JP6855010B6 - 基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法に係り、さらに詳しくは、平板状の基板を保持する基板保持装置、該基板保持装置を被露光基板の保持装置として備える露光装置、及び該露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。

従来、例えば半導体素子を製造するためのリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））等の逐次移動型の投影露光装置が主として用いられている。

この種の投影露光装置では、２次元平面内を移動可能なウエハステージが設けられており、このウエハステージ上に固定されたウエハホルダにより、ウエハが真空吸着あるいは静電吸着等により保持される。

ウエハホルダとしては、種々のタイプが存在するが、近年ではピンチャック式のウエハホルダが比較的多く用いられている。また、ウエハステージ上には、ウエハホルダ上にウエハを受け渡すための３本の上下動ピン（センターアップ、又はリフトピンとも呼ばれる）が設けられている（例えば、特許文献１参照）。この上下動ピンは、ウエハホルダに形成された開口を介して上下動し、ウエハホルダの上方で搬送アームからウエハを受取り、吸着保持した状態で下降することで、ウエハホルダ上にウエハを受け渡す。

しかるに、半導体素子の高集積化及びウエハの大型化に伴い、上下動ピンからウエハホルダに受け渡されたウエハの中心部に無視できない歪が生じることが見受けられるようになってきた。

米国特許第６，６２４，４３３号明細書

上述のウエハ中心部に歪が残存する原因は、次のように考えられていた。すなわち、搬送アームの退避後、上下動ピンに支持されたウエハの外周縁部が垂れ下がり、上下動ピンの下降とともにウエハホルダによりウエハを真空吸引すると、ウエハの周縁部から吸着が開始されて徐々に中心に向かう結果、吸着後にウエハの中心部に歪みが残ってしまう。

しかし、その後の実験等の結果、ウエハの中心部から先にウエハホルダによる吸引を開始しても、依然として歪みがウエハ中心部に残存することがあることが判明した。そこで、発明者は、さらに検討を重ねた結果、ウエハの中心部の歪の発生問題の解決に寄与する本発明を想到するに至った。

本発明の第１の態様によれば、基板を保持する基板保持装置であって、前記基板が吸着保持される基板保持部と、前記基板の裏面を吸着する吸着部を一端に有し、前記吸着部で前記基板の裏面を吸着した状態で、前記基板保持部に対して移動可能な複数の移動部材と、前記複数の移動部材のそれぞれの他端が固定され、前記複数の移動部材とともに移動可能なベース部材と、を備え、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板から受ける力の作用により変位する前記移動部材は、前記吸着部と、前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定されたばね部材と、前記ばね部材の周囲を取り囲む屈曲自在の環状部材とを含み、前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する基板保持装置が、提供される。

本発明の第２の態様によれば、基板を保持する基板保持装置であって、前記基板が吸着保持される基板保持部と、前記基板の裏面を吸着する吸着部を含む一端と、前記一端と反対側の他端を有し、前記一端で前記基板の裏面を吸着した状態で前記基板保持部に対してそれぞれ移動可能な複数の移動部材と、前記複数の移動部材のそれぞれの他端が固定され、前記複数の移動部材とともに移動可能なベース部材と、を備え、前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記一端と前記他端の間に配置されて前記基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する変位部を有し、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記力の作用により変位する前記移動部材は、前記吸着部と、該吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定されたばね部材と、該ばね部材の周囲を取り囲む屈曲自在の環状部材とを含む基板保持装置が、提供される。

本発明の第３の態様によれば、基板を保持する基板保持装置であって、前記基板が吸着保持される基板保持部と、前記基板の裏面を吸着する吸着部を一端に有し、該吸着部で前記基板の裏面を吸着した状態で、前記基板保持部に対して移動可能な３つの移動部材と、前記３つの移動部材のそれぞれの他端が固定され、前記３つの移動部材とともに移動可能なベース部材と、を備え、前記３つの移動部材は、それぞれ（ｉ）前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された棒状ばね部材、（ｉｉ）前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された板ばね部材、及び（ｉｉｉ）前記変位可能な吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された棒状部材を含み、前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する基板保持装置が、提供される。

本発明の第４の態様によれば、基板を保持する基板保持装置であって、前記基板が吸着保持される基板保持部と、前記基板の裏面を吸着する吸着部を含む一端と、前記一端と反対側の他端を有し、前記一端で前記基板の裏面を吸着した状態で前記基板保持部に対してそれぞれ移動可能な３つの移動部材と、前記複数の移動部材のそれぞれの他端が固定され、前記複数の移動部材とともに移動可能なベース部材と、を備え、前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記一端と前記他端の間に配置されて前記基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する変位部を有し、前記３つの移動部材は、それぞれ（ｉ）前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された棒状ばね部材、（ｉｉ）前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された板ばね部材、及び（ｉｉｉ）前記変位可能な吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された棒状部材を含む基板保持装置が、提供される。

本発明の第５の態様によれば、基板を保持する基板保持装置であって、前記基板が吸着保持される基板保持部と、前記基板の裏面を吸着する吸着部を一端に有し、該吸着部で前記基板の裏面を吸着した状態で、前記基板保持部に対して移動可能な６つの移動部材と、を備え、前記６つの移動部材のうちの少なくとも１つは、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位し、前記各移動部材は、前記基板保持部の基板保持領域内で正多角形の頂点の位置に配置され、前記各移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記正多角形の外接円の半径方向にそれぞれ変位し、前記６つの移動部材のうち、互いに隣接しない３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記外接円の半径方向にそれぞれ変位し、残りの３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、少なくとも前記外接円の半径方向及び接線方向に変位する基板保持装置が、提供される。

本発明の第６の態様によれば、基板を保持する基板保持装置であって、前記基板が吸着保持される基板保持部と、前記基板の裏面を吸着する吸着部を含む一端と、前記一端と反対側の他端を有し、該一端で前記基板の裏面を吸着した状態で前記基板保持部に対してそれぞれ移動可能な６つの移動部材と、を備え、前記６つの移動部材のうちの少なくとも１つは、前記一端と前記他端の間に配置されて前記基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する変位部を備えてなり、前記各移動部材は、前記基板保持部の基板保持領域内で正多角形の頂点の位置に配置され、前記各移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記正多角形の外接円の半径方向にそれぞれ変位し、前記６つの移動部材のうち、互いに隣接しない３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記外接円の半径方向にそれぞれ変位し、残りの３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、少なくとも前記外接円の半径方向及び接線方向に変位する基板保持装置が、提供される。

本発明の第７の態様によれば、基板を保持する基板保持装置であって、前記基板が吸着保持される基板保持部と、前記基板の裏面を吸着する吸着部を一端に有し、該吸着部で前記基板の裏面を吸着した状態で、前記基板保持部に対して移動可能な複数の移動部材と、上端面がベース部材の下面に固定された駆動軸と、前記駆動軸を駆動する駆動装置と、を備え、前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記基板保持部の中央部付近に配置され、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位し、前記少なくとも１つの移動部材は、前記吸着部と、前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定されたばね部材と、を含む基板保持装置が、提供される。

本発明の第８の態様によれば、基板を保持する基板保持装置であって、前記基板が吸着保持される基板保持部と、前記基板の裏面を吸着する吸着部を含む一端と、前記一端と反対側の他端を有し、該一端で前記基板の裏面を吸着した状態で前記基板保持部に対してそれぞれ移動可能な複数の移動部材と、上端面がベース部材の下面に固定された駆動軸と、前記駆動軸を駆動する駆動装置と、を備え、前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記基板保持部の中央部付近に配置され、前記一端と前記他端の間に配置されて前記基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する変位部を有し、前記変位部を有する移動部材は、前記吸着部と、該吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定されたばね部材と、を含む基板保持装置が、提供される。

本発明の第９の態様によれば、感応剤が塗布された基板をエネルギビームにより露光する露光装置であって、前記基板を前記基板保持部に保持する第１の態様から第８の態様のいずれかに係る基板保持装置と、前記基板を前記エネルギビームで露光して前記基板上にパターンを生成するパターン生成装置と、を備える露光装置が、提供される。

本発明の第１０の態様によれば、第９の態様に係る露光装置を用いて感応剤が塗布された基板を露光することと、露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が、提供される。

