


本発明は、超音波洗浄装置及び超音波洗浄システムに関し、特に、洗浄液が充填された洗浄容器内に被洗浄物を収容した状態で超音波洗浄を施す超音波洗浄装置及び超音波洗浄システムに関する。 The present invention relates to an ultrasonic cleaning apparatus and an ultrasonic cleaning system, and more particularly to an ultrasonic cleaning apparatus and an ultrasonic cleaning system that perform ultrasonic cleaning in a state where an object to be cleaned is contained in a cleaning container filled with a cleaning liquid.
超音波洗浄装置は、超音波振動子が槽底面等に取り付けられてなる超音波洗浄槽内の液体中に被洗浄物を浸漬し、超音波振動子から超音波を照射して液体中に生じるキャビテーションなどの作用により被洗浄物の汚れを剥離、分散等させる。このような超音波洗浄装置において、超音波洗浄槽内の液体に直接被洗浄物を浸漬するのではなく、密閉の洗浄容器内に洗浄液と共に被洗浄液を収容し、この洗浄容器の少なくとも一部を超音波洗浄槽内の液体に接触させて超音波洗浄するものがある。 An ultrasonic cleaning device immerses an object to be cleaned in a liquid in an ultrasonic cleaning tank in which an ultrasonic vibrator is attached to the bottom of the tank and the like, and is generated in the liquid by irradiating ultrasonic waves from the ultrasonic vibrator. The dirt on the object to be cleaned is peeled off and dispersed by the action of cavitation or the like. In such an ultrasonic cleaning apparatus, the object to be cleaned is not directly immersed in the liquid in the ultrasonic cleaning tank, but the liquid to be cleaned is accommodated in the sealed cleaning container together with the cleaning liquid, and at least a part of the cleaning container is accommodated. There are some which perform ultrasonic cleaning by contacting the liquid in the ultrasonic cleaning tank.
  例えば、特許文献1の図3においては、被洗浄物であるコンタクトレンズを洗浄容器内に収容し、超音波洗浄槽に溜められた水に、該洗浄容器の一部を浸漬させて配設し、コンタクトレンズの洗浄を行う装置が開示されている。このように、洗浄容器内に被洗浄物を収容するタイプの場合、洗浄容器内に充填する洗浄液として、種々の溶液や薬液を用いても外部に飛散するおそれがないなどの利点がある。  For example, in FIG. 3 of
  特許文献1の図3に示された装置は、超音波洗浄槽内に平行に2本のローラ部材を配設し、このローラ部材に洗浄容器を支持させ、一方のローラ部材を回転させることで洗浄容器を回転させるものである。しかし、この装置では、洗浄容器は2本のローラ部材の中心よりも上部で支持される。このため、洗浄容器を支持した状態で超音波洗浄槽内の水に接触させるには、ローラ部材のほとんどの部分が水中に浸漬されるように設ける必要がある。ローラ部材をこのように常時水没した状態で設けた場合、軸受け部分におけるシール対策を考慮しなければならないし、メンテナンス作業も面倒である。  In the apparatus shown in FIG. 3 of
本発明は上記に鑑みなされたものであり、被洗浄物を洗浄容器内に収容して洗浄するタイプであって、洗浄容器の一部を超音波洗浄槽内の液体と接触可能である一方、洗浄容器を支持する容器支持部材を超音波洗浄槽内の液体と接触しないように設け、構造が簡易でメンテナンス作業も容易な超音波洗浄装置及び超音波洗浄システムを提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above, and is a type in which an object to be cleaned is accommodated in a cleaning container and cleaned, and a part of the cleaning container can be brought into contact with the liquid in the ultrasonic cleaning tank, It is an object of the present invention to provide an ultrasonic cleaning apparatus and an ultrasonic cleaning system which are provided with a container supporting member for supporting a cleaning container so as not to come into contact with the liquid in the ultrasonic cleaning tank, have a simple structure, and facilitate maintenance work.
