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JP7285465B2 - LASER PROCESSING DEVICE, LASER PROCESSING METHOD, AND CORRECTION DATA GENERATION METHOD - Google Patents

LASER PROCESSING DEVICE, LASER PROCESSING METHOD, AND CORRECTION DATA GENERATION METHOD
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JP7285465B2JP2019151157AJP2019151157AJP7285465B2JP 7285465 B2JP7285465 B2JP 7285465B2JP 2019151157 AJP2019151157 AJP 2019151157AJP 2019151157 AJP2019151157 AJP 2019151157AJP 7285465 B2JP7285465 B2JP 7285465B2
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本開示は、被溶接物の加工に用いられるレーザ加工装置、レーザ加工方法、および補正データ生成方法に関する。 The present disclosure relates to a laser processing apparatus, a laser processing method, and a correction data generation method used for processing objects to be welded.

特許文献1には、レーザ加工装置が開示されている。このレーザ加工装置は、光干渉計を用いて試料内部の構造を可視化するOCT(Optical Coherence Tomography)技術を用いて、レーザ光によって金属加工中に発生するキーホールの深さを計測する。Patent Literature 1 discloses a laser processing apparatus. This laser processing apparatus uses OCT (Optical Coherence Tomography) technology, which visualizes the structure inside a sample using an optical interferometer, to measure the depth of a keyhole generated during metal processing by laser light.

ここで、図23を用いて、特許文献1のレーザ加工装置について説明する。図23は、特許文献1に開示されているレーザ加工装置の構成を模式的に示す図である。 Here, the laser processing apparatus ofPatent Document 1 will be described with reference to FIG. 23 . FIG. 23 is a diagram schematically showing the configuration of the laser processing apparatus disclosed inPatent Document 1. As shown in FIG.

溶接ヘッド108には、加工用レーザ光107と測定光105とが導入される。測定光105は、コリメータモジュール106およびダイクロイックミラー110を経て、加工用レーザ光107と光軸を共有する同軸構成となる。 Aprocessing laser beam 107 and ameasurement beam 105 are introduced into thewelding head 108 . Themeasurement light 105 passes through thecollimator module 106 and thedichroic mirror 110 and becomes coaxial with theprocessing laser light 107 sharing the optical axis.

測定器としては、分析ユニット100、光ファイバ101、ビームスプリッタ103、光ファイバ104、参照アーム102、測定アーム109からなる光干渉計を用いたOCT光学系が構成されている。測定光105は、OCTの測定光として、光ファイバ104を通じて照射される。 As a measuring device, an OCT optical system using an optical interferometer comprising ananalysis unit 100, anoptical fiber 101, abeam splitter 103, anoptical fiber 104, areference arm 102, and ameasurement arm 109 is configured. Themeasurement light 105 is emitted through theoptical fiber 104 as OCT measurement light.

加工用レーザ光107および測定光105は、集光レンズ111で集光されて、加工物112に照射される。加工物112は、加工用レーザ光107により加工される。集光された加工用レーザ光107が加工物112の加工部113に照射されると、加工物112を構成する金属は溶融し、溶融金属が蒸発する際の圧力によりキーホールが形成される。測定光105は、キーホールの底面に照射される。 Theprocessing laser beam 107 and themeasurement beam 105 are condensed by acondensing lens 111 and applied to aworkpiece 112 . Theworkpiece 112 is processed by theprocessing laser beam 107 . When the processedportion 113 of theworkpiece 112 is irradiated with the focusedprocessing laser beam 107, the metal forming theworkpiece 112 is melted, and a keyhole is formed by the pressure when the molten metal evaporates. Themeasurement light 105 is applied to the bottom surface of the keyhole.

そして、キーホールで反射された測定光105(反射光)と、参照アーム102側の光(参照光)との光路差に応じて干渉信号が生じる。この干渉信号からキーホールの深さを求めることができる。キーホールは、形成直後に周囲の溶融金属により埋められる。そのため、キーホールの深さは、金属加工部の溶融部の深さ(溶け込み深さともいう)とほぼ同じである。したがって、加工部113の溶け込み深さを計測できる。 An interference signal is generated according to the optical path difference between the measurement light 105 (reflected light) reflected by the keyhole and the light (reference light) on thereference arm 102 side. The depth of the keyhole can be determined from this interference signal. The keyhole is filled with surrounding molten metal immediately after formation. Therefore, the depth of the keyhole is substantially the same as the depth of the melted portion (also called penetration depth) of the metal working portion. Therefore, the penetration depth of the processedportion 113 can be measured.

特表2013-501964号公報Japanese Patent Publication No. 2013-501964

近年、ガルバノミラーとfθレンズとを組み合わせたレーザ加工装置が知られている。ガルバノミラーは、レーザ光を反射させる方向を詳細に制御できる第1ミラーである。fθレンズは、被加工物の表面の加工点にレーザ光を集光するレンズである。 2. Description of the Related Art In recent years, a laser processing apparatus that combines a galvanomirror and an fθ lens is known. The galvanomirror is a first mirror that can precisely control the direction in which the laser light is reflected. The fθ lens is a lens that converges laser light onto a processing point on the surface of the workpiece.

しかしながら、特許文献1に開示されているキーホールの深さを測定する方法を、ガルバノミラーとfθレンズとを組み合わせたレーザ加工装置に適用しようとした場合、以下の問題がある。すなわち、加工用レーザ光と測定光とは波長が異なり、fθレンズには色収差が生じる特性があるため、被加工物の表面において加工用レーザ光と測定光とがずれてしまい、キーホールの深さを正確に測定できないという問題がある。 However, when the method of measuring the depth of the keyhole disclosed inPatent Document 1 is applied to a laser processing apparatus that combines a galvanomirror and an fθ lens, the following problems arise. That is, since the wavelengths of the laser light for processing and the light for measurement are different, and the f-theta lens has the characteristic of causing chromatic aberration, the laser light for processing and the light for measurement are deviated from each other on the surface of the workpiece. There is a problem that the thickness cannot be measured accurately.

本開示の一態様の目的は、キーホールの深さを正確に測定できるレーザ加工装置、レーザ加工方法、および補正データ生成方法を提供することである。 An object of one aspect of the present disclosure is to provide a laser processing apparatus, a laser processing method, and a correction data generation method that can accurately measure the depth of a keyhole.

本開示の一態様に係るレーザ加工装置は、被加工物の表面の加工点に対して加工用レーザ光を発振するレーザ発振器と、前記加工点に対して測定光を出射し、前記加工点で反射された前記測定光と参照光との光路差によって生じる干渉に基づく光干渉強度信号を生成する光干渉計と、前記加工用レーザ光および前記測定光の進行方向を変化させる第1ミラーと、前記測定光の前記第1ミラーへの入射角を変化させる第2ミラーと、前記測定光の前記第1ミラーへの入射位置を変化させるビームシフト機構と、前記加工用レーザ光および前記測定光を前記加工点に集光させるレンズと、補正済み加工用データを記憶するメモリと、前記補正済み加工用データに基づいて、前記レーザ発振器、前記第1ミラー、前記第2ミラー、および前記ビームシフト機構を制御する制御部と、前記光干渉強度信号に基づいて、前記加工用レーザ光が照射されることで前記加工点に生じるキーホールの深さを計測する計測処理部と、を有し、前記補正済み加工用データは、前記被加工物の加工用として予め生成された加工用データを、前記レンズの色収差により生じる前記加工用レーザ光および前記測定光の少なくとも一方の到達位置の前記被加工物の表面におけるずれ、および、前記キーホールの角度と前記測定光の角度とのずれが解消されるように補正したデータである。 A laser processing apparatus according to an aspect of the present disclosure includes a laser oscillator that oscillates a processing laser beam to a processing point on a surface of a workpiece, and a measurement beam that emits a measurement beam to the processing point. an optical interferometer that generates an optical interference intensity signal based on interference caused by an optical path difference between the reflected measurement light and the reference light; a first mirror that changes traveling directions of the processing laser light and the measurement light; a second mirror for changing the angle of incidence of the measurement light on the first mirror; a beam shift mechanism for changing the position of incidence of the measurement light on the first mirror; a lens for converging light on the processing point; a memory for storing corrected processing data; and the laser oscillator, the first mirror, the second mirror, and the beam shift mechanism based on the corrected processing data. and a measurement processing unit that measures the depth of the keyhole generated at the processing point by being irradiated with the processing laser light based on the optical interference intensity signal, The corrected processing data is processing data generated in advance for processing of the work piece, and the work piece is at a reaching position of at least one of the processing laser light and the measurement light caused by the chromatic aberration of the lens. and the deviation between the angle of the keyhole and the angle of the measurement light.

本開示の一態様に係るレーザ加工方法は、加工用レーザ光および測定光の進行方向を変化させる第1ミラーと、前記測定光の前記第1ミラーへの入射角を変化させる第2ミラーと、前記測定光の前記第1ミラーへの入射位置を変化させるビームシフト機構と、前記加工用レーザ光および前記測定光を被加工物の表面の加工点に集光させるレンズと、を有するレーザ加工装置が行うレーザ加工方法であって、補正済み加工用データに基づいて、前記第1ミラー、前記第2ミラー、およびビームシフト機構を制御し、前記加工用レーザ光および前記測定光を前記被加工物に対して照射し、前記加工点で反射された前記測定光と参照光との光路差によって生じる干渉に基づいて、前記加工用レーザ光が照射されることで前記加工点に生じるキーホールの深さを計測し、前記補正済み加工用データは、前記被加工物の加工用として予め生成された加工用データを、前記レンズの色収差により生じる前記加工用レーザ光および前記測定光の少なくとも一方の到達位置の前記被加工物の表面におけるずれ、および、前記キーホールの角度と前記測定光の角度とのずれが解消されるように補正したデータである。 A laser processing method according to an aspect of the present disclosure includes a first mirror that changes traveling directions of a processing laser beam and a measurement light, a second mirror that changes an incident angle of the measurement light to the first mirror, A laser processing apparatus having a beam shift mechanism that changes the incident position of the measurement light on the first mirror, and a lens that converges the processing laser light and the measurement light on a processing point on the surface of the workpiece. wherein the first mirror, the second mirror, and the beam shift mechanism are controlled based on the corrected processing data, and the processing laser light and the measurement light are applied to the workpiece. The depth of the keyhole generated at the processing point by being irradiated with the processing laser light based on the interference caused by the optical path difference between the measurement light and the reference light reflected at the processing point The corrected processing data is the processing data generated in advance for processing the workpiece, and the arrival of at least one of the processing laser light and the measurement light caused by the chromatic aberration of the lens. This data is corrected so as to eliminate position deviation on the surface of the workpiece and deviation between the angle of the keyhole and the angle of the measurement light.

本開示の一態様に係る補正データ生成方法は、加工用レーザ光および測定光の進行方向を変化させる第1ミラーと、前記測定光の前記第1ミラーへの入射角を変化させる第2ミラーと、前記測定光の前記第1ミラーへの入射位置を変化させるビームシフト機構と、前記加工用レーザ光および前記測定光を被加工物の表面に集光させるレンズと、を有するレーザ加工装置が行う補正データ生成方法であって、前記被加工物の表面の加工点毎に、前記加工用レーザ光の出力強度と、前記加工用レーザ光を前記加工点に到達させるための前記第1ミラーの動作量とが設定された加工用データを生成し、前記被加工物の表面の所定の位置毎に、前記測定光を前記所定の位置に到達させるための前記第2ミラーの動作量である第1動作量を算出し、前記第1動作量に基づいて、前記加工点毎に、前記測定光を前記加工点に到達させるための前記第2ミラーの動作量である第2動作量を算出し、前記被加工物の表面の所定の位置および加工速度毎に、前記測定光を前記所定の位置に到達させるための前記ビームシフト機構の動作量である第3動作量を算出し、前記第3動作量に基づいて、前記加工点毎に、前記測定光を前記加工点に到達させるための前記ビームシフト機構の動作量である第4動作量を算出し、前記第2動作量および前記第4動作量を前記加工用データに加えることにより、前記レンズの色収差により生じる前記加工用レーザ光および前記測定光の少なくとも一方の前記被加工物への到達位置のずれ、および、前記キーホールの角度と前記測定光の角度とのずれが解消されるように補正した補正済み加工用データを生成する。 A correction data generation method according to an aspect of the present disclosure includes a first mirror that changes traveling directions of a processing laser beam and a measurement light, and a second mirror that changes an incident angle of the measurement light to the first mirror. , a laser processing apparatus having a beam shift mechanism that changes the incident position of the measurement light on the first mirror, and a lens that converges the processing laser light and the measurement light on the surface of the workpiece. In the correction data generation method, the output intensity of the processing laser light and the operation of the first mirror for causing the processing laser light to reach the processing point for each processing point on the surface of the workpiece. A first mirror which is an operation amount of the second mirror for generating the processing data in which the amount and the amount are set and causing the measurement light to reach the predetermined position for each predetermined position on the surface of the workpiece. calculating a movement amount, and calculating a second movement amount, which is a movement amount of the second mirror for causing the measurement light to reach the processing point, based on the first movement amount, for each processing point; calculating a third operation amount, which is an operation amount of the beam shift mechanism for causing the measurement light to reach the predetermined position, for each predetermined position and processing speed on the surface of the workpiece; calculating a fourth operation amount, which is an operation amount of the beam shift mechanism for causing the measurement light to reach the processing point, based on the amount, and calculating the second operation amount and the fourth operation amount for each of the processing points; By adding the amount to the processing data, the displacement of the arrival position of at least one of the processing laser light and the measurement light on the workpiece caused by the chromatic aberration of the lens, and the angle of the keyhole and the Corrected processing data corrected so as to eliminate the deviation from the angle of the measurement light is generated.

本開示によれば、キーホールの深さを正確に測定できる。 According to the present disclosure, it is possible to accurately measure the depth of the keyhole.

本開示の実施の形態に係るレーザ加工装置の構成を模式的に示す図A diagram schematically showing the configuration of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present disclosure第1ミラーを原点位置から動作させた状態のレーザ加工装置を模式的に示す図The figure which shows typically the laser processing apparatus in the state which operated the 1st mirror from the origin position.倍率色収差による加工用レーザ光および測定光それぞれの到達位置のずれを補正した状態のレーザ加工装置を模式的に示す図FIG. 4 is a diagram schematically showing the laser processing apparatus in a state in which deviations in the arrival positions of the processing laser light and the measurement light due to the chromatic aberration of magnification are corrected;加工速度が速い場合のキーホールの形成状態の例を模式的に示す図A diagram schematically showing an example of the state of formation of a keyhole when the processing speed is highキーホール形成軸と測定光の測定光軸それぞれの角度のずれを補正した状態のレーザ加工装置を模式的に示す図FIG. 4 is a diagram schematically showing the laser processing apparatus in a state in which angular deviations between the keyhole forming axis and the measurement optical axis of the measurement light are corrected;第1ミラーのみを動作させて被加工物の表面を格子状に走査した場合における、加工面上の加工用レーザ光および測定光それぞれの軌跡を模式的に示す図A diagram schematically showing the trajectories of the processing laser beam and the measurement beam on the processing surface when only the first mirror is operated and the surface of the workpiece is scanned in a grid pattern.第1の補正数表データの作成方法の第1の例を示すフローチャートFlowchart showing a first example of a method for creating first correction table data第1の補正数表データの作成方法の第2の例を示すフローチャートFlowchart showing a second example of a method for creating the first correction table data位置補正移動量の補正数表データの作成方法を示すフローチャートFlowchart showing method for creating correction formula table data for position correction movement amount速度補正移動量の補正数表データの作成方法を示すフローチャートFlowchart showing method for creating correction formula table data for speed correction movement amount速度補正移動量の補正数表データを示す図Diagram showing correction formula table data for speed correction movement amount補正済み加工データの構成の一例を示す図A diagram showing an example of the configuration of corrected processing data加工データの作成方法を示すフローチャートFlowchart showing how to create processing data補正数表データの構成を模式的に表した補正数表を示す図A diagram showing a correction number table that schematically represents the configuration of the correction number table data補正角の設定方法を示すフローチャートFlow chart showing how to set the correction angleユーザが設定した走査角Xが補正数表上のいずれかのデータ点の補正数表用走査角と一致しなかった場合における、走査角Xとその周囲の補正データ点の関係を示す図A diagram showing the relationship between the scanning angle X and the correction data points around it when the scanning angle X set by the user does not match the scanning angle for the correction formula table of any data point on the correction formula table.補正移動量の設定方法を示すフローチャートFlowchart showing how to set the compensation movement amountレーザ加工方法を示すフローチャートFlowchart showing the laser processing methodキーホールの深さの計測方法を示すフローチャートFlowchart showing keyhole depth measurement method第2ミラーの動作により倍率色収差の影響を補正した状態の、加工面における加工用レーザ光と測定光の軌跡を模式的に示す図A diagram schematically showing the trajectories of the processing laser light and the measurement light on the processing surface in a state where the influence of the chromatic aberration of magnification is corrected by the operation of the second mirror.本開示の変形例1に係るレーザ加工装置の構成を模式的に示す図A diagram schematically showing the configuration of a laser processing apparatus according toModification 1 of the present disclosure本開示の変形例4に係るレーザ加工装置の構成を模式的に示す図A diagram schematically showing the configuration of a laser processing apparatus according toModification 4 of the present disclosure特許文献1に開示されているレーザ加工装置を模式的に示す図A diagram schematically showing a laser processing apparatus disclosed inPatent Document 1

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、各図において共通する構成要素については同一の符号を付し、それらの説明は適宜省略する。 Embodiments of the present disclosure will be described below with reference to the drawings. In addition, the same code|symbol is attached|subjected about the component which is common in each figure, and those description is abbreviate|omitted suitably.

[レーザ加工装置の構成]
本開示の実施の形態に係るレーザ加工装置1の構成について、図1を用いて説明する。図1は、本実施の形態のレーザ加工装置1の構成を模式的に示す図である。
[Configuration of laser processing device]
A configuration of alaser processing apparatus 1 according to an embodiment of the present disclosure will be described using FIG. FIG. 1 is a diagram schematically showing the configuration of alaser processing apparatus 1 according to this embodiment.

レーザ加工装置1は、加工ヘッド2、光干渉計3、計測処理部4、レーザ発振器5、制御部6、第1ドライバ7、第2ドライバ8、第3ドライバ41を有する。 Thelaser processing apparatus 1 has aprocessing head 2 , anoptical interferometer 3 , ameasurement processing section 4 , alaser oscillator 5 , acontrol section 6 , afirst driver 7 , asecond driver 8 and athird driver 41 .

光干渉計3は、OCT測定用の測定光15を出射する。出射された測定光15は、測定光導入口9から加工ヘッド2へ入力される。測定光導入口9は、第2ミラー17上に設置されている。 Theoptical interferometer 3 emitsmeasurement light 15 for OCT measurement. The emittedmeasurement light 15 is input to theprocessing head 2 from the measurementlight introduction port 9 . Themeasuring light inlet 9 is installed on thesecond mirror 17 .