一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。図１のウエハステージを示す平面図である。ウエハステージの構成を部分的に断面し、かつ一部省略して示す図である。図３のセンターアップユニットの一部を構成する本体ユニットの一部（本体部）とともに３つの上下動ピンユニットを示す斜視図である。図４の上下動ピンユニットを示す分解斜視図である。上下動ピンユニットの内部構成を示す図である。図７（Ａ）及び図７（Ｂ）は、それぞれ上下動ピンユニットの一部を構成する板ばねユニットを斜め上方及び斜め下方から見た斜視図である。一実施形態の露光装置の制御系を中心的に構成する主制御装置の入出力関係を示すブロック図である。図９（Ａ）及び図９（Ｂ）は、ウエハステージ（ウエハホルダ）上へのウエハのロードを説明するための図（その１及びその２）である。図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、ウエハステージ（ウエハホルダ）上へのウエハのロードを説明するための図（その３及びその４）である。図１１（Ａ）は、第１の変形例に係るセンターアップユニットを一部省略して示す斜視図、図１１（Ｂ）は、図１１（Ａ）に示されるセンターアップユニットの平面図である。図１２は、第２の変形例に係るセンターアップユニットの平面図である。その他の変形例に係るセンターアップユニットを構成する上下動ユニットの構成について説明するための図である。

以下、一実施形態について、図１～図１０（Ｂ）に基づいて説明する。

図１には、一実施形態に係る露光装置１００の概略的な構成が示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。後述するように、本実施形態では投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸｐと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される走査方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。

露光装置１００は、照明系ＩＯＰ、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲに形成されたパターンの像を感応剤（レジスト）が塗布されたウエハＷ上に投影する投影ユニットＰＵ、ウエハＷを保持してＸＹ平面内を移動するウエハステージＷＳＴ、及びこれらの制御系等を備えている。

照明系ＩＯＰは、光源、及び光源に送光光学系を介して接続された照明光学系を含み、レチクルブラインド（マスキングシステム）で制限（設定）されたレチクルＲ上でＸ軸方向（図１における紙面直交方向）に細長く伸びるスリット状の照明領域ＩＡＲを、照明光（露光光）ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。照明系ＩＯＰの構成は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されている。ここで、照明光ＩＬとして、一例として、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられる。

レチクルステージＲＳＴは、照明系ＩＯＰの図１における下方に配置されている。レチクルステージＲＳＴ上には、そのパターン面（図１における下面）に回路パターンなどが形成されたレチクルＲが載置されている。レチクルＲは、例えば真空吸着によりレチクルステージＲＳＴ上に固定されている。

レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータあるいは平面モータ等を含むレチクルステージ駆動系１１（図１では不図示、図８参照）によって、水平面（ＸＹ平面）内で微小駆動可能であるとともに、走査方向（図１における紙面内左右方向であるＹ軸方向）に所定ストローク範囲で駆動可能となっている。レチクルステージＲＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、例えばレチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１４によって、移動鏡１２（又はレチクルステージＲＳＴの端面に形成された反射面）を介して、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。レチクル干渉計１４の計測情報は、主制御装置２０（図１では不図示、図８参照）に供給される。なお、本実施形態では、上記したレチクル干渉計に代えてエンコーダを用いてレチクルステージＲＳＴのＸＹ平面内の位置が検出されても良い。

投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４５と、鏡筒４５内に保持された投影光学系ＰＬとを含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば、Ｚ軸方向と平行な光軸ＡＸｐに沿って配列される複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。このため、照明系ＩＯＰからの照明光ＩＬによってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系ＩＯＰ、及び投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。

ウエハステージＷＳＴは、図１に示されるように、ステージ本体５２と、ステージ本体５２上に搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを備えている。ウエハステージＷＳＴは、例えばリニアモータあるいは平面モータ等を含むステージ駆動系２４によって、ステージベース２２上をＸ軸方向、Ｙ軸方向に所定ストロークで駆動されるとともに、Ｚ軸方向、θｘ方向、θｙ方向、及びθｚ方向に微小駆動される。

ウエハＷは、ウエハテーブルＷＴＢ上に、基板保持部としてのウエハホルダＷＨ（図１では不図示、図２参照）を介して例えば真空吸着により固定されている。

図２には、ウエハＷが無い状態におけるウエハステージＷＳＴの平面図が、ウエハホルダＷＨの給排気機構とともに示されている。また、図３には、図２のＡ－Ａ線断面図が一部省略してかつ簡略化してウエハとともに示されている。

図２に示されるように、ウエハステージＷＳＴの上面、すなわちウエハテーブルＷＴＢ上面の中央に、ウエハＷとほぼ同じ大きさのウエハホルダＷＨが固定されている。

ウエハホルダＷＨは、図２の平面図に示されるように、ベース部２６、該ベース部２６の上面（図２における紙面手前側の面）の外周部近傍の所定幅の環状領域を除く中央部の所定面積の領域に所定の間隔で設けられた複数の突起状のピン部３２、これら複数のピン部３２が配置された前記領域を取り囲む状態で外周縁近傍に設けられた環状の凸部（以下、「リム部」と称する）２８等を備えている。

ウエハホルダＷＨは、低膨張率の材料、例えばセラミックス等より成り、全体として円盤状のセラミックス等の材料の表面をエッチングすることによって、底面部を構成する円形板状のベース部２６と、このベース部２６上面に凸設されたリム部２８及び複数のピン部３２が一体的に形成されている。リム部２８は、その外径がウエハＷの外径よりも僅かに小さく、例えば１～２ｍｍ程度小さく設定され、その上面は、ウエハＷが載置された際に、ウエハＷの裏面との間に隙間が生じないよう、水平且つ平坦に加工されている。

ピン部３２は、図３に示されるように、それぞれの先端部分がリム部２８とほぼ同一面上に位置するようにされた突起状の形状を有している。これらピン部３２は、ベース部２６上の基準点、ここでは中心点を中心とする多重の同心円に沿って配置されている。

このようにして構成されるウエハホルダＷＨでは、その製造段階において、前述の如く、ベース部２６、ピン部３２及びリム部２８を一体成形した後に、最終的にウエハＷとの接触面となる、複数のピン部３２の上端面及びリム部２８の上面とに、研磨装置、砥粒等を用いて、研磨加工が施されている。この結果、それらの複数のピン部３２の上端面とリム部２８の上面とはほぼ同一平面上に位置している。本実施形態では、複数のピン部３２の上端面を結ぶ面（リム部２８の上面に一致）によって、ウエハホルダＷＨのウエハ載置面ＷＭＳが形成される。ここで、リム部２８の内部の領域で、ピン部３２が存在しない部分は、空間であって実際に面が存在するわけではない。従って、以下ではウエハ載置面ＷＭＳのうち、ウエハＷが載置される、リム部２８の上面とリム部２８の内部の領域を、ウエハ保持領域と呼び、ウエハ載置面と同一の符号を用いてウエハ保持領域ＷＭＳと表記する。

図２に戻り、ベース部２６の中央部近傍には、ほぼ正三角形の各頂点の位置に上下方向（紙面直交方向）の３つの貫通孔８４（図２では不図示、図３参照）が、ピン部３２と機械的に干渉しない状態で形成されている。これら３つの貫通孔８４は、図３に示されるように、ウエハホルダＷＨのベース部２６及びウエハテーブルＷＴＢをＺ軸方向（上下方向）に貫通して形成されている。３つの貫通孔８４それぞれには、略円柱形状を有する上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３（これらを適宜「移動部材」とも称する）がそれぞれ挿入されている。３つ（３本）の上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３は、後述する駆動装置９４により駆動されることにより、貫通孔８４をそれぞれ介して、上端（一端とも称する）がウエハ保持領域ＷＭＳの上方へ突出する第１位置（上限移動位置）と、上端がウエハ保持領域ＷＭＳの上方へは突出しない第２位置（下限移動位置）との間で上下動可能である。本実施形態では、３つの上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３それぞれの下限移動位置は、ベース部２６上面と同一位置又はその下方の位置に設定されている。３つの上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３は、図３に示されるように、駆動装置９４（これについては後述する）の一部を構成する、本体ユニット９６（本体部９２）の上面にそれぞれ固定されている。本実施形態では、３つの上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３それぞれの上端面は同一高さの面上に位置している。

