囲については、対象物20に厚さ毎に設定されて制御部9に記憶されていてもよいし、後述するようにGUI10を介して入力又は選択可能であってもよい。例えば、制御部9は、GUI10の入力内容別で第1~第3区画用収差補正の各補正量が分けられてなるデータテーブルを予め記憶し、当該データテーブルとGUI10にて実際に受け付けた入力とに基づくことで、第1~第3区画用収差補正の補正量を切り替えてもよい。The ranges of the first to third sections may be set for each thickness of the object 20 and stored in the control unit 9, or may be input or selectable via the GUI 10 as described below. For example, the control unit 9 may pre-store a data table in which the correction amounts of the aberration correction for the first to third sections are divided according to the input content of the GUI 10, and switch the correction amounts of the aberration correction for the first to third sections based on the data table and the input actually received by the GUI 10.
制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、GUI10で受け付けた入力に応じて、第1補正量、第2補正量及び第3補正量の中で切り替える。具体的には、制御部9は、収差補正の補正量を第1補正量へ切り替える場合には、第1収差補正部47Aが設けられた第1集光レンズ43Aが透過光I1の光軸上に配置されるように、レボルバ48を回転させる。制御部9は、収差補正の補正量を第2補正量へ切り替える場合には、第2収差補正部47Bが設けられた第2集光レンズ43Bが透過光I1の光軸上に配置されるように、レボルバ48を回転させる。制御部9は、収差補正の補正量を第3補正量へ切り替える場合には、第3収差補正部47Cが設けられた第3集光レンズ43Cが透過光I1の光軸上に配置されるように、レボルバ48を回転させる。The control unit 9 switches the correction amount of the aberration correction for the first section, the second section, and the third section among the first correction amount, the second correction amount, and the third correction amount according to the input received by the GUI 10. Specifically, when the correction amount of the aberration correction is switched to the first correction amount, the control unit 9 rotates the revolver 48 so that the first condenser lens 43A provided with the first aberration correction unit 47A is positioned on the optical axis of the transmitted light I1. When the correction amount of the aberration correction is switched to the second correction amount, the control unit 9 rotates the revolver 48 so that the second condenser lens 43B provided with the second aberration correction unit 47B is positioned on the optical axis of the transmitted light I1. When the correction amount of the aberration correction is switched to the third correction amount, the control unit 9 rotates the revolver 48 so that the third condenser lens 43C provided with the third aberration correction unit 47C is positioned on the optical axis of the transmitted light I1.
制御部9は、第2鉛直移動機構7Bによる観察ユニット4(透過光集光レンズ43)のZ方向に沿った移動量と補正係数とに基づいて、検出対象(例えば改質領域12又は亀裂14)の深さ位置(Z方向の位置)に関する情報を取得する。制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の切替えに応じて補正係数を切り替える。補正係数について、以下に具体的に説明する。The control unit 9 acquires information regarding the depth position (position in the Z direction) of the detection target (e.g., modified region 12 or crack 14) based on the amount of movement along the Z direction of the observation unit 4 (transmitted light focusing lens 43) by the second vertical movement mechanism 7B and the correction coefficient. The control unit 9 switches the correction coefficient according to the switching of the correction amount for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction. The correction coefficient is described in detail below.
補正係数は、透過光集光レンズ43のZ方向における移動量に対して乗じる所定の係数である。半導体基板21の内部において透過光I1の集光点の位置を調整すべく、観察ユニット4をZ方向に沿って移動量Fzだけ移動させたとする。このとき、半導体基板21がなければ、透過光I1の集光点の移動量も移動量Fzとなる。しかし、透過光I1の集光点が半導体基板21の内部に形成されている場合、透過光I1の集光点の移動量は、移動量Fzと異なる実移動量Hzとなる。実移動量Hzは、半導体基板21内における実際の撮像位置、すなわち、検出対象の位置を規定する。一方で、制御部9が直接的に取得可能な情報は、観察ユニット4の移動量Fz(すなわち、半導体基板21がない場合の集光点の移動量Fz)である。したがって、制御部9が、半導体基板21内の実際の検出対象の位置を取得するためには、移動量Fzに対して何らかの係数を乗じる必要がある。このときに適用される係数が補正係数である。The correction coefficient is a predetermined coefficient by which the movement amount of the transmitted light focusing lens 43 in the Z direction is multiplied. Suppose that the observation unit 4 is moved by the movement amount Fz along the Z direction in order to adjust the position of the focal point of the transmitted light I1 inside the semiconductor substrate 21. At this time, if the semiconductor substrate 21 does not exist, the movement amount of the focal point of the transmitted light I1 is also the movement amount Fz. However, if the focal point of the transmitted light I1 is formed inside the semiconductor substrate 21, the movement amount of the focal point of the transmitted light I1 becomes an actual movement amount Hz different from the movement amount Fz. The actual movement amount Hz specifies the actual imaging position in the semiconductor substrate 21, that is, the position of the detection target. On the other hand, the information that the control unit 9 can directly obtain is the movement amount Fz of the observation unit 4 (i.e., the movement amount Fz of the focal point when the semiconductor substrate 21 does not exist). Therefore, in order for the control unit 9 to obtain the actual position of the detection target in the semiconductor substrate 21, it is necessary to multiply the movement amount Fz by some coefficient. The coefficient applied at this time is the correction coefficient.
GUI10は、対象物20に対して行う検査の内容に関する入力を受け付ける。制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、GUI10で受け付けた検査の内容に関する入力に応じて切り替える。検査の内容としては、例えば、対象物20における表面21aから裏面21bに亘って亀裂14及び改質領域12が形成されていることを検査するFC検査、対象物20における透過光入射面の反対面である表面21aに亀裂14が露出していることを検査するBHC検査、対象物20における表面21a及び裏面21bには亀裂14が露出していないことを検査するST検査、が挙げられる。The GUI 10 accepts input regarding the contents of the inspection to be performed on the object 20. The control unit 9 switches the correction amount of the aberration correction for the first section, the aberration correction for the second section, and the aberration correction for the third section according to the input regarding the contents of the inspection accepted by the GUI 10. The contents of the inspection include, for example, an FC inspection to check whether cracks 14 and modified regions 12 are formed from the front surface 21a to the back surface 21b of the object 20, a BHC inspection to check whether cracks 14 are exposed on the front surface 21a, which is the surface opposite the transmitted light incidence surface of the object 20, and an ST inspection to check whether cracks 14 are not exposed on the front surface 21a and the back surface 21b of the object 20.
GUI10は、対象物20に対して行うレーザ加工の加工条件の種類に関する入力を受け付ける。制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、GUI10で受け付けた加工条件の種類に関する入力に応じて切り替える。加工条件の種類としては、例えば、改質領域12を対象物20の内部に形成すると共に対象物20を研磨して薄化させるSDBG条件、対象物20における表面21aから裏面21bに亘って亀裂14及び改質領域12を形成するFC条件、が挙げられる。また、加工条件の種類としては、パーティクル抑制のために端面凹凸が少なくなるようにFC条件で加工するするMEMS条件、下亀裂の直進性及びダメージ抑制等のデバイス品質を担保してSDBG条件で加工するメモリ条件、デバイスの種類やユーザの要求する品質に応じて設定されるデバイス条件が挙げられる。The GUI 10 accepts input regarding the type of processing conditions for the laser processing performed on the object 20. The control unit 9 switches the correction amount of the aberration correction for the first section, the aberration correction for the second section, and the aberration correction for the third section according to the input regarding the type of processing conditions accepted by the GUI 10. Examples of the types of processing conditions include SDBG conditions in which the modified region 12 is formed inside the object 20 and the object 20 is polished to thin it, and FC conditions in which the crack 14 and the modified region 12 are formed from the front surface 21a to the back surface 21b of the object 20. In addition, types of processing conditions include MEMS conditions in which processing is performed under FC conditions to reduce end surface unevenness in order to suppress particles, memory conditions in which processing is performed under SDBG conditions while ensuring device quality such as straightness of the lower crack and damage suppression, and device conditions set according to the type of device and the quality required by the user.
GUI10は、対象物20の厚さに関する入力を受け付ける。制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、GUI10で受け付けた対象物20の厚さに関する入力に応じて切り替える。The GUI 10 accepts input regarding the thickness of the object 20. The control unit 9 switches the correction amount of the aberration correction for the first interval, the aberration correction for the second interval, and the aberration correction for the third interval according to the input regarding the thickness of the object 20 accepted by the GUI 10.
GUI10は、入力モードが簡易入力モード及び詳細入力モードの何れであるかに関する入力を受け付ける。GUI10は、入力モードとして詳細入力モードに関する入力を受け付けた場合に、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の入力を受け付ける。制御部9は、GUI10で受け付けた第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の入力に応じて、これらの補正量を切り替える。GUI10は、入力モードとして詳細入力モードに関する入力を受け付けた場合に、第1区間、第2区間及び第3区間の範囲に関する入力を受け付ける。制御部9は、GUI10で受け付けた第1区間、第2区間及び第3区間の範囲に関する入力に応じて、第1区間、第2区間及び第3区間を切り替える。The GUI 10 accepts input regarding whether the input mode is a simple input mode or a detailed input mode. When the GUI 10 accepts input regarding the detailed input mode as the input mode, it accepts input of the correction amounts for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction. The control unit 9 switches between these correction amounts according to the input of the correction amounts for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction accepted by the GUI 10. When the GUI 10 accepts input regarding the detailed input mode as the input mode, it accepts input regarding the ranges of the first interval, the second interval, and the third interval. The control unit 9 switches between the first interval, the second interval, and the third interval according to the input regarding the ranges of the first interval, the second interval, and the third interval accepted by the GUI 10.
図9(a)及び図9(b)は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量に関するデータテーブルの例を示す図である。図9(a)は、検査内容がFC検査時の場合に利用されるデータテーブルである。図9(b)は、加工条件がSDBG条件の場合に利用されるデータテーブルである。「-」は、観察をしない、もしくは、収差補正の補正量は特に限定されないこと(任意の補正量)を意味する。図中の「0mm補正」、「0.1mm補正」、「0.2mm補正」、「0.4mm補正」及び「0.8mm補正」は、収差補正の補正量を表し、この順に補正量が大きい。「0mm補正」、「0.1mm補正」、「0.2mm補正」、「0.4mm補正」及び「0.8mm補正」は、第1収差補正部47A、第2収差補正部47B及び第3収差補正部47Cにおいて補正環47x,47y,47zを適宜に回転させることにより、実現することができる。例えば「0.8mm補正」とは、対象物20の内部の0.8mmの深さ位置で最も球面収差が少ないように設定された補正量を意味する。図中の括弧は、括弧内の補正量で補正してもよいこと意味する。これらの説明は以下において同様である。Figures 9(a) and 9(b) are diagrams showing examples of data tables relating to the correction amounts of aberration correction for the first section, the second section, and the third section. Figure 9(a) is a data table used when the inspection content is FC inspection. Figure 9(b) is a data table used when the processing conditions are SDBG conditions. "-" means that no observation is made or that the amount of aberration correction is not particularly limited (any correction amount). "0 mm correction", "0.1 mm correction", "0.2 mm correction", "0.4 mm correction", and "0.8 mm correction" in the figures represent the correction amounts of aberration correction, with the correction amounts increasing in this order. "0 mm correction", "0.1 mm correction", "0.2 mm correction", "0.4 mm correction" and "0.8 mm correction" can be realized by appropriately rotating the correction rings 47x, 47y, 47z in the first aberration correction unit 47A, the second aberration correction unit 47B and the third aberration correction unit 47C. For example, "0.8 mm correction" means a correction amount set so that spherical aberration is minimal at a depth position of 0.8 mm inside the object 20. The brackets in the figure mean that correction may be made with the correction amount in the brackets. The same applies below.