上記課題を解決するため、本発明の超音波洗浄装置は、液体が収容される超音波洗浄槽を有する超音波洗浄装置であって、洗浄液と共に被洗浄物が密閉的に収容された洗浄容器を、前記超音波洗浄槽内の液体に一部を接触させて支持する容器支持部材が、前記超音波洗浄槽外に設けられ、かつ、前記洗浄容器を前記容器支持部材に支持させた状態で回転させる回転制御手段が設けられていることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, an ultrasonic cleaning apparatus of the present invention is an ultrasonic cleaning apparatus having an ultrasonic cleaning tank in which a liquid is stored, and includes a cleaning container in which an object to be cleaned is stored together with a cleaning liquid. A container support member that supports a part of the liquid in the ultrasonic cleaning tank in contact with the liquid is provided outside the ultrasonic cleaning tank, and rotates while the cleaning container is supported by the container support member. Rotation control means is provided.
前記容器支持部材が、前記超音波洗浄槽に収容される液体の最高液面高さよりも上方に配置された2本一対のローラ部材からなり、前記ローラ部材間の間隔が、横置きに配置される前記洗浄容器の直径未満であって、前記ローラ部材間から前記洗浄容器の周面の一部が下方に突出し、前記超音波洗浄槽内の液体に接触可能な間隔で設定されていることが好ましい。前記容器支持部材を構成する2本一対の前記ローラ部材は、軸心を中心として回転可能に設けられ、前記回転制御手段は、前記ローラ部材の少なくとも一方を回転させる構成であることが好ましい。 The container support member is composed of a pair of two roller members disposed above the maximum liquid level of the liquid stored in the ultrasonic cleaning tank, and the interval between the roller members is disposed horizontally. The diameter of the cleaning container is less than the diameter of the cleaning container, and a part of the peripheral surface of the cleaning container protrudes downward from between the roller members and is set at an interval that allows contact with the liquid in the ultrasonic cleaning tank. preferable. It is preferable that the pair of two roller members constituting the container support member are provided to be rotatable around an axis, and the rotation control means is configured to rotate at least one of the roller members.
本発明の超音波洗浄システムは、液体が収容される超音波洗浄槽を有する超音波洗浄装置と、洗浄液と共に被洗浄物が密閉的に収容されて使用される洗浄容器とを具備する超音波洗浄システムであって、前記超音波洗浄装置が、前記超音波洗浄槽外に設けられると共に、前記超音波洗浄槽内の液体に前記洗浄容器の一部を接触させて支持可能な容器支持部材と、前記洗浄容器を前記容器支持部材に支持させた状態で回転させる回転制御手段とを有することを特徴とする。 An ultrasonic cleaning system according to the present invention includes an ultrasonic cleaning apparatus having an ultrasonic cleaning tank in which a liquid is stored, and a cleaning container in which an object to be cleaned is stored and used together with a cleaning liquid. A container support member that is provided outside the ultrasonic cleaning tank, and that can be supported by bringing a part of the cleaning container into contact with the liquid in the ultrasonic cleaning tank; Rotation control means for rotating the cleaning container while being supported by the container support member.
前記容器支持部材が、前記超音波洗浄槽に収容される液体の最高液面高さよりも上方に配置された2本一対のローラ部材からなり、前記ローラ部材間の間隔が、横置きに配置される前記洗浄容器の直径未満であって、前記ローラ部材間から前記洗浄容器の周面の一部が下方に突出し、前記超音波洗浄槽内の液体に接触可能な間隔で設定されていることが好ましい。前記容器支持部材を構成する2本一対の前記ローラ部材は、軸心を中心として回転可能に設けられ、前記回転制御手段は、前記ローラ部材の少なくとも一方を回転させる構成であることが好ましい。 The container support member is composed of a pair of two roller members disposed above the maximum liquid level of the liquid stored in the ultrasonic cleaning tank, and the interval between the roller members is disposed horizontally. The diameter of the cleaning container is less than the diameter of the cleaning container, and a part of the peripheral surface of the cleaning container protrudes downward from between the roller members and is set at an interval that allows contact with the liquid in the ultrasonic cleaning tank. preferable. It is preferable that the pair of two roller members constituting the container support member are provided to be rotatable around an axis, and the rotation control means is configured to rotate at least one of the roller members.