３つの上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３は、駆動装置９４により駆動されることで、上下方向（Ｚ軸方向）に同時に同一量だけ、昇降自在となっている。本実施形態では、３つの上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３と、駆動装置９４とによって、センターアップユニット８０が構成されている。センターアップユニット８０の構成については、後にさらに詳述する。なお、３つの上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３は、必ずしも同時に同一量だけ昇降される必要はなく、例えばそれぞれが互いに独立して駆動装置９４により昇降される構成となっていても良い。

後述するウエハロード、ウエハアンロード時には、３つの上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３が駆動装置９４により駆動されることで、３つの上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３によってウエハＷを下方から支持したり、ウエハＷを支持した状態で上下動させたりすることができる。

図２に戻り、ベース部２６の上面には、複数の給排気口３６が、ベース部２６上面の中心部近傍から放射方向（ほぼ１２０°の中心角の間隔を有する３つの半径の方向）に沿って、所定間隔で形成されている。これら給排気口３６も、ピン部３２と機械的に干渉しない位置に形成されている。給排気口３６は、ベース部２６内部に形成された給排気路３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃをそれぞれ介して、ベース部２６の外周面に接続された給排気枝管４０ａ、４０ｂ、４０ｃと連通状態とされている。給排気枝管４０ａ、４０ｂ、４０ｃは後述する給排気機構７０の一部を構成する。

給排気路３８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃのそれぞれは、ベース部２６の外周面からベース部２６の中心部近傍にかけて半径方向に沿って形成された幹路と、該幹路から半径方向に所定間隔を隔てて、それぞれ＋Ｚ方向に分岐された複数の分岐路とから成る。この場合、複数の分岐路それぞれの上端の開口端が、前述した給排気口３６となっている。

ウエハホルダＷＨには、ウエハホルダＷＨ上に載置され、複数のピン部３２及びリム部２８によって下方から支持されたウエハＷを、複数のピン部３２及びリム部２８それぞれの上端面（上端部又は一端部とも称する）に対して吸着保持する真空吸着機構を含む給排気機構７０が接続されている。

給排気機構７０は、図２に示されるように、真空ポンプ４６Ａ及び給気装置４６Ｂと、これらの真空ポンプ４６Ａ及び給気装置４６Ｂを前記給排気路３８Ａ～３８Ｃにそれぞれ接続する給排気管４０とを備えている。

給排気管４０は、給排気本管４０ｄと、該給排気本管４０ｄの一端から３つに枝分かれした前述の給排気枝管４０ａ，４０ｂ，４０ｃと、給排気本管４０ｄの他端から２つに枝分かれした排気枝管４０ｅ及び給気枝管４０ｆとから構成されている。

排気枝管４０ｅの給排気本管４０ｄとは反対側の端部には、真空ポンプ４６Ａが接続されている。また、給気枝管４０ｆの給排気本管４０ｄとは反対側の端部には、給気装置４６Ｂが接続されている。

また、給排気本管４０ｄの一部には、給排気管４０内部の気圧を計測するための圧力センサ９８（図２では図示せず、図８参照）が接続されている。この圧力センサ９８の計測値は主制御装置２０に供給され、主制御装置２０は、圧力センサ９８の計測値とウエハのロード、アンロードの制御情報とに基づいて、真空ポンプ４６Ａ及び給気装置４６Ｂのオン・オフ（作動／非作動）を制御する。なお、真空ポンプ４６Ａ及び給気装置４６Ｂのオン・オフの制御を行う代わりに、排気枝管４０ｅ、給気枝管４０ｆにそれぞれ電磁バルブ等の不図示のバルブを介して真空ポンプ４６Ａ及び給気装置４６Ｂを接続し、これらのバルブの開閉制御を行っても良い。また、本実施形態の給排気機構７０に代えて、例えば米国特許第６，７１０，８５７号明細書に開示されるような、通常時の真空排気用の第１真空ポンプ、ウエハロード時に用いられる高速排気用の真空室及び第２真空ポンプ、及び給気装置を備えた給排気機構を用いても良い。

ここで、センターアップユニット８０の構成等について説明する。センターアップユニット８０は、図３に示されるように、複数、本実施形態では３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３と、該３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３を上下方向に駆動する駆動装置９４とを備えている。

駆動装置９４は、３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３が、その上面に取り付けられた本体ユニット９６と、本体ユニット９６がその上端面に固定された駆動軸９３と、該駆動軸９３を本体ユニット９６及び３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３と一体で上下方向に駆動する駆動機構９５とを有している。なお、３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３のうち、本体ユニット９６に取り付けられる部分を適宜「下端」あるいは「他端」とも称する。すなわち、３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３の下端とは、３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３の上端とは反対側の端部であって、本体ユニット９６に取り付けられる部位を含む。

本体ユニット９６は、ＸＹ平面に平行に配置され、下面が駆動軸９３の上端面に固定された板状の台座部材９１と、台座部材９１の上面に固定された本体部９２とを含む。駆動軸９３の軸心位置は、本体ユニット９６の重心位置にほぼ一致している。従って、駆動軸９３の軸心位置は、ウエハホルダＷＨ（ウエハ保持領域ＷＭＳ）の中心と一致している３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３の設置点を結ぶ三角形（本実施形態では正三角形）の重心位置に必ずしも一致しているとは限らない。

駆動機構９５は、駆動源として例えばモータ（例えばボイスコイルモータ又はリニアモータ）を含み、該モータの駆動力により駆動軸９３を上下方向に駆動する。駆動機構９５は、ステージ本体５２の底壁５２ａ上に固定されている。駆動機構９５は、主制御装置２０からの制御信号に基づき、駆動軸９３を介して本体ユニット９６及び３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３を所定の範囲、すなわち、前述した下限移動位置と上限移動位置との間で上下動させる。なお、駆動軸９３の軸心が、３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３の設置点を結ぶ正三角形の重心位置に一致していない場合には、本体ユニット９６及び３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３を正確にＺ軸方向に案内するガイド部材を設けることが望ましい。

本体ユニット９６の一部を構成する本体部９２は、図４に示されるように、平面視（上方（＋Ｚ方向）から見て）略矩形の板状部９２ａと、板状部９２ａの－Ｙ側の面のＸ軸方向中央部から－Ｙ側に突出した突出部９２ｂと、板状部９２ａの＋Ｙ側の端部のＸ軸方向両端部からＸ軸方向の外側にそれぞれ突出した突出部９２ｃ，９２ｄとを有する部材である。突出部９２ｂ、９２ｃ、９２ｄそれぞれの上面には、上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３が個別に取り付けられている。上下動ピンユニット３４_１～３４_３は、一例として平面視でほぼ正三角形の各頂点となる本体部９２上の位置に配置されている。

上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３は、取付箇所を除き、同様に取り付けられ、かつ同様に構成されている。ここでは、上下動ピンユニット３４_１を代表的に取り上げて、その構成及び取付部の構造について説明する。

突出部９２ｂの上面には、図６（及び図５）に示されるように、所定深さの円形の開口６９_１が形成されている。開口６９_１の内部に、図６に示されるように、上下動ピンユニット３４_１の下端がほぼ隙間がない状態で挿入され、これによって、上下動ピンユニット３４_１が本体部９２に固定されている。

上下動ピンユニット３４_１は、図５に示されるように、板ばねユニット６６_１、フレキシブルチューブ６７_１、及びピンヘッド６８_１が、組み合わされて構成されている。

板ばねユニット６６_１は、図５及び図７に示されるように、Ｚ軸方向に所定長さで伸びる板ばね７１（適宜、「変位部」とも称する）、板ばね７１の下端部（適宜「他端部」とも称する）に接続されたベースコネクタ７２、及び板ばね７１の上端部に接続されたヘッドコネクタ７３を含む。