制御部9は、例えばGUI10にて検査内容をFC検査とする入力を受け付けた場合、図9(a)に示されるデータテーブルを用いて、GUI10にて受け付けた対象物20の厚さに関する入力に基づき、第1~第3区画用収差補正の補正量を切り替えてもよい。同様に、制御部9は、例えばGUI10にて加工条件をSDBG条件とする入力を受け付けた場合、図9(b)に示されるデータテーブルを用いて、GUI10にて受け付けた対象物20の厚さに関する入力に基づき、第1~第3区画用収差補正の補正量を切り替えてもよい。For example, when the control unit 9 receives an input on the GUI 10 indicating that the inspection content is an FC inspection, the control unit 9 may use the data table shown in FIG. 9(a) to switch the correction amounts of the aberration correction for the first to third sections based on the input regarding the thickness of the object 20 received on the GUI 10. Similarly, when the control unit 9 receives an input on the GUI 10 indicating that the processing conditions are SDBG conditions, the control unit 9 may use the data table shown in FIG. 9(b) to switch the correction amounts of the aberration correction for the first to third sections based on the input regarding the thickness of the object 20 received on the GUI 10.
図10は、対象物20の検査のための観察を行う場合におけるGUI10の入力画面10aの例を示す図である。図10に示される例では、ユーザによりGUI10の入力画面10aにおいて、加工が「未」と選択され、レーザ加工前であることが入力されている。また、ユーザによりGUI10の入力画面10aにおいて、検査内容が「FC検査」、入力モードが「簡易入力モード」、対象物20の厚さが「400μm」と選択されて入力されている。Figure 10 is a diagram showing an example of the input screen 10a of the GUI 10 when observing the object 20 for inspection. In the example shown in Figure 10, the user selects "not yet processed" on the input screen 10a of the GUI 10 and inputs that it is before laser processing. The user also selects and inputs on the input screen 10a of the GUI 10 that the inspection content is "FC inspection", the input mode is "simple input mode", and the thickness of the object 20 is "400 μm".
GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいてレーザ加工条件を決定し、決定したレーザ加工条件を入力画面10aに「レーザ加工条件(案)」として表示させる。例えば、制御部9は、レーザ加工条件のレシピを決定する。レシピには、パス数(形成する改質領域12の厚さ方向における列数)、加工Z位置(改質領域12の各列のZ方向における位置)、及び、加工エネルギ(レーザ光Lのエネルギ)等が含まれる。As a result of this input via the GUI 10, the control unit 9 determines the laser processing conditions based on this input, for example using a pre-set data table, and displays the determined laser processing conditions as "laser processing conditions (draft)" on the input screen 10a. For example, the control unit 9 determines a recipe for the laser processing conditions. The recipe includes the number of passes (the number of rows in the thickness direction of the modified region 12 to be formed), the processing Z position (the position of each row of the modified region 12 in the Z direction), and the processing energy (the energy of the laser light L).
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を切り替える。例えば、制御部9は、第1区間用収差補正の補正量として「0mm補正」、第2区間用収差補正の補正量として「0.2mm補正」、及び、第3区間用収差補正の補正量として「0.4mm補正」へ切り替える。また、制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の切替えに応じて、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正のそれぞれを実行時の各補正係数を切り替える。例えば、制御部9は、第1区間用収差補正を実行時の補正係数として「0mm補正係数」、第2区間用収差補正を実行時の補正係数として「0.2mm補正係数」、及び、第3区間用収差補正を実行時の補正係数として「0.4mm補正係数」へ切り替える。そして、制御部9は、切り替えた各補正量及び各補正係数を入力画面10aに表示させる。In addition, as a result of the input by GUI 10, the control unit 9 switches the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction based on the input, for example, using a preset data table. For example, the control unit 9 switches the correction amount of the first interval aberration correction to "0 mm correction", the correction amount of the second interval aberration correction to "0.2 mm correction", and the correction amount of the third interval aberration correction to "0.4 mm correction". In addition, the control unit 9 switches the correction coefficients when executing each of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction, for example, using a preset data table, in response to the switching of the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction. For example, the control unit 9 switches the correction coefficient for the first interval to "0 mm correction coefficient", the correction coefficient for the second interval to "0.2 mm correction coefficient", and the correction coefficient for the third interval to "0.4 mm correction coefficient". Then, the control unit 9 displays each of the switched correction amounts and correction coefficients on the input screen 10a.
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて、第1区間、第2区間及び第3区間の範囲を切り替え、切り替えた第1区間、第2区間及び第3区間を入力画面10aに表示させる。また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間、第2区間及び第3区間を観察する際の観察順序を切り替え、切り替えた観察順序を入力画面10aに表示させる。In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table to switch the range of the first, second, and third sections based on the input, and displays the switched first, second, and third sections on the input screen 10a. In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table to switch the observation order when observing the first, second, and third sections based on the input, and displays the switched observation order on the input screen 10a.
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の検査項目(判定項目)を切り替え、切り替えた検査項目を入力画面10aに表示させる。図中において、「HC/ST」は、対象物20の透過光入射面に露出する亀裂14の有無を意味し、「BHC/ST」は、対象物20における透過光入射面の反対面に露出する亀裂14の有無を意味する。なお、図10に示される例では、簡易入力モードであることから、レーザ加工条件、第1~第3区間用収差補正の補正量、第1~第3区間の範囲、観察順序、及び、検査項目について、入力画面10aに表示されるがユーザは変更又は入力はできない。As a result of the input through the GUI 10, the control unit 9 switches the inspection items (judgment items) for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction based on the input, for example using a preset data table, and displays the switched inspection items on the input screen 10a. In the figure, "HC/ST" means the presence or absence of cracks 14 exposed on the transmitted light incidence surface of the object 20, and "BHC/ST" means the presence or absence of cracks 14 exposed on the opposite surface of the transmitted light incidence surface of the object 20. Note that in the example shown in FIG. 10, since the simple input mode is used, the laser processing conditions, the correction amount of the first to third interval aberration correction, the range of the first to third intervals, the observation order, and the inspection items are displayed on the input screen 10a, but the user cannot change or input them.
図11は、対象物20の検査のための観察を行う場合におけるGUI10の入力画面10aの他の例を示す図である。図11に示される例では、ユーザによりGUI10の入力画面10aにおいて、加工が「済」と選択され、レーザ加工後であることが入力されている。また、ユーザによりGUI10の入力画面10aにおいて、検査内容が「BHC検査」、入力モードが「詳細入力モード」、対象物20の厚さが「775μm」と選択されて入力されている。Figure 11 is a diagram showing another example of the input screen 10a of the GUI 10 when observing the object 20 for inspection. In the example shown in Figure 11, the user selects "Completed" for processing on the input screen 10a of the GUI 10 and inputs that it is after laser processing. In addition, the user selects and inputs "BHC inspection" as the inspection content, "detailed input mode" as the input mode, and "775 μm" as the thickness of the object 20 on the input screen 10a of the GUI 10.
GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいてレーザ加工条件を決定し、決定したレーザ加工条件を入力画面10aに「レーザ加工条件(済)」として表示させる。また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を切り替える。例えば、制御部9は、第1区間用収差補正の補正量として「任意の補正量」、第2区間用収差補正の補正量として「任意の補正量」、及び、第3区間用収差補正の補正量として「0.8mm補正」へ切り替える。また、制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の切替えに応じて、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正のそれぞれを実行時の各補正係数を切り替える。例えば、制御部9は、第3区間用収差補正を実行時の補正係数として「0.8mm補正係数」へ切り替える。そして、制御部9は、切り替えた各補正量及び各補正係数を入力画面10aに表示させる。As a result of the input by GUI 10, the control unit 9 determines the laser processing conditions based on the input, for example, using a preset data table, and displays the determined laser processing conditions on the input screen 10a as "laser processing conditions (completed)." Also, as a result of the input by GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table, and switches the correction amounts of the aberration correction for the first interval, the aberration correction for the second interval, and the aberration correction for the third interval, based on the input. For example, the control unit 9 switches the correction amount of the aberration correction for the first interval to "arbitrary correction amount," the correction amount of the aberration correction for the second interval to "arbitrary correction amount," and the correction amount of the aberration correction for the third interval to "0.8 mm correction." In addition, the control unit 9 switches the correction coefficients for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction when they are executed, for example, by using a preset data table, in response to switching of the correction amounts for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction. For example, the control unit 9 switches the third interval aberration correction to the "0.8 mm correction coefficient" as the correction coefficient when it is executed. Then, the control unit 9 displays the switched correction amounts and correction coefficients on the input screen 10a.
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間、第2区間及び第3区間の範囲を切り替え、切り替えた第1区間、第2区間及び第3区間を入力画面10aに表示させる。また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間、第2区間及び第3区間を観察する際の観察順序を切り替え、切り替えた観察順序を入力画面10aに表示させる。In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table to switch the range of the first, second, and third sections based on the input, and displays the switched first, second, and third sections on the input screen 10a. In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table to switch the observation order when observing the first, second, and third sections based on the input, and displays the switched observation order on the input screen 10a.
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の検査項目を切り替え、切り替えた検査項目を入力画面10aに表示させる。なお、図11に示される例では、詳細入力モードであることから、レーザ加工条件、第1~第3区間用収差補正の補正量、第1~第3区間の範囲、観察順序、及び、検査項目について、入力画面10aにてユーザは変更又は入力可能である。In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a pre-set data table to switch between the inspection items for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction based on the input, and displays the switched inspection item on the input screen 10a. Note that in the example shown in FIG. 11, since the detailed input mode is selected, the user can change or input the laser processing conditions, the correction amount for the first to third interval aberration correction, the range of the first to third intervals, the observation order, and the inspection item on the input screen 10a.
図12は、加工条件の策定(いわゆる条件出し)のための対象物20の観察を行う場合におけるGUI10の入力画面10aの例を示す図である。図12に示される例では、ユーザによりGUI10の入力画面10aにおいて、加工が「未」と選択され、レーザ加工前であることが入力されている。また、ユーザによりGUI10の入力画面10aにおいて、加工条件が「SDBG条件」、入力モードが「簡易入力モード」、対象物20の厚さが「775μm」と選択されて入力されている。Figure 12 is a diagram showing an example of the input screen 10a of the GUI 10 when observing the object 20 to formulate processing conditions (so-called condition setting). In the example shown in Figure 12, the user selects "not yet processed" on the input screen 10a of the GUI 10 and inputs that it is before laser processing. The user also selects and inputs on the input screen 10a of the GUI 10 the processing conditions as "SDBG conditions", the input mode as "simple input mode", and the thickness of the object 20 as "775 μm".
GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいてレーザ加工条件を決定し、決定したレーザ加工条件を入力画面10aに「レーザ加工条件(案)」として表示させる。また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて要求品質を切り替え、切り替えた要求品質を入力画面10aに表示させる。要求品質としては、例えば端面凹凸の大きさが10μm以内であること、BHC直進性が6μm以内であること、パーティクル抑制のレベルが所定レベルであること(又は不問であること)等が挙げられる。BHC直進性は、対象物20における透過光入射面の反対面に露出する亀裂14が蛇行する場合の蛇行幅に相当する。As a result of the input through the GUI 10, the control unit 9 determines the laser processing conditions based on the input, for example, using a preset data table, and displays the determined laser processing conditions on the input screen 10a as "laser processing conditions (draft)". Also, as a result of the input through the GUI 10, the control unit 9 switches the required quality based on the input, for example, using a preset data table, and displays the switched required quality on the input screen 10a. Examples of the required quality include the size of the end surface unevenness being within 10 μm, the BHC straightness being within 6 μm, and the particle suppression level being at a specified level (or not being required). The BHC straightness corresponds to the meandering width when the crack 14 exposed on the surface opposite the transmitted light incidence surface in the object 20 meanders.
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を切り替える。例えば、制御部9は、第1区間用収差補正の補正量として「任意の補正量」、第2区間用収差補正の補正量として「任意の補正量」、及び、第3区間用収差補正の補正量として「0.8mm補正」へ切り替える。また、制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の切替えに応じて、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正のそれぞれを実行時の各補正係数を切り替える。例えば、制御部9は、第3区間用収差補正を実行時の補正係数として「0.8mm補正係数」へ切り替える。そして、制御部9は、切り替えた各補正量及び各補正係数を入力画面10aに表示させる。In addition, as a result of the input by the GUI 10, the control unit 9 switches the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction based on the input, for example, using a preset data table. For example, the control unit 9 switches the correction amount of the first interval aberration correction to "any correction amount", the correction amount of the second interval aberration correction to "any correction amount", and the correction amount of the third interval aberration correction to "0.8 mm correction". In addition, the control unit 9 switches each correction coefficient when executing the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction, for example, using a preset data table, in response to switching the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction. For example, the control unit 9 switches the correction coefficient when executing the third interval aberration correction to "0.8 mm correction coefficient". The control unit 9 then displays each of the switched correction amounts and correction coefficients on the input screen 10a.