レーザ発振器5は、レーザ加工用の加工用レーザ光11を発振する。発振された加工用レーザ光11は、加工光導入口10から加工ヘッド2へ入力される。 Alaser oscillator 5 oscillates aprocessing laser beam 11 for laser processing. The oscillatedprocessing laser beam 11 is input to theprocessing head 2 from theprocessing light inlet 10 .

加工ヘッド2へ入力された加工用レーザ光11は、ダイクロイックミラー12を透過し、第1ミラー13で反射され、レンズ14を透過し、被加工物18の表面の加工面19に集光される。これにより、被加工物18の加工点20がレーザ加工される。この際、加工用レーザ光11が照射された加工点20は溶融し、溶融池21が形成される。また、溶融池21から溶融金属が蒸発し、蒸発時に生じる蒸気の圧力によってキーホール22が形成される。 Theprocessing laser beam 11 input to theprocessing head 2 passes through thedichroic mirror 12, is reflected by thefirst mirror 13, passes through thelens 14, and is focused on theprocessing surface 19 of the surface of theworkpiece 18. . Thereby, theprocessing point 20 of theworkpiece 18 is laser-processed. At this time, theprocessing point 20 irradiated with theprocessing laser beam 11 is melted to form amolten pool 21 . Further, the molten metal evaporates from themolten pool 21, and thekeyhole 22 is formed by the vapor pressure generated during the evaporation.

加工ヘッド2へ入力された測定光15は、コリメートレンズ16で平行光に変換され、第2ミラー17で反射された後、ビームシフト機構38を透過する。その後、測定光15は、ダイクロイックミラー12で反射された後、第1ミラー13で反射され、レンズ14を透過し、被加工物18の表面の加工点20に集光される。そして、測定光15は、キーホール22の底面で反射され、伝播経路を遡って光干渉計3まで到達し、光干渉計3内で図示しない参照光との光干渉による干渉信号を発生させる。 Themeasurement light 15 input to theprocessing head 2 is converted into parallel light by thecollimator lens 16 , reflected by thesecond mirror 17 , and transmitted through thebeam shift mechanism 38 . After that, themeasurement light 15 is reflected by thedichroic mirror 12 , reflected by thefirst mirror 13 , transmitted through thelens 14 , and condensed at theprocessing point 20 on the surface of theworkpiece 18 . Then, themeasurement light 15 is reflected by the bottom surface of thekeyhole 22 , traces the propagation path, reaches theoptical interferometer 3 , and generates an interference signal by optical interference with the reference light (not shown) within theoptical interferometer 3 .

計測処理部4は、干渉信号からキーホール22の深さ、すなわち加工点20の溶け込み深さを計測する。なお、溶け込み深さとは、被加工物18の溶けた部分の最頂点と、加工面19との間の距離を意味する。 Themeasurement processing unit 4 measures the depth of thekeyhole 22, that is, the penetration depth of theprocessing point 20 from the interference signal. The penetration depth means the distance between the highest vertex of the melted portion of theworkpiece 18 and theprocessing surface 19 .

加工用レーザ光11の波長と測定光15の波長とは、互いに異なる。ダイクロイックミラー12は、加工用レーザ光11の波長の光を透過し、測定光15の波長の光を反射する特性を有する。 The wavelength of theprocessing laser light 11 and the wavelength of themeasurement light 15 are different from each other. Thedichroic mirror 12 has the characteristic of transmitting the light of the wavelength of theprocessing laser light 11 and reflecting the light of the wavelength of themeasurement light 15 .

例えば、加工用レーザ11としてYAGレーザまたはファイバレーザを用いた場合、加工用レーザ11の波長は、1064nmである。また、例えば、測定光15としてOCT用光源を用いた場合、測定光15の波長は、1300nmである。 For example, when a YAG laser or fiber laser is used as theprocessing laser 11, the wavelength of theprocessing laser 11 is 1064 nm. Further, for example, when an OCT light source is used as themeasurement light 15, the wavelength of themeasurement light 15 is 1300 nm.

第1ミラー13および第2ミラー17は、2軸以上で回転動作させることができる可動ミラーである。第1ミラー13および第2ミラー17は、例えば、ガルバノミラーである。 Thefirst mirror 13 and thesecond mirror 17 are movable mirrors that can be rotated on two or more axes. Thefirst mirror 13 and thesecond mirror 17 are, for example, galvanometer mirrors.

第1ミラー13、第2ミラー17は、それぞれ、第1ドライバ7、第2ドライバ8を介して制御部6に接続されており、制御部6の制御に基づいて動作する。第1ドライバ7は、制御部6からの指示に基づいて、第1ミラー13を動作させる。第2ドライバ8は、制御部6からの指示に基付いて、第2ミラー17を動作させる。 Thefirst mirror 13 and thesecond mirror 17 are connected to thecontroller 6 via thefirst driver 7 and thesecond driver 8 respectively, and operate under the control of thecontroller 6 . Thefirst driver 7 operates thefirst mirror 13 based on instructions from thecontrol unit 6 . Thesecond driver 8 operates thesecond mirror 17 based on instructions from thecontrol unit 6 .

制御部6は、メモリ31を有する。メモリ31は、被加工物18に対して所望の加工を行うための加工データ、および、後述する補正を行うための補正用データを記憶する。 Thecontroller 6 has amemory 31 . Thememory 31 stores processing data for performing desired processing on theworkpiece 18 and correction data for performing correction described later.

図1では例として、第1ミラー13および第2ミラー17のそれぞれについて、y方向の回転軸を中心とした回転動作のみを示している(図中の点線部分および両矢印参照)。しかし、実際には、第1ミラー13および第2ミラー17は、それぞれ、上述したように2軸以上で回転動作できるように構成されている。よって、第1ミラー13および第2ミラー17は、それぞれ、例えば、x方向の回転軸を中心とした回転動作を行うことも可能である。 As an example, FIG. 1 shows only the rotational movement of each of thefirst mirror 13 and thesecond mirror 17 about the rotation axis in the y direction (see the dotted line and double arrows in the figure). However, in practice, thefirst mirror 13 and thesecond mirror 17 are each configured to be rotatable on two or more axes as described above. Therefore, each of thefirst mirror 13 and thesecond mirror 17 can also rotate about the rotation axis in the x direction, for example.

以下では、簡単を簡単にするため、第1ミラー13および第2ミラー17のそれぞれがy方向の回転軸を中心とした回転動作を行う場合についてのみ説明する。 For the sake of simplification, only the case where each of thefirst mirror 13 and thesecond mirror 17 rotates about the rotation axis in the y direction will be described below.

第2ミラー17が原点位置にあるとき、測定光15の測定光軸23は、ダイクロイックミラー12で反射された後、加工用レーザ光11の加工光軸24と一致する。 When thesecond mirror 17 is at the origin position, the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 is reflected by thedichroic mirror 12 and then coincides with the processingoptical axis 24 of theprocessing laser light 11 .

また、第1ミラー13が原点位置にあるとき、加工用レーザ光11の加工光軸24は、第1ミラー13にて反射された後、レンズ14を透過する際に、レンズ14の中心であるレンズ光軸25と一致する。 Further, when thefirst mirror 13 is at the origin position, the processingoptical axis 24 of theprocessing laser beam 11 is reflected by thefirst mirror 13 and then transmitted through thelens 14, and is at the center of thelens 14. It coincides with the lensoptical axis 25 .

なお、以下の説明では、レンズ14の中心を透過した加工用レーザ光11および測定光15が被加工物18の加工面19に到達した位置(照射位置と言ってもよい)を、「加工原点26」(図2参照)と記載する。すなわち、第1ミラー13、第2ミラー17それぞれの原点位置とは、加工用レーザ光11および測定光15がレンズ14の中心を透過する位置である。 In the following description, the position (which may be called the irradiation position) at which theprocessing laser beam 11 and themeasurement light 15 that have passed through the center of thelens 14 reach theprocessing surface 19 of theworkpiece 18 is referred to as the "processing origin. 26” (see FIG. 2). That is, the origin positions of thefirst mirror 13 and thesecond mirror 17 are positions at which theprocessing laser beam 11 and themeasurement beam 15 pass through the center of thelens 14 .

レンズ14は、加工用レーザ光11および測定光15を加工点20に集光するためのレンズである。レンズ14は、例えば、fθレンズである。 Thelens 14 is a lens for focusing theprocessing laser beam 11 and themeasurement light 15 onto theprocessing point 20 . Thelens 14 is, for example, an fθ lens.

第1ミラー13およびレンズ14は、ガルバノミラーとfθレンズとによる一般的な光学走査系を構成している。このため、第1ミラー13をその原点位置から所定の角度だけ回転させることにより、加工用レーザ光11の加工面19への到達位置を制御することができる。以下では、第1ミラー13をその原点位置から回転させる角度を「第1ミラー13の動作量」という。なお、所望の加工点20へ加工用レーザ光11を照射させるための第1ミラー13の動作量は、加工ヘッド2を構成する各光学部材の位置関係と、レンズ14から加工面19までの距離とが決まれば、一意に設定することができる。 Thefirst mirror 13 andlens 14 constitute a general optical scanning system made up of a galvanomirror and an fθ lens. Therefore, by rotating thefirst mirror 13 by a predetermined angle from its origin position, it is possible to control the arrival position of theprocessing laser beam 11 on theprocessing surface 19 . Hereinafter, the angle by which thefirst mirror 13 is rotated from its origin position is referred to as "movement amount of thefirst mirror 13". The amount of movement of thefirst mirror 13 for irradiating the desiredprocessing point 20 with theprocessing laser beam 11 depends on the positional relationship between the optical members constituting theprocessing head 2 and the distance from thelens 14 to theprocessing surface 19. can be set uniquely.

レンズ14から加工面19までの距離は、加工用レーザ光11による加工が最も効率的に行われるように、加工用レーザ光11が最も集光される焦点位置と、加工面19とを一致させた距離とすることが好ましい。ただし、これに限定されず、レンズ14から加工面19までの距離は、加工用途に応じて任意の距離に決定されればよい。 The distance from thelens 14 to theprocessing surface 19 is such that the focal position where theprocessing laser beam 11 is most condensed coincides with theprocessing surface 19 so that processing by theprocessing laser beam 11 is most efficiently performed. It is preferable to set the distance as However, it is not limited to this, and the distance from thelens 14 to theprocessing surface 19 may be determined as an arbitrary distance according to the processing application.

第1ミラー13の動作量を所定の動作スケジュールで変化させることで、加工面19上で加工点20の位置を走査することができる。さらに、制御部6の制御によりレーザ発振器5のオンとオフの切り替えが行われることにより、加工用レーザ光11の走査可能な範囲内における、加工面19上の任意の位置を任意のパターンでレーザ加工することができる。 The position of theprocessing point 20 can be scanned on theprocessing surface 19 by changing the operation amount of thefirst mirror 13 according to a predetermined operation schedule. Furthermore, by switching on and off thelaser oscillator 5 under the control of thecontrol unit 6, any position on theprocessing surface 19 within the scannable range of theprocessing laser beam 11 can be lasered in any pattern. can be processed.

ビームシフト機構38は、測定光15の測定光軸23を2軸以上で平行移動させるための機構である。例えば、ビームシフト機構38は、平行移動ステージである。ビームシフト機構38は、第2ミラー17が原点位置にあるときの測定光15の測定光軸23に対して垂直な方向(図中のxy軸、および、図中の直線状の両矢印参照)に2軸以上で平行移動できるように構成されている。 Thebeam shift mechanism 38 is a mechanism for translating the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 in two or more axes. For example,beam shift mechanism 38 is a translation stage. Thebeam shift mechanism 38 moves in a direction perpendicular to the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 when thesecond mirror 17 is at the origin position (see the xy axis in the figure and the straight double-headed arrow in the figure). It is configured so that it can move in parallel on two or more axes.

ビームシフト機構38は、第3ドライバ41を介して制御部6に接続されており、制御部6の制御に基づいて動作する。第3ドライバ41は、制御部6からの指示に基づいて、ビームシフト機構38を動作させる。 Thebeam shift mechanism 38 is connected to thecontroller 6 via thethird driver 41 and operates under the control of thecontroller 6 . Thethird driver 41 operates thebeam shift mechanism 38 based on instructions from thecontroller 6 .

また、ビームシフト機構38には、第1レンズ39および第2レンズ40が設置されている。第1レンズ39の主点と第2レンズ40の主点との間の距離は、2つのレンズの焦点距離を足した距離に設定されている。 Afirst lens 39 and asecond lens 40 are installed in thebeam shift mechanism 38 . The distance between the principal point of thefirst lens 39 and the principal point of thesecond lens 40 is set to the sum of the focal lengths of the two lenses.

また、本実施の形態では、第1レンズ39の焦点距離と第2レンズ40の焦点距離とが同じであるとする。 Also, in this embodiment, the focal length of thefirst lens 39 and the focal length of thesecond lens 40 are assumed to be the same.

また、ビームシフト機構38が原点位置で、かつ、第2ミラー17が原点位置にあるとき、測定光15の測定光軸23は、ダイクロイックミラー12で反射された後に加工用レーザ光11の加工光軸24と一致する。 Further, when thebeam shift mechanism 38 is at the origin position and thesecond mirror 17 is at the origin position, the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 is reflected by thedichroic mirror 12 and then the processing light of theprocessing laser light 11Axis 24 coincides.

[色収差による影響]
次に、図2を用いて、色収差による影響について説明する。図2は、第1ミラー13を原点位置から動作させた状態のレーザ加工装置1を模式的に示す図である。図2において、第2ミラー17は原点位置にあるとする。
[Influence of Chromatic Aberration]
Next, the influence of chromatic aberration will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram schematically showing thelaser processing apparatus 1 in a state where thefirst mirror 13 is moved from the origin position. In FIG. 2, it is assumed that thesecond mirror 17 is at the origin position.

図2に示すように、第1ミラー13で反射された加工用レーザ光11および測定光15は、レンズ14に到達するまでは同じ光軸上を進む。しかしながら、レンズ14を透過した後では、加工用レーザ光11と測定光15の進行方向にずれが生じる。すなわち、図2に示すように、加工用レーザ光11の光軸である加工光軸24aと、測定光15の光軸である測定光軸23aとがずれる。よって、測定光15は、加工点20とは異なる位置に到達する。 As shown in FIG. 2, theprocessing laser beam 11 and themeasurement beam 15 reflected by thefirst mirror 13 travel on the same optical axis until reaching thelens 14 . However, after passing through thelens 14 , there is a deviation in the traveling direction of theprocessing laser beam 11 and themeasuring beam 15 . That is, as shown in FIG. 2, the processingoptical axis 24a, which is the optical axis of theprocessing laser beam 11, and the measurementoptical axis 23a, which is the optical axis of themeasurement light 15, are deviated. Therefore, themeasurement light 15 reaches a position different from theprocessing point 20 .

これは、レンズ14の色収差が原因である。色収差とは、レンズ14を含む一般的な光学材料が、光の波長により屈折率が異なる性質を有するために発生する収差である。 This is due to the chromatic aberration oflens 14 . Chromatic aberration is an aberration that occurs because general optical materials including thelens 14 have different refractive indices depending on the wavelength of light.

色収差には、軸上色収差と、倍率色収差との二種類がある。軸上色収差は、光の波長によりレンズの焦点位置が異なる性質を指す。一方、倍率色収差は、光の波長により焦点面における像高が異なる性質を指す。図2に示した、レンズ14透過後の加工用レーザ光11(加工光軸24a)と測定光15(測定光軸23a)の進行方向のずれは、倍率色収差によるものである。 There are two types of chromatic aberration: longitudinal chromatic aberration and lateral chromatic aberration. Axial chromatic aberration refers to the property that the focal position of a lens differs depending on the wavelength of light. On the other hand, the chromatic aberration of magnification refers to the property that the image height on the focal plane differs depending on the wavelength of light. The deviation in the direction of travel between the processing laser light 11 (processingoptical axis 24a) and the measurement light 15 (measurementoptical axis 23a) after passing through thelens 14 shown in FIG. 2 is due to chromatic aberration of magnification.

なお、本実施の形態のレーザ加工装置1では、軸上色収差も同時に発生している。しかしながら、軸上色収差による加工用レーザ光11と測定光15のずれについては、コリメートレンズ16と測定光導入口9との距離を調節し、コリメートレンズ16を透過直後の測定光15を平行光の状態からわずかに発散状態または収束状態にすることで対応が可能である。 In addition, in thelaser processing apparatus 1 of the present embodiment, longitudinal chromatic aberration also occurs at the same time. However, as for the deviation between theprocessing laser beam 11 and themeasuring beam 15 due to axial chromatic aberration, the distance between the collimatinglens 16 and the measuringbeam inlet 9 is adjusted, and themeasuring beam 15 immediately after passing through the collimatinglens 16 is converted into a parallel beam. It is possible to deal with it by making the state slightly diverge or converge.

図2では、加工原点26から見て、測定光15が加工面19に到達した位置は、加工用レーザ光11が加工面19に到達した位置よりも遠い。しかしながら、これは一例であり、レンズ14のレンズ構成や加工用レーザ光11と測定光15との波長の大小関係により、測定光15の方が加工用レーザ光11よりも加工原点26に近い位置に到達する場合もある。一般的には、長波長の光の方が、より加工原点26から遠い位置に到達する。 In FIG. 2 , the position where themeasuring beam 15 reaches theprocessing surface 19 is farther than the position where theprocessing laser beam 11 reaches theprocessing surface 19 when viewed from theprocessing origin 26 . However, this is only an example, and depending on the lens configuration of thelens 14 and the magnitude relationship between the wavelengths of theprocessing laser light 11 and themeasurement light 15, themeasurement light 15 is closer to theprocessing origin 26 than theprocessing laser light 11. may be reached. In general, longer wavelength light reaches a position farther from theprocessing origin 26 .

倍率色収差を補正する方法として、例えば、レンズ14に色消しレンズの性質を持たせる方法がある。しかし、レンズ14に、fθレンズとしての性質と、色消しレンズとしての性質を両方持たせようとすると、非常に高度な光学設計技術が必要となり、レンズ14の設計に多大な時間とコストとが掛かってしまう。このため、本実施の形態では、以下に説明するように、第2ミラー17を動作させることにより、低コストで倍率色収差を補正している。 As a method of correcting the chromatic aberration of magnification, for example, there is a method of giving thelens 14 the property of an achromatic lens. However, if thelens 14 is to have both the properties of an f-theta lens and the properties of an achromatic lens, a very advanced optical design technique is required, and the design of thelens 14 requires a great deal of time and cost. It hangs. Therefore, in the present embodiment, as described below, thesecond mirror 17 is operated to correct the chromatic aberration of magnification at low cost.