板ばね７１は、ばね鋼などの金属薄板（薄肉の板状部材）から成る平板ばねであり、高さ方向（Ｚ軸方向）に所定の長さを有している。板ばね７１は、図６に示されるように、上端部及び下端部が残りの部分に比べて厚さの厚い厚肉部とされている。板ばね７１は、薄肉方向（図５、図６ではＹ軸方向）の剛性が、厚肉方向（図５ではＺ軸方向及びＸ軸方向）に比べて格段低くなっている。このため、板ばね７１は、外力を受けることで、ＹＺ面内で自在に変形（曲げ変形、たわみ変形）する。図６に示されるように、本実施形態においては、変位部としての板ばね７１は、上下動ピンユニット３４_１のうち上端（例えばピンヘッド６８_１）と下端（例えばベースコネクタ７２）の間に配置されている。

ベースコネクタ７２は、例えば図５に示されるように、高さ方向の中央部にフランジ部７４が設けられた段付き円筒状部材から成る。ベースコネクタ７２は、図７（Ａ）及び図７（Ｂ）に示されるように、上端部にフランジ部７４が設けられた第1の円筒部材７２Ａと、円筒部材７２Ａの内部に隙間がない状態で上方からその下端部の一部が挿入された第２の円筒部材７２Ｂとが一体化されて成る。第２の円筒部材７２Ｂは、第１の円筒部材７２Ａに比べて肉厚が薄い。第２の円筒部材７２Ａの内部に、その内部空間を２等分する状態で、板ばね７１の下端側の厚肉部が挿入され、両部材が一体的に接続されている。

板ばねユニット６６_１は、第２の円筒部材７２Ｂが、開口６９_１の内部に挿入され、フランジ部７４を介して突出部９２ｂによって下方から支持されている。すなわち、フランジ部７４は、板ばねユニット６６_１の落下防止部材として機能している。

ヘッドコネクタ７３は、第２の円筒部材７２Ｂと同様の円筒部材から成り、ヘッドコネクタ７３の内部に、その内部空間を２等分する状態で、板ばね７１の上端側の厚肉部が挿入され、両部材が一体的に接続されている。

フレキシブルチューブ６７_１は、円筒状の蛇腹部材（ベローズ）から成り、その内部に板ばねユニット６６_１が挿入された状態で、下端面がベースコネクタ７２のフランジ部７４の上面に接続されている。また、フレキシブルチューブ６７_１は蛇腹部材から成るため、Ｚ軸方向に幾分伸縮すると共に、屈曲が自在になっている。ただし、フレキシブルチューブ６７_１は、板ばね７１の剛性が高いＸ軸方向に関しては、板ばね７１によってその変形が阻止される。

ピンヘッド６８_１は、図５及び図６に示されるように、中央部に円形の段付き開口が形成された高さの低い厚肉の円筒状部材から成る。ピンヘッド６８_１に形成された段付き開口は、下側の内径（直径）が、上側の内径（直径）に比べて大きく、その下側の内径は、ヘッドコネクタ７３の外径とほぼ同じである。板ばねユニット６６_１のヘッドコネクタ７３が、ピンヘッド６８_１の段付き開口の段部に当接した状態で、両部材が一体化されることで、板ばねユニット６６_１とピンヘッド６８_１とフレキシブルチューブ６７_１とが、組み付けられている。この組み付け状態では、フレキシブルチューブ６７_１の上端面は、ピンヘッド６８_１の下面に僅かな隙間を介して対向している。なお、ピンヘッド６８_１の形状は上記に限定されず、例えば開口が矩形となっていても良いし、外形を角柱状の部材としても良い。

その他の上下動ピンユニット３４_２、３４_３は、上述した上下動ピンユニット３４_１と同様に構成され、それぞれ突出部９２ｃ、９２ｄの上面に取り付けられている。ただし、上下動ピンユニット３４_２は、その一部を構成する板ばね７１の面の法線方向（薄肉方向）がＸＹ平面内でＹ軸に対して＋６０度を成す方向に一致する状態で、突出部９２ｃに取り付けられている。また、上下動ピンユニット３４_３は、その一部を構成する板ばね７１の面の法線方向（薄肉方向）がＸＹ平面内でＹ軸に対して－６０度を成す方向に一致する状態で、突出部９２ｄに取り付けられている。すなわち、本実施形態では、上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３が個別に備える３つの板ばね７１の面の法線が、ＸＹ平面内において、上下動ピンユニット３４_１～３４_３の設置点（ＸＹ平面上の３点）を結ぶ正三角形の重心Ｇ（外心及び内心に一致）で交わるように、３つの板ばね７１の面の向きが設定されている（図４参照）。このため、上下動ピンユニット３４_１～３４_３は、外力の作用により、上端に位置するピンヘッド６８_１、６８_２、６８_３が、図４に示されるように、上記の重心Ｇ（ウエハホルダＷＨのウエハ保持領域ＷＭＳの中心にほぼ一致）を中心とする外接円の半径方向に移動する、すなわち前述のウエハホルダＷＨのウエハ保持領域ＷＭＳの中心から離れる方向または前記中心に近づく方向に移動するようになっている。また、上下動ピンユニット３４_１～３４_３は、それぞれの下端のベースコネクタ７２より上の部分が、上記半径方向及び鉛直軸（Ｚ軸）方向に直交する方向の軸周りに揺動（回動）するようになっている。

本体部９２の内部には、図６に、突出部９２ｂ付近を代表的に取り上げて示されるように、突出部９２ｂ、９２ｃ、及び９２ｄそれぞれの内部空間に連通する流路（空間）６０が形成されており、流路６０は、それぞれの突出部に取り付けられたベースコネクタ７２の第１の円筒部材７２Ａの内部に連通している。

上述の説明から分かるように、３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３が本体部９２に接続されると、本体部９２内の流路６０からピンヘッド６８_１～６８_３の段付き開口まで連通する流路が形成される。流路６０には、不図示の配管系を介して真空ポンプ４６Ｃ（図８参照）が接続されている。３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３によってウエハＷが下方から支持された状態で、主制御装置２０によって真空ポンプ４６Ｃを用いて流路６０内部が負圧に設定されることで、ウエハＷが裏面（下面）側から３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３の上端（ピンヘッド６８_１～６８_３）に吸着保持される。

図１に戻り、ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置情報（回転情報（ヨーイング量（θｚ方向の回転量θｚ）、ピッチング量（θｘ方向の回転量θｘ）、ローリング量（θｙ方向の回転量θｙ））を含む）は、レーザ干渉計システム(以下、「干渉計システム」と略記する)１８によって、移動鏡１６を介して、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。ここで、ウエハステージＷＳＴには、実際には、図２に示されるように、Ｙ軸に直交する反射面を有するＹ移動鏡１６ＹとＸ軸に直交する反射面を有するＸ移動鏡１６Ｘとが、固定されている。そして、これに対応して、Ｙ移動鏡１６Ｙ及びＸ移動鏡１６Ｘのそれぞれに測長ビームを照射するＹ干渉計及びＸ干渉計を含んで干渉計システム１８が構成されるが、図１では、これらが代表的に移動鏡１６、干渉計システム１８として図示されている。

干渉計システム１８の計測情報は、主制御装置２０に供給される（図８参照）。主制御装置２０は、干渉計システム１８の計測情報に基づいて、ステージ駆動系２４を介してウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置（θｚ方向の回転を含む）を制御する。なお、ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置は、干渉計システム１８に代えて、例えばスケール（回折格子）又はヘッドがウエハステージに搭載されるエンコーダシステムを用いて検出されても良い。

また、図１では図示が省略されているが、ウエハホルダＷＨに保持されたウエハＷの表面のＺ軸方向の位置及び傾斜量は、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書等に開示される斜入射方式の多点焦点位置検出系から成るフォーカスセンサＡＦ（図８参照）によって計測される。このフォーカスセンサＡＦの計測情報も主制御装置２０に供給される（図８参照）。

また、ウエハステージＷＳＴ上には、その表面がウエハＷの表面と同じ高さである基準板ＦＰ（図１及び図２参照）が固定されている。この基準板ＦＰの表面には、後述するレチクルアライメント検出系で検出される一対の第１マーク、及び後述するアライメント検出系ＡＳのベースライン計測等に用いられる第２マークを含む複数の基準マークが形成されている。