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間、第2区間及び第3区間の範囲を切り替え、切り替えた第1区間、第2区間及び第3区間を入力画面10aに表示させる。また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間、第2区間及び第3区間を観察する際の観察順序を切り替え、切り替えた観察順序を入力画面10aに表示させる。In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table to switch the range of the first, second, and third sections based on the input, and displays the switched first, second, and third sections on the input screen 10a. In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table to switch the observation order when observing the first, second, and third sections based on the input, and displays the switched observation order on the input screen 10a.
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の検査項目を切り替え、切り替えた検査項目を入力画面10aに表示させる。なお、図12に示される例では、簡易入力モードであることから、レーザ加工条件、要求品質、第1~第3区間用収差補正の補正量、第1~第3区間の範囲、観察順序、及び、検査項目について、入力画面10aに表示されるがユーザは変更又は入力はできない。In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table to switch between the inspection items for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction based on the input, and displays the switched inspection items on the input screen 10a. Note that in the example shown in FIG. 12, since the simple input mode is selected, the laser processing conditions, required quality, the correction amount of the aberration correction for the first to third intervals, the range of the first to third intervals, the observation order, and the inspection items are displayed on the input screen 10a, but the user cannot change or input them.
図13は、加工条件の策定のための対象物20の観察を行う場合におけるGUI10の入力画面10aの他の例を示す図である。図13に示される例では、ユーザによりGUI10の入力画面10aにおいて、加工が「済」と選択され、レーザ加工後であることが入力されている。また、ユーザによりGUI10の入力画面10aにおいて、加工条件が「MEMS条件」、入力モードが「詳細入力モード」、対象物20の厚さが「400μm」と選択されて入力されている。Figure 13 is a diagram showing another example of the input screen 10a of the GUI 10 when observing the object 20 to formulate processing conditions. In the example shown in Figure 13, the user selects "Completed" for processing on the input screen 10a of the GUI 10 and inputs that it is after laser processing. In addition, the user selects and inputs "MEMS conditions" as the processing conditions, "detailed input mode" as the input mode, and "400 μm" as the thickness of the object 20 on the input screen 10a of the GUI 10.
GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいてレーザ加工条件を決定し、決定したレーザ加工条件を入力画面10aに「レーザ加工条件(済)」として表示させる。また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて要求品質を切り替え、切り替えた要求品質を入力画面10aに表示させる。As a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 determines the laser processing conditions based on the input, for example, using a preset data table, and displays the determined laser processing conditions on the input screen 10a as "Laser processing conditions (completed)." Also, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 switches the required quality based on the input, for example, using a preset data table, and displays the switched required quality on the input screen 10a.
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を切り替える。例えば、制御部9は、第1区間用収差補正の補正量として「0mm補正」、第2区間用収差補正の補正量として「0.2mm補正」、及び、第3区間用収差補正の補正量として「0.4mm補正」へ切り替える。また、制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の切替えに応じて、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正のそれぞれを実行時の各補正係数を切り替える。例えば、制御部9は、第1区間用収差補正を実行時の補正係数として「0mm補正係数」、第2区間用収差補正を実行時の補正係数として「0.2mm補正係数」、及び、第3区間用収差補正を実行時の補正係数として「0.4mm補正係数」へ切り替える。そして、制御部9は、切り替えた各補正量及び各補正係数を入力画面10aに表示させる。In addition, as a result of the input by GUI 10, the control unit 9 switches the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction based on the input, for example, using a preset data table. For example, the control unit 9 switches the correction amount of the first interval aberration correction to "0 mm correction", the correction amount of the second interval aberration correction to "0.2 mm correction", and the correction amount of the third interval aberration correction to "0.4 mm correction". In addition, the control unit 9 switches the correction coefficients when executing each of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction, for example, using a preset data table, in response to the switching of the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction. For example, the control unit 9 switches the correction coefficient for the first interval to "0 mm correction coefficient", the correction coefficient for the second interval to "0.2 mm correction coefficient", and the correction coefficient for the third interval to "0.4 mm correction coefficient". Then, the control unit 9 displays each of the switched correction amounts and correction coefficients on the input screen 10a.
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間、第2区間及び第3区間の範囲を切り替え、切り替えた第1区間、第2区間及び第3区間を入力画面10aに表示させる。また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間、第2区間及び第3区間を観察する際の観察順序を切り替え、切り替えた観察順序を入力画面10aに表示させる。In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table to switch the range of the first, second, and third sections based on the input, and displays the switched first, second, and third sections on the input screen 10a. In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table to switch the observation order when observing the first, second, and third sections based on the input, and displays the switched observation order on the input screen 10a.
また、GUI10による当該入力の結果、制御部9は、例えば予め設定されたデータテーブルを用い、当該入力に基づいて第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の検査項目を切り替え、切り替えた検査項目を入力画面10aに表示させる。なお、図13に示される例では、詳細入力モードであることから、レーザ加工条件、要求品質、第1~第3区間用収差補正の補正量、第1~第3区間の範囲、観察順序、及び、検査項目について、入力画面10aにてユーザは変更又は入力可能である。例えばユーザが要求品質を変更した場合には、それに応じて検査項目が変わり、それに伴い、第1~第3区間用収差補正の補正量も変わる。In addition, as a result of the input via the GUI 10, the control unit 9 uses, for example, a preset data table to switch between the inspection items for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction based on the input, and displays the switched inspection item on the input screen 10a. Note that in the example shown in FIG. 13, since the detailed input mode is selected, the user can change or input the laser processing conditions, required quality, the amount of aberration correction for the first to third intervals, the range of the first to third intervals, the observation order, and the inspection item on the input screen 10a. For example, if the user changes the required quality, the inspection item changes accordingly, and the amount of aberration correction for the first to third intervals also changes accordingly.
次に、対象物20の検査のための観察を行う場合の処理を、図14のフローチャート及び図15の概略断面図を参照して説明する。なお、図15では、説明の便宜上、裏面反射観察の場合の対象物20の断面を仮想断面として示し、第3区画に当該仮想断面の範囲を含めて示している(図19及び図20において同じ)。Next, the process of observing the object 20 for inspection will be described with reference to the flowchart in FIG. 14 and the schematic cross-sectional view in FIG. 15. For ease of explanation, in FIG. 15, the cross-section of the object 20 in the case of back surface reflection observation is shown as a virtual cross-section, and the range of the virtual cross-section is included in the third section (same in FIG. 19 and FIG. 20).
ユーザにより、GUI10の入力画面10aにおいて、例えば図10に示される入力がなされているとする。第1収差補正部47Aの補正環47xを適宜に回転させられて、第1補正量が「0mm補正」とされている。第2収差補正部47Bの補正環47yが適宜に回転させられて、第2収差補正部47Bの第2補正量が「0.2mm補正」とされている。第3収差補正部47Cの補正環47zが適宜に回転させられて、第3収差補正部47Cの第3補正量が「0.4mm補正」とされている。この場合において、制御部9により、次の処理を実行する。Suppose that the user has made the input shown in FIG. 10 on the input screen 10a of the GUI 10. The correction ring 47x of the first aberration correction unit 47A is rotated appropriately, and the first correction amount is set to "0 mm correction". The correction ring 47y of the second aberration correction unit 47B is rotated appropriately, and the second correction amount of the second aberration correction unit 47B is set to "0.2 mm correction". The correction ring 47z of the third aberration correction unit 47C is rotated appropriately, and the third correction amount of the third aberration correction unit 47C is set to "0.4 mm correction". In this case, the control unit 9 executes the following process.
まず、第1集光レンズ43Aが透過光I1の光軸上に配置されるようにレボルバ48を回転させ、収差補正部46による収差補正の補正量を、第1収差補正部47Aによる第1補正量へ切り替える(ステップS1)。補正量を第1補正量へ切り替えたことに応じて、補正係数を第1補正量に対応する補正係数へ切り替える(ステップS2)。続いて、ハイトセットを行う(ステップS3)。ステップS3では、例えば、制御部9により第2鉛直移動機構7Bの動作を制御し、透過光I1の集光位置が透過光入射面である裏面21b上に位置するように、Z方向に沿って観察ユニット4を移動させ、そのときの位置を基準位置とする。First, the revolver 48 is rotated so that the first condensing lens 43A is positioned on the optical axis of the transmitted light I1, and the amount of aberration correction by the aberration correction unit 46 is switched to the first correction amount by the first aberration correction unit 47A (step S1). In response to switching the correction amount to the first correction amount, the correction coefficient is switched to a correction coefficient corresponding to the first correction amount (step S2). Next, the height is set (step S3). In step S3, for example, the control unit 9 controls the operation of the second vertical movement mechanism 7B, and moves the observation unit 4 along the Z direction so that the condensing position of the transmitted light I1 is located on the back surface 21b, which is the transmitted light incidence surface, and the position at that time is set as the reference position.
続いて、観察ユニット4により対象物20の第1区間の内部観察を行い、複数の内部画像を取得する(ステップS4)。ステップS4では、例えば第2鉛直移動機構7Bにより、ステップS3のハイトセット時の基準位置を基準としてZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、対象物20の第1区間の複数の位置に透過光I1の集光位置を合わせて対象物20を撮像し、複数の内部画像を取得する。複数の内部画像のそれぞれに対して、観察ユニット4のZ方向の移動量に補正係数を乗じてなる深さ位置情報を関連付け、これを撮像データとして取得する。ここでの第1区間の内部観察は直接観察である。Next, the observation unit 4 observes the inside of the first section of the object 20, and acquires multiple internal images (step S4). In step S4, for example, the second vertical movement mechanism 7B moves the observation unit 4 along the Z direction based on the reference position at the time of setting the height in step S3, and the focusing position of the transmitted light I1 is aligned with multiple positions in the first section of the object 20 to image the object 20 and acquire multiple internal images. Each of the multiple internal images is associated with depth position information obtained by multiplying the amount of movement of the observation unit 4 in the Z direction by a correction coefficient, and this is acquired as imaging data. The internal observation of the first section here is direct observation.
続いて、第2集光レンズ43Bが透過光I1の光軸上に配置されるようにレボルバ48を回転させ、収差補正部46による収差補正の補正量を、第2収差補正部47Bによる第2補正量へ切り替える(ステップS5)。補正量を第2補正量へ切り替えたことに応じて、補正係数を第2補正量に対応する補正係数へ切り替える(ステップS6)。続いて、ステップS3と同様にハイトセットを行う(ステップS7)。Then, the revolver 48 is rotated so that the second condenser lens 43B is positioned on the optical axis of the transmitted light I1, and the amount of aberration correction by the aberration correction unit 46 is switched to the second amount of correction by the second aberration correction unit 47B (step S5). In response to switching the amount of correction to the second amount of correction, the correction coefficient is switched to a correction coefficient corresponding to the second amount of correction (step S6). Then, the height is set in the same manner as in step S3 (step S7).
続いて、観察ユニット4により対象物20の第2区間の内部観察を行い、複数の内部画像を取得する(ステップS8)。ステップS4では、例えば第2鉛直移動機構7Bにより、ステップS8のハイトセット時の基準位置を基準としてZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、対象物20の第2区間の複数の位置に透過光I1の集光位置を合わせて対象物20を撮像し、複数の内部画像を取得する。複数の内部画像のそれぞれに対して、観察ユニット4のZ方向の移動量に補正係数を乗じてなる深さ位置情報を関連付け、これを撮像データとして取得する。ここでの第2区間の内部観察は直接観察である。Next, the observation unit 4 observes the inside of the second section of the object 20, and acquires multiple internal images (step S8). In step S4, for example, the second vertical movement mechanism 7B moves the observation unit 4 along the Z direction based on the reference position at the time of setting the height in step S8, and the focusing position of the transmitted light I1 is aligned with multiple positions in the second section of the object 20 to image the object 20 and acquire multiple internal images. Each of the multiple internal images is associated with depth position information obtained by multiplying the amount of movement of the observation unit 4 in the Z direction by a correction coefficient, and this is acquired as imaging data. The internal observation of the second section here is direct observation.