前記洗浄容器が、筒状本体部と、前記筒状本体部に設けられた被洗浄物の収容口を密閉する密閉蓋とを有してなり、前記容器支持部材を構成する2本一対の前記ローラ部材に横置きに配置されることが好ましい。前記洗浄容器内に撹拌手段が設けられていることが好ましく、また、前記洗浄容器に圧力調整機構が設けられていることが好ましい。 The cleaning container includes a cylindrical main body portion and a sealing lid that seals an accommodation port of an object to be cleaned provided in the cylindrical main body portion, and the two pairs of the above-described container constituting the container support member It is preferable that the roller member is disposed horizontally. It is preferable that a stirring means is provided in the cleaning container, and it is preferable that a pressure adjusting mechanism is provided in the cleaning container.
本発明は、超音波洗浄槽内の液体に洗浄容器の一部が接触し得るように支持する容器支持部材を超音波洗浄槽外に備えてなる。従って、洗浄容器を容器支持部材に支持させた状態で回転させると、超音波洗浄槽内の液体を介して洗浄容器内に超音波が照射され、洗浄容器内の被洗浄物の汚れを除去することができる。本発明によれば、容器支持部材が超音波洗浄槽外に配置されているため、容器支持部材のシール対策は簡易でよく、メンテナンス作業も容易で、製造コスト、メンテナンスコストの低減に寄与する。 The present invention includes a container support member that supports the liquid in the ultrasonic cleaning tank so that a part of the cleaning container can come into contact with the liquid inside the ultrasonic cleaning tank. Accordingly, when the cleaning container is rotated while being supported by the container support member, ultrasonic waves are irradiated into the cleaning container via the liquid in the ultrasonic cleaning tank, and the dirt of the object to be cleaned in the cleaning container is removed. be able to. According to the present invention, since the container support member is disposed outside the ultrasonic cleaning tank, the measures for sealing the container support member may be simple, the maintenance work is easy, and the manufacturing cost and the maintenance cost are reduced.
  以下、本発明の実施形態を図面に基づいて更に詳しく説明する。超音波洗浄システム1は、図1〜図3に示したように、超音波洗浄装置10と洗浄容器20とを有して構成される。  Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 to 3, the
  超音波洗浄装置10は、平面視で上面開口の略長方形に形成され、所定の深さに形成された超音波洗浄槽11を有している。超音波洗浄槽11は、図3に示したように、槽底面11aの裏面側に、超音波振動子11bが固着されており、超音波振動子11bに発振回路(図示せず)の出力信号が入力される。超音波洗浄槽11内には液体が貯留されている。本実施形態の場合、この液体は、被洗浄物に直接接触して洗浄する液体ではなく、洗浄容器20に超音波を伝播させるために使用される液体であり、例えば水が用いられる。超音波振動子11bに発振回路(図示せず)の出力信号が入力されると、超音波洗浄槽11内の液体(例えば水)に超音波が照射される。  The
  超音波洗浄槽11外である、該超音波洗浄槽11の周囲に位置する超音波洗浄装置10の上縁部12には、容器支持部材としての2本一対のローラ部材13,14が設けられている。ローラ部材13,14は、金属又は合成樹脂製の棒状部材の周面にシート状のゴム等の滑り止め部材が巻き付けられてなり、超音波洗浄槽11の幅方向に所定間隔をおいて略平行に設けられている。ローラ部材13,14の各一端部及び各他端部は、上縁部12の前端縁側に設けた軸受け部121,122と後端縁側に設けた軸受け部123,124にそれぞれ軸支され、軸心を中心に回転可能に設けられている。  A pair of two