さらに、投影ユニットＰＵの鏡筒４５の側面には、ウエハＷに形成されたアライメントマーク及び基準マークを検出するアライメント検出系ＡＳが設けられている。アライメント検出系ＡＳとして、一例としてハロゲンランプ等のブロードバンド（広帯域）光でマークを照明し、このマーク画像を画像処理することによってマーク位置を計測する画像処理方式の結像式アライメントセンサの一種であるＦＩＡ（Field Image Alignment）系が用いられている。

露光装置１００では、さらに、レチクルステージＲＳＴの上方に、例えば米国特許第５，６４６，４１３号明細書等に開示される、露光波長の光を用いたＴＴＲ（Through The Reticle）アライメント系から成る一対のレチクルアライメント検出系１３（図１では不図示、図８参照）が設けられている。レチクルアライメント検出系１３の検出信号は、主制御装置２０に供給される（図８参照）。

図８には、露光装置１００の制御系を中心的に構成し、構成各部を統括制御する主制御装置２０の入出力関係を示すブロック図が示されている。主制御装置２０は、ワークステーション（又はマイクロコンピュータ）等を含み、露光装置１００の構成各部を統括制御する。

次に、上述のようにして構成された露光装置１００で行われる一連の動作を、ウエハ交換動作（ウエハのロード及びアンロード動作）を中心として説明する。

例えばロット先頭のウエハの処理に際しては、最初に、レチクルＲがレチクルステージＲＳＴ上にロードされ、主制御装置２０によって一対のレチクルアライメント検出系１３、基準板ＦＰ上の一対の第１マーク、及び第２マーク、並びにアライメント検出系ＡＳを用いて、例えば米国特許第５，６４６，４１３号明細書などに開示される手順に従ってレチクルアライメント及びアライメント検出系ＡＳのベースライン計測が行われる。

次いで、ウエハ交換位置（不図示）において、露光装置１００に例えばインライン接続されたコータ・デベロッパ（不図示）により感応材（レジスト）が塗布されたウエハＷがウエハステージＷＳＴのウエハホルダＷＨ上にロードされる。このウエハＷのロードは、以下の手順で行われる。なお、以下の説明では、ロードアーム、アンロードアーム等によるウエハの吸着及び吸着解除については、その説明を省略する。

まず、図９（Ａ）中に白抜き矢印で示されるように、ウエハ搬送系の一部を構成するロードアーム９７ＡによりウエハＷがウエハホルダＷＨ上方に搬送される。次いで、主制御装置２０により、図９（Ｂ）中に黒塗り矢印で示されるように、駆動装置９４を介して上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３が前述の上限移動位置に向けて＋Ｚ方向に駆動される。この移動の途中でロードアーム９７Ａに支持されているウエハＷが上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３によって下方から支持され、さらに上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３が上昇駆動されることで、ウエハＷが上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３によって下方から支持され、ロードアーム９７Ａから上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３に受け渡される。この受け渡しに先立って、真空ポンプ４６Ｃが、主制御装置２０によって作動されており、ウエハＷはその裏面が３つの上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３（ピンヘッド６８_１、６８_２、６８_３）によって吸着保持される。このとき、ウエハＷに上凸又は下凸の反り等の変形があった場合、ウエハＷは、その変形した状態のままで、３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３に吸着保持される。

次いで、図９（Ｂ）中に白抜き矢印で示されるように、ロードアーム９７ＡがウエハホルダＷＨの上方から退避する。このロードアーム９７Ａの退避後、主制御装置２０により、図１０（Ａ）中に黒塗り矢印で示されるように、駆動装置９４を介して上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３が前述の下限移動位置の近傍に向けて－Ｚ方向に駆動される。これにより、図１０（Ｂ）に示されるように、ウエハＷの裏面がウエハホルダＷＨのウエハ保持領域ＷＭＳに当接し、ウエハＷがウエハホルダＷＨ上に載置される。このとき、主制御装置２０によって、前述の真空ポンプ４６Ａが作動されており、ウエハＷは、ウエハホルダＷＨに真空吸着される。この場合において、ウエハＷに前述の上凸又は下凸の反り等の変形がある場合、ウエハＷは、ウエハホルダＷＨの吸引力により平坦化矯正される。このウエハＷの平坦化矯正の処理によりウエハＷが反りのない平坦な平面形状に戻ろうとする。このとき、ウエハＷから、ウエハＷの裏面を吸着している、３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３のピンヘッド６８_１～６８_３に対して、主としてウエハＷの中心を中心とする半径方向の力が、ウエハＷから加わる。例えば、図４に示されるように、－Ｙ側に配置された上下動ピンユニット３４_１のピンヘッド６８_１（ウエハ吸着部）には、Ｙ軸方向（±Ｙ方向）の力（図４中の矢印Ａ参照）及び／又はθｘ方向の力（図４中の矢印Ｂ参照）が作用し、これにより、上下動ピンユニット３４_１の板ばね７１が－Ｚ端を支点として曲げられる（撓む）、あるいは例えば＋Ｘ方向から見てＳ字状に撓むなどの変形を生じる。この板ばね７１の変形に応じてフレキシブルチューブ６７_１が変形する。板ばね７１の、前者の曲げ変形によりピンヘッド６８_１がθｘ方向に移動し、後者のＳ字状の撓み変形によりピンヘッド６８_１がＹ軸方向に移動する。このとき、フレキシブルチューブ６７_１は、その一部がウエハホルダＷＨ及びウエハテーブルＷＴＢの貫通孔８４内にあるため、貫通孔８４の内壁面にその外周面が接触することがある。しかるに、貫通孔８４と上下動ピンユニット３４_１との間には、所定の隙間があり、かつフレキシブルチューブ６７_１は自在に変形するので、かかるフレキシブルチューブ６７_１と貫通孔８４の内壁面との接触によって板ばね７１の変形が阻害されないようになっている。

その他の上下動ピンユニット３４_２、３４_３のピンヘッド６８_２、６８_３も、同様にして、ウエハＷ（ウエハホルダＷＨ）の半径方向又はチルト方向に移動する。上下動ピンユニット３４_２、３４_３においても、フレキシブルチューブ６７_２、６７_３のそれぞれと貫通孔８４の内壁面との接触によって板ばね７１の変形が阻害されないようになっている。従って、センターアップユニット８０では、ウエハＷの平坦化動作が、３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３による吸着保持力によって阻害されることがない。これにより、ウエハホルダＷＨに保持されるウエハＷに、３つの上下動ピンユニット３４_１～３４_３の吸着保持に起因して歪みが生じることが回避される。

ウエハＷのロード後、主制御装置２０により、アライメント検出系ＡＳを用いて、ウエハＷ上の複数のアライメントマークを検出するアライメント計測（例えばＥＧＡ）が実行される。これにより、ウエハＷ上の複数のショット領域の配列座標が求められる。なお、アライメント計測（ＥＧＡ）の詳細は、例えば、米国特許第４，７８０，６１７号明細書等に開示されている。

次いで、主制御装置２０により、アライメント計測の結果に基づいて、ウエハＷ上の複数のショット領域の露光のための加速開始位置にウエハＷを移動するショット間ステッピング動作と、前述の走査露光動作とを繰り返すステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行われ、ウエハＷ上の全ショット領域に、順次、レチクルＲのパターンが転写される。なお、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作は、従来と異なる点はないので、詳細説明は省略する。

露光が終了すると、露光済みのウエハＷが、以下の手順でウエハステージＷＳＴのウエハホルダＷＨからアンロードされる。

すなわち、まず、ウエハステージＷＳＴが所定のウエハ交換位置に移動し、主制御装置２０により、真空ポンプ４６Ａの作動が停止されるとともに給気装置４６Ｂの作動が開始され、給気装置４６Ｂから給排気口３６を介して加圧空気がウエハＷの裏面側に噴出される。これにより、ウエハＷがウエハホルダＷＨのウエハ保持領域ＷＭＳから浮上される。次いで、主制御装置２０により、駆動装置９４を介して上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３が、前述の移動上限位置に向けて＋Ｚ方向に駆動される。この上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３の上昇の途中で、ウエハＷが上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３に下方から支持され、上限移動位置まで持ち上げられる。なお、上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３が上昇する際に、上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３のそれぞれは、ウエハＷの裏面を吸着保持することもできる。