続いて、第3集光レンズ43Cが透過光I1の光軸上に配置されるようにレボルバ48を回転させ、収差補正部46による収差補正の補正量を、第3収差補正部47Cによる第3補正量へ切り替える(ステップS9)。補正量を第3補正量へ切り替えたことに応じて、補正係数を第3補正量に対応する補正係数へ切り替える(ステップS10)。続いて、ハイトセットを行う(ステップS11)。ステップS11では、例えば、制御部9により第2鉛直移動機構7Bの動作を制御し、透過光I1の集光位置が裏面21b上に位置するようにZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、そのときの位置を基準位置とする。またステップS11では、制御部9により第2鉛直移動機構7Bの動作を制御し、透過光I1の集光位置が表面21a上に位置するようにZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、そのときの位置を他の基準位置とする。Next, the revolver 48 is rotated so that the third condenser lens 43C is positioned on the optical axis of the transmitted light I1, and the correction amount of the aberration correction by the aberration correction unit 46 is switched to the third correction amount by the third aberration correction unit 47C (step S9). In response to switching the correction amount to the third correction amount, the correction coefficient is switched to a correction coefficient corresponding to the third correction amount (step S10). Next, the height is set (step S11). In step S11, for example, the control unit 9 controls the operation of the second vertical movement mechanism 7B to move the observation unit 4 along the Z direction so that the focusing position of the transmitted light I1 is located on the back surface 21b, and the position at that time is set as the reference position. Also in step S11, the control unit 9 controls the operation of the second vertical movement mechanism 7B to move the observation unit 4 along the Z direction so that the focusing position of the transmitted light I1 is located on the front surface 21a, and the position at that time is set as another reference position.
続いて、観察ユニット4により対象物20の第3区間の内部観察を行い、複数の内部画像を取得する(ステップS12)。ステップS12では、例えば第2鉛直移動機構7Bにより、ステップS11のハイトセット時の基準位置を基準としてZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、対象物20の第3区間の複数の位置に透過光I1の集光位置を合わせて対象物20を撮像し、複数の内部画像を取得する。複数の内部画像のそれぞれに対して、観察ユニット4のZ方向の移動量に補正係数を乗じてなる深さ位置情報を関連付け、これを撮像データとして取得する。ここでの第2区間の内部観察は、直接観察及び裏面反射観察である。Next, the observation unit 4 observes the inside of the third section of the object 20, and acquires multiple internal images (step S12). In step S12, the observation unit 4 is moved along the Z direction using the reference position at the time of setting the height in step S11 as a reference, for example by the second vertical movement mechanism 7B, and the focus position of the transmitted light I1 is aligned with multiple positions in the third section of the object 20 to image the object 20 and acquire multiple internal images. Each of the multiple internal images is associated with depth position information obtained by multiplying the amount of movement of the observation unit 4 in the Z direction by a correction coefficient, and this is acquired as imaging data. The internal observation of the second section here is direct observation and back surface reflection observation.
以上の観察の結果、ステップS4で取得した撮像データに基づいて、上述したAI判定により第1区間の内部状態を判定し、その判定結果からHCの有無及び打痕の状態を検査する。ステップS8で取得した撮像データに基づいて、上述したAI判定により第2区間の内部状態を判定し、その判定結果から打痕の状態を検査する。ステップS12で取得した撮像データに基づいて、上述したAI判定により第3区間の内部状態を判定し、その判定結果からBHCの有無及び打痕の状態を検査する。Based on the imaging data acquired in step S4 as a result of the above observations, the internal state of the first section is judged by the AI judgment described above, and the presence or absence of HC and the state of the dents are inspected from the judgment results. Based on the imaging data acquired in step S8, the internal state of the second section is judged by the AI judgment described above, and the state of the dents is inspected from the judgment results. Based on the imaging data acquired in step S12, the internal state of the third section is judged by the AI judgment described above, and the presence or absence of BHC and the state of the dents are inspected from the judgment results.
次に、加工条件の策定のための観察を行う場合の処理を、図16、図17及び図18のフローチャートと図19及び図20の概略断面図とを参照して説明する。Next, the process for performing observations to determine processing conditions will be described with reference to the flowcharts in Figures 16, 17, and 18 and the schematic cross-sectional views in Figures 19 and 20.
ユーザにより、GUI10の入力画面10aにおいて、例えば図10に示される入力と同様な入力がなされているとする。ここでは、観察順序については、入力画面10aに「第3区間」、「第1区間」及び「全区間(第1~第3区間)」がこの順に入力されているとする。第1収差補正部47Aの補正環47xを適宜に回転させられて、第1補正量が「0mm補正」とされている。第2収差補正部47Bの補正環47yが適宜に回転させられて、第2収差補正部47Bの第2補正量が「0.2mm補正」とされている。第3収差補正部47Cの補正環47zが適宜に回転させられて、第3収差補正部47Cの第3補正量が「0.4mm補正」とされている。この場合において、制御部9により、次の処理を実行する。It is assumed that the user has made an input similar to that shown in FIG. 10 on the input screen 10a of the GUI 10. Here, it is assumed that the observation order is input in the input screen 10a in the order of "Third Section", "First Section" and "All Sections (First to Third Sections)". The correction ring 47x of the first aberration correction unit 47A is rotated appropriately to set the first correction amount to "0 mm correction". The correction ring 47y of the second aberration correction unit 47B is rotated appropriately to set the second correction amount of the second aberration correction unit 47B to "0.2 mm correction". The correction ring 47z of the third aberration correction unit 47C is rotated appropriately to set the third correction amount of the third aberration correction unit 47C to "0.4 mm correction". In this case, the control unit 9 executes the following process.
まず、図19(a)に示されるように、ステージ2上の対象物20の第3区画において、設定された加工条件に基づいて、レーザ加工ヘッド3により上述したレーザ加工を行い、改質領域12及び亀裂14を形成する(ステップS21)。制御部9によりステージ2、第1水平移動機構8A及び第2水平移動機構8Bを制御し、観察ユニット4による対象物20の内部観察が可能な位置(以下、「観察系」ともいう)へステージ2を移動させる(ステップS22)。First, as shown in FIG. 19(a), the laser processing head 3 performs the above-described laser processing based on the set processing conditions in the third section of the object 20 on the stage 2 to form the modified region 12 and the crack 14 (step S21). The control unit 9 controls the stage 2, the first horizontal movement mechanism 8A, and the second horizontal movement mechanism 8B to move the stage 2 to a position where the inside of the object 20 can be observed by the observation unit 4 (hereinafter also referred to as the "observation system") (step S22).
続いて、第3集光レンズ43Cが透過光I1の光軸上に配置されるようにレボルバ48を回転させ、収差補正部46による収差補正の補正量を、第3収差補正部47Cによる第3補正量へ切り替える(ステップS23)。補正量を第3補正量へ切り替えたことに応じて、補正係数を第3補正量に対応する補正係数へ切り替える(ステップS24)。Then, the revolver 48 is rotated so that the third condenser lens 43C is positioned on the optical axis of the transmitted light I1, and the amount of aberration correction by the aberration correction unit 46 is switched to the third correction amount by the third aberration correction unit 47C (step S23). In response to switching the correction amount to the third correction amount, the correction coefficient is switched to a correction coefficient corresponding to the third correction amount (step S24).
続いて、ハイトセットを行う(ステップS25)。ステップS25では、例えば、制御部9により第2鉛直移動機構7Bの動作を制御し、透過光I1の集光位置が裏面21b上に位置するようにZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、そのときの位置を基準位置とする。またステップS25では、制御部9により第2鉛直移動機構7Bの動作を制御し、透過光I1の集光位置が表面21a上に位置するようにZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、そのときの位置を他の基準位置とする。Then, the height is set (step S25). In step S25, for example, the control unit 9 controls the operation of the second vertical movement mechanism 7B to move the observation unit 4 along the Z direction so that the focusing position of the transmitted light I1 is located on the back surface 21b, and the position at that time is set as the reference position. Also in step S25, the control unit 9 controls the operation of the second vertical movement mechanism 7B to move the observation unit 4 along the Z direction so that the focusing position of the transmitted light I1 is located on the front surface 21a, and the position at that time is set as another reference position.
続いて、観察ユニット4により対象物20の第3区間の内部観察を行い、複数の内部画像を取得する(ステップS26)。ステップS26では、例えば第2鉛直移動機構7Bにより、ステップS25のハイトセット時の基準位置を基準としてZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、対象物20の第3区間の複数の位置に透過光I1の集光位置を合わせて対象物20を撮像し、複数の内部画像を取得する。複数の内部画像のそれぞれに対して、観察ユニット4のZ方向の移動量に補正係数を乗じてなる深さ位置情報を関連付け、これを撮像データとして取得する。ここでの第3区間の内部観察は直接観察及び裏面反射観察である。Next, the observation unit 4 observes the inside of the third section of the object 20, and acquires multiple internal images (step S26). In step S26, the observation unit 4 is moved along the Z direction using the reference position at the time of setting the height in step S25 as a reference, for example by the second vertical movement mechanism 7B, and the focus position of the transmitted light I1 is aligned with multiple positions in the third section of the object 20 to image the object 20 and acquire multiple internal images. Each of the multiple internal images is associated with depth position information obtained by multiplying the amount of movement of the observation unit 4 in the Z direction by a correction coefficient, and this is acquired as imaging data. The internal observation of the third section here is direct observation and back surface reflection observation.
続いて、制御部9により、ステップS26で取得した撮像データに基づいて、第3区間の内部状態を判定する(ステップS27)。例えばステップS27では、上述したAI判定により、第3区間の検査対象(改質領域12及び亀裂14)の像が相対的に鮮明な内部画像を判定し、そのときの観察ユニット4の移動量に補正係数を乗じることにより検査対象の深さ位置を算出する。第3区間の検査対象の当該内部画像及び深さ位置に基づいて、GUI10によるユーザからの入力に応じた要求品質(図10参照)を満たすか否かを判定する。要求品質を満たさない場合、第3区間の内部状態は正常ではないと判定し(ステップS28でNO)、設定された加工条件を変更し、上記ステップS21に戻る。一方、要求品質を満たす場合、第3区間の内部状態は正常であると判定し(ステップS28でYES)、制御部9によりステージ2、第1水平移動機構8A及び第2水平移動機構8Bを制御し、レーザ加工ヘッド3による対象物20のレーザ加工が可能な位置(以下、「レーザ加工系」ともいう)へステージ2を移動させる(ステップS29)。Next, the control unit 9 judges the internal state of the third section based on the imaging data acquired in step S26 (step S27). For example, in step S27, the above-mentioned AI judgment is used to judge an internal image in which the image of the inspection object (modified region 12 and crack 14) in the third section is relatively clear, and the depth position of the inspection object is calculated by multiplying the movement amount of the observation unit 4 at that time by a correction coefficient. Based on the internal image and depth position of the inspection object in the third section, it is judged whether or not the required quality (see FIG. 10) according to the input from the user via the GUI 10 is satisfied. If the required quality is not satisfied, it is judged that the internal state of the third section is not normal (NO in step S28), the set processing conditions are changed, and the process returns to the above step S21. On the other hand, if the required quality is met, the internal state of the third section is determined to be normal (YES in step S28), and the control unit 9 controls the stage 2, the first horizontal movement mechanism 8A, and the second horizontal movement mechanism 8B to move the stage 2 to a position where the laser processing head 3 can perform laser processing of the object 20 (hereinafter also referred to as the "laser processing system") (step S29).