[倍率色収差の補正方法]
次に、図3を用いて、倍率色収差の補正方法について説明する。図3は、倍率色収差による加工用レーザ光11および測定光15それぞれの到達位置のずれを補正した状態のレーザ加工装置1を模式的に示す図である。
[Method for correcting lateral chromatic aberration]
Next, a method for correcting chromatic aberration of magnification will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram schematically showing thelaser processing apparatus 1 in a state in which deviations in the arrival positions of theprocessing laser light 11 and themeasurement light 15 due to chromatic aberration of magnification are corrected.

図3では、第2ミラー17を、原点位置から所定の動作量(動作角度と言ってもよい)だけ動作させている。これにより、図3に示すように、ダイクロイックミラー12からレンズ14に到るまでの間において、加工用レーザ光11の加工光軸24と、測定光15の測定光軸23とが同軸ではなくなる。しかしながら、加工用レーザ光11および測定光15は、それぞれ、レンズ14を透過した後、加工面19における同じ位置、すなわち加工点20に到達している。 In FIG. 3, thesecond mirror 17 is moved from the origin position by a predetermined movement amount (which may also be referred to as a movement angle). As a result, as shown in FIG. 3, the processingoptical axis 24 of theprocessing laser beam 11 and the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 are not coaxial between thedichroic mirror 12 and thelens 14 . However, theprocessing laser light 11 and themeasurement light 15 reach the same position on theprocessing surface 19, that is, theprocessing point 20, after passing through thelens 14 respectively.

図3において、加工用レーザ光11の加工光軸24aは、図2に示した加工光軸24aと同じ位置を通っている。一方、図3において、第2ミラー17の動作により補正された測定光15の測定光軸23bは、図2に示した測定光軸23aとは異なる位置を通っている。 In FIG. 3, the processingoptical axis 24a of theprocessing laser beam 11 passes through the same position as the processingoptical axis 24a shown in FIG. On the other hand, in FIG. 3, the measurementoptical axis 23b of themeasurement light 15 corrected by the operation of thesecond mirror 17 passes through a position different from the measurementoptical axis 23a shown in FIG.

第2ミラー17の動作量(すなわち、第2ミラー17をその原点位置から回転させる角度)は、第1ミラー13の動作量と1対1に対応付けられている。第1ミラー13の動作量は、加工用レーザ光11(および測定光15)を照射する加工点20の位置によって一意に決まっているため、第2ミラー17の動作量も、測定光15を照射する加工点20の位置によって一意に決まる。なお、以下では、第2ミラー17の動作量を「補正角」と記載し、その補正角の求め方について説明する。 The amount of movement of the second mirror 17 (that is, the angle by which thesecond mirror 17 is rotated from its origin position) is associated one-to-one with the amount of movement of thefirst mirror 13 . Since the amount of movement of thefirst mirror 13 is uniquely determined by the position of theprocessing point 20 irradiated with the processing laser beam 11 (and the measurement light 15), the amount of movement of thesecond mirror 17 is also determined by the irradiation of themeasurement light 15. It is uniquely determined by the position of theprocessing point 20 to be processed. In the following description, the amount of movement of thesecond mirror 17 is referred to as a "correction angle", and how to obtain the correction angle will be described.

[補正角と走査角との関係]
次に、補正角と走査角との関係について説明する。fθレンズであるレンズ14では、レンズ14の焦点距離をfとし、レンズ14に入射する光のレンズ光軸25からの角度をθとし、レンズ14を透過した光線の像面における光軸からの距離(以下、像高という)をhとした場合、h=fθという関係が成り立つ。
[Relationship Between Correction Angle and Scanning Angle]
Next, the relationship between the correction angle and the scanning angle will be explained. In thelens 14 which is an fθ lens, let f be the focal length of thelens 14, let θ be the angle of the light incident on thelens 14 from the lensoptical axis 25, and let θ be the distance from the optical axis on the image plane of the light transmitted through thelens 14. (hereinafter referred to as image height) is h, the relationship h=f.theta.

上述したように、第1ミラー13は、回転動作する軸を2軸有している。この2軸を仮にx軸、y軸とし、第1ミラー13で反射された光のレンズ光軸25からのx軸成分の角度をθxとし、同じくレンズ光軸25からのy軸成分の角度をθyとする。そして、像面におけるx方向、y方向の像高をそれぞれx、yとした場合、x=fθx、y=fθyという関係が成り立つ。 As described above, thefirst mirror 13 has two rotational axes. Assuming that these two axes are the x-axis and the y-axis, the angle of the x-axis component from the lensoptical axis 25 of the light reflected by thefirst mirror 13 is θx, and the angle of the y-axis component from the lensoptical axis 25 is θx. θy. When the image heights in the x direction and the y direction on the image plane are respectively x and y, the relationships x=fθx and y=fθy are established.

したがって、加工用レーザ光11が加工面19に到達する加工点の位置を(x,y)とすると、(x,y)=(fθx,fθy)となる。また、ミラーへ光を入射させたときのミラーからの反射光の出射角度は、2倍の角度量で変化する。そのため、第1ミラー13の動作量を(φx,φy)とした場合、(2φx,2φy)=(θx,θy)の関係が成り立つ。なお、以下の説明では、第1ミラー13の動作量(φx,φy)を「走査角」と記載する。 Therefore, when the position of the processing point where theprocessing laser beam 11 reaches theprocessing surface 19 is (x, y), (x, y)=(fθx, fθy). Also, when the light is incident on the mirror, the emission angle of the reflected light from the mirror changes by a double angular amount. Therefore, when the amount of movement of thefirst mirror 13 is (φx, φy), the relationship (2φx, 2φy)=(θx, θy) holds. In the following description, the amount of movement (φx, φy) of thefirst mirror 13 is referred to as "scanning angle".

このように、本実施の形態のレーザ加工装置1では、第1ミラー13の走査角(φx,φy)が決定されると、加工用レーザ光11の加工面19における到達位置、すなわち加工点20の位置(x,y)も決定される。 As described above, in thelaser processing apparatus 1 of the present embodiment, when the scanning angle (φx, φy) of thefirst mirror 13 is determined, the arrival position of theprocessing laser beam 11 on theprocessing surface 19, that is, theprocessing point 20 The position (x,y) of is also determined.

上述したように、走査角は加工点20の位置によって一意に決定され、同様に補正量も加工点20の位置によって一意に決定される。すなわち、ある加工点20の位置毎に走査角と補正量との関係を予め算出しておき、加工時には加工点20の位置に対応する補正量だけ第2ミラー17を動作させることにより、上述した倍率色収差による測定光15のずれを補正することができる。 As described above, the scanning angle is uniquely determined by the position of theprocessing point 20, and similarly the correction amount is also uniquely determined by the position of theprocessing point 20. FIG. That is, the relationship between the scanning angle and the correction amount is calculated in advance for each position of acertain processing point 20, and thesecond mirror 17 is operated by the correction amount corresponding to the position of theprocessing point 20 during processing. It is possible to correct the deviation of themeasurement light 15 due to the chromatic aberration of magnification.

[キーホール角度の影響]
一方で、図3に示したように、倍率色収差による加工用レーザ光11および測定光15それぞれの到達位置のずれを補正した状態であっても、加工用レーザ光11の加工光軸24aと測定光15の測定光軸23bは一致しない。
[Influence of keyhole angle]
On the other hand, as shown in FIG. 3, even in a state in which the displacement of the respective arrival positions of theprocessing laser light 11 and themeasurement light 15 due to the chromatic aberration of magnification is corrected, the processingoptical axis 24a of theprocessing laser light 11 and the measurement The measurementoptical axis 23b of the light 15 does not coincide.

加工用レーザ光11の走査速度(以下、加工速度という)が遅い場合では、キーホール22の形成方向と加工用レーザ光11の加工光軸24aとが一致するため、測定光15はキーホール22の形成方向に対して斜めに入射することになる。これにより、測定光15がキーホール22の底まで到達できない場合が生じる。その結果、キーホール22の深さの測定精度が悪化する。 When the scanning speed of the processing laser beam 11 (hereinafter referred to as processing speed) is slow, the forming direction of thekeyhole 22 coincides with the processingoptical axis 24a of theprocessing laser beam 11. is obliquely incident with respect to the formation direction of . As a result, themeasurement light 15 may not reach the bottom of thekeyhole 22 . As a result, the measurement accuracy of the depth of thekeyhole 22 deteriorates.

図4に加工速度が速い場合のキーホール22の形成状態の一例を模式的に示す。加工用レーザ光11の加工光軸24aがx軸の正方向に移動している場合、キーホール22は、そのキーホール形成軸42が加工点20を起点として加工方向(x軸の正方向)に傾いた状態で形成される。このため、倍率色収差による加工用レーザ光11および測定光15それぞれの到達位置のずれを補正した状態であっても、測定光15がキーホール22の底まで到達できない場合が生じる。その結果、キーホール22の深さの測定精度が悪化する。 FIG. 4 schematically shows an example of how thekeyhole 22 is formed when the processing speed is high. When the processingoptical axis 24a of theprocessing laser beam 11 moves in the positive direction of the x-axis, thekeyhole 22 is formed so that thekeyhole forming axis 42 of theprocessing point 20 is the starting point in the processing direction (positive direction of the x-axis). formed with a tilt toward For this reason, there are cases where themeasurement light 15 cannot reach the bottom of thekeyhole 22 even when the displacement of the arrival positions of theprocessing laser light 11 and themeasurement light 15 due to the chromatic aberration of magnification is corrected. As a result, the measurement accuracy of the depth of thekeyhole 22 deteriorates.

特に、レーザ発振器5のビームモードがシングルモードである場合では、加工用レーザ光11の加工点20におけるスポット径が例えば50um以下と小さくなる。そのため、発生するキーホール22の直径も小さくなり、キーホール22のキーホール形成軸42の角度と測定光15の測定光軸23bの角度とのずれは、キーホール22の深さの測定精度を大きく悪化させる要因となる。 In particular, when the beam mode of thelaser oscillator 5 is single mode, the spot diameter of theprocessing laser beam 11 at theprocessing point 20 is small, for example, 50 μm or less. Therefore, the diameter of the generatedkeyhole 22 is also reduced, and the deviation between the angle of thekeyhole forming axis 42 of thekeyhole 22 and the angle of the measurementoptical axis 23b of themeasurement light 15 affects the measurement accuracy of the depth of thekeyhole 22. It is a factor that makes it worse.

そこで、本実施の形態では、以下に説明するように、ビームシフト機構38を動作させることにより、測定光15の測定光軸23bの角度を補正し、測定光軸23bとキーホール形成軸42とを一致させるようにした。 Therefore, in the present embodiment, as described below, thebeam shift mechanism 38 is operated to correct the angle of the measurementoptical axis 23b of themeasurement light 15, so that the measurementoptical axis 23b and thekeyhole forming axis 42 are aligned. to match.

[測定光軸の角度の補正方法]
次に、図5を用いて、測定光軸の角度の補正方法について説明する。図5は、図3に示したキーホール形成軸42および測定光15の測定光軸23bそれぞれの角度のずれを補正した状態のレーザ加工装置1を模式的に示す図である。
[How to correct the angle of the measurement optical axis]
Next, a method for correcting the angle of the measurement optical axis will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram schematically showing thelaser processing apparatus 1 in a state in which angular deviations of thekeyhole forming axis 42 and the measurementoptical axis 23b of themeasurement light 15 shown in FIG. 3 are corrected.

図5では、ビームシフト機構38を原点位置から所定の動作量(動作距離と言ってもよい)だけ動作させている。これにより、ダイクロイックミラー12からレンズ14に到るまでの間、測定光15の測定光軸23は加工用レーザ光11の加工光軸24に対して平行にシフトする。しかしながら、加工用レーザ光11および測定光15は、レンズ14を透過した後、加工面19において、同じ加工点20に到達している。 In FIG. 5, thebeam shift mechanism 38 is moved from the origin position by a predetermined amount of movement (which may be called a movement distance). As a result, the measuringoptical axis 23 of the measuringlight 15 shifts parallel to the processingoptical axis 24 of theprocessing laser light 11 from thedichroic mirror 12 to thelens 14 . However, theprocessing laser light 11 and themeasurement light 15 reach thesame processing point 20 on theprocessing surface 19 after passing through thelens 14 .

図5において、加工用レーザ光11の加工光軸24aは、図3に示した加工光軸24aと同じ位置を通っている。また、図5において、測定光軸23cは、図3に示した測定光軸23bをビームシフト機構38の動作によって補正したものである。図5に示す測定光軸23cの角度は、図3に示した測定光軸23bの角度とは異なり、キーホール22のキーホール形成軸42の角度と一致している。 In FIG. 5, the processingoptical axis 24a of theprocessing laser beam 11 passes through the same position as the processingoptical axis 24a shown in FIG. 5, the measurement optical axis 23c is obtained by correcting the measurementoptical axis 23b shown in FIG. 3 by the operation of the beam shift mechanism . The angle of the measurement optical axis 23c shown in FIG. 5 matches the angle of thekeyhole forming axis 42 of thekeyhole 22, unlike the angle of the measurementoptical axis 23b shown in FIG.

ビームシフト機構38を原点位置から動作させる所定の動作量(以下、補正移動量と記載する)は、第1ミラー13の動作量および加工速度と対応付けられている。第1ミラー13の動作量および加工速度は、加工用レーザ光11(および測定光15)を照射する加工点20の位置によって一意に決まっているため、補正移動量も、測定光15を照射する加工点20の位置によって一意に決まる。すなわち、加工点20の位置毎に走査角と補正移動量との関係を予め算出しておき、加工時において、加工点20の位置に対応する補正移動量だけビームシフト機構38を動作させることにより、図3に示したキーホール形成軸42と測定光軸23bそれぞれの角度ずれを補正することができる。 A predetermined movement amount (hereinafter referred to as a correction movement amount) for moving thebeam shift mechanism 38 from the origin position is associated with the movement amount and the processing speed of thefirst mirror 13 . Since the movement amount and processing speed of thefirst mirror 13 are uniquely determined by the position of theprocessing point 20 irradiated with the processing laser beam 11 (and the measurement light 15), the correction movement amount is also determined according to the irradiation of themeasurement light 15. It is uniquely determined by the position of theprocessing point 20 . That is, the relationship between the scanning angle and the correction movement amount is calculated in advance for each position of theprocessing point 20, and thebeam shift mechanism 38 is operated by the correction movement amount corresponding to the position of theprocessing point 20 during processing. , the angular deviation between thekeyhole forming axis 42 and the measuringoptical axis 23b shown in FIG. 3 can be corrected.

[第1の補正数表データの作成方法]
第1の補正数表データの作成方法について説明する。第1の補正数表データは、加工点20毎に走査角と補正角との対応関係を示すデータである。第1の補正数表データは、補正角の補正数表データと言ってもよい。
[Method of Creating First Correction Table Data]
A method for creating the first correction formula table data will be described. The first correction mathematical table data is data indicating the correspondence relationship between the scanning angle and the correction angle for eachprocessing point 20 . The first correction mathematical table data may be said to be correction mathematical table data of correction angles.

まず、図6を用いて、加工面19上の加工用レーザ光11および測定光15それぞれの軌跡について説明する。図6は、第2ミラー17を動作させずに第1ミラー13のみを動作させて被加工物18の表面(すなわち、加工面19)を格子状に走査した場合における、加工面19上の加工用レーザ光11および測定光15それぞれの軌跡を模式的に示す図である。図6は、加工面19をレンズ14側から見た状態を示している。 First, trajectories of theprocessing laser beam 11 and themeasurement beam 15 on theprocessing surface 19 will be described with reference to FIG. FIG. 6 shows the processing on theprocessing surface 19 when only thefirst mirror 13 is operated without operating thesecond mirror 17 to scan the surface of the workpiece 18 (that is, the processing surface 19) in a grid pattern. FIG. 2 is a diagram schematically showing trajectories oflaser light 11 for measurement andmeasurement light 15. FIG. FIG. 6 shows a state in which the processedsurface 19 is viewed from thelens 14 side.

図6では、加工用レーザ光11の軌跡である加工光軌跡28が実線で示され、測定光15の軌跡である測定光軌跡27が点線で示されている。図6に示す例では、第2ミラー17が動作していないため、倍率色収差の補正が行われていない。したがって、加工原点26付近では加工用レーザ光11および測定光15それぞれの軌跡は一致しているが、加工原点26から遠ざかるにつれて両者のずれが大きくなっている。これにより、加工光軌跡28は歪みのない格子状パターンを描く一方、測定光軌跡27は歪んだ糸巻き型の軌跡を描いている。なお、図6に示す測定光軌跡27の形状は一例であり、測定光軌跡27の歪み形状はレンズ14の光学特性によって変化しうる。 In FIG. 6, aprocessing light trajectory 28, which is the trajectory of theprocessing laser beam 11, is indicated by a solid line, and a measuringlight trajectory 27, which is the trajectory of the measuringlight 15, is indicated by a dotted line. In the example shown in FIG. 6, since thesecond mirror 17 is not operating, correction of chromatic aberration of magnification is not performed. Therefore, although the trajectories of theprocessing laser beam 11 and themeasurement light 15 match each other near theprocessing origin 26 , the deviation between the two increases as the distance from theprocessing origin 26 increases. As a result, theprocessing light trajectory 28 draws a grid-like pattern without distortion, while themeasurement light trajectory 27 draws a distorted pincushion-shaped trajectory. Note that the shape of themeasurement light locus 27 shown in FIG. 6 is an example, and the distortion shape of themeasurement light locus 27 may change depending on the optical characteristics of thelens 14 .

また、加工光軌跡28および測定光軌跡27それぞれに対応する位置のずれ量も同様にレンズ14の光学特性や光学設計に依存する。一般的な例としては、焦点距離が250mmであり、加工面領域が直径200mm程度である市販のfθレンズでは、加工面領域の最外周付近において0.2mmから0.4mmのずれが生じる。 Similarly, the amount of positional deviation corresponding to each of theprocessing light locus 28 and themeasurement light locus 27 also depends on the optical characteristics and optical design of thelens 14 . As a general example, in a commercially available fθ lens having a focal length of 250 mm and a processed surface area with a diameter of about 200 mm, a deviation of 0.2 mm to 0.4 mm occurs near the outermost periphery of the processed surface area.

それに対して、加工用レーザ光11を加工点20に照射することで生成されるキーホール22(例えば、図1参照)の直径は、加工用レーザ光のパワーや品質にも依るが、おおむね0.03mmから0.2mmと小さい。このことから、レンズ14の色収差により生じる加工用レーザ光11と測定光15との位置ずれによって、キーホール22の底面に測定光15が到達せず、正しい溶け込み深さが測定できなくなる。 On the other hand, the diameter of the keyhole 22 (see, for example, FIG. 1) generated by irradiating theprocessing laser beam 11 to theprocessing point 20 is approximately 0, although it depends on the power and quality of the processing laser beam. .03mm to 0.2mm. As a result, themeasurement light 15 does not reach the bottom surface of thekeyhole 22 due to the positional deviation between theprocessing laser light 11 and themeasurement light 15 caused by the chromatic aberration of thelens 14, making it impossible to measure the correct penetration depth.