次いで、搬送系の一部を構成するアンロードアーム（不図示）が、上下動ピンユニット３４_１，３４_２，３４_３に支持されたウエハＷの下方に挿入される。次いで、主制御装置２０により上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３が所定の待機位置（上限移動位置と下限移動位置との間の所定の位置）まで下降駆動される（－Ｚ方向に駆動される）。この上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３の下降の途中で、ウエハＷが上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３からアンロードアームに受け渡される。なお、上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３のそれぞれが、ウエハＷの裏面を吸着保持している場合には、受け渡しの直前でその吸着が解除される。その後、アンロードアームは、ウエハＷを保持して退避する。その後、上述したウエハＷのロード以降の動作が、繰り返し行われて、ロット内の複数のウエハが順次処理される。ロットの処理の終了後、同様の処理が次のロットのウエハに対して繰り返し行われる。

以上説明したように、本実施形態に係る露光装置１００が備えるウエハステージＷＳＴによると、３つの上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３のピンヘッド６８_１、６８_２、６８_３によって裏面が吸着されたウエハＷが、ウエハホルダＷＨのウエハ保持領域ＷＭＳ（ウエハ載置面）に載置される際、ウエハホルダＷＨから吸着されて変形する（平坦化される）。その際、そのウエハＷの変形を阻害しないように、ウエハＷからの力（本実施形態で説明する外力の一例）を受けて上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３は、それぞれが有する板ばね７１が少なくとも一方向（薄肉方向）に変位し、これによりそれぞれピンヘッド６８_１、６８_２、６８_３を含む少なくとも一部が前述した各２方向（図４の矢印参照）のうちの少なくとも一方向に変位する。これにより、３つの上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３の吸着に起因するウエハＷの面内の歪の発生が抑制される。従って、ウエハＷが直径４５０ミリなどの大型のウエハであっても、３つの上下動ピンユニット３４_１、３４_２、３４_３によってウエハＷを安定的に下方から支持することができると共に、歪を殆ど生ずることなく、そのウエハＷをウエハホルダＷＨ上にロードすることが可能となる。

また、本実施形態に係る露光装置１００によると、歪みを殆ど生ずることなくウエハホルダＷＨ上にロードされたウエハＷに対して、ステップ・アンド・スキャン方式で露光が行われる。従って、レチクルＲのパターンを、既に形成されたパターンに対して精度良く重ね合わせてウエハＷ上の各ショット領域に転写することが可能になる。

なお、上記実施形態に係るウエハステージＷＳＴが備えるセンターアップユニット８０は、以下で説明する第１、第２の変形例のように種々変形が可能である。以下、センターアップユニットを中心として、変形例に係るウエハステージについて説明する。

《第１の変形例》
図１１（Ａ）には、第１の変形例に係るウエハステージが備えるセンターアップユニット１８０が、駆動軸９３及び駆動機構９５を除いて、斜視図にて示され、図１１（Ｂ）には、図１１（Ａ）に示されるセンターアップユニット１８０の平面図が示されている。

センターアップユニット１８０は、前述した実施形態の上下動ピンユニット３４_１～３４_３及び本体ユニット９６に代えて、３つの上下動ピン１３４及び本体ユニット１９６を備えている。

本体ユニット１９６は、平面視（上方（＋Ｚ方向）から見て）、正三角形の各頂点近傍を各頂点に対応する底辺に平行な線に沿って切り落としたような六角形の形状、すなわち短辺と長辺とが交互に接続されて成る六角形の形状を有している。本体ユニット１９６は、上記六角形の短辺をそれぞれ構成する３つの端面を有する平面視Ｙ字状のベース部材１９１と、ベース部材１９１の端面同士を連結し、上記六角形の長辺をそれぞれ構成する３つの板ばね１７１とを含んでいる。ベース部材１９１は、中心角１２０度間隔の３つの棒状部を有するＹ字状の部材から成り、６自由度方向に十分な剛性を有している。一方板ばね１７１は、ベース部材１９１の３つの棒状部先端同士を連結するように配置され、平面視において連結方向に直交する方向の剛性のみが他の方向に比べて低い（例えば、－Ｙ側に配置された板ばね１７１は、Ｙ軸方向の剛性が低い）。

３つの上下動ピン１３４それぞれは、３つの板ばね１７１の中央部にそれぞれ固定されている。３つの上下動ピン１３４それぞれは、６自由度方向に十分な剛性を有する円筒部材から成る。また、３つの上下動ピン１３４それぞれには、不図示の配管を介して不図示の真空ポンプなどのバキューム装置が接続されている。３つの上下動ピン１３４によってウエハＷが下方から支持された状態で、不図示のバキューム装置（例えば真空ポンプ）を介して３つの上下動ピン１３４内部の空間を負圧とすることで、ウエハＷが３つの上下動ピン１３４に吸着保持される。この吸着保持状態で、ウエハＷに平坦化矯正が施されるなどして、ウエハＷから３つの上下動ピン１３４に対しウエハＷの中心を中心とする半径方向の力が作用すると、３つの上下動ピン１３４のそれぞれが、その力の方向に移動する（図１１（Ａ）の両矢印参照）。

本第１の変形例に係るセンターアップユニット１８０を、センターアップユニット８０の代わりに有するウエハステージＷＳＴによっても、上記実施形態の露光装置１００と同等の効果を得ることができる。すなわち、ウエハＷのサイズが大きくなった場合であっても、センターアップユニット１８０の３つの上下動ピン１３４によってウエハＷを安定的に下方から支持することができると共に、ウエハＷの上下動ピン１３４による吸着保持に伴う歪みの発生、ひいてはウエハホルダへのロード後のウエハＷの歪みの発生を抑制又は回避することができる。

なお、上記実施形態及び第１の変形例では、センターアップユニットが３つの上下動部材（上下動ピンユニット又は上下動ピン）を有するものとした。しかし、センターアップユニットは、２つ又は４つ以上の上下動部材を有していても良く、例えば次の第２の変形例のように６つの上下動部材を有していても良い。

《第２の変形例》
図１２には、第２の変形例に係るウエハステージが備えるセンターアップユニット２８０の平面図が示されている。センターアップユニット２８０は、駆動軸９３の上面（＋Ｚ側の面）に固定された本体ユニット２９６を備えている。本体ユニット２９６は、平面視正六角形状の板部材から成る台座部材２９１と、台座部材２９１の上面に固定された平面視正六角形状の枠部材から成る本体部２９２とを含んで構成されている。本体ユニット２９６は、形状は異なるが、前述の本体ユニット９６と同様の機能を有している。

本体部２９２上面には、正六角形の各頂点の位置に、６つ（６本）の上下動ピンユニット２３４_１、２３４ａ、２３４_２、２３４ｂ、２３４_３、２３４ｃが、取り付けられている。

６つの上下動ピンユニットのうち、図１２において、－Ｙ側の端部に位置する上下動ピンユニット２３４_１を含む、正三角形の各頂点の位置に設置された３つの上下動ピンユニット２３４_１，２３４_２，２３４_３は、前述の実施形態に係る上下動ピンユニット３４_１などと同様に構成され、同様にして本体部２９２の上面に取り付けられている。

残りの３つの上下動ピンユニット２３４ａ、２３４ｂ、２３４ｃは、別の正三角形の各頂点の位置に設置されており、これらの上下動ピンユニット２３４ａ、２３４ｂ、２３４ｃでは、それぞれ、Ｚ軸方向の剛性のみ高く、他の方向の剛性が低い構造が採用されている。例えば、前述の板ばね７１に代えて、ロッド状のばね部材を採用し、前述の上下動ピンユニット３４_１等と同様に、上下動ピンユニット２３４ａ，２３４ｂ，２３４ｃを構成する。これにより、Ｚ軸方向の剛性のみ高く、他の方向の剛性が低い３つの上下動ピンユニット２３４ａ、２３４ｂ、２３４ｃが実現される。

３つの上下動ピンユニット２３４_１，２３４_２，２３４_３は、ピンヘッド（吸着部）を含む少なくとも一部が、吸着時のウエハからの力の作用により前述した正六角形の外接円の半径方向にそれぞれ変位し、残りの３つの上下動ピンユニット２３４ａ，２３４ｂ，２３４ｃは、ピンヘッド（吸着部）を含む少なくとも一部が、少なくとも前記外接円の半径方向及び接線方向に変位する。