続いて、図19(b)に示されるように、ステージ2上の対象物20の第1区画において、設定された加工条件に基づいて、レーザ加工ヘッド3により上述したレーザ加工を行い、改質領域12及び亀裂14を形成する(ステップS30)。制御部9によりステージ2、第1水平移動機構8A及び第2水平移動機構8Bを制御し、観察系へステージ2を移動させる(ステップS31)。第1集光レンズ43Aが透過光I1の光軸上に配置されるようにレボルバ48を回転させ、収差補正部46による収差補正の補正量を、第1収差補正部47Aによる第1補正量へ切り替える(ステップS32)。補正量を第1補正量へ切り替えたことに応じて、補正係数を第1補正量に対応する補正係数へ切り替える(ステップS33)。Next, as shown in FIG. 19(b), the laser processing head 3 performs the above-mentioned laser processing on the first section of the object 20 on the stage 2 based on the set processing conditions to form the modified region 12 and the crack 14 (step S30). The control unit 9 controls the stage 2, the first horizontal movement mechanism 8A, and the second horizontal movement mechanism 8B to move the stage 2 to the observation system (step S31). The revolver 48 is rotated so that the first condenser lens 43A is positioned on the optical axis of the transmitted light I1, and the correction amount of the aberration correction by the aberration correction unit 46 is switched to the first correction amount by the first aberration correction unit 47A (step S32). In response to switching the correction amount to the first correction amount, the correction coefficient is switched to the correction coefficient corresponding to the first correction amount (step S33).
続いて、ハイトセットを行う(ステップS34)。例えばステップS34では、制御部9により第2鉛直移動機構7Bの動作を制御し、透過光I1の集光位置が裏面21b上に位置するようにZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、そのときの位置を基準位置とする。続いて、観察ユニット4により対象物20の第1区間の内部観察を行い、複数の内部画像を取得する(ステップS35)。例えばステップS35では、第2鉛直移動機構7Bにより、ステップS34のハイトセット時の基準位置を基準としてZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、対象物20の第1区間の複数の位置に透過光I1の集光位置を合わせて対象物20を撮像し、複数の内部画像を取得する。複数の内部画像のそれぞれに対して、観察ユニット4のZ方向の移動量に補正係数を乗じてなる深さ位置情報を関連付け、これを撮像データとして取得する。ここでの第1区間の内部観察は直接観察である。Then, the height is set (step S34). For example, in step S34, the control unit 9 controls the operation of the second vertical movement mechanism 7B to move the observation unit 4 along the Z direction so that the condensing position of the transmitted light I1 is located on the back surface 21b, and the position at that time is set as the reference position. Next, the observation unit 4 performs internal observation of the first section of the object 20 and acquires multiple internal images (step S35). For example, in step S35, the second vertical movement mechanism 7B moves the observation unit 4 along the Z direction based on the reference position at the time of setting the height in step S34, and the object 20 is imaged by aligning the condensing position of the transmitted light I1 with multiple positions in the first section of the object 20, and multiple internal images are acquired. Each of the multiple internal images is associated with depth position information obtained by multiplying the amount of movement of the observation unit 4 in the Z direction by a correction coefficient, and this is acquired as imaging data. The internal observation of the first section here is direct observation.
続いて、制御部9により、ステップS35で取得した撮像データに基づいて、第1区間の内部状態を判定する(ステップS36)。例えばステップS36では、上述したAI判定により、第1区間の検査対象の像が相対的に鮮明な内部画像を判定し、そのときの観察ユニット4の移動量に補正係数を乗じることにより検査対象の深さ位置を算出する。第1区間の検査対象の当該内部画像及び深さ位置に基づいて、GUI10によるユーザからの入力に応じた要求品質(図10参照)を満たすか否かを判定する。要求品質を満たさない場合、第1区間のの内部状態は正常ではないと判定し(ステップS37でNO)、設定された加工条件を変更し、ステップS29に戻る。一方、要求品質を満たす場合、第1区間の内部状態は正常であると判定し(ステップS37でYES)、制御部9によりステージ2、第1水平移動機構8A及び第2水平移動機構8Bを制御し、レーザ加工系へステージ2を移動させる(ステップS38)。Next, the control unit 9 judges the internal state of the first section based on the imaging data acquired in step S35 (step S36). For example, in step S36, the above-mentioned AI judgment is used to judge an internal image in which the image of the inspection target in the first section is relatively clear, and the depth position of the inspection target is calculated by multiplying the movement amount of the observation unit 4 at that time by a correction coefficient. Based on the internal image and depth position of the inspection target in the first section, it is judged whether or not the required quality (see FIG. 10) according to the input from the user via the GUI 10 is satisfied. If the required quality is not satisfied, it is judged that the internal state of the first section is not normal (NO in step S37), the set processing conditions are changed, and the process returns to step S29. On the other hand, if the required quality is satisfied, it is judged that the internal state of the first section is normal (YES in step S37), and the control unit 9 controls the stage 2, the first horizontal movement mechanism 8A, and the second horizontal movement mechanism 8B to move the stage 2 to the laser processing system (step S38).
続いて、図20に示されるように、ステージ2上の対象物20の全区画(第1~第3区画)において、設定された加工条件に基づいて、レーザ加工ヘッド3により上述したレーザ加工を行い、改質領域12及び亀裂14を形成する(ステップS39)。制御部9によりステージ2、第1水平移動機構8A及び第2水平移動機構8Bを制御し、観察系へステージ2を移動させる(ステップS40)。第1集光レンズ43Aが透過光I1の光軸上に配置されるようにレボルバ48を回転させ、収差補正部46による収差補正の補正量を、第1収差補正部47Aによる第1補正量へ切り替える(ステップS41)。補正量を第1補正量へ切り替えたことに応じて、補正係数を第1補正量に対応する補正係数へ切り替える(ステップS42)。ステップS34と同様にハイトセットを行う(ステップS43)。ステップS35と同様に観察ユニット4により対象物20の第1区間の内部観察を行い、複数の内部画像を取得する(ステップS44)。Next, as shown in FIG. 20, the laser processing head 3 performs the above-mentioned laser processing based on the set processing conditions in all sections (first to third sections) of the object 20 on the stage 2 to form the modified region 12 and the crack 14 (step S39). The control unit 9 controls the stage 2, the first horizontal movement mechanism 8A, and the second horizontal movement mechanism 8B to move the stage 2 to the observation system (step S40). The revolver 48 is rotated so that the first condenser lens 43A is positioned on the optical axis of the transmitted light I1, and the correction amount of the aberration correction by the aberration correction unit 46 is switched to the first correction amount by the first aberration correction unit 47A (step S41). In response to switching the correction amount to the first correction amount, the correction coefficient is switched to the correction coefficient corresponding to the first correction amount (step S42). The height is set in the same manner as in step S34 (step S43). The observation unit 4 performs internal observation of the first section of the object 20 in the same manner as in step S35, and multiple internal images are obtained (step S44).
続いて、第2集光レンズ43Bが透過光I1の光軸上に配置されるようにレボルバ48を回転させ、収差補正部46による収差補正の補正量を、第2収差補正部47Bによる第2補正量へ切り替える(ステップS45)。補正量を第2補正量へ切り替えたことに応じて、補正係数を第1補正量に対応する補正係数へ切り替える(ステップS46)。ステップS34と同様にハイトセットを行う(ステップS47)。観察ユニット4により対象物20の第2区間の内部観察を行い、複数の内部画像を取得する(ステップS48)。例えばステップS48では、第2鉛直移動機構7Bにより、ステップS47のハイトセット時の基準位置を基準としてZ方向に沿って観察ユニット4を移動させ、対象物20の第2区間の複数の位置に透過光I1の集光位置を合わせて対象物20を撮像し、複数の内部画像を取得する。複数の内部画像のそれぞれに対して、観察ユニット4のZ方向の移動量に補正係数を乗じてなる深さ位置情報を関連付け、これを撮像データとして取得する。ここでの第2区間の内部観察は直接観察である。Next, the revolver 48 is rotated so that the second condenser lens 43B is positioned on the optical axis of the transmitted light I1, and the correction amount of the aberration correction by the aberration correction unit 46 is switched to the second correction amount by the second aberration correction unit 47B (step S45). In response to switching the correction amount to the second correction amount, the correction coefficient is switched to the correction coefficient corresponding to the first correction amount (step S46). The height is set in the same manner as in step S34 (step S47). The observation unit 4 observes the inside of the second section of the object 20 and acquires multiple internal images (step S48). For example, in step S48, the second vertical movement mechanism 7B moves the observation unit 4 along the Z direction based on the reference position at the time of setting the height in step S47, and the condensing position of the transmitted light I1 is aligned to multiple positions in the second section of the object 20 to image the object 20 and acquire multiple internal images. Each of the multiple internal images is associated with depth position information obtained by multiplying the amount of movement of the observation unit 4 in the Z direction by a correction coefficient, and this is acquired as imaging data. Here, the internal observation of the second section is a direct observation.
続いて、第3集光レンズ43Cが透過光I1の光軸上に配置されるようにレボルバ48を回転させ、収差補正部46による収差補正の補正量を、第3収差補正部47Cによる第3補正量へ切り替える(ステップS49)。補正量を第3補正量へ切り替えたことに応じて、補正係数を第3補正量に対応する補正係数へ切り替える(ステップS50)。ステップS25と同様にハイトセットを行う(ステップS51)。ステップS26と同様に観察ユニット4により対象物20の第3区間の内部観察を行い、複数の内部画像を取得する(ステップS52)。Then, the revolver 48 is rotated so that the third condenser lens 43C is positioned on the optical axis of the transmitted light I1, and the amount of aberration correction by the aberration correction unit 46 is switched to the third correction amount by the third aberration correction unit 47C (step S49). In response to switching the correction amount to the third correction amount, the correction coefficient is switched to a correction coefficient corresponding to the third correction amount (step S50). As in step S25, a height is set (step S51). As in step S26, the observation unit 4 observes the inside of the third section of the object 20, and multiple internal images are obtained (step S52).
そして、制御部9により、ステップS44、ステップS48及びステップS52で取得した撮像データに基づいて、全区間の内部状態を判定する(ステップS53)。例えばステップS53では、上述したAI判定により、全区間の検査対象(改質領域12及び亀裂14)の像が相対的に鮮明な内部画像を判定し、そのときの観察ユニット4の移動量に補正係数を乗じることにより検査対象の深さ位置を算出する。全区間の検査対象の内部画像及び深さ位置に基づいて、GUI10によるユーザからの入力に応じた要求品質(図10参照)を満たすか否かを判定する。要求品質を満たさない場合、全区間の内部状態は正常ではないと判定し(ステップS54でNO)、設定された加工条件を変更し、上記ステップS39に戻る。一方、要求品質を満たす場合、全区間の内部状態は正常であると判定し(ステップS54でYES)、処理を終了する。Then, the control unit 9 judges the internal state of the entire section based on the imaging data acquired in steps S44, S48, and S52 (step S53). For example, in step S53, the above-mentioned AI judgment is used to judge the internal image in which the image of the inspection object (modified region 12 and crack 14) of the entire section is relatively clear, and the depth position of the inspection object is calculated by multiplying the movement amount of the observation unit 4 at that time by a correction coefficient. Based on the internal image and depth position of the inspection object of the entire section, it is judged whether or not the required quality (see FIG. 10) according to the input from the user via the GUI 10 is satisfied. If the required quality is not satisfied, it is judged that the internal state of the entire section is not normal (NO in step S54), the set processing conditions are changed, and the process returns to the above step S39. On the other hand, if the required quality is satisfied, it is judged that the internal state of the entire section is normal (YES in step S54), and the process ends.
以上、観察装置100では、対象物20において観察する区間を、重要度の高い3つの第1~第3区間(すなわち、対象物20の透過光入射面側、内部、及び、透過光入射面の反対面側)に分け、これら第1~第3区間を観察する場合に、そのそれぞれ毎にユーザの入力に応じて切り替えられた補正量で収差補正を行うことができる。これにより、にユーザの入力に応じて適正化されるように補正量を切り替えることができと共に、観察の都度に補正量を最適化する場合に比べて、当該切替えの頻度を抑えて高いタクトを維持することが可能となる。すなわち、高いタクトと対象物20の正確な観察との両立を実現することが可能となる。As described above, in the observation device 100, the section to be observed in the object 20 is divided into three highly important sections, the first to third sections (i.e., the transmitted light incident surface side of the object 20, the inside, and the side opposite the transmitted light incident surface), and when observing these first to third sections, aberration correction can be performed with a correction amount switched for each section according to user input. This makes it possible to switch the correction amount so as to be appropriate according to the user's input, and to maintain a high tact time by reducing the frequency of switching compared to optimizing the correction amount each time observation is performed. In other words, it is possible to achieve both a low tact time and accurate observation of the object 20.