なお、図6では一例として、等間隔の4×4マスの格子状パターンを図示しているが、本開示はこれに限定されない。走査のための格子状パターンは、より細かいマス数の格子に設定されたり、fθレンズの倍率色収差特性に関連して特に精度の必要な領域の格子間隔を狭くされたりしてもよい。また、放射状の格子状パターンが設定されてもよい。ただし、本実施の形態では、補正角はx軸およびy軸の2軸で設定されるため、図6に示した直交格子状のパターンがより好適である。 Note that FIG. 6 illustrates a grid pattern of 4×4 squares at regular intervals as an example, but the present disclosure is not limited to this. The grid-like pattern for scanning may be set to a grid with a finer number of cells, or the grid spacing may be narrowed in a region that particularly requires precision in relation to the chromatic aberration of magnification characteristic of the fθ lens. Also, a radial lattice pattern may be set. However, in this embodiment, since the correction angle is set along the two axes of the x-axis and the y-axis, the orthogonal lattice pattern shown in FIG. 6 is more suitable.

図6に示す加工光軌跡28と測定光軌跡27とを比較すると、格子状パターンの対応する各格子点においてずれが生じていることが分かる。 Comparing theprocessing light trajectory 28 and themeasurement light trajectory 27 shown in FIG. 6 reveals that there is a deviation at each corresponding grid point of the grid pattern.

補正数表データを作成するためには、加工光軌跡28上のある1つの格子点である加工光格子点30と、測定光軌跡27の対応する測定光格子点29とが一致するように補正量を決定する必要がある。 In order to create the correction formula data, correction is made so that the processinglight grid point 30, which is one grid point on theprocessing light locus 28, and the corresponding measurementlight grid point 29 on themeasurement light locus 27 match. Amount needs to be determined.

次に、第1の補正数表データの作成方法の流れについて説明する。 Next, the flow of the method for creating the first correction formula table data will be described.

まず、図7を用いて、第1の補正数表データの作成方法の第1の例について説明する。図7は、第1の補正数表データの作成方法の第1の例を示すフローチャートである。 First, with reference to FIG. 7, a first example of a method for creating first correction formula table data will be described. FIG. 7 is a flow chart showing a first example of a method for creating the first correction formula table data.

ステップS1において、制御部6は、被加工物18の加工面19に対して、レーザ加工を行う範囲である格子状パターン(例えば、図6に示した加工光軌跡28)を設定する。また、制御部6は、格子状パターンに含まれる複数の格子点のうち、1つの格子点を選定する。 In step S<b>1 , thecontrol unit 6 sets a lattice pattern (for example, theprocessing light trajectory 28 shown in FIG. 6 ), which is the range of laser processing, on theprocessing surface 19 of theworkpiece 18 . Also, thecontrol unit 6 selects one lattice point from among the plurality of lattice points included in the lattice pattern.

ステップS2において、制御部6は、選定された格子点に2次元ビームプロファイラ(図示せず)を設置する。このとき、2次元ビームプロファイラの検出面の高さ位置は、加工面19と一致するように設置される。 At step S2, thecontrol unit 6 installs a two-dimensional beam profiler (not shown) at the selected grid point. At this time, the height position of the detection surface of the two-dimensional beam profiler is set so as to match theprocessing surface 19 .

ステップS3において、制御部6は、選定された格子点に加工用レーザ光11が到達するように第1ミラー13の走査角を設定する。 In step S3, thecontroller 6 sets the scanning angle of thefirst mirror 13 so that theprocessing laser beam 11 reaches the selected grid point.

ステップS4において、制御部6は、加工用レーザ光11を照射させ、2次元ビームプロファイラを用いて、実際に加工用レーザ光11が加工面19に到達した位置(以下、加工用レーザ光11の到達位置という)を求める。 In step S4, thecontrol unit 6 irradiates theprocessing laser beam 11, and uses a two-dimensional beam profiler to determine the position where theprocessing laser beam 11 actually reaches the processing surface 19 (hereinafter referred to as the position of the processing laser beam 11). (referred to as the arrival position).

ステップS5において、制御部6は、測定光15を照射させ、2次元ビームプロファイラを用いて、実際に測定光15が加工面19に到達した位置(以下、測定光15の到達位置という)を求める。 In step S5, thecontrol unit 6 irradiates themeasurement light 15, and uses the two-dimensional beam profiler to obtain the position where themeasurement light 15 actually reaches the processing surface 19 (hereinafter referred to as the arrival position of the measurement light 15). .

ステップS6において、制御部6は、加工用レーザ光11の到達位置と測定光15の到達位置とが一致するように、2次元ビームプロファイラの測定結果を参照しながら、第2ミラー17の補正角を設定する。 In step S6, thecontroller 6 adjusts the correction angle of thesecond mirror 17 while referring to the measurement result of the two-dimensional beam profiler so that the arrival position of theprocessing laser beam 11 and the arrival position of themeasurement light 15 match. set.

ステップS7において、制御部6は、ステップS3で設定した走査角と、ステップS6で設定した補正角とを、補正数表データとしてメモリ31に保存する。 In step S7, thecontroller 6 stores the scanning angle set in step S3 and the correction angle set in step S6 in thememory 31 as correction formula table data.

ステップS8において、制御部6は、格子状パターンのすべての格子点において補正数表データを保存したか否かを判定する。すべての格子点において補正数表データを保存した場合(ステップS8:YES)、フローは、終了する。一方、すべての格子点において補正数表データを保存していない場合(ステップS8:NO)、フローは、ステップS9へ進む。 In step S8, thecontrol section 6 determines whether or not the correction formula table data has been saved at all grid points of the grid pattern. If the correction formula table data has been saved at all grid points (step S8: YES), the flow ends. On the other hand, if correction formula table data has not been saved at all grid points (step S8: NO), the flow proceeds to step S9.

ステップS9において、制御部6は、新たな格子点(すなわち、補正数表データの保存が行われていない格子点)を1つ選定する。その後、フローは、ステップS2に戻る。 In step S9, thecontrol unit 6 selects one new grid point (that is, a grid point for which correction formula table data has not been saved). After that, the flow returns to step S2.

以上、第1の補正数表データの作成方法の第1の例について説明した。 The first example of the method for creating the first correction table data has been described above.

次に、図8を用いて、第1の補正数表データの作成方法の第2の例について説明する。図8は、第1の補正数表データの作成方法の第2の例を示すフローチャートである。 Next, with reference to FIG. 8, a second example of the method for creating the first correction formula table data will be described. FIG. 8 is a flow chart showing a second example of the method of creating the first correction formula table data.

本例では、仮の被加工物として、例えば金属の平板(以下、金属板という)が用いられる。 In this example, for example, a metal flat plate (hereinafter referred to as a metal plate) is used as the temporary workpiece.

ステップS11において、制御部6は、金属板の加工面19に対して、レーザ加工を行う範囲である格子状パターン(例えば、図6に示した加工光軌跡28)を設定する。また、制御部6は、格子状パターンに含まれる複数の格子点のうち、1つの格子点を選定する。 In step S11, thecontrol unit 6 sets a grid pattern (for example, theprocessing light trajectory 28 shown in FIG. 6), which is the range of laser processing, on theprocessing surface 19 of the metal plate. Also, thecontrol unit 6 selects one lattice point from among the plurality of lattice points included in the lattice pattern.

ステップS12において、制御部6は、選定された格子点に加工用レーザ光11が到達するように第1ミラー13の走査角を設定する。 In step S12, thecontroller 6 sets the scanning angle of thefirst mirror 13 so that theprocessing laser beam 11 reaches the selected grid point.

ステップS13において、制御部6は、選定された格子点に対して加工用レーザ光11を照射させ、金属板の表面に微小穴を開ける。このとき、加工用レーザ光11の出力強度および照射時間は、金属板を貫通しないように調整される。また、ここで形成される微小穴の直径は、光干渉計3の計測分解能に比べて2~3倍程度であることが好ましい。 In step S13, thecontrol unit 6 irradiates the selected grid points with theprocessing laser beam 11 to form micro holes in the surface of the metal plate. At this time, the output intensity and irradiation time of theprocessing laser beam 11 are adjusted so as not to penetrate the metal plate. Also, the diameter of the microholes formed here is preferably about two to three times as large as the measurement resolution of theoptical interferometer 3 .

ステップS14において、制御部6は、形成された微小穴の形状の測定を光干渉計3に実行させる。この際、第2ミラー17を原点位置からある程度動作させて測定光15を走査することにより、微小穴近傍の3次元的な形状を測定することができる。 In step S14, thecontroller 6 causes theoptical interferometer 3 to measure the shape of the formed minute hole. At this time, by moving thesecond mirror 17 from the origin position to some extent and scanning themeasurement light 15, the three-dimensional shape in the vicinity of the minute hole can be measured.

ステップS15において、制御部6は、ステップS14で測定された結果を示すデータを用いて、測定光15を微小穴の最深部に到達させることができる第2ミラー17の補正角を求める。 In step S15, thecontrol unit 6 uses the data indicating the result of the measurement in step S14 to determine the corrected angle of thesecond mirror 17 that allows themeasurement light 15 to reach the deepest part of the minute hole.

ステップS16において、制御部6は、ステップS12で設定した走査角と、ステップS15で求めた補正角とを、補正数表データとしてメモリ31に保存する。 In step S16, thecontroller 6 stores the scanning angle set in step S12 and the correction angle obtained in step S15 in thememory 31 as correction formula table data.

ステップS17において、制御部6は、格子状パターンのすべての格子点において補正数表データを保存したか否かを判定する。すべての格子点において補正数表データを保存した場合(ステップS17:YES)、フローは、終了する。一方、すべての格子点において補正数表データを保存していない場合(ステップS17:NO)、フローは、ステップS18へ進む。 In step S17, thecontrol unit 6 determines whether or not the correction formula table data has been saved at all grid points of the grid pattern. If the correction formula table data has been saved at all grid points (step S17: YES), the flow ends. On the other hand, if correction formula table data has not been saved at all grid points (step S17: NO), the flow proceeds to step S18.

ステップS18において、制御部6は、新たな格子点(すなわち、補正数表データの保存が行われていない格子点)を1つ選定する。その後、フローは、ステップS12に戻る。 In step S18, thecontrol unit 6 selects one new grid point (that is, a grid point for which correction formula table data has not been saved). After that, the flow returns to step S12.

以上、第1の補正数表データの作成方法の第2の例について説明した。 The second example of the method for creating the first correction table data has been described above.

以上説明した第1の例または第2の例により、第1の補正数表データが得られる。なお、ステップS1またはステップS11設定される格子状パターンが図6に示した4×4の格子状パターンである場合では、16個の格子点における補正数表データしか作成できない。そこで、格子点を16個以上含む格子状パターンを設定することにより、より多くの補正数表データを作成することが好ましい。 The first correction table data is obtained by the first example or the second example described above. If the lattice pattern set in step S1 or step S11 is the 4×4 lattice pattern shown in FIG. 6, only 16 lattice points can be used to create correction mathematical table data. Therefore, it is preferable to create more correction table data by setting a lattice pattern including 16 or more lattice points.

ただし、多くの補正数表データを作成したとしても、第1ミラー13の走査角は機構上の動作範囲内であればどのような値でも設定することができるため、走査角が補正数表データと一致しない場合が生じうる。このような場合には、補正数表データを補間して補正角を求める必要がある。この補正数表データを補間して補正角を求める方法については、後述する。 However, even if many correction formula table data are created, the scanning angle of thefirst mirror 13 can be set to any value as long as it is within the mechanical operating range. may not match. In such a case, it is necessary to obtain the correction angle by interpolating the correction mathematical table data. A method of interpolating this correction formula table data to obtain a correction angle will be described later.

[第2の補正数表データの作成方法]
第2の補正数表データの作成方法について説明する。第2の補正数表データは、走査角と補正移動量との対応関係を示すデータである。補正移動量は、上述したとおり、加工点20の位置(以下、加工位置という)および加工速度に対応している。
[Method of Creating Second Correction Table Data]
A method of creating the second correction formula table data will be described. The second correction mathematical table data is data indicating the correspondence relationship between the scanning angle and the correction movement amount. As described above, the correction movement amount corresponds to the position of the machining point 20 (hereinafter referred to as machining position) and machining speed.

第2の補正数表データの作成は、上述した第1の補正数表データの作成後に行われる。また、第2の補正数表データは、加工位置と加工速度とに分けて作成される。以下、加工位置に関する補正移動量を「位置補正移動量」といい、加工速度に関する補正移動量を「速度補正移動量」という。本実施の形態では、第2の補正数表データとして、位置補正移動量の補正数表データおよび速度補正移動量の補正数表データが作成される。 The creation of the second correction mathematical table data is performed after the creation of the first correction mathematical table data described above. Also, the second correction mathematical table data is created separately for the machining position and the machining speed. Hereinafter, the corrected movement amount regarding the machining position will be referred to as "position correction movement amount", and the correction movement amount regarding the machining speed will be referred to as "speed correction movement amount". In this embodiment, as the second correction mathematical table data, the correction mathematical table data for the position correction movement amount and the correction mathematical table data for the speed correction movement amount are created.

まず、図9を用いて、位置補正移動量の補正数表データを作成する方法の流れについて説明する。図9は、位置補正移動量の補正数表データを作成する方法の例を説明するフローチャートである。 First, with reference to FIG. 9, the flow of the method for creating correction mathematical table data for the amount of position correction movement will be described. FIG. 9 is a flow chart for explaining an example of a method for creating correction mathematical table data for position correction movement amounts.

本例では、仮の被加工物として、例えば金属の平板(以下、金属板という)が用いられる。 In this example, for example, a metal flat plate (hereinafter referred to as a metal plate) is used as the temporary workpiece.

ステップS21において、制御部6は、金属板の加工面19に対して、レーザ加工を行う範囲である格子状パターン(例えば、図6に示した加工光軌跡28)を設定する。また、制御部6は、格子状パターンに含まれる複数の格子点のうち、1つの格子点を選定する。 In step S21, thecontrol unit 6 sets a lattice pattern (for example, theprocessing light trajectory 28 shown in FIG. 6), which is the range of laser processing, on theprocessing surface 19 of the metal plate. Also, thecontrol unit 6 selects one lattice point from among the plurality of lattice points included in the lattice pattern.

ステップS22において、制御部6は、選定された格子点に加工用レーザ光11が到達するように第1ミラー13の走査角を設定する。 In step S22, thecontroller 6 sets the scanning angle of thefirst mirror 13 so that theprocessing laser beam 11 reaches the selected grid point.

ステップS23において、制御部6は、選定された格子点に測定光15が到達するように第2ミラー17の補正角を設定する。ここでの補正角は、上述した第1の補正数表データとして保存された値である。 In step S23, thecontroller 6 sets the correction angle of thesecond mirror 17 so that themeasurement light 15 reaches the selected grid point. The correction angle here is a value stored as the above-described first correction mathematical table data.

ステップS24において、制御部6は、選定された格子点に対して加工用レーザ光11を照射させ、金属板の表面に微小穴を開ける。このとき、加工用レーザ光11の出力強度および照射時間は、金属板を貫通しないように調整される。また、ここで形成される微小穴の直径は、光干渉計3の計測分解能に比べて2~3倍程度であることが好ましい。 In step S24, thecontrol unit 6 irradiates the selected lattice points with theprocessing laser beam 11 to form minute holes in the surface of the metal plate. At this time, the output intensity and irradiation time of theprocessing laser beam 11 are adjusted so as not to penetrate the metal plate. Also, the diameter of the microholes formed here is preferably about two to three times as large as the measurement resolution of theoptical interferometer 3 .

ステップS25において、制御部6は、ビームシフト機構38に測定光軸23の角度を走査させ、キーホール22の深さの測定値が最大になる位置補正移動量を求める。 In step S25, thecontrol unit 6 causes thebeam shift mechanism 38 to scan the angle of the measurementoptical axis 23, and obtains the position correction movement amount that maximizes the measured value of the depth of thekeyhole 22. FIG.

ステップS26において、制御部6は、ステップS22で設定した走査角と、ステップS25で求めた位置補正移動量とを、補正数表データとしてメモリ31に保存する。 In step S26, thecontrol unit 6 stores the scanning angle set in step S22 and the position correction movement amount obtained in step S25 in thememory 31 as correction mathematical table data.

ステップS27において、制御部6は、格子状パターンのすべての格子点において補正数表データを保存したか否かを判定する。すべての格子点において補正数表データを保存した場合(ステップS27:YES)、フローは、終了する。一方、すべての格子点において補正数表データを保存していない場合(ステップS27:NO)、フローは、ステップS28へ進む。 In step S27, thecontrol unit 6 determines whether or not the correction formula table data has been saved at all grid points of the grid pattern. If the correction formula table data has been saved at all grid points (step S27: YES), the flow ends. On the other hand, if correction formula table data has not been saved at all grid points (step S27: NO), the flow proceeds to step S28.

ステップS28において、制御部6は、新たな格子点(すなわち、補正数表データの保存が行われていない格子点)を1つ選定する。その後、フローは、ステップS22に戻る。 In step S28, thecontrol unit 6 selects one new grid point (that is, a grid point for which correction formula table data has not been saved). After that, the flow returns to step S22.

上述した方法により、位置補正移動量の補正数表データが得られる。なお、ステップS21で設定される格子状パターンは、上述した第1の補正数表データの作成方法で設定される格子状パターンと同じである。よって、走査角が補正数表データと一致しない場合には、上記第1の補正数表データの作成方法での説明と同様の方法により、補正数表データを補間して位置補正移動量を求めることができる。 By the method described above, the correction mathematical table data of the position correction movement amount is obtained. Note that the lattice pattern set in step S21 is the same as the lattice pattern set in the above-described method for creating the first correction formula table data. Therefore, when the scanning angle does not match the correction mathematical table data, the correction mathematical table data is interpolated by the same method as described in the first correction mathematical table data creation method to obtain the position correction movement amount. be able to.

また、本実施の形態では、位置補正移動量の補正数表データと第1の補正数表データ(補正角の補正数表データ)とを合わせて、加工位置の補正数表として設定されている。 Further, in the present embodiment, the correction mathematical table data of the position correction movement amount and the first correction mathematical table data (correction numerical table data of the correction angle) are combined and set as the correction mathematical table of the machining position. .

次に、図10を用いて、速度補正移動量の補正数表データを作成する方法の流れについて説明する。図10は、位置補正移動量の補正数表データを作成する方法の例を説明するフローチャートである。 Next, with reference to FIG. 10, the flow of the method for creating the correction formula table data for the speed correction movement amount will be described. FIG. 10 is a flowchart for explaining an example of a method for creating correction mathematical table data for position correction movement amounts.

本例では、仮の被加工物として、金属板が用いられる。 In this example, a metal plate is used as the temporary workpiece.

ステップS31において、制御部6は、加工原点26(図2、図3参照)を含んだ走査ラインを通る第1ミラーの走査角と第2ミラーの補正角とを設定する。例えば、走査ラインとしては、加工原点26を通るx軸上のラインを用い、走査角と補正角としては、第1の補正数表データとして保存された値を用いる。 In step S31, thecontroller 6 sets the scanning angle of the first mirror and the correction angle of the second mirror passing through the scanning line including the processing origin 26 (see FIGS. 2 and 3). For example, a line on the x-axis passing through theprocessing origin 26 is used as the scanning line, and the values stored as the first correction mathematical table data are used as the scanning angle and the correction angle.

ステップS32において、制御部6は、加工速度の範囲を設定する。例えば、制御部6は、被加工物18を加工するための加工データに含まれる加工速度の最大値から最小値までを加工速度の範囲に設定する。 In step S32, thecontrol unit 6 sets the range of machining speed. For example, thecontrol unit 6 sets the machining speed range from the maximum value to the minimum value of the machining speed included in the machining data for machining theworkpiece 18 .

ステップS33において、制御部6は、補正移動量の範囲を設定する。例えば、制御部6は、加工点20へ入射する測定光15の測定光軸23の角度が走査方向に±10degとなる範囲を補正移動量の範囲に設定する。 In step S33, thecontrol section 6 sets the range of the correction movement amount. For example, thecontrol unit 6 sets a range in which the angle of the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 incident on theprocessing point 20 is ±10 degrees in the scanning direction as the range of the correction movement amount.

ステップS34において、制御部6は、加工速度の初期値を設定する。例えば、加工速度の初期値としては、加工速度の範囲の最小値が設定される。 In step S34, thecontroller 6 sets the initial value of the machining speed. For example, as the initial value of the machining speed, the minimum value of the machining speed range is set.

ステップS35において、制御部6は、補正移動量の初期値を設定する。例えば、補正移動量の初期値としては、補正移動量の範囲の最小値が設定される。 In step S35, thecontroller 6 sets the initial value of the correction movement amount. For example, as the initial value of the amount of correction movement, the minimum value of the range of the amount of correction movement is set.

ステップS36において、制御部6は、設定した加工速度の加工用レーザ光11および測定光15により走査ライン上を同時に走査し、キーホール22の深さを測定する。 In step S36, thecontrol unit 6 simultaneously scans the scanning line with theprocessing laser beam 11 and themeasurement light 15 at the set processing speed, and measures the depth of thekeyhole 22. FIG.

ステップS37において、制御部6は、ステップS36で測定したキーホール22の深さのうち、加工原点26の位置のキーホール22の深さを記録する。 In step S37, thecontrol unit 6 records the depth of thekeyhole 22 at the position of themachining origin 26 among the depths of thekeyhole 22 measured in step S36.

ステップS38において、制御部6は、ステップS33で設定した補正移動量の範囲に含まれる全ての値に対応するデータを取得したか否かを判定する。ここでいうデータとは、加工原点26の位置のキーホール22の深さを示すデータである。 In step S38, thecontrol unit 6 determines whether data corresponding to all values included in the range of the correction movement amount set in step S33 have been acquired. The data here is data indicating the depth of thekeyhole 22 at the position of themachining origin 26 .

補正移動量の範囲の全ての値に対応するデータを取得した場合(ステップS38:YES)、フローは、ステップS310へ進む。一方、補正移動量の範囲の全ての値に対応するデータを取得していない場合(ステップS38:NO)、フローは、ステップS39へ進む。 If data corresponding to all values in the range of the correction movement amount have been acquired (step S38: YES), the flow proceeds to step S310. On the other hand, if data corresponding to all values in the range of the correction movement amount have not been acquired (step S38: NO), the flow proceeds to step S39.

ステップS39において、制御部6は、別の補正移動量を設定する。その後、フローは、ステップS36に戻る。 In step S39, thecontroller 6 sets another correction movement amount. After that, the flow returns to step S36.

ステップS310において、制御部6は、ステップS37で記録されたキーホール22の深さに基づいて、キーホール22の深さが最大になる補正移動量を求める。 In step S310, thecontrol unit 6 obtains the correction movement amount that maximizes the depth of thekeyhole 22 based on the depth of thekeyhole 22 recorded in step S37.

ステップS311において、制御部6は、現在の加工速度と、ステップS310で求めたキーホール22の深さが最大になる補正移動量とを、速度補正移動量の補正数表データとしてメモリ31に保存する。 In step S311, thecontrol unit 6 stores the current machining speed and the correction movement amount that maximizes the depth of thekeyhole 22 obtained in step S310 in thememory 31 as correction mathematical table data for the speed correction movement amount. do.

ステップS312において、制御部6は、ステップS32で設定した加工速度の範囲に含まれる全ての値に対応するデータを取得したか否かを判定する。ここでいうデータとは、現在の加工速度およびキーホール22の深さが最大になる補正移動量を示す補正数表データである。 In step S312, thecontrol unit 6 determines whether or not data corresponding to all values within the machining speed range set in step S32 have been obtained. The data referred to here is correction numerical table data indicating the current machining speed and the correction movement amount that maximizes the depth of thekeyhole 22 .

加工速度の範囲に含まれる全ての値に対応するデータを取得した場合(ステップS312:YES)、フローは、終了する。一方、加工速度の範囲に含まれる全ての値に対応するデータを取得していない場合(ステップS312:NO)、フローは、ステップS313へ進む。 If the data corresponding to all the values included in the machining speed range have been obtained (step S312: YES), the flow ends. On the other hand, if data corresponding to all values included in the machining speed range have not been acquired (step S312: NO), the flow proceeds to step S313.

ステップS313において、制御部6は、別の加工速度を設定する。その後、フローは、ステップS35に戻る。 In step S313, thecontroller 6 sets another machining speed. After that, the flow returns to step S35.

上述した方法により、速度補正移動量の補正数表データが得られる。 By the method described above, the correction formula table data of the speed correction movement amount is obtained.

図11に速度補正移動量の補正数表データの一例を示す。図11に示すように、速度補正移動量の補正数表データでは、加工速度Vとm速度補正移動量|DVk|とが対応付けられている。図11において、速度補正移動量|DVk|は、走査方向の傾きの大きさとして記録されている。FIG. 11 shows an example of correction mathematical table data of the speed correction movement amount. As shown in FIG. 11, in the correction mathematical table data of the speed correction movement amount, the machining speed Vk and the m speed correction movement amount |DVk | are associated with each other. In FIG. 11, the velocity correction movement amount |DVk | is recorded as the magnitude of the tilt in the scanning direction.

なお、本実施の形態においては、図11に示した速度補正移動量の補正数表データは、加工速度の補正数表として用いられる(後述の図17参照)。 In this embodiment, the correction formula table data for the speed correction movement amount shown in FIG. 11 is used as the correction formula table for the machining speed (see FIG. 17 described later).

[加工データの作成方法]
次に、被加工物18を加工するための加工データの作成方法について説明する。
[How to create processing data]
Next, a method of creating machining data for machining theworkpiece 18 will be described.

従来、fθレンズおよびガルバノミラーを有するレーザ加工装置では、制御部が、時系列に設定された複数の加工データ(例えば、レーザ発振器への出力指示値と、走査角および加工速度のデータ項目とが加工点毎にセットになったデータ)を用いてレーザ発振器およびガルバノミラーを制御していた。これにより、被加工物の表面の各加工点に対して時系列で加工が行われていた。 Conventionally, in a laser processing apparatus having an fθ lens and a galvanomirror, a plurality of processing data set in time series (for example, an output instruction value to a laser oscillator, a scanning angle, and a processing speed data item) are set by a control unit. A set of data for each processing point) was used to control the laser oscillator and galvanomirror. As a result, each machining point on the surface of the workpiece is machined in time series.

本実施の形態では、レーザ加工装置1が用いる加工データのデータ項目として、レーザ発振器5への出力指示値(レーザ出力データともいう)、加工点20の位置(加工点位置ともいう)、加工速度、走査角のほか、補正角、補正移動量が加えられる。以下の説明では、このように補正角および補正移動量がデータ項目として加えられた加工データを「補正済み加工データ」と記載する。 In the present embodiment, data items of the processing data used by thelaser processing apparatus 1 include an output instruction value to the laser oscillator 5 (also referred to as laser output data), the position of the processing point 20 (also referred to as the processing point position), and the processing speed. , a scanning angle, a correction angle, and a correction movement amount are added. In the following description, the processing data to which the corrected angle and the corrected movement amount are added as data items in this way will be referred to as "corrected processing data".

ここで、図12を用いて、補正済み加工データの一例について説明する。図12は、補正済み加工データの構成の一例を示す図である。 Here, an example of corrected processed data will be described with reference to FIG. 12 . FIG. 12 is a diagram showing an example of the configuration of corrected processing data.

図12に示すように、補正済み加工データは、一組のデータ項目として、データ番号k、レーザ出力データLk、加工点位置x、加工点位置y、加工速度V、走査角φx、走査角φy、補正角ψx、補正角ψy、補正移動量Dx、補正移動量Dyを含む。As shown in FIG. 12, the corrected machining data includes data number k, laser output data Lk, machining point positionxk , machining point positionyk , machining speedVk , scanning angleφxk as a set of data items. , scanning angle φyk , correction angle φxk , correction angle φyk , correction movement amount Dxk , and correction movement amount Dyk .

データ番号kは、加工データの順番を示す。レーザ出力データLは、レーザ発振機5への出力指示値を示す。加工点位置xは、x方向の加工点20の位置を示す。加工点位置yは、y方向の加工点20の位置を示す。加工速度Vは、加工用レーザ光11の走査速度を示す。走査角φxは、x方向の走査を担う第1ミラー13の走査角を示す。走査角φyは、y方向の走査を担う第1ミラー13の走査角を示す。補正角ψxは、x方向の測定光15の位置の補正を担う第2ミラー17の補正角を示す。補正角ψyは、y方向の測定光15の位置の補正を担う第2ミラー17の補正角を示す。The data number k indicates the order of processed data. Laser output dataLk indicates an output instruction value to thelaser oscillator 5 . The machining point positionxk indicates the position of themachining point 20 in the x direction. The machining point positionyk indicates the position of themachining point 20 in the y direction. The processing speedVk indicates the scanning speed of theprocessing laser beam 11 . A scanning angleφxk indicates a scanning angle of thefirst mirror 13 that performs scanning in the x direction. A scanning angleφyk indicates a scanning angle of thefirst mirror 13 that performs scanning in the y direction. The correction angle ψxk indicates the correction angle of thesecond mirror 17 responsible for correcting the position of themeasuring beam 15 in the x direction. The correction angleψyk indicates the correction angle of thesecond mirror 17 responsible for correcting the position of themeasuring beam 15 in the y direction.

なお、図12においてデータ番号k以外の各データ項目に付された添え字kは、データ番号k番目に対応するデータ項目であることを表している。補正済み加工データにおける走査角は、「第1指示値」の一例である。また、補正済み加工データにおける補正角は、「第2指示値」の一例である。また、補正済み加工データにおける補正移動量は、「第3指示値」の一例である。 In FIG. 12, the suffix k attached to each data item other than the data number k indicates that it is the data item corresponding to the data number k-th. The scanning angle in the corrected processed data is an example of the "first indicated value". Also, the corrected angle in the corrected processed data is an example of the "second indicated value". Further, the corrected movement amount in the corrected processed data is an example of the "third indicated value".

以上、補正済み加工データの一例について説明した。 An example of corrected processed data has been described above.

次に、図13を用いて、加工データの作成方法の流れについて説明する。図13は、加工データの作成方法を示すフローチャートである。 Next, with reference to FIG. 13, the flow of the process data creation method will be described. FIG. 13 is a flow chart showing a method of creating processing data.

ステップS41において、制御部6は、参照するデータ番号kをゼロに設定する。データ番号kは、メモリ31内の加工データが保存されている領域に付されている。 In step S41, thecontrol section 6 sets the data number k to be referred to to zero. A data number k is assigned to an area in thememory 31 in which processed data is stored.

ステップS42において、制御部6は、メモリ31内のデータ番号kの領域(メモリ位置と言ってもよい)に、レーザ出力データL、加工点位置x、y、加工速度Vを設定(保存と言ってもよい)する。これらの値は、所望のレーザ加工を実現するために、レーザ加工装置1のユーザが、図示しない操作部(例えば、キーボード、マウス、タッチパネル等)を用いて設定する設定値である。In step S42, thecontrol unit 6 sets the laser output data Lk , the processing point positions xk , yk , and the processing speed Vk in the area of the data number k in the memory 31 (which may be called a memory location). (You can say save). These values are set values set by the user of thelaser processing apparatus 1 using an operation unit (for example, keyboard, mouse, touch panel, etc.) (not shown) in order to achieve desired laser processing.

ステップS43において、制御部6は、ステップS42で設定した加工点位置x、yに基づいて第1ミラー13の走査角φx,φyを算出し、その走査角φx,φyをメモリ31内のデータ番号kの領域に保存する。レンズ14の焦点距離がfであるとき、加工点位置と走査角との間には(x,y)=(2f・φx,2f・φy)の関係があるので、加工点位置から走査角は自動的に決定される。なお、加工点位置と走査角の関係式や対応数表等が予めユーザによって設定されていてもよい。その場合、制御部6は、加工点位置と走査角関係式や対応数表等を用いて第1ミラー13の走査角φx,φyを決定してもよい。In step S43,thecontrol unit 6 calculates the scanning angles φxk,φyk of thefirst mirror 13 based on the processing point positionsxk ,yk set in step S42, and calculates the scanning anglesφxk ,φyk as It is saved in the area of data number k in thememory 31 . When the focal length of thelens 14 is f, there is a relation of (xk , yk )=(2f·φxk , 2f·φyk ) between the processing point position and the scanning angle. The scan angle is automatically determined from It should be noted that the relational expression between the processing point position and the scanning angle, the correspondence table, and the like may be set in advance by the user. In that case, thecontrol unit 6 may determine the scanning angles φxk and φyk of thefirst mirror 13 using the processing point position, the scanning angle relational expression, the correspondence table, or the like.

ステップS44において、制御部6は、全てのデータ番号kについて加工データの設定が完了したか否かを判定する。全てのデータ番号kについて加工データの設定が完了した場合(ステップS44:YES)、フローは、終了する。一方、全てのデータ番号kについて加工データの設定が完了していない場合(ステップS44:NO)、フローは、ステップS45へ進む。 In step S44, thecontrol unit 6 determines whether or not setting of processing data has been completed for all data numbers k. If the processing data setting is completed for all data numbers k (step S44: YES), the flow ends. On the other hand, if setting of processing data has not been completed for all data numbers k (step S44: NO), the flow proceeds to step S45.

ステップS45において、参照するデータ番号kを1つ増加させる。その後、フローは、ステップS42へ戻る。 In step S45, the data number k to be referred to is incremented by one. After that, the flow returns to step S42.

以上のフローにより、全てのデータ番号kについて加工データが設定される。 Through the above flow, processing data is set for all data numbers k.

[補正角の設定方法]
次に、図13のフローにより設定された各加工データに対して、加工点位置毎の補正角を設定する方法について説明する。
[How to set the correction angle]
Next, a method of setting a correction angle for each machining point position for each machining data set according to the flow of FIG. 13 will be described.

まず、図14を用いて、加工位置の補正数表データの構成について説明する。図14は、加工位置の補正数表データの構成を模式的に表した加工位置の補正数表34を示す図である。 First, with reference to FIG. 14, the configuration of correction mathematical table data for machining positions will be described. FIG. 14 is a diagram showing a processing position correction formula table 34 schematically showing the configuration of processing position correction formula table data.

図14は、加工面19における格子点毎に設定された補正済み加工データを、データ点32として模式的に示している。補正済み加工データであるデータ点32は、それぞれ、上述したとおり、加工面19上の位置(すなわち、加工点位置)、走査角、補正角、および位置補正移動量を含んでいる。補正データ点33は、加工面19上の加工原点26に対応する点である。 FIG. 14 schematically shows corrected machining data set for each lattice point on themachining surface 19 as data points 32 . Data points 32, which are corrected machining data, each include a position on machining surface 19 (that is, a machining point position), a scanning angle, a correction angle, and a position correction movement amount, as described above. Acorrection data point 33 is a point corresponding to theprocessing origin 26 on theprocessing surface 19 .

以下の説明では、加工位置の補正数表34の各データ点32の位置を、便宜上、走査角(φx,φy)で示すこととする。走査角φxに対応する方向のデータ番号をiとし、走査角φyに対応する方向のデータ番号をjとする。各データ点32は、補正数表用走査角(Φxi,Φy)と、補正数表用補正角(Ψxij,Ψyij)と、補正数表用位置補正移動量(Dpxij,Dpyij)との組である(Φxi,Φy,Ψxij,Ψyij,Dpxij,Dpyij)を保持している。補正数表用走査角(Φxi,Φy)は、走査角(φx,φy)の要素を持つ。In the following description, the position of eachdata point 32 in the processing position correction table 34 is indicated by scanning angles (φx, φy) for convenience. Let i be the data number in the direction corresponding to the scanning angle φx, and let j be the data number in the direction corresponding to the scanning angle φy. Eachdata point 32 corresponds to a correction formula table scanning angle (Φxi , Φyj ), a correction formula table correction angle (Ψxij , Ψyij ), and a correction formula table position correction movement amount (Dpxij , Dpyij ) and (Φxi , Φyj , ψxij , ψyij , Dpxij , Dpyij ). The scan angles (Φxi , Φyj ) for the correction formula table have elements of the scan angles (φx, φy).

次に、図15を用いて、補正角の設定方法の流れについて説明する。図15は、補正角の設定方法を示すフローチャートである。 Next, the flow of the correction angle setting method will be described with reference to FIG. FIG. 15 is a flow chart showing a method of setting the correction angle.

ステップS51において、制御部6は、参照するデータ番号kをゼロに設定する。 In step S51, thecontrol section 6 sets the data number k to be referred to to zero.

ステップS52において、制御部6は、メモリ31内のデータ番号kの領域に保存されている走査角(φx,φy)と、加工位置の補正数表34内のすべての補正数表用走査角(Φxi,Φy)とを比較し、φx=Φxiかつφy=Φyとなるデータ番号i,jが存在するか否かを判定する。本ステップS52では、制御部6は、加工位置の補正数表34内に、ユーザが設定した走査角と全く同じ走査角を含むデータ項目が存在するか否かを判定している。In step S52, thecontrol unit 6 determines the scanning angles (φxk , φyk ) stored in the area of data number k in thememory 31 and all the correction table scans in the processing position correction table 34. The angles (Φxi , Φyj ) are compared to determine whether or not there are data numbers i and j where Φxk =Φxi and Φyk =Φyj . In this step S52, thecontrol unit 6 determines whether or not there is a data item including a scanning angle that is exactly the same as the scanning angle set by the user in the processing position correction number table 34 or not.

φx=Φxiかつφy=Φyとなるデータ番号i,jが存在する場合(ステップS52:YES)、フローは、ステップS53へ進む。一方、φx=Φxiかつφy=Φyとなるデータ番号i,jが存在しない場合(ステップS52:NO)、フローは、ステップS54へ進む。If there are data numbers i and j satisfying φxk =Φxi and φyk =Φyj (step S52: YES), the flow proceeds to step S53. On the other hand, if there is no data number i, j satisfying φxk =Φxi and φyk =Φyj (step S52: NO), the flow proceeds to step S54.

ステップS53において、制御部6は、φx=Φxiかつφy=Φyとなるデータ番号i,jを用いて、補正角を(ψx,ψy)=(Ψxij,Ψyij)と設定する。すなわち、本ステップS53では、制御部6は、ユーザが設定した走査角と全く同じ走査角を含むデータ項目が存在するため、該当する補正数表用補正角をそのまま補正角として設定している。In step S53, thecontrol unit 6 sets the correction angles to (ψxk , ψyk )=(ψxij , ψyij ) using the data numbers i and j where φxk =Φxi and Φyk =Φyj . set. That is, in step S53, since there is a data item including the scanning angle exactly the same as the scanning angle set by the user, thecontrol unit 6 sets the corresponding correction angle for the correction formula table as the correction angle.

ステップS54において、制御部6は、補正数表34内においてユーザが設定した走査角(φx,φy)を囲む最近接の4点のデータを用いて補間処理を行い、補正角(ψx,ψy)を設定する。ステップS54の詳細については後述する。In step S54, thecontrol unit 6 performs interpolation processing using the data of the four closest points surrounding the scanning angle (φxk , φyk ) set by the user in the correction formula table 34, and obtains the correction angle (φxk , ψyk ). Details of step S54 will be described later.

ステップS55において、制御部6は、ステップS53またはステップS54において設定した補正角(ψx,ψy)を、メモリ31内の加工データのデータ番号kの領域に設定(保存)する。In step S55, thecontrol unit 6 sets (stores) the correction angles (ψxk , ψyk ) set in step S53 or step S54 in the area of the data number k of the processed data in thememory 31 .

ステップS56において、制御部6は、メモリ31内に保存されている加工データのすべてについて補正角の設定が完了したか否かを判定する。加工データのすべてについて補正角の設定が完了した場合(ステップS56:YES)、フローは、終了する。一方、加工データのすべてについて補正角の設定が完了していない場合(ステップS56:NO)、フローは、ステップS57へ進む。 In step S<b>56 , thecontrol unit 6 determines whether or not the setting of the correction angle has been completed for all the processing data stored in thememory 31 . If the setting of the correction angle has been completed for all of the processing data (step S56: YES), the flow ends. On the other hand, if setting of the correction angle has not been completed for all of the processing data (step S56: NO), the flow proceeds to step S57.

ステップS57において、制御部6は、参照するデータ番号kを1つ増加させる。その後、フローは、ステップS52へ戻る。 In step S57, thecontroller 6 increments the data number k to be referred to by one. After that, the flow returns to step S52.

以上のフローにより、図13のフローにより設定された加工データにおいて、全てのデータ番号kについて補正角が設定される。 According to the flow described above, correction angles are set for all data numbers k in the processing data set according to the flow of FIG.

[補間処理の詳細]
次に、図15に示したステップS54(補間処理)について、詳細に説明する。ステップS54の補間処理は、ユーザが設定した走査角(φx,φy)が、データ点32内の補正数表用走査角(Φxi,Φy)のいずれにも一致していない場合に行われる。
[Details of interpolation processing]
Next, step S54 (interpolation processing) shown in FIG. 15 will be described in detail. The interpolation processing in step S54 is performed when the scanning angles (φxk , φyk ) set by the user do not match any of the scanning angles (φxi , φyj ) for the correction formula table in thedata point 32. done.

図16は、ユーザが加工データとして設定した走査角X(φx,φy)が図14に示した加工位置の補正数表34のいずれかのデータ点32の補正数表用走査角(Φxi,Φy)と一致しなかった場合における、走査角X(φx,φy)とその周囲の補正データ点の関係を示す図である。FIG. 16 shows that the scanning angle X (φxk , φyk ) set by the user as processing data is the scanning angle (φxi , Φyj ) and shows the relationship between the scanning angle X (φxk , φyk ) and the correction data points around it.

図16に示すように、走査角X(φx,φy,ψx,ψy,Dpx,Dpy)に対応する点は、補正データ点A(Φxi,Φy,Ψxij,Ψyij,Dpxij,Dpyij)、B(Φxi+1,Φy,Ψxi+1j,Ψyi+1j,Dpxi+1j,Dpyi+1j)、C(Φxi,Φyj+1,Ψxij+1,Ψyij+1,Dpxij+1,Dpyij+1)、D(Φxi+1,Φyj+1,Ψxi+1j+1,Ψyi+1j+1,Dpxi+1j+1,Dpyi+1j+1)の4点で作られる格子内に位置している。Φxi≦φx≦Φxi+1(等号は同時には成立せず)、Φy≦φy≦Φyj+1(等号は同時には成立せず)の関係が成立している。このときの補正角(ψx,ψy)は、走査角X(φx,φy)の値と補正データ点A、B、C、Dの値とを用いて、以下の式(1)および式(2)により求められる。
ψx=(EΨxij+FΨxi+1j+GΨxij+1+HΨxi+1j+1)/J・・・(1)
ψy=(EΨyij+FΨyi+1j+GΨyij+1+HΨyi+1j+1)/J・・・(2)
As shown in FIG. 16, the points corresponding to the scanning angles X (φxk , φyk , φxk , φyk , Dpxk , Dpyk ) are the corrected data points A (φxi , φyj , ψxij , ψyIJ , DPXIJ , DPYIJ ), B (φxI + 1 , φyJ+ I + 1J , ψY+ 1J, DPX I + 1J, DPYI + 1J ), C (φxI ,J J + 1 , ψxIJ + 1 , ψYIJ + 1 , ψYIJ + 1 , DPYIJ + 1 ) , D(Φxi+1 , Φyj+1 , ψxi+1j+1 , ψyi+1j+1 , Dpxi+1j+1 , Dpyi+1j+1 ). The relationships ΦxiΦxk ≤ Φxi +1 (the equality is not established at the same time) andΦyjΦyk ≤ Φyj+1 (the equality are not established at the same time) are established. The correction angle (ψxk , ψyk ) at this time is obtained by the following equation (1) using the values of the scanning angle X (φxk , φyk ) and the values of the correction data points A, B, C, and D. and obtained by the formula (2).
ψxk =(Eψxij +Fψxi+1j +Gψxij+1 +Hψxi+1j+1 )/J (1)
ψyk =(Eψyij +Fψyi+1j +Gψyij+1 +Hψyi+1j+1 )/J (2)

なお、式(1)および(2)におけるE、F、G、H、Jは、下記の式(3)~(7)により求められる。
E=(φx-Φxi)(φy-Φy)・・・(3)
F=(Φxi+1-φx)(φy-Φy)・・・(4)
G=(φx-Φxi)(Φyj+1-φy)・・・(5)
H=(Φxi+1-φx)(Φyj+1-φy)・・・(6)
J=(Φxi+1-Φxi)(Φyj+1-Φy)・・・(7)
E, F, G, H, and J in formulas (1) and (2) are determined by the following formulas (3) to (7).
E=(φxk −Φxi )(φyk −Φyj ) (3)
F=(Φxi+1 −Φxk )(Φyk −Φyj ) (4)
G=(φxk −Φxi )(Φyj+1 −φyk ) (5)
H=(Φxi+1 −Φxk )(Φyj+1 −Φyk ) (6)
J=(Φxi+1 −Φxi )(Φyj+1 −Φyj ) (7)

上述した補間処理により、ユーザが設定した走査角に基づいて補正角を算出することができる。 By the interpolation processing described above, the correction angle can be calculated based on the scanning angle set by the user.

上述した補間処理では、一例として線形補間法を用いたが、その他の公知の二次元補間手法(スプライン補間、二次曲面近似など)を用いてもよい。また、予め加工位置の補正数表34上の補正数表用補正角(Ψxij,Ψyij)から、走査角に対する補正角についての高次の近似連続曲面を算出しておき、走査角に対応する補正角を算出するようにしてもよい。In the interpolation processing described above, the linear interpolation method is used as an example, but other known two-dimensional interpolation methods (spline interpolation, quadratic surface approximation, etc.) may be used. Further, from the correction angles (Ψxij , Ψyij ) for the correction number table on the correction number table 34 of the processing position, a high-order approximate continuous curved surface for the correction angle with respect to the scanning angle is calculated in advance, and corresponds to the scanning angle. You may make it calculate the correction|amendment angle which carries out.

[補正移動量の設定方法]
次に、図13のフローにより設定された各加工データに対して、加工点位置毎の補正移動量を設定する方法について説明する。本実施の形態では、補正移動量として、位置補正移動量および速度補正移動量が設定される。
[Method of setting compensation movement]
Next, a method of setting a correction movement amount for each machining point position for each machining data set according to the flow of FIG. 13 will be described. In the present embodiment, a position correction movement amount and a speed correction movement amount are set as the correction movement amount.

次に、図17を用いて、補正移動量の設定方法の流れについて説明する。図17は、補正移動量の方法を示すフローチャートである。 Next, with reference to FIG. 17, the flow of the correction movement amount setting method will be described. FIG. 17 is a flow chart showing a method for correcting the amount of movement.

ステップS61において、制御部6は、参照するデータ番号kをゼロに設定する。 In step S61, thecontrol section 6 sets the data number k to be referred to to zero.

ステップS62において、制御部6は、メモリ31内のデータ番号kの領域に保存されている走査角(φx,φy)と、加工位置の補正数表34内のすべての補正数表用走査角(Φxi,Φy)とを比較し、φx=Φxiかつφy=Φyとなるデータ番号i,jが存在するか否かを判定する。本ステップS62では、制御部6は、加工位置の補正数表34内に、ユーザが設定した走査角と全く同じ走査角を含むデータ項目が存在するか否かを判定している。In step S62, thecontrol unit 6 determines the scanning angles (φxk , φyk ) stored in the area of the data number k in thememory 31 and all correction table scans in the processing position correction table 34. The angles (Φxi , Φyj ) are compared to determine whether or not there are data numbers i and j where Φxk =Φxi and Φyk =Φyj . In this step S62, thecontrol unit 6 determines whether or not there is a data item including a scanning angle that is exactly the same as the scanning angle set by the user in the processing position correction number table 34 or not.

φx=Φxiかつφy=Φyとなるデータ番号i,jが存在する場合(ステップS62:YES)、フローは、ステップS63へ進む。一方、φx=Φxiかつφy=Φyとなるデータ番号i,jが存在しない場合(ステップS62:NO)、フローは、ステップS64へ進む。If there are data numbers i and j satisfying φxk =φxi and φyk =φyj (step S62: YES), the flow proceeds to step S63. On the other hand, if there is no data number i, j satisfying φxk =Φxi and φyk =Φyj (step S62: NO), the flow proceeds to step S64.

ステップS63において、制御部6は、φx=Φxiかつφy=Φyとなるデータ番号i,jを用いて、位置補正移動量を(Dpx,Dpy)=(Dpxij,Dpyij)と設定する。すなわち、本ステップS63では、制御部6は、ユーザが設定した走査角と全く同じ走査角を含むデータ項目が存在するため、該当する補正数表用位置補正移動量をそのまま位置補正移動量として設定している。In step S63, thecontrol unit 6 uses the data numbers i and j whereφxk = φxiandφyk =φyj to set the position correction movement amount to (Dpxk ,Dpyk ) = (Dpxij ,Dpyij ). That is, in step S63, since there is a data item including the scanning angle that is exactly the same as the scanning angle set by the user, thecontrol unit 6 sets the corresponding position correction movement amount for the correction formula table as the position correction movement amount. are doing.

ステップS64において、制御部6は、加工位置の補正数表34内においてユーザが設定した走査角(φx,φy)を囲む最近接の4点のデータを用いて補間処理を行い、位置補正移動量(Dpx,Dpy)を設定する。本ステップS64における補間処理は、上述した図15のステップS54における補間処理と同様の方法で行うことができる。In step S64, thecontrol unit 6 performs interpolation processing using the data of the four closest points surrounding the scanning angle (φxk , φyk ) set by the user in the processing position correction numerical table 34, and performs position correction. Set the amount of movement (Dpxk , Dpyk ). The interpolation processing in this step S64 can be performed by the same method as the interpolation processing in step S54 of FIG. 15 mentioned above.

ステップS65において、制御部6は、加工速度の補正数表を用いて加工速度Vから速度補正移動量(Dvx,Dvy)を設定する。In step S65, thecontrol unit 6 sets the speed correction movement amount (Dvxk , Dvyk ) from the machining speed Vk using the machining speed correction table.

具体的には、まず、制御部6は、図11に示した加工速度の補正数表から加工速度Vに対応する速度補正移動量の大きさDvを求める。次に、制御部6は、以下の式(8)~(10)を用いて、現在のデータ番号kの加工点位置(x,y)と次のデータ番号k+1の加工点位置(xk+1,yk+1)から速度補正移動量(Dvx,Dvy)を求める。
Dvx=Dv×(xk+1-x)/R・・・(8)
Dvy=Dv×(yk+1-y)/R・・・(9)
R=√((xk+1-x+(yk+1-y)・・・(10)
Specifically, first, thecontrol unit 6 obtains the magnitude Dv of the speed correction movement amount corresponding to the machining speedVk from the machining speed correction table shown in FIG. Next, thecontrol unit 6 uses the following equations (8) to (10) to determine the processing point position (xk , yk ) of the current data number k and the processing point position (xk+1 , yk+1 ) to determine the velocity correction movement amount (Dvxk , Dvyk ).
Dvxk = Dvx(xk+1 -xk )/R (8)
Dvyk =Dv×(yk+1 -yk )/R (9)
R=√((xk+1 −xk )2 +(yk+1 −yk )2 ) (10)

ステップS66において、制御部6は、位置補正移動量と速度補正移動量を用いて補正移動量(Dx,Dy)を(Dx,Dy)=(Dpx+Dvx,Dpy+Dvy)と設定する。In step S66, using the position correction movement amount and the speed correction movement amount, thecontrol unit 6 sets the correction movement amount (Dxk ,Dyk ) to (Dxk ,Dyk )=(Dpxk +Dvxk ,Dpyk +Dvyk ).

ステップS67において、制御部6は、ステップS66において設定した補正移動量(Dx,Dy)を、メモリ31内の加工データのデータ番号kの領域に設定(保存)する。In step S<b>67 , thecontrol unit 6 sets (stores) the correction movement amount (Dxk , Dyk ) set in step S<b>66 in the area of the data number k of the processed data in thememory 31 .

ステップS68において、制御部6は、メモリ31内に保存されている加工データのすべてについて補正移動量の設定が完了したか否かを判定する。加工データのすべてについて補正移動量の設定が完了した場合(ステップS68:YES)、フローは、終了する。一方、加工データのすべてについて補正移動量の設定が完了していない場合(ステップS68:NO)、フローは、ステップS69へ進む。 In step S<b>68 , thecontrol unit 6 determines whether or not the setting of the correction movement amount has been completed for all the processing data stored in thememory 31 . When the setting of the correction movement amount is completed for all the processing data (step S68: YES), the flow ends. On the other hand, if setting of the correction movement amount has not been completed for all of the processing data (step S68: NO), the flow proceeds to step S69.

ステップS69において、制御部6は、参照するデータ番号kを1つ増加させる。その後、フローは、ステップS62へ戻る。 In step S69, thecontroller 6 increments the data number k to be referred to by one. After that, the flow returns to step S62.

以上のフローにより、図13のフローにより設定された加工データにおいて、全てのデータ番号kについて補正移動量が設定される。 According to the above flow, the correction movement amount is set for all the data numbers k in the processing data set by the flow of FIG.

[レーザ加工方法]
次に、図18を用いて、レーザ加工装置1によるレーザ加工方法の流れについて説明する。図18は、レーザ加工方法を示すフローチャートである。
[Laser processing method]
Next, the flow of the laser processing method by thelaser processing apparatus 1 will be described with reference to FIG. 18 . FIG. 18 is a flow chart showing a laser processing method.

ステップS71において、制御部6は、参照するデータ番号kをゼロに設定する。 In step S71, thecontrol section 6 sets the data number k to be referred to to zero.

ステップS72において、制御部6は、データ番号kに対応する補正済み加工データ(レーザ出力データL、走査角φx,φy、補正角ψx,ψy、補正移動量Dx,Dy)をメモリ31から読み出す。In step S72, thecontrol unit 6 generates corrected processing data (laser output dataLk , scanning anglesφxk ,φyk , correction anglesψxk ,ψyk , correction movement amountsDxk ,Dyk ) corresponding to data number k. ) is read from thememory 31 .

ステップS73において、制御部6は、走査角(φx,φy)に基づいて第1ミラー13を動作させ、補正角(ψx,ψy)に基づいて第2ミラー17を動作させ、補正移動量(Dx,Dy)に基づいてビームシフト機構38を動作させる。In step S73, thecontrol unit 6 operates thefirst mirror 13 based on the scanning angles (φxk , φyk ), operates thesecond mirror 17 based on the correction angles (φxk , φyk ), and corrects the Thebeam shift mechanism 38 is operated based on the amount of movement (Dxk , Dyk ).

具体的には、制御部6は、第1ドライバ7に対して走査角(φx,φy)を通知する。これにより、第1ドライバ7は、走査角(φx,φy)に基づいて第1ミラー13を動作させる。また、制御部6は、第2ドライバ8に対して、補正角(ψx,ψy)を通知する。これにより、第2ドライバ8は、補正角(ψx,ψy)に基づいて第2ミラー17を動作させる。また、制御部6は、第3ドライバ41に対して、補正移動量(Dx,Dy)を通知する。これにより、第2ドライバ8は、補正移動量(Dx,Dy)に基づいてビームシフト機構38を動作させる。Specifically, thecontroller 6 notifies thefirst driver 7 of the scanning angles (φxk , φyk ). Thereby, thefirst driver 7 operates thefirst mirror 13 based on the scanning angles (φxk , φyk ). Thecontrol unit 6 also notifies thesecond driver 8 of the correction angles (ψxk , ψyk ). Thereby, thesecond driver 8 operates thesecond mirror 17 based on the correction angles (ψxk , ψyk ). Also, thecontrol unit 6 notifies thethird driver 41 of the correction movement amount (Dxk , Dyk ). Thereby, thesecond driver 8 operates thebeam shift mechanism 38 based on the correction movement amount (Dxk , Dyk ).