本第２の変形例に係るセンターアップユニット２８０を、センターアップユニット８０の代わりに有するウエハステージＷＳＴによっても、上記実施形態と同等の効果を得ることができる。すなわち、ウエハＷのサイズが大きくなった場合であっても、センターアップユニット２８０の６本の上下動ピンユニットによってウエハＷを安定的に下方から支持することができると共に、ウエハＷの上下動ピンユニットによる吸着保持に伴う歪みの発生、ひいてはウエハホルダへのロード後のウエハＷの歪みの発生を抑制又は回避することができる。この場合、６点でウエハＷを支持するので、３００ｍｍウエハは勿論、より大型の４５０ｍｍウエハなどであってもより安定して支持することができる。

なお、上記実施形態及び第１の変形例では、３つの上下動部材を全て同じ構造（形状を含む）にするものとしたが、ウエハＷを下方からキネマティックに支持することができるのであれば、少なくとも１つの上下動ピンユニットの構造を他の上下動ピンユニットと異ならせても良い。例えば、典型的なキネマティック支持構造であるいわゆるケルビンクランプと同様の原理でウエハを支持する３つの上下動ピンユニットの組を採用しても良い。ここで、キネマティックとは、支持構造が持つ自由度（自由に動かせる軸の数）と物理的拘束条件の数が全部で６個になる場合を意味する。この条件は、課される物理的拘束が独立している（冗長度がない）ことと同じである。

かかる３つの上下動ピンユニットの組の一例としては、図１３に示されるように、吸着部６８（上記実施形態のピンヘッドなど）が上端部に設けられ、下端部が上下動可能なベース部材３９６（上記実施形態の本体ユニットなど）に固定された上下方向に伸びる棒状ばね部材３７１ａを含む第１の上下動ピンユニット３３４ａと、吸着部６８が上端部に設けられ、下端部がベース部材３９６に固定された板ばね部材３７１ｂを含む第２の上下動ピンユニット３３４ｂと、吸着部６８がボールジョイントを介して上端に設けられ、下端がベース部材３９６に固定された棒状部材３７１ｃを含む第３の上下動ピンユニット３３４ｃとの組が挙げられる。ここで、板ばね部材３７１ｂの面の法線方向（薄肉方向）が、Ｙ軸に平行であり、棒状部材３７１ｃと板ばね部材３７１ｂとを結ぶ方向がＹ軸に平行であるものとする。なお、この例では、変位部としての棒状ばね部材３７１ａ、変位部としての板ばね部材３７１ｂ、及び棒状部材３７１ｃそれぞれの下端部が、上下動ピンユニット３３４ａ、３３４ｂ、及び３３４ｃそれぞれの下端を担っている。

この場合、第１の上下動ピンユニット３３４ａでは、吸着部６８のＺ軸方向の移動のみが拘束され（残りの５自由度方向の移動が許容され）、第２の上下動ピンユニット３３４ｂでは、吸着部６８の２軸方向（Ｚ軸方向及びＸ軸方向）の移動とＹ軸回りの回転（θｙ回転）が拘束され（Ｙ軸方向の移動と、θｘ回転及びθｚ回転が許容され）、第３の上下動ピンユニット３３４ｃでは吸着部６８の直交３軸方向（Ｘ、Ｙ及びＺ軸方向）の移動のみが拘束される（θｘ、θｙ及びθｚ回転が許容される）。ただし、上下動ピンユニット３３４ａ～３３４ｃで、ウエハを吸着保持する場合、第３の上下動ピンユニット３３４ｃの吸着部６８により、ウエハの直交３軸方向の位置が拘束され、第２の上下動ピンユニット３３４ｂの吸着部６８により、Ｙ軸回りの回転（θｙ回転）とＺ軸回りの回転（θｚ回転）とがさらに拘束され、第３の上下動ピンユニット３３４ｃの吸着部６８により、Ｘ軸回りの回転（θｘ回転）がさらに拘束される。

なお、上記実施形態又は変形例（以下、「上記実施形態等」と称する）では、３つ又は６つの上下動ピンユニットがいずれも少なくともウエハを吸着保持した状態で、ウエハからの力の作用により少なくとも一軸方向に変位するものとしたが、これに限定されるものではない。すなわち、ウエハの自由な変形を阻害しないのであれば、３つ又は６つの上下動ピンユニットのうちの一部の上下動ピンユニットのみが、ウエハからの力の作用により変位する構成を採用しても良い。

なお、上記実施形態等では、露光装置が、液体（水）を介さずにウエハＷの露光を行うドライタイプの露光装置である場合について説明したが、これに限らず、例えば、欧州特許出願公開第１,４２０,２９８号明細書、国際公開第２００４／０５５８０３号、米国特許第６,９５２,２５３号明細書などに開示されているように、投影光学系とウエハとの間に照明光の光路を含む液浸空間を形成し、投影光学系及び液浸空間の液体を介して照明光でウエハを露光する露光装置にも上記実施形態等を適用することができる。

また、ウエハＷをウエハホルダＷＨにロードする際、ウエハに生じる歪を低減するために、ウエハホルダＷＨのリム部２８及び／又は複数のピン部３２の表面に低摩擦材（例えば、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）等）をコーティングすることができる。

また、上記実施形態等では、露光装置が、ステップ・アンド・スキャン方式等の走査型露光装置である場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置であっても良い。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置、プロキシミティー方式の露光装置、又はミラープロジェクション・アライナーなどにも上記実施形態は適用することができる。

また、上記実施形態等は、ツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば米国特許６，３４１，００７号、米国特許６，４００，４４１号、米国特許６，５４９，２６９号、米国特許６，５９０，６３４号、米国特許５，９６９，４４１号、および米国特許６，２０８，４０７号などに開示されている。

また、上記実施形態等の露光装置における投影光学系は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系ＰＬは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。また、前述の照明領域及び露光領域はその形状が矩形であるものとしたが、これに限らず、例えば円弧、台形、あるいは平行四辺形などでも良い。

なお、上記実施形態等の露光装置の光源は、ＡｒＦエキシマレーザに限らず、ＫｒＦエキシマレーザ（出力波長２４８ｎｍ）、Ｆ₂レーザ（出力波長１５７ｎｍ）、Ａｒ₂レーザ（出力波長１２６ｎｍ）、Ｋｒ₂レーザ（出力波長１４６ｎｍ）などのパルスレーザ光源、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などの輝線を発する超高圧水銀ランプなどを用いることも可能である。また、ＹＡＧレーザの高調波発生装置などを用いることもできる。この他、例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。

また、上記実施形態等では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことはいうまでもない。例えば、軟Ｘ線領域（例えば５～１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を用いるＥＵＶ露光装置に上記実施形態を適用することができる。その他、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、上記実施形態等は適用できる。

さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを、投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも上記実施形態等を適用することができる。

なお、上記実施形態等でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものでなく、ガラスプレート、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど他の物体でも良い。

露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも上記実施形態等を適用できる。

半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、上記実施形態等の露光装置（パターン形成装置）及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態等の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。

なお、これまでの説明で引用した露光装置などに関する全ての公報、国際公開、欧州特許出願公開明細書、米国特許出願公開明細書及び米国特許明細書の開示を援用して本明細書の記載の一部とする。

３４_１、３４_２、３４_３…上下動ピンユニット、６８…吸着部、６７_１～６７_３…フレキシブルチューブ、６８_１～６８_３…ピンヘッド、９６…本体ユニット、７１…板ばね、１００…露光装置、３７１ａ…棒状ばね部材、３７１ｂ…板ばね部材、３７１ｃ…棒状部材、ＩＬ…照明光、ＩＯＰ…照明系、ＰＬ…投影光学系、ＰＵ…投影ユニット、Ｗ…ウエハ、ＷＳＴ…ウエハステージ、ＷＭＳ…ウエハ保持領域、ＷＨ…ウエハホルダ。

Claims (21)