  ローラ部材13,14間の間隔は、より具体的には、洗浄容器20の直径未満の間隔であって、かつ、洗浄容器20を横置きの姿勢で支持した際に、ローラ部材13,14間から該洗浄容器20の周面の一部21aが下方に突出し、超音波洗浄槽11内に貯留された液体(例えば水)に接触可能な間隔で設定される(図3(b)参照)。これにより、容器支持部材であるローラ部材13,14が、超音波洗浄装置10の上縁部12、すなわち、超音波洗浄槽11に収容される液体の最高液面高さよりも上方に配置されているにも拘わらず、洗浄容器20が 超音波洗浄槽11内に貯留された液体に接触することができる。但し、超音波洗浄槽11内の液体と接触する洗浄容器20の一部21aが、超音波洗浄槽11の槽底面11aに接触しないように、上記ローラ部材13,14の設置高さを調整する。  More specifically, the distance between the
  ローラ部材13,14は、回転制御手段15により回転する。本実施形態の回転制御手段15は、モータ15a、ベルト部材15b、プーリ15c,15d等を介して回転する。プーリ15c,15dは、ぞれぞれローラ部材13,14の端部に連結されており、モータ15aの出力軸とこれらのプーリ15c,15dにベルト部材15bが巻き掛けられ、モータ15aの回転力が伝達され、各ローラ部材13,14は、軸心を中心に円周方向に回転する。なお、回転制御手段15は、ローラ部材13,14を回転させることができればよく、このようなベルト部材15b及びプーリ15c,15dを用いたものに限定されるものではないし、また、ベルト部材15bの巻きかけ方も限定されるものではない。例えば、モータ15aの回転力をローラ部材13,14のうちの一方のみに伝達する構成とし、他方のローラ部材は、洗浄容器20の回転を介して従動して回転する構成としてもよい。  The
  ここで、超音波洗浄装置10の上縁部12の前端縁側に設けた軸受け部121,122は、図1及び図2(a),(b)等に示したように、上縁部12よりも上方に所定の高さ突出すると共に、前端部121a,122a間の幅が狭く、後端部121b,122bが超音波洗浄槽11の前端側角部111,112付近となるように、略ハ字状に形成されている。これにより、超音波洗浄槽11内の液体を廃棄する際に、軸受け部121,122の内面が、通過する液体の流路を形成するガイド壁となり、液体を所定方向に円滑に流して廃棄することができる。  Here, the
  洗浄容器20は、筒状本体部21と、筒状本体部21に設けられた被洗浄物の収容口を密閉する密閉蓋22とを有してなる。筒状本体部21の直径や長さ、あるいは収容口の大きさは被洗浄物の種類により種々のサイズとすることができることはもちろんであり、そのサイズに応じてローラ部材13,14間の間隔が上記のように決定される。洗浄容器20は、上記のように筒状本体部21をローラ部材13,14間に支持されるように横置きに配置され、ローラ部材13,14間から周面の一部21aが下方に突出し、超音波洗浄槽11内の液体と接触する。  The cleaning
  洗浄容器20内には、被洗浄物と共に洗浄液が充填される。洗浄液の種類は、被洗浄物の種類に応じて種々のものが用いられる。筒状本体部21が密閉蓋22により密閉され、ローラ部材13,14により回転される構成であるため、効率的に洗浄でき、使用する洗浄液量は、超音波洗浄槽11内に直接洗浄液を充たして使用する場合と比較して少なくてすむ。また、密閉式であるため、有機溶剤を洗浄液として用いた場合でも溶剤のふきこぼれや蒸散を防ぎ、さらに、水と混ざらないので安全性も高い。  The cleaning
  洗浄容器20は、ローラ部材13,14の回転により所定方向に回転し、内部の被洗浄物を撹拌する。被洗浄物の汚れは、基本的には、超音波洗浄槽11内に照射された超音波が洗浄容器20内の洗浄液に伝播され、洗浄液中に生じるキャビテーション、液体の振動による加速度、あるいは超音波の伝播方向に生じる直進流により汚れが剥離され、洗浄液中に分散されて洗浄されるが、洗浄力をより高めるために、洗浄容器20内に撹拌手段を設けることが好ましい。撹拌手段としては、例えば、洗浄容器20の内周面に螺旋状に突設させた羽部材(図示せず)や、洗浄容器20の中心に沿って配設した回転軸に設けた羽部材(図示せず)等を採用することができる。但し、収容する被洗浄物がそれらの撹拌手段に接触することで損傷などを来さないように、被洗浄物の種類に応じて適切なものが選択されることはもちろんである。  The cleaning
  また、例えば、複数の被洗浄物を個別に洗浄する場合(コンタクトレンズなど)に備えて、筒状本体部21内が複数室に区分される構成とすることもできる。この場合には、被洗浄物をそれぞれの室に収容できるように、例えば、収容口や密閉蓋22は各室に対応して設けられる。  Further, for example, a configuration in which the inside of the cylindrical
  本実施形態では、洗浄容器20内に被洗浄物及び洗浄液を収容する。次に、この洗浄容器20をローラ部材13,14間に横置きになるように載置する。このように載置すると、ローラ部材13,14間に位置する洗浄容器20の周面の一部21aが下方に突出し、超音波洗浄槽11内に収容された液体(例えば水)に接触する。この状態で、操作パネル10aを操作して、発振回路(図示せず)の出力信号を超音波振動子11bに供給すると、超音波が超音波振動子11bから超音波洗浄槽11内の液体に照射され、さらに、洗浄容器20のうち、超音波洗浄槽11内の液体に接触している周面の一部21aから、洗浄容器20内の洗浄液に超音波が伝播され、キャビテーション等の作用により被洗浄物の汚れが剥離されていく。  In the present embodiment, an object to be cleaned and a cleaning liquid are stored in the cleaning