観察装置100では、収差補正部46は、収差補正の補正量を少なくとも第1補正量と第2補正量と第3補正量との間で切替え可能に構成されている。制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、GUI10で受け付けた入力に応じて、第1補正量、第2補正量及び第3補正量の中で切り替える。この場合、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の各補正量の切替えを、簡易に実現することが可能となる。In the observation device 100, the aberration correction unit 46 is configured to be able to switch the amount of aberration correction at least between the first correction amount, the second correction amount, and the third correction amount. The control unit 9 switches the amount of aberration correction for the first interval, the second correction amount, and the third correction amount according to the input received by the GUI 10. In this case, it is possible to easily realize switching between the amounts of aberration correction for the first interval, the second correction amount, and the third correction amount.
観察装置100では、透過光集光レンズ43は、第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B及び第3集光レンズ43Cを有する。収差補正部46は、第1集光レンズ43Aに設けられた第1収差補正部47Aと、第2集光レンズ43Bに設けられた第2収差補正部47Bと、第3集光レンズ43Cに設けられた第3収差補正部47Cと、レボルバ48と、を備える。この場合、レボルバ48により透過光I1の光軸上の透過光集光レンズ43を第1~第3集光レンズ43A~43Cの間で切り替えることで、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の各補正量を第1~第3補正量の間で切り替えることが可能となる。In the observation device 100, the transmitted light condensing lens 43 has a first condensing lens 43A, a second condensing lens 43B, and a third condensing lens 43C. The aberration correction unit 46 includes a first aberration correction unit 47A provided on the first condensing lens 43A, a second aberration correction unit 47B provided on the second condensing lens 43B, a third aberration correction unit 47C provided on the third condensing lens 43C, and a revolver 48. In this case, by switching the transmitted light condensing lens 43 on the optical axis of the transmitted light I1 between the first to third condensing lenses 43A to 43C using the revolver 48, it becomes possible to switch the correction amounts of the first section aberration correction, the second section aberration correction, and the third section aberration correction between the first to third correction amounts.
観察装置100では、第1補正量は、第2補正量よりも小さく、第2補正量は、第3補正量よりも小さい。このような大小関係の第1~第3補正量を利用して、補正量を適正化することが可能となる。In the observation device 100, the first correction amount is smaller than the second correction amount, which is smaller than the third correction amount. By utilizing the first to third correction amounts, which have such a magnitude relationship, it is possible to optimize the correction amount.
観察装置100では、第1区間用収差補正は、対象物20の透過光入射面に露出する亀裂14の有無を検査するための収差補正であってもよい。第2区間用収差補正は、対象物20の内部に形成された改質領域12を検査するための収差補正であってもよい。第3区間用収差補正は、対象物20における透過光入射面の反対面である表面21aに露出する亀裂14の有無を検査するための収差補正であってもよい。この場合、対象物20のHCの有無、対象物20の内部に形成された改質領域12、及び、対象物20のBHCの有無について、精度よく検査することが可能となる。In the observation device 100, the aberration correction for the first section may be an aberration correction for inspecting the presence or absence of cracks 14 exposed on the transmitted light incidence surface of the object 20. The aberration correction for the second section may be an aberration correction for inspecting the modified region 12 formed inside the object 20. The aberration correction for the third section may be an aberration correction for inspecting the presence or absence of cracks 14 exposed on the surface 21a, which is the opposite surface of the object 20 to the transmitted light incidence surface. In this case, it becomes possible to inspect with high accuracy the presence or absence of HC in the object 20, the modified region 12 formed inside the object 20, and the presence or absence of BHC in the object 20.
ところで、対象物20の内部において透過光I1の集光点の位置を調整すべく、観察ユニット4をZ方向に沿って移動量Fzだけ移動させた場合、この移動量Fzにばらつきが生じる場合があり、その原因として、透過光集光レンズ43の集光ボケによる観察位置ずれが考えれる。また、移動量Fzにばらつきが生じる原因としては、いわゆる補正環レンズの操作前後のずれが考えられる。すなわち、透過光集光レンズ43が補正環47x,47y,47zを有する場合、収差補正の補正量の変化量に対する補正環47x,47y,47zの操作量が一定でない場合があり、この結果、補正環47x,47y,47zの操作前後で観察位置がずれる場合がある。さらに、観察ユニット4の透過光集光レンズ43の機差又はその脱着等も、移動量Fzのばらつきの一因となる。このようにばらついた移動量Fzに対して一定の補正係数を乗じて検出対象の深さ位置を算出すると、算出結果もばらつくこととなる。そこで、観察装置100では、検出対象の正確な深さ位置を取得するために、適切な補正係数を使用するべく、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の切替えに応じて、補正係数を切り替える。これにより、対象物20における検出対象の深さ位置を精度よく取得することが可能となる。However, when the observation unit 4 is moved by the movement amount Fz along the Z direction in order to adjust the position of the focal point of the transmitted light I1 inside the object 20, the movement amount Fz may vary, and the cause of this is thought to be a shift in the observation position due to the focusing blur of the transmitted light focusing lens 43. In addition, a shift before and after the operation of the so-called correction ring lens may be considered as a cause of the variation in the movement amount Fz. That is, when the transmitted light focusing lens 43 has correction rings 47x, 47y, and 47z, the amount of operation of the correction rings 47x, 47y, and 47z relative to the amount of change in the correction amount of the aberration correction may not be constant, and as a result, the observation position may shift before and after the operation of the correction rings 47x, 47y, and 47z. Furthermore, the mechanical difference of the transmitted light focusing lens 43 of the observation unit 4 or its removal and attachment, etc., also contributes to the variation in the movement amount Fz. If the depth position of the detection target is calculated by multiplying the varying amount of movement Fz by a fixed correction coefficient, the calculation result will also vary. Therefore, in the observation device 100, in order to use an appropriate correction coefficient to obtain an accurate depth position of the detection target, the correction coefficient is switched according to the switching of the correction amount of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction. This makes it possible to obtain the depth position of the detection target in the object 20 with high accuracy.
観察装置100では、GUI10は、対象物20に対して行う検査内容に関する入力を受け付ける。制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、GUI10で受け付けた検査内容に関する入力に応じて切り替える。この場合、ユーザからの検査内容に関する入力に応じて、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を適正化することが可能となる。In the observation device 100, the GUI 10 accepts input regarding the inspection content to be performed on the object 20. The control unit 9 switches the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the inspection content accepted by the GUI 10. In this case, it is possible to optimize the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the inspection content from the user.
観察装置100では、GUI10は、対象物20に対して行うレーザ加工の加工条件の種類に関する入力を受け付ける。制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、GUI10で受け付けた加工条件の種類に関する入力に応じて切り替える。この場合、ユーザからの加工条件の種類に関する入力に応じて、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を適正化することが可能となる。In the observation device 100, the GUI 10 accepts input regarding the type of processing conditions for the laser processing performed on the object 20. The control unit 9 switches the correction amounts for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the type of processing conditions accepted by the GUI 10. In this case, it is possible to optimize the correction amounts for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the type of processing conditions from the user.
観察装置100では、GUI10は、対象物20の厚さに関する入力を受け付ける。制御部9は、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を、GUI10で受け付けた対象物20の厚さに関する入力に応じて切り替える。この場合、ユーザからの対象物20の厚さに関する入力に応じて、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を適正化することが可能となる。In the observation device 100, the GUI 10 accepts input regarding the thickness of the object 20. The control unit 9 switches the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the thickness of the object 20 accepted by the GUI 10. In this case, it is possible to optimize the correction amounts of the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction according to the input regarding the thickness of the object 20 from the user.
観察装置100では、GUI10は、入力モードが簡易入力モード及び詳細入力モードの何れであるかに関する入力を受け付けると共に、入力モードとして詳細入力モードに関する入力を受け付けた場合に、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量の入力を受け付ける。この場合、ユーザは、入力モードとして詳細入力モードを入力することで、第1区間用収差補正、第2区間用収差補正及び第3区間用収差補正の補正量を入力することが可能となる。In the observation device 100, the GUI 10 accepts an input regarding whether the input mode is a simple input mode or a detailed input mode, and when an input regarding the detailed input mode is accepted as the input mode, the GUI 10 accepts an input of the correction amounts for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction. In this case, the user can input the correction amounts for the first interval aberration correction, the second interval aberration correction, and the third interval aberration correction by inputting the detailed input mode as the input mode.
図21は、収差補正の補正量と複数種の検査内容の判定との関係を示す表である。図中において、「〇」は正確に判定可能であることを示し、「△」は判定可能であることを示し、「×」は判定不能であることを示す。HC検出は、対象物20の透過光入射面に露出する亀裂14の検出を意味する。HC蛇行は、対象物20の透過光入射面に露出する亀裂14の蛇行を意味する。上亀裂検出は、対象物20の内部において亀裂14の最も透過光入射面側の端の検出を意味する。打痕(直接観察)は、直接観察による打痕(改質領域12)の検出を意味する。下亀裂検出は、対象物20の内部において亀裂14の最も透過光入射面の反対面側の端の検出を意味する。打痕(裏面反射観察)は、裏面反射観察による打痕の検出を意味する。Figure 21 is a table showing the relationship between the amount of aberration correction and the judgment of multiple types of inspection contents. In the figure, "◯" indicates that accurate judgment is possible, "△" indicates that judgment is possible, and "×" indicates that judgment is impossible. HC detection means detection of a crack 14 exposed on the transmitted light incidence surface of the object 20. HC meandering means meandering of a crack 14 exposed on the transmitted light incidence surface of the object 20. Upper crack detection means detection of the end of the crack 14 closest to the transmitted light incidence surface inside the object 20. Dent (direct observation) means detection of a dent (modified area 12) by direct observation. Lower crack detection means detection of the end of the crack 14 closest to the transmitted light incidence surface inside the object 20 on the opposite side. Dent (rear reflection observation) means detection of a dent by rear reflection observation.
図中の例では、対象物20の厚さは400μmとしている。ここでは、厚さ方向において透過光入射面から0.2mmまでの範囲を第1区間とし、厚さ方向において透過光入射面の反対面から0.2mmまでの範囲を第3区画とし、対象物20の内部の第1及び第2区間以外の範囲を第2区間としている。HC検出、HC蛇行及び上亀裂検出は、第1区間の観察で判定可能な検査内容である。打痕(直接観察)、黒筋及び端面凹凸は、第2区間の観察で判定可能な検査内容である。下亀裂検出及び弾痕(裏面反射観察)は、第3区間の観察で判定可能な検査内容である。図21に示されるように、収差補正の補正量を固定するのではなく、第1~第3区間で分けることで、多くの検査内容にて正確に判定可能になることがわかる。In the example shown in the figure, the thickness of the object 20 is 400 μm. Here, the range from the transmitted light incidence surface to 0.2 mm in the thickness direction is the first section, the range from the opposite surface of the transmitted light incidence surface to 0.2 mm in the thickness direction is the third section, and the range inside the object 20 other than the first and second sections is the second section. HC detection, HC meandering, and upper crack detection are inspection contents that can be determined by observing the first section. Dents (direct observation), black streaks, and end surface irregularities are inspection contents that can be determined by observing the second section. Lower crack detection and bullet holes (back surface reflection observation) are inspection contents that can be determined by observing the third section. As shown in Figure 21, by dividing the correction amount of aberration correction into first to third sections rather than fixing it, it can be seen that accurate determination is possible for many inspection contents.
なお、本実施形態では、第1区間の第2区間側と第2区間の第1区間側とは、第1重複区間で互いに重複し、第2区間の第3区間側と第3区間の第2区間側とは、第2重複区間で互いに重複してもよい。この場合、第1重複区間では、収差補正の補正量を変えた2回の観察(第1区間用収差補正を行う観察及び第2区間用収差補正を行う観察)を行い、第2重複区間においても、収差補正の補正量を変えた2回の観察(第2区間用収差補正を行う観察及び第3区間用収差補正を行う観察)を行ってもよい。すなわち、この場合、制御部9は、収差補正部46により第1区間用収差補正を行いながら第1重複区間を光検出部44で撮像する処理と、収差補正部46により第2区間用収差補正を行いながら第1重複区間を光検出部44で撮像する撮像処理と、収差補正部46により第2区間用収差補正を行いながら第2重複区間を光検出部44で撮像する処理と、収差補正部46により第3区間用収差補正を行いながら第2重複区間を光検出部44で撮像する撮像処理と、を実行してもよい。これにより、対象物20の第1及び第2重複区間において、より正確な観察が可能となる。また、対象物20の厚さ等の入力内容に応じて第1及び第3区間用収差収差補正のみでも正確に観察可能(判定可能)な場合もある。In this embodiment, the second section side of the first section and the first section side of the second section may overlap each other in the first overlapping section, and the third section side of the second section and the second section side of the third section may overlap each other in the second overlapping section. In this case, in the first overlapping section, two observations with different amounts of aberration correction (observation with aberration correction for the first section and observation with aberration correction for the second section) may be performed, and in the second overlapping section, two observations with different amounts of aberration correction (observation with aberration correction for the second section and observation with aberration correction for the third section) may also be performed. That is, in this case, the control unit 9 may execute a process of imaging the first overlapping section with the light detection unit 44 while performing aberration correction for the first section with the aberration correction unit 46, an imaging process of imaging the first overlapping section with the light detection unit 44 while performing aberration correction for the second section with the aberration correction unit 46, a process of imaging the second overlapping section with the light detection unit 44 while performing aberration correction for the second section with the aberration correction unit 46, and an imaging process of imaging the second overlapping section with the light detection unit 44 while performing aberration correction for the third section with the aberration correction unit 46. This enables more accurate observation of the first and second overlapping sections of the object 20. In addition, depending on the input contents such as the thickness of the object 20, accurate observation (determination) may be possible only with aberration correction for the first and third sections.
本発明の一態様は、上記実施形態に限定されることなく、任意に変形される。This aspect of the present invention is not limited to the above embodiment and may be modified as desired.
図22は、第1変形例に係る観察ユニット104を示す斜視図である。図22に示される観察ユニット104は、その光検出部44がアライメント用カメラ5の光検出部として併用される点で上記観察ユニット4(図5参照)と異なる。観察ユニット104は、レボルバ148を有し、レボルバ148の回転部148bにおいて周方向に等間隔の4つの位置には、第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B、第3集光レンズ43C及び、アライメント用レンズ5Dが取り付けられている。レボルバ148は、第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B、第3集光レンズ43C及びアライメント用レンズ5Dの何れかを透過光I1の光軸上に配置すると共に、透過光I1の光軸上に配置するこれらの何れかが切り替わるように可動(回転軸を基軸に固定部148aに対して回転)する。Figure 22 is a perspective view showing an observation unit 104 according to a first modified example. The observation unit 104 shown in Figure 22 differs from the observation unit 4 (see Figure 5) in that the light detection unit 44 is also used as the light detection unit of the alignment camera 5. The observation unit 104 has a revolver 148, and a first condensing lens 43A, a second condensing lens 43B, a third condensing lens 43C, and an alignment lens 5D are attached to four positions at equal intervals in the circumferential direction on the rotating part 148b of the revolver 148. The revolver 148 arranges any of the first condensing lens 43A, the second condensing lens 43B, the third condensing lens 43C, and the alignment lens 5D on the optical axis of the transmitted light I1, and is movable (rotates with respect to the fixed part 148a around the rotation axis) so that any of these arranged on the optical axis of the transmitted light I1 can be switched.
第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B及び第3集光レンズ43Cは、例えば倍率が50倍のいわゆる補正環レンズであり、光検出部44を内部観察に用いる場合に、レボルバ148の駆動により透過光I1の光軸上に配置される。アライメント用レンズ5Dは、例えば倍率が10倍(又は20倍)のレンズであり、光検出部44を高倍率のアライメントに用いる場合に、レボルバ148の駆動により透過光I1の光軸上に配置される。このような変形例では、内部観察と高倍率のアライメントとで光検出部44を共通化して、コストを抑制できる効果がある。The first focusing lens 43A, the second focusing lens 43B, and the third focusing lens 43C are so-called correction ring lenses with a magnification of, for example, 50x, and are positioned on the optical axis of the transmitted light I1 by driving the revolver 148 when the light detection unit 44 is used for internal observation. The alignment lens 5D is a lens with a magnification of, for example, 10x (or 20x), and is positioned on the optical axis of the transmitted light I1 by driving the revolver 148 when the light detection unit 44 is used for high-magnification alignment. In this modified example, the light detection unit 44 can be shared between internal observation and high-magnification alignment, which has the effect of reducing costs.
図23は、第2変形例に係る観察ユニット204を示す斜視図である。図23に示される観察ユニット204は、上記観察ユニット104(図22参照)と同様に、その光検出部44がアライメント用カメラ5の光検出部として併用される。観察ユニット204は、直動ステージ248を有する。直動ステージ248においてX方向又はY方向に等間隔の4つの位置には、第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B、第3集光レンズ43C及び、アライメント用レンズ5Dが取り付けられている。直動ステージ248は、第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B、第3集光レンズ43C及びアライメント用レンズ5Dの何れかを透過光I1の光軸上に配置すると共に、透過光I1の光軸上に配置するこれらの何れかが切り替わるように可動(X方向又はY方向に直線的に移動)する。Figure 23 is a perspective view showing an observation unit 204 according to the second modified example. The observation unit 204 shown in Figure 23 is the same as the observation unit 104 (see Figure 22) described above, in that the light detection unit 44 is also used as the light detection unit of the alignment camera 5. The observation unit 204 has a linear stage 248. The first condensing lens 43A, the second condensing lens 43B, the third condensing lens 43C, and the alignment lens 5D are attached to four positions on the linear stage 248 at equal intervals in the X direction or Y direction. The linear stage 248 positions the first condensing lens 43A, the second condensing lens 43B, the third condensing lens 43C, and the alignment lens 5D on the optical axis of the transmitted light I1, and moves (linearly moves in the X direction or Y direction) so as to switch between any of these lenses positioned on the optical axis of the transmitted light I1.
第1集光レンズ43A、第2集光レンズ43B及び第3集光レンズ43Cは、光検出部44を内部観察に用いる場合に、直動ステージ248の駆動により透過光I1の光軸上に配置される。アライメント用レンズ5Dは、光検出部44を高倍率のアライメントに用いる場合に、直動ステージ248の駆動により透過光I1の光軸上に配置される。このような変形例においても、内部観察と高倍率のアライメントとで光検出部44を共通化して、コストを抑制できる効果がある。When the light detection unit 44 is used for internal observation, the first focusing lens 43A, the second focusing lens 43B, and the third focusing lens 43C are positioned on the optical axis of the transmitted light I1 by driving the linear stage 248. When the light detection unit 44 is used for high-magnification alignment, the alignment lens 5D is positioned on the optical axis of the transmitted light I1 by driving the linear stage 248. Even in this modified example, the light detection unit 44 can be shared between internal observation and high-magnification alignment, which has the effect of reducing costs.
図24は、第3変形例に係る観察ユニット304の構成を示す概略図である。図24に示される観察ユニット304は、上記観察ユニット104(図22参照)と同様に、その光検出部44がアライメント用カメラ5の光検出部として併用される。また、観察ユニット304は、その光路がシャッタ301A,301Bで切り替えられる。シャッタ301A,301Bは、例えば電動のメカニカルシャッタであり、制御部9(図1参照)に接続されて、その開閉が制御される。Figure 24 is a schematic diagram showing the configuration of an observation unit 304 according to a third modified example. As with the observation unit 104 (see Figure 22) described above, the observation unit 304 shown in Figure 24 has its light detection unit 44 also used as the light detection unit for the alignment camera 5. The light path of the observation unit 304 is switched by shutters 301A and 301B. The shutters 301A and 301B are, for example, electrically operated mechanical shutters, and are connected to the control unit 9 (see Figure 1) to control the opening and closing thereof.
観察ユニット304では、内部観察を行う場合、制御部9によりシャッタ301Aが閉状態とされると共にシャッタ301Bが開状態とされる。この場合、透過光I1は、レチクルRTを通過し、ハーフミラー302によって反射され、透過光集光レンズ43を通過し、対象物20(図5参照)に照射される。対象物20で反射した透過光I1は、透過光集光レンズ43及びハーフミラー302を通過し、シャッタ301Bを通過し、全反射ミラー303で反射し、ハーフミラー314で反射した後、光検出部44で受光される。一方、観察ユニット304では、アライメントを行う場合、制御部9によりシャッタ301Bが閉状態とされると共にシャッタ301Aが開状態とされる。この場合、透過光I1は、ハーフミラー305によって反射され、アライメント用レンズ5Dを通過し、対象物20に照射される。対象物20で反射した透過光I1は、アライメント用レンズ5D及びシャッタ301Aを通過し、ハーフミラー314を通過した後、光検出部44で受光される。In the observation unit 304, when performing internal observation, the control unit 9 closes the shutter 301A and opens the shutter 301B. In this case, the transmitted light I1 passes through the reticle RT, is reflected by the half mirror 302, passes through the transmitted light condensing lens 43, and is irradiated onto the object 20 (see FIG. 5). The transmitted light I1 reflected by the object 20 passes through the transmitted light condensing lens 43 and the half mirror 302, passes through the shutter 301B, is reflected by the total reflection mirror 303, is reflected by the half mirror 314, and is received by the light detection unit 44. On the other hand, in the observation unit 304, when performing alignment, the control unit 9 closes the shutter 301B and opens the shutter 301A. In this case, the transmitted light I1 is reflected by the half mirror 305, passes through the alignment lens 5D, and is irradiated onto the object 20. The transmitted light I1 reflected by the object 20 passes through the alignment lens 5D and the shutter 301A, passes through the half mirror 314, and is then received by the light detection unit 44.
透過光集光レンズ43は、例えば倍率が50倍のいわゆる補正環レンズである。透過光集光レンズ43の収差補正の補正量は、その補正環が駆動部310により回転させられることで切り替えられる。なお、透過光集光レンズ43は、図22又は図23に示されるように、第1~第3集光レンズ43A~43Cを有し、その何れかがレボルバ148又は直動ステージ248の駆動により透過光I1の光軸上に配置されてもよい。図示する例では、内部観察用のレチクルRTがアライメント用画像に映らないように、透過光I1の光源を分けている。The transmitted light focusing lens 43 is a so-called correction ring lens with a magnification of, for example, 50 times. The amount of aberration correction of the transmitted light focusing lens 43 can be switched by rotating the correction ring by the drive unit 310. As shown in FIG. 22 or 23, the transmitted light focusing lens 43 has first to third focusing lenses 43A to 43C, any of which may be positioned on the optical axis of the transmitted light I1 by driving the revolver 148 or the linear stage 248. In the illustrated example, the light source of the transmitted light I1 is separated so that the reticle RT for internal observation is not reflected in the alignment image.
このような変形例においても、内部観察と高倍率のアライメントとで光検出部44を共通化して、コストを抑制できる効果がある。また、観察ユニットをアライメント用途に用いるためには、内部観察と比較して、X方向、Y方向及びθ方向の精度が重要であるため、アライメント用の光路はX方向、Y方向及びθ方向の精度を担保した構成が必要になる。観察ユニット304では、X方向、Y方向及びθ方向の精度を担保した構成を実現できる。Even in such a modified example, the light detection unit 44 can be shared between internal observation and high magnification alignment, which has the effect of reducing costs. Furthermore, in order to use the observation unit for alignment purposes, precision in the X, Y, and θ directions is more important than in internal observation, so the optical path for alignment needs to be configured to ensure precision in the X, Y, and θ directions. With the observation unit 304, a configuration that ensures precision in the X, Y, and θ directions can be realized.
図25は、第4変形例に係る観察ユニット404の構成を示す概略図である。図25に示される観察ユニット404は、上記観察ユニット304(図24参照)と同様に、その光検出部44がアライメント用カメラ5の光検出部として併用される。また、観察ユニット404は、その光路が全反射ミラー401の移動により切り替えられる。全反射ミラー401は、制御部9(図1参照)に接続されて、その移動が制御される。Figure 25 is a schematic diagram showing the configuration of an observation unit 404 according to a fourth modified example. As with the observation unit 304 (see Figure 24) described above, the observation unit 404 shown in Figure 25 has its light detection unit 44 also used as the light detection unit of the alignment camera 5. The light path of the observation unit 404 is switched by the movement of the total reflection mirror 401. The total reflection mirror 401 is connected to the control unit 9 (see Figure 1) and its movement is controlled.
観察ユニット404では、内部観察を行う場合、制御部9により全反射ミラー401が移動されて透過光I1の光路上に配置される。この場合、透過光I1は、レチクルRTを通過し、ハーフミラー402によって反射され、透過光集光レンズ43を通過し、対象物20(図5参照)に照射される。対象物20で反射した透過光I1は、透過光集光レンズ43及びハーフミラー402を通過し、全反射ミラー403で反射し、全反射ミラー401で反射した後、光検出部44で受光される。一方、観察ユニット404では、アライメントを行う場合、制御部9により全反射ミラー401が移動されて透過光I1の光路から離れる位置に移動される。この場合、透過光I1は、ハーフミラー405によって反射され、アライメント用レンズ5Dを通過し、対象物20に照射される。対象物20で反射した透過光I1は、アライメント用レンズ5D及びハーフミラー405を通過した後、光検出部44で受光される。In the observation unit 404, when performing internal observation, the total reflection mirror 401 is moved by the control unit 9 to be positioned on the optical path of the transmitted light I1. In this case, the transmitted light I1 passes through the reticle RT, is reflected by the half mirror 402, passes through the transmitted light condensing lens 43, and is irradiated onto the object 20 (see FIG. 5). The transmitted light I1 reflected by the object 20 passes through the transmitted light condensing lens 43 and the half mirror 402, is reflected by the total reflection mirror 403, is reflected by the total reflection mirror 401, and is received by the light detection unit 44. On the other hand, in the observation unit 404, when performing alignment, the total reflection mirror 401 is moved by the control unit 9 to a position away from the optical path of the transmitted light I1. In this case, the transmitted light I1 is reflected by the half mirror 405, passes through the alignment lens 5D, and is irradiated onto the object 20. The transmitted light I1 reflected by the object 20 passes through the alignment lens 5D and the half mirror 405, and is then received by the light detection unit 44.
このような変形例においても、内部観察と高倍率のアライメントとで光検出部44を共通化して、コストを抑制できる効果がある。また、観察ユニット404では、X方向、Y方向及びθ方向の精度を担保した構成を実現できる。Even in such a modified example, the light detection unit 44 can be shared between internal observation and high-magnification alignment, which has the effect of reducing costs. Furthermore, the observation unit 404 can be configured to ensure precision in the X, Y, and θ directions.
上記実施形態において、レーザ加工装置1の構成は限定されず、例えば図26に示されるレーザ加工装置101としてもよい。レーザ加工装置101が上記実施形態に係るレーザ加工装置1(図1参照)と異なる点は、第1鉛直移動機構7A(図1参照)に代えて第1鉛直移動機構107Aを備え、第2鉛直移動機構7B(図1参照)に代えて第2鉛直移動機構107Bを備える点である。In the above embodiment, the configuration of the laser processing device 1 is not limited, and may be, for example, the laser processing device 101 shown in FIG. 26. The laser processing device 101 differs from the laser processing device 1 (see FIG. 1) according to the above embodiment in that it includes a first vertical movement mechanism 107A instead of the first vertical movement mechanism 7A (see FIG. 1) and a second vertical movement mechanism 107B instead of the second vertical movement mechanism 7B (see FIG. 1).
第1鉛直移動機構107Aは、Z方向に沿ってレーザ加工ヘッド3をアライメント用カメラ5,6と共に移動させる機構である。第1鉛直移動機構107Aは、柱状の第1ベース部175におけるX方向の一方側に設けられた第1鉛直軸171を有する。第1ベース部175は、例えば設置面等に固定されている。第1鉛直軸171は、Z方向に沿って延在する。第1鉛直軸171には、レーザ加工ヘッド3の取付部39がZ方向に沿って移動可能に取り付けられている。このような第1鉛直移動機構107Aは、不図示の駆動源の駆動力により、レーザ加工ヘッド3を第1鉛直軸171に沿ってZ方向に移動させる。第1鉛直移動機構107Aとしては、特に限定されず、レーザ加工ヘッド3をZ方向に移動できれば種々の機構を用いることができる。The first vertical movement mechanism 107A is a mechanism that moves the laser processing head 3 together with the alignment cameras 5 and 6 along the Z direction. The first vertical movement mechanism 107A has a first vertical shaft 171 provided on one side of the X direction of a columnar first base part 175. The first base part 175 is fixed to, for example, an installation surface. The first vertical shaft 171 extends along the Z direction. The mounting part 39 of the laser processing head 3 is attached to the first vertical shaft 171 so as to be movable along the Z direction. Such a first vertical movement mechanism 107A moves the laser processing head 3 in the Z direction along the first vertical shaft 171 by the driving force of a driving source (not shown). The first vertical movement mechanism 107A is not particularly limited, and various mechanisms can be used as long as they can move the laser processing head 3 in the Z direction.
第2鉛直移動機構107Bは、Z方向に沿って観察ユニット4を移動させる機構(移動部)である。第2鉛直移動機構107Bは、第1ベース部175におけるX方向の他方側に設けられた第2鉛直軸172を有する。つまり、第1鉛直軸171と第2鉛直軸172とは、第1ベース部175にともに設けられており、且つ、第1ベース部175を介して対向するように配置されている。第2鉛直軸172は、Z方向に沿って延在する。第2鉛直軸172には、観察ユニット4の取付部49がZ方向に沿って移動可能に取り付けられている。このような第2鉛直移動機構107Bは、不図示の駆動源の駆動力により、観察ユニット4を第2鉛直軸172に沿ってZ方向に移動させる。第2鉛直移動機構107Bとしては、特に限定されず、観察ユニット4をZ方向に移動できれば種々の機構を用いることができる。レーザ加工装置101では、第1鉛直軸171及び第2鉛直軸172を設けるベース部を第1ベース部175として共用した装置構成を実現することができる。The second vertical movement mechanism 107B is a mechanism (moving part) that moves the observation unit 4 along the Z direction. The second vertical movement mechanism 107B has a second vertical axis 172 provided on the other side of the X direction in the first base part 175. In other words, the first vertical axis 171 and the second vertical axis 172 are both provided on the first base part 175, and are arranged to face each other via the first base part 175. The second vertical axis 172 extends along the Z direction. The mounting part 49 of the observation unit 4 is attached to the second vertical axis 172 so as to be movable along the Z direction. Such a second vertical movement mechanism 107B moves the observation unit 4 in the Z direction along the second vertical axis 172 by the driving force of a driving source (not shown). The second vertical movement mechanism 107B is not particularly limited, and various mechanisms can be used as long as they can move the observation unit 4 in the Z direction. In the laser processing device 101, a device configuration can be realized in which the base part on which the first vertical axis 171 and the second vertical axis 172 are provided is shared as the first base part 175.
上記実施形態では、アライメント用カメラ5,6は、レーザ加工ヘッド3及び観察ユニット4とは別軸でZ方向に沿って移動可能であってもよい。上記実施形態では、観察ユニット4の全体をZ方向に移動させる第2鉛直移動機構7B,107Bを移動部として用いたが、これに代えて、透過光集光レンズ43をZ方向に移動させるアクチュエータ等を移動部として用いてもよい。In the above embodiment, the alignment cameras 5, 6 may be movable along the Z direction on a separate axis from the laser processing head 3 and the observation unit 4. In the above embodiment, the second vertical movement mechanism 7B, 107B that moves the entire observation unit 4 in the Z direction is used as the moving part, but instead, an actuator that moves the transmitted light focusing lens 43 in the Z direction or the like may be used as the moving part.
上記実施形態において、GUI10によるユーザからの入力は、上述した各入力の少なくとも何れかを含んでいればよい。また、GUI10によるユーザからの入力は、上述した各入力に限定されず、その他の対象物20の情報に関する入力、及び、その他の検査内容に関する入力を含んでいてもよい。例えばユーザから入力される対象物20の情報として、対象物20の材料に関する情報を含んでいてもよい。また例えばユーザから入力される検査内容として、レーザ加工装置1,101の状態検査、良品検査(歩留まり検査)に関する情報、及び要求品質検査に関する情報を含んでいてもよい。上記実施形態では、第1~第3集光レンズ43A,43B,43Cの補正環47x,47y,47zを設定時から回さずに(つまり、一定で保持して)観察を行ってもよい。この場合、補正環47x,47y,47zを回すことで補正係数がずれることがなくなり、再度に補正係数を導出しなおす必要がなくなるため、タクトを高めることが可能となる。In the above embodiment, the input from the user through the GUI 10 may include at least one of the above-mentioned inputs. In addition, the input from the user through the GUI 10 is not limited to the above-mentioned inputs, and may include inputs related to other information about the object 20 and inputs related to other inspection contents. For example, the information about the object 20 input from the user may include information about the material of the object 20. In addition, for example, the inspection contents input from the user may include information about the state inspection of the laser processing device 1, 101, the non-defective product inspection (yield inspection), and the required quality inspection. In the above embodiment, the correction rings 47x, 47y, and 47z of the first to third condenser lenses 43A, 43B, and 43C may be observed without being rotated (i.e., held constant) from the time of setting. In this case, the correction coefficients will not shift when the correction rings 47x, 47y, and 47z are rotated, and there is no need to derive the correction coefficients again, so that the tact time can be improved.
上記実施形態では、収差補正部46として、透過光I1の光路上に配置した空間光変調器を用いてもよい。上記実施形態では、観察装置100をレーザ加工装置1に適用したが、その他の加工装置に適用してもよい。上記実施形態及び変形例における各構成には、上述した材料及び形状に限定されず、様々な材料及び形状を適用することができる。また、上述した実施形態及び変形例における各構成は、他の実施形態又は変形例における各構成に任意に適用することができる。In the above embodiment, a spatial light modulator arranged on the optical path of the transmitted light I1 may be used as the aberration correction unit 46. In the above embodiment, the observation device 100 is applied to the laser processing device 1, but it may also be applied to other processing devices. The components in the above embodiment and modified examples are not limited to the materials and shapes described above, and various materials and shapes can be applied. In addition, the components in the above embodiment and modified examples can be arbitrarily applied to the components in other embodiments or modified examples.
1,101…レーザ加工装置、2…ステージ、4,104,204,304,404…観察ユニット、5,6…アライメント用カメラ、7B,107B…第2鉛直移動機構(移動部)、8A…第1水平移動機構、8B…第2水平移動機構、9…制御部、10…GUI(入力部)、12…改質領域、14…亀裂、20…対象物、21a…表面(反対面)、21b…裏面(透過光入射面)、43…透過光集光レンズ(集光レンズ)、43A…第1集光レンズ、43B…第2集光レンズ、43C…第3集光レンズ、44…光検出部(撮像部)、46…収差補正部、47A…第1収差補正部、47B…第2収差補正部、47C…第3収差補正部、48…レボルバ、100…観察装置、I1…透過光。1,101...laser processing device, 2...stage, 4,104,204,304,404...observation unit, 5,6...alignment camera, 7B,107B...second vertical movement mechanism (movement unit), 8A...first horizontal movement mechanism, 8B...second horizontal movement mechanism, 9...control unit, 10...GUI (input unit), 12...modified area, 14...crack, 20...object, 21a...surface (opposite surface), 21b... rear surface (transmitted light incidence surface), 43... transmitted light condensing lens (condensing lens), 43A... first condensing lens, 43B... second condensing lens, 43C... third condensing lens, 44... light detection unit (imaging unit), 46... aberration correction unit, 47A... first aberration correction unit, 47B... second aberration correction unit, 47C... third aberration correction unit, 48... revolver, 100... observation device, I1... transmitted light.
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