1. 基板を保持する基板保持装置であって、
   前記基板が吸着保持される基板保持部と、
   前記基板の裏面を吸着する吸着部を一端に有し、前記吸着部で前記基板の裏面を吸着した状態で、前記基板保持部に対して移動可能な複数の移動部材と、
   前記複数の移動部材のそれぞれの他端が固定され、前記複数の移動部材とともに移動可能なベース部材と、を備え、
   前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板から受ける力の作用により変位する前記移動部材は、前記吸着部と、前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定されたばね部材と、前記ばね部材の周囲を取り囲む屈曲自在の環状部材とを含み、
   前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する基板保持装置。
2. 基板を保持する基板保持装置であって、
   前記基板が吸着保持される基板保持部と、
   前記基板の裏面を吸着する吸着部を含む一端と、前記一端と反対側の他端を有し、前記一端で前記基板の裏面を吸着した状態で前記基板保持部に対してそれぞれ移動可能な複数の移動部材と、
   前記複数の移動部材のそれぞれの他端が固定され、前記複数の移動部材とともに移動可能なベース部材と、を備え、
   前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記一端と前記他端の間に配置されて前記基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する変位部を有し、
   前記吸着部を含む少なくとも一部が前記力の作用により変位する前記移動部材は、前記吸着部と、該吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定されたばね部材と、該ばね部材の周囲を取り囲む屈曲自在の環状部材とを含む基板保持装置。
3. 基板を保持する基板保持装置であって、
   前記基板が吸着保持される基板保持部と、
   前記基板の裏面を吸着する吸着部を一端に有し、該吸着部で前記基板の裏面を吸着した状態で、前記基板保持部に対して移動可能な３つの移動部材と、
   前記３つの移動部材のそれぞれの他端が固定され、前記３つの移動部材とともに移動可能なベース部材と、を備え、
   前記３つの移動部材は、それぞれ（ｉ）前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された棒状ばね部材、（ｉｉ）前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された板ばね部材、及び（ｉｉｉ）前記変位可能な吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された棒状部材を含み、
   前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する基板保持装置。
4. 基板を保持する基板保持装置であって、
   前記基板が吸着保持される基板保持部と、
   前記基板の裏面を吸着する吸着部を含む一端と、前記一端と反対側の他端を有し、前記一端で前記基板の裏面を吸着した状態で前記基板保持部に対してそれぞれ移動可能な３つの移動部材と、
   前記複数の移動部材のそれぞれの他端が固定され、前記複数の移動部材とともに移動可能なベース部材と、を備え、
   前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記一端と前記他端の間に配置されて前記基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する変位部を有し、
   前記３つの移動部材は、それぞれ（ｉ）前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された棒状ばね部材、（ｉｉ）前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された板ばね部材、及び（ｉｉｉ）前記変位可能な吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定された棒状部材を含む基板保持装置。
5. 前記各移動部材は、前記基板保持部の基板保持領域内で正多角形の頂点の位置に配置されている請求項１～４のいずれか一項に記載の基板保持装置。
6. 前記各移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記正多角形の外接円の半径方向にそれぞれ変位する請求項５に記載の基板保持装置。
7. 前記移動部材は、６つ設けられ、
   前記６つの移動部材のうち、互いに隣接しない３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記外接円の半径方向にそれぞれ変位し、残りの３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、少なくとも前記外接円の半径方向及び接線方向に変位する請求項６に記載の基板保持装置。
8. 基板を保持する基板保持装置であって、
   前記基板が吸着保持される基板保持部と、
   前記基板の裏面を吸着する吸着部を一端に有し、該吸着部で前記基板の裏面を吸着した状態で、前記基板保持部に対して移動可能な６つの移動部材と、を備え、
   前記６つの移動部材のうちの少なくとも１つは、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位し、
   前記各移動部材は、前記基板保持部の基板保持領域内で正多角形の頂点の位置に配置され、
   前記各移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記正多角形の外接円の半径方向にそれぞれ変位し、
   前記６つの移動部材のうち、互いに隣接しない３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記外接円の半径方向にそれぞれ変位し、残りの３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、少なくとも前記外接円の半径方向及び接線方向に変位する基板保持装置。
9. 基板を保持する基板保持装置であって、
   前記基板が吸着保持される基板保持部と、
   前記基板の裏面を吸着する吸着部を含む一端と、前記一端と反対側の他端を有し、該一端で前記基板の裏面を吸着した状態で前記基板保持部に対してそれぞれ移動可能な６つの移動部材と、を備え、
   前記６つの移動部材のうちの少なくとも１つは、前記一端と前記他端の間に配置されて前記基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する変位部を備えてなり、
   前記各移動部材は、前記基板保持部の基板保持領域内で正多角形の頂点の位置に配置され、
   前記各移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記正多角形の外接円の半径方向にそれぞれ変位し、
   前記６つの移動部材のうち、互いに隣接しない３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記外接円の半径方向にそれぞれ変位し、残りの３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、少なくとも前記外接円の半径方向及び接線方向に変位する基板保持装置。
10. 上端面が前記ベース部材の下面に固定された駆動軸と、
    前記駆動軸を駆動する駆動装置と、を備え、
    前記駆動軸の軸心位置は前記ベース部材の重心と略一致している請求項１～９のいずれか一項に記載の基板保持装置。
11. 基板を保持する基板保持装置であって、
    前記基板が吸着保持される基板保持部と、
    前記基板の裏面を吸着する吸着部を一端に有し、該吸着部で前記基板の裏面を吸着した状態で、前記基板保持部に対して移動可能な複数の移動部材と、
    上端面がベース部材の下面に固定された駆動軸と、
    前記駆動軸を駆動する駆動装置と、を備え、
    前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記基板保持部の中央部付近に配置され、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位し、
    前記少なくとも１つの移動部材は、前記吸着部と、前記吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定されたばね部材と、を含む基板保持装置。
12. 基板を保持する基板保持装置であって、
    前記基板が吸着保持される基板保持部と、
    前記基板の裏面を吸着する吸着部を含む一端と、前記一端と反対側の他端を有し、該一端で前記基板の裏面を吸着した状態で前記基板保持部に対してそれぞれ移動可能な複数の移動部材と、
    上端面がベース部材の下面に固定された駆動軸と、
    前記駆動軸を駆動する駆動装置と、を備え、
    前記複数の移動部材のうちの少なくとも１つは、前記基板保持部の中央部付近に配置され、前記一端と前記他端の間に配置されて前記基板から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する変位部を有し、
    前記変位部を有する移動部材は、前記吸着部と、該吸着部が一端部に設けられ、他端部が前記ベース部材に固定されたばね部材と、を含む基板保持装置。
13. 前記各移動部材は、前記基板保持部の基板保持領域内で正多角形の頂点の位置に配置されている請求項１１または１２に記載の基板保持装置。
14. 前記各移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記正多角形の外接円の半径方向にそれぞれ変位する請求項１３に記載の基板保持装置。
15. 前記移動部材は、６つ設けられ、
    前記６つの移動部材のうち、互いに隣接しない３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、前記力の作用により前記外接円の半径方向にそれぞれ変位し、残りの３つの移動部材は、前記吸着部を含む少なくとも一部が、少なくとも前記外接円の半径方向及び接線方向に変位する請求項１４に記載の基板保持装置。
16. 前記駆動装置は、駆動軸を垂直方向に駆動する 請求項１０～１５のいずれか一項に記載の基板保持装置。
17. 前記駆動軸の軸心位置は、前記基板保持部の中心と一致していない請求項１０～１６のいずれか一項に記載の基板保持装置。
18. 前記駆動軸の軸心位置は、前記基板保持部の基板保持領域の中心と一致していない請求項１０～１７のいずれか一項に記載の基板保持装置。
19. 前記少なくとも一方向は水平面に沿っている請求項１～１５のいずれか一項に記載の基板保持装置。
20. 感応剤が塗布された基板をエネルギビームにより露光する露光装置であって、
    前記基板を前記基板保持部に保持する請求項１～１９のいずれか一項に記載の基板保持装置と、
    前記基板を前記エネルギビームで露光して前記基板上にパターンを生成するパターン生成装置と、を備える露光装置。
21. 請求項２０に記載の露光装置を用いて感応剤が塗布された基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
    

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