  操作パネル10aを操作して超音波振動子11bを駆動させると、本実施形態の場合、回転制御手段15のモータ15aも駆動させれ、ベルト部材15b、プーリ15c,15dを介してローラ部材13,14が回転する。ローラ部材13,14が回転すると、洗浄容器20は、ローラ部材13,14の回転方向と反対方向に回転し、超音波洗浄槽11内の液体に接触する位置が円周方向に変化しながら接触していく。これにより、洗浄容器20内の洗浄液が撹拌され、被洗浄物の汚れをさらに落としやすくし、被洗浄物をむらなく洗浄していく。  When the
  所定時間使用して後、超音波洗浄槽11内の液体を廃棄する場合には、超音波洗浄装置10を前端縁側が下向きになるように傾斜させる。これにより、液体が、軸受け部121,122の内面をガイドにして所定方向に流れ、所定の場所に確実に廃棄することができる。ここで、ローラ部材13,14が仮に超音波洗浄槽11内の液体と常に接触している構成にすると、所定のシール対策を施した構造とする必要があり、また、メンテナンス作業を行う頻度が高くなるが、本実施形態によれば、ローラ部材13,14の配設位置が超音波洗浄槽11外であるため、特別なシール対策が不要となるため、製造コストを低減できると共に、メンテナンス作業の頻度を低減でき、取り扱いが容易となってメンテナンスコストも抑制することができる。  When the liquid in the
  なお、洗浄容器20としては、上記したものに限らず、例えば、筒状本体部21又は密閉蓋22に圧力調整弁等の圧力調整機構(図示せず)を設けた構成とすることもできる。洗浄液として低沸点の有機溶剤を使用した場合などにおいて、洗浄容器20の圧力上昇を防ぐことができる。また、筒状本体部21又は密閉蓋22のうちの少なくとも一部を透明又は半透明にして収容された洗浄物を外部から視認できる構成としておけば、洗浄状態の視覚的な把握に役立つ。また、洗浄容器20として、筒状本体部21又は密閉蓋22の長さ(軸心方向に沿った長さ)の短いものを用い、ローラ部材13,14間に、縦列で複数配置するようにしてもよい。これによれば、異なる被洗浄物を個別に収容して同時に洗浄することができる。また、洗浄液も洗浄容器20毎に異なるものとすることもできる。  Note that the cleaning
  また、超音波洗浄槽11には、液体の貯留量を検出するセンサ(液面センサなど)や、洗浄容器20と液体とが接触しているか否かを検知するセンサなどを設けておくことが好ましい。例えば、液面センサにより液体の貯留量が所定以下と検知された場合に警告を発したり、超音波振動子11b等の駆動を停止したりする構成とすることで、いわゆる空焚きを防止することができる。  The
  1  超音波洗浄システム
  10  超音波洗浄装置
  11  超音波洗浄槽
  11b  超音波振動子
  12  上縁部
  13,14  ローラ部材
  15  回転制御手段
  121,122,123,124  軸受け部
  20  洗浄容器
  21  筒状本体部
  22  密閉蓋DESCRIPTION OF
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title | 
|---|---|---|---|
| JP2010229143AJP5636545B2 (en) | 2010-10-08 | 2010-10-08 | Ultrasonic cleaning device and ultrasonic cleaning system | 
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title | 
|---|---|---|---|
| JP2010229143AJP5636545B2 (en) | 2010-10-08 | 2010-10-08 | Ultrasonic cleaning device and ultrasonic cleaning system | 
| Publication Number | Publication Date | 
|---|---|
| JP2012081404A JP2012081404A (en) | 2012-04-26 | 
| JP5636545B2true JP5636545B2 (en) | 2014-12-10 | 
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date | 
|---|---|---|---|
| JP2010229143AExpired - Fee RelatedJP5636545B2 (en) | 2010-10-08 | 2010-10-08 | Ultrasonic cleaning device and ultrasonic cleaning system | 
| Country | Link | 
|---|---|
| JP (1) | JP5636545B2 (en) | 
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title | 
|---|---|---|---|---|
| JP2503799B2 (en) | 1991-03-20 | 1996-06-05 | 双葉電子工業株式会社 | Graphic fluorescent display tube | 