ステップS74において、制御部6は、レーザ出力値としてのレーザ出力データLをレーザ発振器5へ送信し、レーザ発振器5からレーザ出力データLに基づいて加工用レーザ光11を発振させる。In step S74, thecontroller 6 transmits the laser output dataLk as the laser output value to thelaser oscillator 5, and causes thelaser oscillator 5 to oscillate theprocessing laser beam 11 based on the laser output dataLk .

ステップS75において、制御部6は、メモリ31内に保存されているすべてのデータ番号kに対応するレーザ加工が終了したか否かを判定する。すべてのデータ番号kに対応するレーザ加工が終了した場合(ステップS75:YES)、フローは、終了する。一方、すべてのデータ番号kに対応するレーザ加工が終了していない場合(ステップS75:NO)、フローは、ステップS76へ進む。 In step S75, thecontrol unit 6 determines whether or not laser processing corresponding to all data numbers k stored in thememory 31 has been completed. If laser processing corresponding to all data numbers k has been completed (step S75: YES), the flow ends. On the other hand, if laser processing corresponding to all data numbers k has not been completed (step S75: NO), the flow proceeds to step S76.

ステップS76において、制御部6は、参照するデータ番号kを1つ増加させる。その後、フローは、ステップS72へ戻る。 In step S76, thecontrol section 6 increments the data number k to be referred to by one. After that, the flow returns to step S72.

以上のフローにより、全てのデータ番号kについてレーザ加工が実行される。 According to the above flow, laser processing is executed for all data numbers k.

[キーホールの深さの計測方法]
次に、図19を用いて、上述したレーザ加工方法の実行時におけるキーホール22(例えば図1参照)の深さの計測方法の流れについて説明する。図19は、キーホール22の深さの計測方法を示すフローチャートである。
[How to measure keyhole depth]
Next, with reference to FIG. 19, the flow of the method for measuring the depth of the keyhole 22 (see, for example, FIG. 1) during execution of the laser processing method described above will be described. FIG. 19 is a flow chart showing a method for measuring the depth of thekeyhole 22. As shown in FIG.

ステップS81において、制御部6は、図18で説明したレーザ加工方法を開始するより前に、未加工の被加工物18の加工面19の位置データを取得する。ここでいう位置データとは、未加工状態の加工面19の高さ(換言ずれば、図1等に示すZ軸方向における加工面19の位置)を示すデータである。また、制御部6は、計測処理部4に対してキーホール22の深さの計測開始の指令を出す。 In step S81, thecontrol unit 6 acquires position data of theprocessing surface 19 of theunprocessed workpiece 18 before starting the laser processing method described with reference to FIG. The position data here is data indicating the height of the unmachined surface 19 (in other words, the position of the machinedsurface 19 in the Z-axis direction shown in FIG. 1 and the like). Thecontrol unit 6 also issues a command to start measuring the depth of thekeyhole 22 to themeasurement processing unit 4 .

図18に示したレーザ加工方法が開始されると、ステップS82において、計測処理部4は、光干渉計3から測定光15を出射させる。そして、計測処理部4は、キーホール22から反射して戻って来た測定光15と参照光との光路差に応じた光干渉信号を生成する。 When the laser processing method shown in FIG. 18 is started, themeasurement processing unit 4 causes theoptical interferometer 3 to emit themeasurement light 15 in step S82. Then, themeasurement processing unit 4 generates an optical interference signal according to the optical path difference between themeasurement light 15 reflected and returned from thekeyhole 22 and the reference light.

ステップS83において、計測処理部4は、位置データおよび光干渉信号を用いてキーホール22の深さ(すなわち、溶け込み深さ)を算出する。そして、制御部6は、算出されたキーホール22の深さを示すデータ(以下、キーホール深さデータという)をメモリ31に保存する。 In step S83, themeasurement processing unit 4 calculates the depth of the keyhole 22 (that is, penetration depth) using the position data and the optical interference signal. Then, thecontroller 6 stores data indicating the calculated depth of the keyhole 22 (hereinafter referred to as keyhole depth data) in thememory 31 .

ステップS84において、制御部6は、キーホール22の深さの計測を終了するか否かを判定する。計測を終了する場合(ステップS84:YES)、フローは、ステップS85へ進む。一方、計測を終了しない場合(ステップS84:NO)、フローは、ステップS82へ戻る。 In step S84, thecontrol unit 6 determines whether or not to end the measurement of the depth of thekeyhole 22. When ending the measurement (step S84: YES), the flow proceeds to step S85. On the other hand, if the measurement is not finished (step S84: NO), the flow returns to step S82.

ステップS85において、制御部6は、図18に示したレーザ加工方法が終了した後に、計測処理部4に対してキーホール22の深さの計測終了の指令を出す。 In step S85, after the laser processing method shown in FIG. 18 is completed, thecontrol section 6 issues a command to themeasurement processing section 4 to end the measurement of the depth of thekeyhole 22. FIG.

なお、キーホール22の深さの計測開始の指令およびキーホール22の深さの計測終了の指令は、制御部6が行うのではなく、ユーザが図示しない操作部等を用いて行ってもよい。 The command to start measuring the depth of thekeyhole 22 and the command to stop measuring the depth of thekeyhole 22 may be issued not by thecontrol unit 6 but by the user using an operation unit or the like (not shown). .

[効果]
以上説明したように、本実施の形態のレーザ加工装置1は、被加工物18の表面(加工面19)において加工されるべき加工点20に対して加工用レーザ光11を発振するレーザ発振器5と、加工点20に対して測定光15を出射し、加工点20で反射された測定光15と参照光との光路差によって生じる干渉に基づく光干渉強度信号を生成する光干渉計3と、加工用レーザ光11および測定光15の進行方向を変化させる第1ミラー13と、測定光15の第1ミラー13への入射角を変化させる第2ミラー17と、測定光15の第1ミラー13への入射位置を変化させるビームシフト機構38と、加工用レーザ光11および測定光15を加工点に集光させるレンズ14と、レンズ14の色収差により生じる加工用レーザ光11および測定光15の少なくとも一方の到達位置の被加工物18の表面におけるずれと、加工点20に生じるキーホール22の角度と測定光15の角度とのずれを解消するように予め補正された、被加工物18を加工するための補正済み加工用データを記憶するメモリ31と、補正済み加工用データに基づいて、レーザ発振器5、第1ミラー13、第2ミラー17、およびビームシフト機構38を制御する制御部6と、光干渉強度信号に基づいて、加工用レーザ光11によって加工点に生じるキーホール22の深さを計測する計測処理部4と、を有する。
[effect]
As described above, thelaser processing apparatus 1 of the present embodiment includes thelaser oscillator 5 that oscillates theprocessing laser beam 11 toward theprocessing point 20 to be processed on the surface (processing surface 19) of theworkpiece 18. and anoptical interferometer 3 that emits themeasurement light 15 to theprocessing point 20 and generates an optical interference intensity signal based on the interference caused by the optical path difference between themeasurement light 15 reflected at theprocessing point 20 and the reference light; Afirst mirror 13 that changes the direction of travel of theprocessing laser beam 11 and themeasurement light 15, asecond mirror 17 that changes the incident angle of themeasurement light 15 to thefirst mirror 13, and afirst mirror 13 for themeasurement light 15. abeam shift mechanism 38 that changes the incident position of thelaser beam 11 for processing and themeasurement beam 15; Machining of theworkpiece 18 that has been corrected in advance so as to eliminate deviation on the surface of theworkpiece 18 at one reaching position and deviation between the angle of thekeyhole 22 occurring at themachining point 20 and the angle of themeasurement light 15. amemory 31 for storing corrected processing data for processing, and acontroller 6 for controlling thelaser oscillator 5, thefirst mirror 13, thesecond mirror 17, and thebeam shift mechanism 38 based on the corrected processing data. and ameasurement processing unit 4 for measuring the depth of thekeyhole 22 generated at the processing point by theprocessing laser beam 11 based on the optical interference intensity signal.

このような構成により、レンズ14の倍率色収差によって生じる、レンズ14透過後の加工面19における加工用レーザ光11と測定光15の到達位置のずれを補正することができる。また、レンズ14の倍率色収差によって生じる、レンズ14透過後の加工面19における加工用レーザ光11と測定光15の角度のずれ、および、加工速度によるキーホール形成状態の変化を要因とした測定光15のキーホール形成軸42からの角度のずれを補正することができる。これにより、光干渉計3によるキーホール22の深さの計測を好適に実施することができる。すなわち、キーホールの深さを正確に計測することができる。 With such a configuration, it is possible to correct the deviation of the arrival positions of theprocessing laser light 11 and themeasurement light 15 on theprocessing surface 19 after passing through thelens 14 caused by the chromatic aberration of magnification of thelens 14 . In addition, the measurement light is caused by the angle deviation between theprocessing laser beam 11 and themeasurement light 15 on theprocessing surface 19 after passing through thelens 14 caused by the magnification chromatic aberration of thelens 14, and the change in the keyhole formation state due to the processing speed. Angular deviation from thekeyhole forming axis 42 of 15 can be corrected. Thereby, the measurement of the depth of thekeyhole 22 by theoptical interferometer 3 can be preferably performed. That is, it is possible to accurately measure the depth of the keyhole.

図20は、第2ミラー17を動作させたことによる、倍率色収差の影響を補正した状態の、加工面19における加工用レーザ光11と測定光15の軌跡を例示した図である。図20によれば、図6とは異なり、加工用レーザ光11の軌跡である加工光軌跡28と、測定光15の軌跡である測定光軌跡27、および各格子点がそれぞれ一致していることが分かる。また、このとき、測定光15の測定光軸23c(図5参照)とキーホール形成軸42(図4参照)とが一致する。 FIG. 20 is a diagram illustrating the trajectories of theprocessing laser beam 11 and themeasurement beam 15 on theprocessing surface 19 after the influence of the chromatic aberration of magnification is corrected by operating thesecond mirror 17 . According to FIG. 20, unlike FIG. 6, theprocessing light trajectory 28, which is the trajectory of theprocessing laser beam 11, themeasurement light trajectory 27, which is the trajectory of themeasurement light 15, and each grid point are matched. I understand. Also, at this time, the measurement optical axis 23c (see FIG. 5) of themeasurement light 15 and the keyhole forming axis 42 (see FIG. 4) coincide.

なお、本開示は、上記実施の形態の説明に限定されず、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の変形が可能である。以下、変形例について説明する。 It should be noted that the present disclosure is not limited to the description of the above embodiments, and various modifications are possible without departing from the scope of the present disclosure. Modifications will be described below.

[変形例1]
実施の形態では、測定光15の光軸方向を変化させるために、ガルバノミラーである第2ミラー17を用いる場合を例に挙げて説明したが、本開示はこれに限定されない。
[Modification 1]
In the embodiment, the case where thesecond mirror 17, which is a galvanomirror, is used to change the optical axis direction of themeasurement light 15 has been described as an example, but the present disclosure is not limited to this.

レーザ加工装置1に用いる第2ミラーは、例えば、測定光導入口9とダイクロイックミラー12との間に設置され、制御部6の制御に基づいて測定光15の光軸方向を変化させることができる構成であればよい。 The second mirror used in thelaser processing apparatus 1 is installed, for example, between themeasurement light inlet 9 and thedichroic mirror 12, and can change the optical axis direction of themeasurement light 15 based on the control of thecontroller 6. Any configuration is acceptable.

このような構成の第2ミラー35を図21に示す。図21は、第2ミラー35を用いたレーザ加工装置1を模式的に示す図である。 FIG. 21 shows thesecond mirror 35 having such a configuration. FIG. 21 is a diagram schematically showing thelaser processing apparatus 1 using thesecond mirror 35. As shown in FIG.

図21に示すレーザ加工装置1は、図1等に示した第2ミラー17の代わりに第2ミラー35を有し、さらに移動ステージ36およびステージドライバ37を有する。なお、図21に示すレーザ加工装置1は、図1等に示したコリメートレンズ16を有していない。 Alaser processing apparatus 1 shown in FIG. 21 has asecond mirror 35 instead of thesecond mirror 17 shown in FIG. Note that thelaser processing apparatus 1 shown in FIG. 21 does not have thecollimating lens 16 shown in FIG. 1 and the like.

第2ミラー35は、測定光導入口9とダイクロイックミラー12との間に固定された放物面ミラーである。 Asecond mirror 35 is a parabolic mirror fixed between themeasurement light inlet 9 and thedichroic mirror 12 .

移動ステージ36は、測定光導入口9に設けられている。 A movingstage 36 is provided at the measurementlight introduction port 9 .

ステージドライバ37は、制御部6と電気的に接続されており、制御部6からの指示に基付いて、移動ステージ36を動作させる。これにより、移動ステージ36は、図中のyz方向(図中の上下方向の両矢印参照)に移動する。すなわち、移動ステージ36の移動方向は、測定光軸23に垂直な2軸方向である。 Thestage driver 37 is electrically connected to thecontroller 6 and operates the movingstage 36 based on instructions from thecontroller 6 . As a result, the movingstage 36 moves in the yz direction in the drawing (see the vertical double-headed arrow in the drawing). That is, the moving direction of the movingstage 36 is the biaxial direction perpendicular to the measurementoptical axis 23 .

測定光導入口9における測定光15の出射端は、第2ミラー35の焦点と一致するように配置されている。これにより、測定光15は、第2ミラー35で反射された後に平行光となってダイクロイックミラー12へ向かう。 The emission end of themeasurement light 15 at the measurementlight introduction port 9 is arranged so as to coincide with the focal point of thesecond mirror 35 . As a result, themeasurement light 15 becomes parallel light after being reflected by thesecond mirror 35 and travels toward thedichroic mirror 12 .

移動ステージ36の移動により、第2ミラー35からダイクロイックミラー12へ向かう測定光軸23の角度は、変化する。これにより、ガルバノミラーである第2ミラー17を用いた場合と同様の効果が得られる。 The movement of the movingstage 36 changes the angle of the measurementoptical axis 23 from thesecond mirror 35 toward thedichroic mirror 12 . This provides the same effect as when thesecond mirror 17, which is a galvanomirror, is used.

なお、レーザ加工装置1に用いる第2ミラーとしては、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)ミラー等であってもよい。 The second mirror used in thelaser processing apparatus 1 may be a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) mirror or the like.

[変形例2]
実施の形態では、ビームシフト機構38に設置されている第1レンズ39および第2レンズ40それぞれの焦点距離が同じである場合を例に挙げて説明したが、本開示はこれに限定されない。
[Modification 2]
In the embodiment, the case where the focal lengths of thefirst lens 39 and thesecond lens 40 installed in thebeam shift mechanism 38 are the same has been described as an example, but the present disclosure is not limited to this.

例えば、第2レンズ40の焦点距離を第1レンズ39の焦点距離よりも長くし、かつ、第1レンズ39と第2レンズ40のレンズ主点間の距離を、第1レンズ39の焦点距離と第2レンズ40の焦点距離との和としてもよい。このような構成は、一般的にケプラー式ビームエキスパンダと呼ばれる。 For example, the focal length of thesecond lens 40 is longer than the focal length of thefirst lens 39, and the distance between the lens principal points of thefirst lens 39 and thesecond lens 40 is the focal length of thefirst lens 39. The sum with the focal length of thesecond lens 40 may be used. Such a configuration is commonly referred to as a Keplerian beam expander.

上述した構成では、測定光15の測定光軸23が平行移動する量は、第1レンズ39の焦点距離に対する第2レンズ40の焦点距離の比率に比例して拡大される。これにより、ビームシフト機構38の移動範囲を小さく設定することができる。よって、ビームシフト機構38の平行移動ステージとして、ピエゾ素子で駆動するステージを採用することができる。したがって、高速かつ正確な位置決めを実現することができる。 In the configuration described above, the amount by which the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 translates is magnified in proportion to the ratio of the focal length of thesecond lens 40 to the focal length of thefirst lens 39 . Thereby, the movement range of thebeam shift mechanism 38 can be set small. Therefore, a stage driven by a piezo element can be adopted as the translation stage of thebeam shift mechanism 38 . Therefore, high-speed and accurate positioning can be achieved.

上述した構成は、さらに、第1ミラー13と第2ミラー17との同期をとる際にも好適である。また、測定光15の測定光軸23の角度は、第1レンズ39の焦点距離に対する第2レンズ40の焦点距離の比率に反比例して縮小される。そのため、第2ミラー17の温度ドリフトなどの位置決め誤差の影響を小さくすることができる。したがって、高精度な位置決めを実現することができる。 The configuration described above is also suitable for synchronizing thefirst mirror 13 and thesecond mirror 17 . Also, the angle of the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 is reduced in inverse proportion to the ratio of the focal length of thesecond lens 40 to the focal length of thefirst lens 39 . Therefore, the influence of positioning errors such as temperature drift of thesecond mirror 17 can be reduced. Therefore, highly accurate positioning can be achieved.

[変形例3]
実施の形態では、測定光導入口9とダイクロイックミラー12との間において、第2ミラー17の後にビームシフト機構38を配置する場合を例に挙げて説明したが、本開示はこれに限定されない。
[Modification 3]
In the embodiment, the case where thebeam shift mechanism 38 is arranged after thesecond mirror 17 between themeasurement light inlet 9 and thedichroic mirror 12 has been described as an example, but the present disclosure is not limited to this.

例えば、ビームシフト機構38の後に第2ミラー17を配置してもよい。しかしながら、加工点20における測定光15のスポット径を小さく設定する必要がある場合、レンズ14に入射する測定光15のビーム径は大きく設定する必要がある。このため、ビームシフト機構38の後に第2ミラー17を配置する場合では、第2ミラー17のミラーのサイズを測定光15のビーム径に合わせて大きくする必要があり、測定用のヘッドが大きくなるというデメリットが生じうる。 For example, thesecond mirror 17 may be arranged after thebeam shift mechanism 38 . However, when the spot diameter of themeasurement light 15 at theprocessing point 20 needs to be set small, the beam diameter of themeasurement light 15 entering thelens 14 must be set large. Therefore, when thesecond mirror 17 is arranged after thebeam shift mechanism 38, the size of thesecond mirror 17 must be increased in accordance with the beam diameter of themeasurement light 15, resulting in an increase in the size of the measurement head. A disadvantage may occur.

このデメリットを回避するためには、例えば、測定光導入口9とダイクロイックミラー12との間において第2ミラー17の後にビームシフト機構38を配置し、かつ、ビームシフト機構38においてビームエキスパンダの構成とすることが好ましい。このような構成により、第2ミラー17のサイズを小さく保ったまま加工点20における測定光15のスポット径を小さく設定することができる。よって、測定用のヘッドを大きくすることなく、小さな直径のキーホール22の深さを高精度に計測することができる。 In order to avoid this disadvantage, for example, abeam shift mechanism 38 is arranged after thesecond mirror 17 between the measurementlight introduction port 9 and thedichroic mirror 12, and the beam expander is configured in thebeam shift mechanism 38. It is preferable to With such a configuration, the spot diameter of themeasurement light 15 at theprocessing point 20 can be set small while the size of thesecond mirror 17 is kept small. Therefore, the depth of the small-diameter keyhole 22 can be measured with high accuracy without increasing the size of the measurement head.

[変形例4]
実施の形態では、測定光15の測定光軸23を平行移動させるために、平行移動ステージであるビームシフト機構38を用いる場合を例に挙げて説明したが、本開示はこれに限定されない。
[Modification 4]
In the embodiment, the case where thebeam shift mechanism 38, which is a translation stage, is used to translate the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 has been described as an example, but the present disclosure is not limited to this.

レーザ加工装置1に用いるビームシフト機構38は、例えば、例えば、測定光導入口9とダイクロイックミラー12との間に設置され、制御部6の制御に基づいて測定光軸23を平行移動させることができる構成であればよい。 Thebeam shift mechanism 38 used in thelaser processing apparatus 1 is installed, for example, between the measurementlight introduction port 9 and thedichroic mirror 12, and can translate the measurementoptical axis 23 based on the control of thecontrol unit 6. Any configuration can be used.

このような構成のビームシフト機構50を図22に示す。図22は、ビームシフト機構50を用いたレーザ加工装置1を模式的に示す図である。 FIG. 22 shows thebeam shift mechanism 50 having such a configuration. FIG. 22 is a diagram schematically showing thelaser processing apparatus 1 using thebeam shift mechanism 50. As shown in FIG.

図22に示すレーザ加工装置1は、図1等に示したビームシフト機構38の代わりに、ビームシフト機構50を有する。ビームシフト機構50は、測定光導入口9とダイクロイックミラー12との間に固定されている。 Alaser processing apparatus 1 shown in FIG. 22 has abeam shift mechanism 50 instead of thebeam shift mechanism 38 shown in FIG. 1 and the like. Abeam shift mechanism 50 is fixed between themeasurement light inlet 9 and thedichroic mirror 12 .

ビームシフト機構50は、第1平行平面基板43および第2平行平面基板44を有する。第1平行平面基板43および第2平行平面基板44は、例えばガラスで構成されている。 Thebeam shift mechanism 50 has a firstparallel plane substrate 43 and a secondparallel plane substrate 44 . The firstparallel plane substrate 43 and the secondparallel plane substrate 44 are made of glass, for example.

ビームシフト機構50において、第1平行平面基板43および第2平行平面基板44は、それぞれ、第2ミラー17が原点位置にあるときの測定光15の測定光軸23に対して傾くように配置されている。 In thebeam shift mechanism 50, the first plane-parallel substrate 43 and the second plane-parallel substrate 44 are arranged so as to be inclined with respect to the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 when thesecond mirror 17 is at the origin position. ing.

また、第1平行平面基板43および第2平行平面基板44は、それぞれ、第2ミラー17からの測定光15の測定光軸23を中心として回転する。第1平行平面基板43および第2平行平面基板44それぞれの回転位置(回転角度と言ってもよい)は、第3ドライバ41からの指令値に基づいて制御される。 Also, the firstparallel plane substrate 43 and the secondparallel plane substrate 44 each rotate around the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 from thesecond mirror 17 . The rotational positions (which may also be referred to as rotational angles) of the firstparallel plane substrate 43 and the secondparallel plane substrate 44 are controlled based on command values from thethird driver 41 .

測定光15が第1平行平面基板43および第2平行平面基板44を透過すると、光の屈折により出射光は入射光に対して平行移動して出射される。このため、第1平行平面基板43および第2平行平面基板44それぞれの回転位置の組合せに応じて、図中のxy方向において測定光15の測定光軸23を任意の位置へ平行移動させることができる。よって、ビームシフト機構50を用いた場合でも、図1等に示した第1レンズ39および第2レンズ40を有するビームシフト機構38を用いた場合と同様の効果を得ることができる。 When themeasurement light 15 is transmitted through the firstparallel plane substrate 43 and the secondparallel plane substrate 44, the emitted light is shifted in parallel with respect to the incident light due to refraction of the light. Therefore, the measurementoptical axis 23 of themeasurement light 15 can be translated to an arbitrary position in the xy direction in the figure according to the combination of the rotational positions of the firstparallel plane substrate 43 and the secondplane parallel substrate 44. can. Therefore, even when thebeam shift mechanism 50 is used, the same effect as when thebeam shift mechanism 38 having thefirst lens 39 and thesecond lens 40 shown in FIG. 1 and the like is used can be obtained.

上述した各変形例は、適宜組み合わせてもよい。 The modifications described above may be combined as appropriate.

本開示のレーザ加工装置、レーザ加工方法、および補正データ生成方法は、例えば、自動車や電子部品等のレーザ加工に有用である。 The laser processing apparatus, laser processing method, and correction data generation method of the present disclosure are useful, for example, in laser processing of automobiles, electronic parts, and the like.

1 レーザ加工装置
2 加工ヘッド
3 光干渉計
4 計測処理部
5 レーザ発振器
6 制御部
7 第1ドライバ
8 第2ドライバ
9 測定光導入口
10 加工光導入口
11 加工用レーザ光
12 ダイクロイックミラー
13 第1ミラー
14 レンズ
15 測定光
16 コリメートレンズ
17、35 第2ミラー
18 被加工物
19 加工面
20 加工点
21 溶融池
22 キーホール
23、23a、23b、23c 測定光軸
24、24a 加工光軸
25 レンズ光軸
26 加工原点
27 測定光軌跡
28 加工光軌跡
29 測定光格子点
30 加工光格子点
31 メモリ
32 データ点
33 補正データ点
34 加工位置の補正数表
36 移動ステージ
37 ステージドライバ
38、50 ビームシフト機構
39 第1レンズ
40 第2レンズ
41 第3ドライバ
42 キーホール形成軸
43 第1平行平面基板
44 第2平行平面基板
REFERENCE SIGNSLIST 1laser processing device 2processing head 3optical interferometer 4measurement processing unit 5laser oscillator 6control unit 7first driver 8second driver 9 measurementlight introduction port 10 processinglight introduction port 11processing laser light 12dichroic mirror 13first Mirror 14Lens 15Measurement Light 16Collimating Lens 17, 35Second Mirror 18Workpiece 19Processing Surface 20Processing Point 21Molten Pool 22Keyhole 23, 23a, 23b, 23cMeasurement Optical Axis 24, 24aProcessing Optical Axis 25Lens Light Axis 26Processing origin 27 Measurementlight trajectory 28 Processinglight trajectory 29 Measurementlight grid point 30 Processinglight grid point 31Memory 32Data point 33Correction data point 34 Processing position correction numerical table 36Movement stage 37Stage driver 38, 50Beam shift mechanism 39first lens 40second lens 41third driver 42keyhole forming axis 43 firstparallel plane substrate 44 second parallel plane substrate

Claims (14)

Translated fromJapanese
被加工物の表面の加工点に対して加工用レーザ光を発振するレーザ発振器と、
前記加工点に対して測定光を出射し、前記加工点で反射された前記測定光と参照光との光路差によって生じる干渉に基づく光干渉強度信号を生成する光干渉計と、
前記加工用レーザ光および前記測定光の進行方向を変化させる第1ミラーと、
前記測定光の前記第1ミラーへの入射角を変化させる第2ミラーと、
前記測定光の前記第1ミラーへの入射位置を変化させるビームシフト機構と、
前記加工用レーザ光および前記測定光を前記加工点に集光させるレンズと、
補正済み加工用データを記憶するメモリと、
前記補正済み加工用データに基づいて、前記レーザ発振器、前記第1ミラー、前記第2ミラー、および前記ビームシフト機構を制御する制御部と、
前記光干渉強度信号に基づいて、前記加工用レーザ光が照射されることで前記加工点に生じるキーホールの深さを計測する計測処理部と、を有し、
前記補正済み加工用データは、
前記被加工物の加工用として予め生成された加工用データを、前記レンズの色収差により生じる前記加工用レーザ光および前記測定光の少なくとも一方の到達位置の前記被加工物の表面におけるずれ、および、前記キーホールの角度と前記測定光の角度とのずれが解消されるように補正したデータである、
レーザ加工装置。
a laser oscillator that oscillates a processing laser beam to a processing point on the surface of the workpiece;
an optical interferometer that emits measurement light toward the processing point and generates an optical interference intensity signal based on interference caused by an optical path difference between the measurement light reflected at the processing point and the reference light;
a first mirror for changing traveling directions of the processing laser light and the measurement light;
a second mirror that changes the angle of incidence of the measurement light on the first mirror;
a beam shift mechanism that changes the incident position of the measurement light on the first mirror;
a lens that converges the processing laser light and the measurement light onto the processing point;
a memory for storing corrected processing data;
a control unit that controls the laser oscillator, the first mirror, the second mirror, and the beam shift mechanism based on the corrected processing data;
a measurement processing unit that measures the depth of the keyhole generated at the processing point by being irradiated with the processing laser light based on the optical interference intensity signal;
The corrected processing data is
processing data generated in advance for processing the work piece, a shift in the arrival position of at least one of the processing laser light and the measurement light caused by the chromatic aberration of the lens on the surface of the work piece; and Data corrected so as to eliminate the deviation between the angle of the keyhole and the angle of the measurement light,
Laser processing equipment.
前記補正済み加工用データは、
前記加工点毎に予め設定された、前記レーザ発振器から発振される前記加工用レーザ光の強度を示す出力指示値と、前記第1ミラーの動作量を示す第1指示値と、前記第2ミラーの動作量を示す第2指示値と、前記ビームシフト機構の動作量を示す第3指示値とを含む、
請求項1に記載のレーザ加工装置。
The corrected processing data is
an output instruction value indicating the intensity of the processing laser beam oscillated from the laser oscillator, a first instruction value indicating the amount of movement of the first mirror, and the second mirror, which are set in advance for each of the processing points; and a third instruction value indicating the amount of operation of the beam shift mechanism,
The laser processing apparatus according to claim 1.
前記加工用レーザ光の波長と前記測定光の波長とが互いに異なる、
請求項1または2に記載のレーザ加工装置。
wherein the wavelength of the processing laser light and the wavelength of the measurement light are different from each other;
The laser processing apparatus according to claim 1 or 2.
前記レンズは、fθレンズである、
請求項1から3のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
The lens is an f-theta lens,
The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 3.
前記第1ミラーおよび前記第2ミラーは、それぞれ、ガルバノミラーである、
請求項1から4のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
The first mirror and the second mirror are each galvanomirrors,
The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 4.
前記第1ミラーは、ガルバノミラーであり、
前記第2ミラーは、放物面ミラーであり、
さらに、前記測定光の前記第2ミラーからの出射角を変化させる移動ステージを有する、
請求項1から4のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
The first mirror is a galvanomirror,
the second mirror is a parabolic mirror;
further comprising a moving stage that changes an emission angle of the measurement light from the second mirror;
The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 4.
前記ビームシフト機構は、
前記第2ミラーが原点位置にあるときの前記測定光の光軸に対して垂直な方向に2軸以上で平行移動するステージであり、
第1レンズおよび第2レンズを有する、
請求項1から6のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
The beam shift mechanism is
A stage that translates along two or more axes in a direction perpendicular to the optical axis of the measurement light when the second mirror is at the origin position,
having a first lens and a second lens;
The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 6.
前記第2レンズの焦点距離は、前記第1レンズの焦点距離より長く設定されており、
前記第2ミラーおよび前記ビームシフト機構は、前記光干渉計からの前記測定光が前記第2ミラー、前記ビームシフト機構の順に通るように配置される、
請求項7に記載のレーザ加工装置。
The focal length of the second lens is set longer than the focal length of the first lens,
The second mirror and the beam shift mechanism are arranged such that the measurement light from the optical interferometer passes through the second mirror and the beam shift mechanism in that order.
The laser processing apparatus according to claim 7.
前記ビームシフト機構は、
前記測定光の光軸を中心として回転する第1平行平面基板および第2平行平面基板を有する、
請求項1から6のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
The beam shift mechanism is
Having a first parallel plane substrate and a second parallel plane substrate that rotate about the optical axis of the measurement light,
The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 6.
加工用レーザ光および測定光の進行方向を変化させる第1ミラーと、前記測定光の前記第1ミラーへの入射角を変化させる第2ミラーと、前記測定光の前記第1ミラーへの入射位置を変化させるビームシフト機構と、前記加工用レーザ光および前記測定光を被加工物の表面の加工点に集光させるレンズと、を有するレーザ加工装置が行うレーザ加工方法であって、
補正済み加工用データに基づいて、前記第1ミラー、前記第2ミラー、およびビームシフト機構を制御し、前記加工用レーザ光および前記測定光を前記被加工物に対して照射し、
前記加工点で反射された前記測定光と参照光との光路差によって生じる干渉に基づいて、前記加工用レーザ光が照射されることで前記加工点に生じるキーホールの深さを計測し、
前記補正済み加工用データは、
前記被加工物の加工用として予め生成された加工用データを、前記レンズの色収差により生じる前記加工用レーザ光および前記測定光の少なくとも一方の到達位置の前記被加工物の表面におけるずれ、および、前記キーホールの角度と前記測定光の角度とのずれが解消されるように補正したデータである、
レーザ加工方法。
A first mirror that changes the traveling direction of the processing laser light and the measurement light, a second mirror that changes the incident angle of the measurement light on the first mirror, and an incident position of the measurement light on the first mirror. A laser processing method performed by a laser processing apparatus having a beam shift mechanism that changes the processing laser light and the measurement light and a lens that converges the processing laser light and the measurement light on a processing point on the surface of the workpiece,
controlling the first mirror, the second mirror, and the beam shift mechanism based on the corrected processing data, and irradiating the workpiece with the processing laser beam and the measurement light;
measuring the depth of a keyhole generated at the processing point by irradiation with the processing laser beam based on interference caused by an optical path difference between the measurement light reflected at the processing point and the reference light;
The corrected processing data is
processing data generated in advance for processing the work piece, a shift in the arrival position of at least one of the processing laser light and the measurement light caused by the chromatic aberration of the lens on the surface of the work piece; and Data corrected so as to eliminate the deviation between the angle of the keyhole and the angle of the measurement light,
Laser processing method.
加工用レーザ光および測定光の進行方向を変化させる第1ミラーと、前記測定光の前記第1ミラーへの入射角を変化させる第2ミラーと、前記測定光の前記第1ミラーへの入射位置を変化させるビームシフト機構と、前記加工用レーザ光および前記測定光を被加工物の表面に集光させるレンズと、を有するレーザ加工装置が行う補正データ生成方法であって、
前記被加工物の表面の加工点毎に、前記加工用レーザ光の出力強度と、前記加工用レーザ光を前記加工点に到達させるための前記第1ミラーの動作量とが設定された加工用データを生成し、
前記被加工物の表面の所定の位置毎に、前記測定光を前記所定の位置に到達させるための前記第2ミラーの動作量である第1動作量を算出し、
前記第1動作量に基づいて、前記加工点毎に、前記測定光を前記加工点に到達させるための前記第2ミラーの動作量である第2動作量を算出し、
前記被加工物の表面の所定の位置および加工速度毎に、前記測定光を前記所定の位置に到達させるための前記ビームシフト機構の動作量である第3動作量を算出し、
前記第3動作量に基づいて、前記加工点毎に、前記測定光を前記加工点に到達させるための前記ビームシフト機構の動作量である第4動作量を算出し、
前記第2動作量および前記第4動作量を前記加工用データに加えることにより、前記レンズの色収差により生じる前記加工用レーザ光および前記測定光の少なくとも一方の前記被加工物への到達位置のずれ、および、前記キーホールの角度と前記測定光の角度とのずれが解消されるように補正した補正済み加工用データを生成する、
補正データ生成方法。
A first mirror that changes the traveling direction of the processing laser light and the measurement light, a second mirror that changes the incident angle of the measurement light on the first mirror, and an incident position of the measurement light on the first mirror. A correction data generation method performed by a laser processing apparatus having a beam shift mechanism that changes the and a lens that converges the processing laser light and the measurement light on the surface of the workpiece,
For processing, the output intensity of the processing laser beam and the operation amount of the first mirror for causing the processing laser beam to reach the processing point are set for each processing point on the surface of the workpiece. generate the data,
calculating a first operation amount, which is an operation amount of the second mirror for causing the measurement light to reach the predetermined position, for each predetermined position on the surface of the workpiece;
calculating, for each processing point, a second movement amount that is the movement amount of the second mirror for causing the measurement light to reach the processing point, based on the first movement amount;
calculating a third operation amount, which is an operation amount of the beam shift mechanism for causing the measurement light to reach the predetermined position, for each predetermined position and processing speed on the surface of the workpiece;
calculating a fourth operation amount, which is an operation amount of the beam shift mechanism for causing the measurement light to reach the processing point, based on the third operation amount;
By adding the second amount of operation and the fourth amount of operation to the data for processing, a shift in the arrival position of at least one of the laser light for processing and the measurement light to the work piece caused by chromatic aberration of the lens. and generating corrected processing data corrected so as to eliminate the deviation between the angle of the keyhole and the angle of the measurement light;
Correction data generation method.
前記第2動作量の算出にあたり、前記加工点と前記所定の位置とが一致しない場合、前記加工点に近い順に所定数の前記所定の位置における前記第1動作量を用いて補間処理を行い、前記第2動作量を算出する、
請求項11に記載の補正データ生成方法。
In calculating the second movement amount, if the processing point and the predetermined position do not match, interpolation processing is performed using the first movement amount at a predetermined number of the predetermined positions in order of proximity to the processing point, calculating the second amount of motion;
12. The correction data generating method according to claim 11.
前記第4動作量の算出にあたり、前記加工点と前記所定の位置とが一致しない場合、前記加工点に近い順に所定数の前記位置における前記第3動作量を用いて補間処理を行い、前記第4動作量を算出する、
請求項11または12に記載の補正データ生成方法。
In calculating the fourth movement amount, if the processing point and the predetermined position do not match, interpolation processing is performed using the third movement amount at a predetermined number of the positions in order of proximity to the processing point. 4 Calculate the amount of movement,
13. The correction data generation method according to claim 11 or 12.
前記所定の位置は、前記第1ミラーの可動範囲に対応した前記被加工物の表面の範囲に設定され、かつ、前記範囲内で前記補間処理を実行可能に設定される、
請求項12または13に記載の補正データ生成方法。
The predetermined position is set to a range of the surface of the workpiece corresponding to the movable range of the first mirror, and is set so that the interpolation process can be performed within the range.
14. The correction data generating method according to claim 12 or 13.
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