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title | 
|---|---|---|---|---|
| WO2014124542A1 (en)* | 2013-02-14 | 2014-08-21 | Acden Technologies Ltd. | A method and apparatus for cleaning a workpiece using ultrasonics | 
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title | 
|---|---|---|---|---|
| JPH0345524U (en)* | 1989-09-08 | 1991-04-26 | ||
| JPH0413114A (en)* | 1990-05-02 | 1992-01-17 | Honda Electron Co Ltd | Method for cleaning contact lens | 
| US6523553B1 (en)* | 1999-03-30 | 2003-02-25 | Applied Materials, Inc. | Wafer edge cleaning method and apparatus | 
| US8329113B2 (en)* | 2009-03-16 | 2012-12-11 | Atrion Medical Products, Inc. | Additive effect enhanced hydrogen peroxide disinfection method and apparatus | 
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title | 
|---|---|---|---|---|
| JP2503799B2 (en) | 1991-03-20 | 1996-06-05 | 双葉電子工業株式会社 | Graphic fluorescent display tube | 
| Publication number | Publication date | 
|---|---|
| JP2012081404A (en) | 2012-04-26 | 
| Publication | Publication Date | Title | 
|---|---|---|
| US5593505A (en) | Method for cleaning semiconductor wafers with sonic energy and passing through a gas-liquid-interface | |
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| JPH0413114A (en) | Method for cleaning contact lens | 
| Date | Code | Title | Description | 
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination | Free format text:JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date:20130906 | |
| A977 | Report on retrieval | Free format text:JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date:20140509 | |
| A131 | Notification of reasons for refusal | Free format text:JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date:20140520 | |
| A521 | Request for written amendment filed | Free format text:JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date:20140717 | |
| A131 | Notification of reasons for refusal | Free format text:JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date:20140807 | |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) | Free format text:JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date:20140919 | |
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| R250 | Receipt of annual fees | Free format text:JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 | |
| R250 | Receipt of annual fees | Free format text:JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 | |
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |