JP5375057B2 - Stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stage unit capable of preventing a body held on a stage together with a movable member from deforming, and to provide an exposure apparatus and a device manufacturing method. <P>SOLUTION: The stage unit includes a first base portion for holding the body, a second base portion for holding a movable portion capable of moving to and away from the first base portion, and a base support portion provided on the first base portion and supporting the second base portion in a non-restriction state in an opposite direction opposed to a load direction of the second base portion. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

Translated fromJapanese

本発明は、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法に関する。  The present invention relates to a stage apparatus, an exposure apparatus, and a device manufacturing method.

液晶表示デバイスや半導体デバイス等のマイクロデバイスは、成膜処理、露光処理及びエッチング処理等の所定のプロセス処理を複数回繰り返し、基板上に複数のパターンを積層することで製造される。露光処理においては、マスクに形成されているパターンを感光性の基板上に転写する露光装置が用いられる。  A micro device such as a liquid crystal display device or a semiconductor device is manufactured by repeating a predetermined process such as a film forming process, an exposure process, and an etching process a plurality of times and laminating a plurality of patterns on a substrate. In the exposure process, an exposure apparatus that transfers a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate is used.

露光装置としては、基板上にマスクのパターン全体を同時に転写する一括型露光装置と、マスクステージと基板ステージとを同期走査しつつマスクのパターンを連続的に基板上に転写する走査型露光装置との２種類が主に知られている。このうち、液晶表示デバイスを製造する際には、表示領域の大型化の要求から走査型露光装置が主に用いられている。  The exposure apparatus includes a batch exposure apparatus that simultaneously transfers the entire mask pattern onto the substrate, and a scanning exposure apparatus that continuously transfers the mask pattern onto the substrate while synchronously scanning the mask stage and the substrate stage. The two types are mainly known. Among these, when manufacturing a liquid crystal display device, a scanning exposure apparatus is mainly used because of a demand for a large display area.

走査型露光装置の１つとして、所謂マルチレンズ方式の走査型露光装置（マルチレンズスキャン型露光装置）が知られている。マルチレンズスキャン型露光装置は、複数の投影光学系を有する走査型露光装置である。この複数の投影光学系は、隣り合う投影領域が走査方向で所定量変位するように、かつ、隣り合う投影領域の端部どうしが走査方向と直交する方向に重複するように配置されている。マルチレンズスキャン型露光装置は、良好な結像特性を維持しつつ、露光領域を得ることができる。  As one type of scanning exposure apparatus, a so-called multi-lens scanning exposure apparatus (multi-lens scanning exposure apparatus) is known. The multi-lens scanning exposure apparatus is a scanning exposure apparatus having a plurality of projection optical systems. The plurality of projection optical systems are arranged so that adjacent projection areas are displaced by a predetermined amount in the scanning direction, and ends of adjacent projection areas overlap in a direction orthogonal to the scanning direction. The multi-lens scanning exposure apparatus can obtain an exposure region while maintaining good imaging characteristics.

このようなマルチレンズスキャン型露光装置を含む露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンに露光光を照射し、投影光学系を介してパターンの像を基板に転写する構成になっている。マスクステージには、マスクの所望の箇所以外に照射される露光光を遮光する遮光部材が設けられている。遮光部材は、ステージに固定されたガイド部材を介してマスクステージ（マスクホルダ）上に設けられており、遮光する領域に応じてガイド部材上を移動可能になっている。
特開２００６−１９５３５３号公報An exposure apparatus including such a multi-lens scanning exposure apparatus has a mask stage that supports a mask and a substrate stage that supports the substrate, and emits exposure light to the mask pattern while sequentially moving the mask stage and the substrate stage. Irradiation is performed, and a pattern image is transferred to the substrate via the projection optical system. The mask stage is provided with a light shielding member that shields the exposure light applied to portions other than a desired portion of the mask. The light shielding member is provided on the mask stage (mask holder) via a guide member fixed to the stage, and is movable on the guide member in accordance with the light shielding region.
JP 2006-195353 A

しかしながら、遮光部材がガイド部材上を移動すると、これに伴ってガイド部材上に加わる遮光部材の荷重の位置が移動するため、ガイド部材が変形する。ガイド部材はステージに固定されているため、変形のモーメントはマスクステージにも作用する。この結果、マスクステージが変形し、当該マスクステージに保持されている物体（マスク、レーザ干渉計用の移動鏡等）が変形する場合がある。  However, when the light shielding member moves on the guide member, the position of the load of the light shielding member applied on the guide member is moved accordingly, so that the guide member is deformed. Since the guide member is fixed to the stage, the moment of deformation also acts on the mask stage. As a result, the mask stage may be deformed, and an object (mask, movable mirror for laser interferometer, etc.) held on the mask stage may be deformed.

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、可動部材とともにステージ上に保持される物体の変形を防ぐことができるステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供することにある。  In view of the circumstances as described above, an object of the present invention is to provide a stage apparatus, an exposure apparatus, and a device manufacturing method capable of preventing deformation of an object held on a stage together with a movable member.

本発明の第１の態様に係るステージ装置は、物体を保持する第１ベース部と、前記第１ベース部に対して移動可能な可動部を保持する第２ベース部と、前記第１ベース部上に設けられ、前記第２ベース部の荷重方向に対向する対向方向に関して非拘束状態で該第２ベース部を支持するベース支持部と、を備えることを特徴とする。
この第１の態様によれば、第２ベース部と第１ベース部との間が第２ベース部の荷重方向の対向方向に関して非拘束状態になっているため、両者が拘束状態になっている場合に比べて、第２ベース部の変形によるモーメントが第１ベース部に伝わりにくくなる。このため、可動部の移動によって第２ベース部が変形する場合であっても、当該第２ベース部の変形に伴う第１ベース部の変形が抑えられる。A stage apparatus according to a first aspect of the present invention includes a first base portion that holds an object, a second base portion that holds a movable portion that is movable with respect to the first base portion, and the first base portion. And a base support portion that supports the second base portion in an unconstrained state with respect to a facing direction opposite to the load direction of the second base portion.
According to the first aspect, since the space between the second base portion and the first base portion is in an unrestrained state with respect to the opposing direction of the load direction of the second base portion, both are in a restrained state. Compared to the case, the moment due to the deformation of the second base portion is less likely to be transmitted to the first base portion. For this reason, even if it is a case where a 2nd base part deform | transforms by the movement of a movable part, a deformation | transformation of the 1st base part accompanying a deformation | transformation of the said 2nd base part is suppressed.

本発明の第２の態様に係る露光装置は、パターンが設けられた物体を保持する第１の態様に係るステージ装置と、感光剤が設けられた基板を保持する基板ステージと、前記パターンを介して前記基板に露光光を照射する照射系と、を備えることを特徴とする。
この第２の態様によれば、第１ベース部に保持される物体の変形が抑えられることになるため、露光精度を向上できる。An exposure apparatus according to a second aspect of the present invention includes a stage apparatus according to the first aspect that holds an object provided with a pattern, a substrate stage that holds a substrate provided with a photosensitive agent, and the pattern. And an irradiation system for irradiating the substrate with exposure light.
According to the second aspect, since the deformation of the object held by the first base portion is suppressed, the exposure accuracy can be improved.

本発明の第３の態様に係るデバイス製造方法は、第２の態様に係る露光装置を用いて、感光剤が設けられた基板の露光をすることと、前記基板の露光によって露光された前記感光剤を現像して、前記パターンに対応する露光パーン層を形成することと、前記露光パターン層を介して前記基板を加工することと、を含む。
この第３の態様によれば、基板に設けられた感光剤が高精度に露光されるので、露光パターン層が高精度に形成されることとなる。The device manufacturing method according to the third aspect of the present invention includes exposing the substrate provided with a photosensitive agent using the exposure apparatus according to the second aspect, and exposing the photosensitive material exposed by the exposure of the substrate. Developing an agent to form an exposed pan layer corresponding to the pattern, and processing the substrate through the exposed pattern layer.
According to the third aspect, since the photosensitive agent provided on the substrate is exposed with high accuracy, the exposure pattern layer is formed with high accuracy.

本発明の態様によれば、可動部材とともにステージ上に保持される物体の変形を防ぐことができるステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法が提供される。  According to the aspects of the present invention, a stage apparatus, an exposure apparatus, and a device manufacturing method that can prevent deformation of an object held on a stage together with a movable member are provided.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。  Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. A predetermined direction in the horizontal plane is defined as an X-axis direction, a direction orthogonal to the X-axis direction in the horizontal plane is defined as a Y-axis direction, and a direction orthogonal to each of the X-axis direction and the Y-axis direction (that is, a vertical direction) is defined as a Z-axis direction. Further, the rotation (inclination) directions around the X axis, Y axis, and Z axis are the θX, θY, and θZ directions, respectively.

図１は、本発明の実施形態に係る露光装置ＥＸの構成を示す図である。この図に示すように、露光装置ＥＸは、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明システムＩＳと、マスクＭを保持して移動させるマスクステージ装置ＭＳＴと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのマスクパターンＭＰの像を感光剤が表面に設けられた基板Ｐに投影する投影システムＰＳと、基板Ｐを保持して移動させる基板ステージ装置ＰＳＴと、マスクステージ装置ＭＳＴ及び基板ステージ装置ＰＳＴの位置情報を計測するレーザ干渉計１３Ａ、１３Ｂを含む干渉計システム１３と、これら各部を統括的に制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。  FIG. 1 is a view showing the arrangement of an exposure apparatus EX according to the embodiment of the present invention. As shown in this figure, the exposure apparatus EX includes an illumination system IS that illuminates the mask M with the exposure light EL, a mask stage apparatus MST that holds and moves the mask M, and a mask M that is illuminated with the exposure light EL. Projection system PS that projects an image of the mask pattern MP onto a substrate P provided with a photosensitive agent, a substrate stage device PST that holds and moves the substrate P, and positional information of the mask stage device MST and the substrate stage device PST Are provided with aninterferometer system 13 includinglaser interferometers 13A and 13B for measuring the above and a control device CONT for comprehensively controlling these units.

本実施形態において、基板Ｐは、大型のガラスプレートを含み、その基板Ｐの一辺のサイズは、例えば５００ｍｍ以上である。本実施形態においては、基板Ｐの基材として、一辺が約３０００ｍｍの矩形のガラスプレートを用いる。本実施形態においては、基板Ｐに基づいて、フラットパネルディスプレイが製造される。基板Ｐは、露光領域ＰＡを有している。露光領域ＰＡは、例えば第１領域〜第６領域（不図示）の６つの領域を含んでいる。  In the present embodiment, the substrate P includes a large glass plate, and the size of one side of the substrate P is, for example, 500 mm or more. In the present embodiment, a rectangular glass plate having a side of about 3000 mm is used as the base material of the substrate P. In the present embodiment, a flat panel display is manufactured based on the substrate P. The substrate P has an exposure area PA. The exposure area PA includes six areas, for example, a first area to a sixth area (not shown).

本実施形態において、投影システムＰＳは、複数の投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７を有する。照明システムＩＳは、複数の投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７に対応する複数の照明モジュールを有する。本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのマスクパターンＭＰの像を基板Ｐに投影する。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、所謂、マルチレンズ型スキャン露光装置である。  In the present embodiment, the projection system PS has a plurality of projection optical systems PL1 to PL7. The illumination system IS has a plurality of illumination modules corresponding to the plurality of projection optical systems PL1 to PL7. The exposure apparatus EX of the present embodiment projects an image of the mask pattern MP of the mask M onto the substrate P while moving the mask M and the substrate P synchronously in a predetermined scanning direction. That is, the exposure apparatus EX of the present embodiment is a so-called multi-lens scan exposure apparatus.

本実施形態において、投影システムＰＳは、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７を７つ有し、照明システムＬＳは、照明モジュールを７つ有する。投影システムＰＳが投影光学系を１１個有し、照明システムＩＳが照明モジュールを１１個有していてもよい。基板Ｐの露光時、マスクステージ装置ＭＳＴ及び基板ステージ装置ＰＳＴは、マスクＭ及び基板Ｐを、ＸＹ平面内の所定の走査方向に移動する。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＸ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＸ軸方向とする。基板Ｐが投影システムＰＳの投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に対してＸ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＸ軸方向への移動と同期して、照明システムＩＳの照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に対してマスクＭがＸ軸方向に移動しつつ、投影システムＰＳを介してマスクＭからの露光光ＥＬが基板Ｐに照射される。これにより、マスクＭのマスクパターンＭＰの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。  In the present embodiment, the projection system PS has seven projection optical systems PL1 to PL7, and the illumination system LS has seven illumination modules. The projection system PS may have 11 projection optical systems, and the illumination system IS may have 11 illumination modules. When the substrate P is exposed, the mask stage device MST and the substrate stage device PST move the mask M and the substrate P in a predetermined scanning direction in the XY plane. In the present embodiment, the scanning direction (synchronous movement direction) of the substrate P is the X-axis direction, and the scanning direction (synchronous movement direction) of the mask M is also the X-axis direction. The substrate P moves in the X-axis direction with respect to the projection regions PR1 to PR7 of the projection system PS and is synchronized with the illumination regions IR1 to IR7 of the illumination system IS in synchronization with the movement of the substrate P in the X-axis direction. While the mask M moves in the X-axis direction, the substrate P is irradiated with the exposure light EL from the mask M via the projection system PS. Thereby, the image of the mask pattern MP of the mask M is projected onto the substrate P, and the substrate P is exposed with the exposure light EL.

照明システムＩＳは、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。本実施形態において、照明システムＩＳは、異なる７つの照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７のそれぞれを露光光ＥＬで照明する。本実施形態においては、照明システムＩＳから射出される露光光ＥＬとして、水銀ランプから射出される輝線のうち、ｉ線（波長３６５ｎｍ）を用いる。なお、露光光ＥＬとして、水銀ランプから射出される輝線のうち、ｇ線、ｈ線等を用いてもよい。  The illumination system IS illuminates at least a part of the mask M arranged in the illumination areas IR1 to IR7 with the exposure light EL having a uniform illuminance distribution. In the present embodiment, the illumination system IS illuminates each of the seven different illumination areas IR1 to IR7 with the exposure light EL. In the present embodiment, i-ray (wavelength 365 nm) is used as the exposure light EL emitted from the illumination system IS among the bright lines emitted from the mercury lamp. In addition, you may use g line, h line, etc. among the bright lines inject | emitted from a mercury lamp as exposure light EL.

マスクステージ装置ＭＳＴは、物体としてのマスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に対して移動可能に設けられている。マスクステージ装置ＭＳＴは、マスクＭを保持するマスクホルダ２１を有している。マスクホルダ２１は、平面視中央部にマスク保持部（不図示）を有している。マスク保持部は、マスクＭを真空吸着可能なチャック機構（不図示）を有している。このチャック機構は、マスクＭをリリース可能に保持する。本実施形態において、マスクホルダ２１は、マスクＭの下面（パターン形成面）とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、マスクＭを保持する。  Mask stage apparatus MST is provided so as to be movable with respect to illumination regions IR1 to IR7 while holding mask M as an object. The mask stage apparatus MST has amask holder 21 that holds the mask M. Themask holder 21 has a mask holding part (not shown) in the center in plan view. The mask holding part has a chuck mechanism (not shown) that can vacuum-suck the mask M. The chuck mechanism holds the mask M so as to be releasable. In the present embodiment, themask holder 21 holds the mask M so that the lower surface (pattern forming surface) of the mask M and the XY plane are substantially parallel.

マスクステージ装置ＭＳＴは、マスクホルダ２１を移動させる駆動システム（不図示）を有している。駆動システムは、例えばリニアモータを含み、ＸＹ平面に平行にマスクホルダ２１を移動可能になっている。マスクステージ装置ＭＳＴは、駆動システムの作動により、マスクホルダ２１でマスクＭを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の３つの方向に移動可能になっている。マスクホルダ２１上には、移動鏡１４が保持されている。干渉計１３Ａがその移動鏡１４の位置を計測することでマスクステージ（マスクホルダ２１）のＹ方向の位置が検出されるようになっている。なお、マスクホルダ２１のＸ方向の端部には図示しないレトロリフレクタが保持されており、干渉計１３Ａがこのレトロリフレクタの位置を計測することでマスクステージのＸ方向の位置が検出される。  Mask stage apparatus MST has a drive system (not shown) for movingmask holder 21. The drive system includes, for example, a linear motor, and can move themask holder 21 parallel to the XY plane. The mask stage apparatus MST can be moved in three directions of the X axis, the Y axis, and the θZ direction while the mask M is held by themask holder 21 by the operation of the drive system. Amovable mirror 14 is held on themask holder 21. When theinterferometer 13A measures the position of themovable mirror 14, the position of the mask stage (mask holder 21) in the Y direction is detected. A retro reflector (not shown) is held at the end of themask holder 21 in the X direction, and the position of the mask stage in the X direction is detected by theinterferometer 13A measuring the position of the retro reflector.

投影システムＰＳは、所定の投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に露光光ＥＬを照射する。投影システムＰＳは、投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのマスクパターンＭＰの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態において、投影システムＰＳは、異なる７つの投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７のそれぞれにパターンの像を投影する。  Projection system PS irradiates predetermined projection areas PR1-PR7 with exposure light EL. The projection system PS projects an image of the mask pattern MP of the mask M at a predetermined projection magnification onto at least a part of the substrate P arranged in the projection regions PR1 to PR7. In the present embodiment, the projection system PS projects a pattern image on each of seven different projection regions PR1 to PR7.

基板ステージ装置ＰＳＴは、基板Ｐを保持した状態で、投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に対して移動可能に設けられている。本実施形態において、基板ステージ装置ＰＳＴは、基板Ｐを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能になっている。  The substrate stage apparatus PST is provided so as to be movable with respect to the projection regions PR1 to PR7 while holding the substrate P. In the present embodiment, the substrate stage apparatus PST is movable in six directions including the X-axis, Y-axis, Z-axis, θX, θY, and θZ directions while holding the substrate P.

図２は、マスクステージ装置ＭＳＴの構成を示す平面図である。図３は、マスクステージ装置ＭＳＴの構成を示す側面図である。
図２及び図３に示すように、マスクステージ装置ＭＳＴは、上記のマスクホルダ２１に加えて、ブラインドベース部材２２と、支持部材２３とを有している。FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the mask stage apparatus MST. FIG. 3 is a side view showing the configuration of the mask stage apparatus MST.
As shown in FIGS. 2 and 3, the mask stage apparatus MST includes ablind base member 22 and asupport member 23 in addition to themask holder 21 described above.

ブラインドベース部材２２は、平面視矩形に形成された板状部材である。ブラインドベース部材２２は、Ｘ方向に長手となるように形成されている。ブラインドベース部材２２は、Ｙ方向に４つ並ぶように配置されている。４つのブラインドベース部材２２のうち２つは、マスク保持部の−Ｙ側に配置されている（ブラインドベース部材２２Ａ、２２Ｃ）。残りの２つは、マスク保持部の＋Ｙ側に配置されている（ブラインドベース部材２２Ｂ、２２Ｄ）。なお、図３では、４つのブラインドベース部材２２のうちブラインドベース部材２２Ａのみ示している。  Theblind base member 22 is a plate-like member formed in a rectangular shape in plan view. Theblind base member 22 is formed to be long in the X direction. The fourblind base members 22 are arranged in the Y direction. Two of the fourblind base members 22 are arranged on the −Y side of the mask holding portion (blind base members 22A and 22C). The remaining two are arranged on the + Y side of the mask holding part (blind base members 22B and 22D). In FIG. 3, only theblind base member 22 </ b> A among the fourblind base members 22 is shown.

支持部材２３は、マスクホルダ２１上のうち平面視で上記ブラインドベース部材２２Ａ〜２２Ｄに含まれる位置に２つずつ、合計８つ設けられている。各支持部材２３は、例えば三角柱状に形成されている。各支持部材２３の３つの側面のうち一面がマスクホルダ２１に当接している。支持部材２３のうち当該一面に対向する辺には、上記４つのブラインドベース部材２２が載置されている。当該辺がＹ方向に平行になるように各支持部材２３が配置されている。  A total of eightsupport members 23 are provided at two positions on themask holder 21 at positions included in theblind base members 22A to 22D in plan view. Eachsupport member 23 is formed in a triangular prism shape, for example. One of the three side surfaces of eachsupport member 23 is in contact with themask holder 21. The fourblind base members 22 are placed on the side of thesupport member 23 that faces the one surface. Eachsupport member 23 is arranged so that the side is parallel to the Y direction.

ブラインドベース部材２２が支持部材２３に載置されることにより、当該ブラインドベース部材２２は支持部材２３に対して＋Ｚ方向に拘束されていない状態（非拘束状態）となっている。また、ブラインドベース部材２２が三角柱の側辺によって線で支持されていることで、より確実に非拘束状態を維持することができるようになっている。また、支持部材２３が１つのブラインドベース部材２２について２つずつ設けられているため、各ブラインドベース部材２２は、２つの支持部材２３上によって２箇所で載置された状態で支持されている。  By placing theblind base member 22 on thesupport member 23, theblind base member 22 is not restrained in the + Z direction with respect to the support member 23 (unconstrained state). Further, since theblind base member 22 is supported by the side of the triangular prism, the unconstrained state can be more reliably maintained. In addition, since twosupport members 23 are provided for eachblind base member 22, eachblind base member 22 is supported on the twosupport members 23 in a state of being placed at two locations.

各ブラインドベース部材２２（２２Ａ〜２２Ｄ）上には、それぞれプーリ部２４と、ガイドレール３６とが設けられている。以下の説明において、４つのブラインドベース部材２２Ａ〜２２Ｄに設けられる構成要素をブラインドベース部材２２Ａ〜２２Ｄごとに識別する場合には、各構成要素の符号にブラインドベース部材２２Ａ〜２２Ｄに付されたＡ〜Ｄを付記して対応させるものとする。  Apulley section 24 and aguide rail 36 are provided on each blind base member 22 (22A to 22D). In the following description, when the components provided on the fourblind base members 22A to 22D are identified for each of theblind base members 22A to 22D, the reference numerals of the respective components are denoted by A attached to theblind base members 22A to 22D. ~ D shall be added to correspond.

プーリ部２４は、各ブラインドベース部材２２のＸ方向上の両端部に一対取り付けられており、θＺ方向に回転するようになっている。一対のプーリ部２４Ａ、２４Ｃのうちそれぞれの一方（例えば図中左側のプーリ部２４Ａ及び２４Ｃ）は不図示の回転駆動源を有しており、この回転駆動源によりプーリ部自身がθＺ方向に回転するようになっている。一対のプーリ部２４Ａ、２４Ｃのうちそれぞれの他方（例えば図中右側のプーリ部２４Ａ及び２４Ｃ）及びプーリ部２４Ｂ、２４Ｄは、このような回転駆動源を有しておらず、外部から回転力が付加されることによってθＺ方向に回転するようになっている。  A pair ofpulley portions 24 are attached to both end portions of eachblind base member 22 in the X direction, and rotate in the θZ direction. One of the pair ofpulley portions 24A and 24C (for example, thepulley portions 24A and 24C on the left side in the figure) has a rotation drive source (not shown), and the pulley portion itself rotates in the θZ direction by this rotation drive source. It is supposed to be. The other of the pair ofpulley portions 24A and 24C (for example, thepulley portions 24A and 24C on the right side in the drawing) and thepulley portions 24B and 24D do not have such a rotational drive source, and the rotational force is externally applied. By being added, it rotates in the θZ direction.

各ブラインドベース部材２２のプーリ部２４には、ワイヤ機構２５が掛け渡されている。ワイヤ機構２５は、環状に形成されたワイヤ部材２６に第１移動部材２７及び第２移動部材２８が固定された構成になっている。プーリ部２４とワイヤ機構２５との間は、互いの回転力を伝達し合うようになっている。例えばプーリ部２４が回転することでワイヤ機構２５が回転するようになっており、ワイヤ機構２５が回転することでプーリ部２４が回転するようにもなっている。第１移動部材２７及び第２移動部材２８は、ワイヤ機構２５が回転することによって移動するようになっている。  Awire mechanism 25 is stretched around thepulley portion 24 of eachblind base member 22. Thewire mechanism 25 has a configuration in which a first movingmember 27 and a second movingmember 28 are fixed to anannular wire member 26. Between thepulley part 24 and thewire mechanism 25, mutual rotational force is transmitted. For example, when thepulley part 24 rotates, thewire mechanism 25 rotates, and when thewire mechanism 25 rotates, thepulley part 24 also rotates. The first movingmember 27 and the second movingmember 28 move when thewire mechanism 25 rotates.

ガイドレール３６は、ワイヤ機構２５の＋Ｙ側及び−Ｙ側にそれぞれ１本ずつ設けられている。各ガイドレール３６は、第１移動部材２７及び第２移動部材２８の移動方向（Ｘ方向）に沿って平行に形成されている。各ガイドレール３６上には、第１移動部材２７又は第２移動部材２８が載置されている。第１移動部材２７及び第２移動部材２８は、ワイヤ機構２５の回転により、ガイドレール３６に沿ってＸ方向に移動するようになっている。  Oneguide rail 36 is provided on each of the + Y side and the −Y side of thewire mechanism 25. Eachguide rail 36 is formed in parallel along the moving direction (X direction) of the first movingmember 27 and the second movingmember 28. A first movingmember 27 or a second movingmember 28 is placed on eachguide rail 36. The first movingmember 27 and the second movingmember 28 move in the X direction along theguide rail 36 by the rotation of thewire mechanism 25.

ブラインドベース部材２２Ａに設けられる第１移動部材２７Ａと、ブラインドベース部材２２Ｂに設けられる第１移動部材２７Ｂとの間には、遮光部材２９が架け渡されている。遮光部材２９は、平面視矩形に形成された板状部材であり、Ｙ方向に長手となるように形成されている。遮光部材２９は、一方の端部が第１移動部材２７Ａに固定されており、他方の端部が第１移動部材２７Ｂに固定されている。これら遮光部材２９、第１移動部材２７Ａ及び第１移動部材２７Ｂは一体的に形成されている。  Alight shielding member 29 is bridged between the first movingmember 27A provided on theblind base member 22A and the first movingmember 27B provided on theblind base member 22B. Thelight shielding member 29 is a plate-like member formed in a rectangular shape in plan view, and is formed to be long in the Y direction. Thelight shielding member 29 has one end portion fixed to the first movingmember 27A and the other end portion fixed to the first movingmember 27B. Thelight shielding member 29, the first movingmember 27A, and the first movingmember 27B are integrally formed.

一対のプーリ部２４Ａのうち回転駆動源を有するプーリ部２４Ａが回転すると、ワイヤ機構２５Ａが回転し、第１移動部材２７Ａ、第１移動部材２７Ｂ及び遮光部材２９が一体的に移動するようになっている。この場合、第１移動部材２７Ｂの移動によってワイヤ機構２５Ｂが回転し、この回転によってプーリ部２４Ｂが回転するようになっている。  When thepulley portion 24A having the rotational drive source of the pair ofpulley portions 24A rotates, thewire mechanism 25A rotates, and the first movingmember 27A, the first movingmember 27B, and thelight shielding member 29 move integrally. ing. In this case, thewire mechanism 25B is rotated by the movement of the first movingmember 27B, and thepulley portion 24B is rotated by this rotation.

このように、ブラインドベース部材２２Ａ側では回転駆動源が設けられているため、ブラインドベース部材２２Ａ側の第１移動部材２７Ａの移動は当該回転駆動源によって主動的な移動となる。また、ブラインドベース部材２２Ｂ側では回転駆動源が設けられていないため、ブラインドベース部材２２Ｂ側の第１移動部材２７Ｂの移動は、第１移動部材２７Ａ及び遮光部材２９の移動に伴った従動的な移動となる。  As described above, since the rotational drive source is provided on theblind base member 22A side, the movement of the first movingmember 27A on theblind base member 22A side becomes the main movement by the rotational drive source. Further, since the rotation drive source is not provided on theblind base member 22B side, the movement of the first movingmember 27B on theblind base member 22B side is a follow-up along with the movement of the first movingmember 27A and thelight shielding member 29. Move.

ブラインドベース部材２２Ｃに設けられる第１移動部材２７Ｃと、ブラインドベース部材２２Ｄに設けられる第１移動部材２７Ｄとの間には、遮光部材３０が架け渡されている。遮光部材３０は、遮光部材２９と同様、平面視矩形に形成された板状部材であり、Ｙ方向が長手に形成されている。遮光部材３０は、一方の端部が第１移動部材２７Ｃに固定されており、他方の端部が第１移動部材２７Ｄに固定されている。これら遮光部材３０、第１移動部材２７Ｃ及び第１移動部材２７Ｄは一体的に形成されている。  Thelight shielding member 30 is bridged between the first movingmember 27C provided on the blind base member 22C and the first movingmember 27D provided on theblind base member 22D. Like thelight shielding member 29, thelight shielding member 30 is a plate-like member formed in a rectangular shape in plan view, and the Y direction is formed in the longitudinal direction. Thelight shielding member 30 has one end fixed to the first movingmember 27C and the other end fixed to the first movingmember 27D. Thelight shielding member 30, the first movingmember 27C, and the first movingmember 27D are integrally formed.

一対のプーリ部２４Ｃのうち回転駆動源を有するプーリ部２４Ｃが回転すると、ワイヤ機構２５Ｃが回転し、第１移動部材２７Ｃ、第１移動部材２７Ｄ及び遮光部材３０が一体的に移動するようになっている。この場合、第１移動部材２７Ｄの移動によってワイヤ機構２５Ｄが回転し、この回転によってプーリ部２４Ｄが回転するようになっている。  When thepulley portion 24C having the rotation drive source of the pair ofpulley portions 24C rotates, thewire mechanism 25C rotates, and the first movingmember 27C, the first movingmember 27D, and thelight shielding member 30 move integrally. ing. In this case, thewire mechanism 25D is rotated by the movement of the first movingmember 27D, and thepulley portion 24D is rotated by this rotation.

このように、ブラインドベース部材２２Ｃ側では回転駆動源が設けられているため、ブラインドベース部材２２Ｃ側の第１移動部材２７Ｃの移動は当該回転駆動源によって主動的な移動となる。また、ブラインドベース部材２２Ｄ側では回転駆動源が設けられていないため、ブラインドベース部材２２Ｄ側の第１移動部材２７Ｄの移動は、第１移動部材２７Ｃ及び遮光部材３０の移動に伴った従動的な移動となる。  Thus, since the rotational drive source is provided on the blind base member 22C side, the movement of the first movingmember 27C on the blind base member 22C side is the main movement by the rotational drive source. Further, since the rotation drive source is not provided on theblind base member 22D side, the movement of the first movingmember 27D on theblind base member 22D side is a follow-up along with the movement of the first movingmember 27C and thelight shielding member 30. Move.

上記の遮光部材２９及び遮光部材３０は、マスクＭに形成されている複数のパターンのうち基板Ｐに転写しないパターンに露光光が照射されないように遮光する。遮光部材２９は、平面視でマスクＭの＋Ｘ側半分の領域上を移動可能になっている。遮光部材３０は、平面視でマスクＭの−Ｘ側半分の領域上を移動可能になっている。これら２つの遮光部材２９及び遮光部材３０によって、マスクＭ上の全領域に亘って遮光部材をアクセスさせることができるようになっている。  Thelight shielding member 29 and thelight shielding member 30 shield the exposure light from being irradiated to a pattern that is not transferred to the substrate P among the plurality of patterns formed on the mask M. Thelight shielding member 29 is movable on the + X side half region of the mask M in plan view. Thelight shielding member 30 is movable on the −X side half region of the mask M in plan view. With these twolight shielding members 29 and 30, the light shielding member can be accessed over the entire area on the mask M.

第１移動部材２７及び第２移動部材２８は、ワイヤ部材２６を介して一体的に設けられているため、ワイヤ機構２５の回転によりＸ方向に連動して移動するようになっている。具体的には、第１移動部材２７と第２移動部材２８とでは、Ｘ方向上の逆方向に連動して移動するようになっている。例えば、第１移動部材２７が＋Ｘ方向へ移動すると、第２移動部材２８は−Ｘ方向へ移動するようになっている。逆に、第１移動部材２７が−Ｘ方向へ移動すると、第２移動部材２８は＋Ｘ方向へ移動するようになっている。このように、第１移動部材２７に連動して当該第１移動部材２７とは反対の方向へ移動することにより、第２移動部材２８は各ブラインドベース部材２２の重心移動を抑制する重心移動抑制部材として機能する。この場合、重心位置はブラインドベース部材２２の平面視中央部から移動しないように抑制されるようになっている。  Since the first movingmember 27 and the second movingmember 28 are integrally provided via thewire member 26, the first movingmember 27 and the second movingmember 28 are moved in conjunction with the X direction by the rotation of thewire mechanism 25. Specifically, the first movingmember 27 and the second movingmember 28 move in conjunction with the reverse direction in the X direction. For example, when the first movingmember 27 moves in the + X direction, the second movingmember 28 moves in the −X direction. Conversely, when the first movingmember 27 moves in the −X direction, the second movingmember 28 moves in the + X direction. As described above, the second movingmember 28 suppresses the movement of the center of gravity of eachblind base member 22 by moving in the direction opposite to the first movingmember 27 in conjunction with the first movingmember 27. Functions as a member. In this case, the position of the center of gravity is suppressed so as not to move from the center portion of theblind base member 22 in plan view.

次に、本実施形態に係る、基板Ｐの露光時における露光装置ＥＸの動作の一例について説明する。
本実施形態において、露光装置ＥＸの動作の少なくとも一部は、予め定められている露光に関する制御情報（露光制御情報）に基づいて実行される。露光制御情報は、露光装置ＥＸの動作を規定する制御命令群を含み、露光レシピとも呼ばれる。以下の説明において、露光に関する制御情報を適宜「露光レシピ」と表記する。Next, an example of the operation of the exposure apparatus EX during exposure of the substrate P according to the present embodiment will be described.
In the present embodiment, at least a part of the operation of the exposure apparatus EX is executed based on predetermined control information (exposure control information) related to exposure. The exposure control information includes a control command group that defines the operation of the exposure apparatus EX, and is also called an exposure recipe. In the following description, control information related to exposure is referred to as “exposure recipe” as appropriate.

露光レシピは、制御装置ＣＯＮＴに予め記憶されている。少なくとも基板Ｐの露光時（マスクＭ及び基板Ｐに対する露光光ＥＬの照射動作時）における露光装置ＥＸの動作条件は、露光レシピによって予め決定されている。制御装置ＣＯＮＴは、露光レシピに基づいて、露光装置ＥＸの動作を制御する。  The exposure recipe is stored in advance in the control device CONT. The operating conditions of the exposure apparatus EX at least during exposure of the substrate P (during the irradiation operation of the exposure light EL on the mask M and the substrate P) are determined in advance by the exposure recipe. The control device CONT controls the operation of the exposure device EX based on the exposure recipe.

露光レシピは、基板Ｐの露光時におけるマスクステージ装置ＭＳＴ及び基板ステージ装置ＰＳＴの移動条件を含む。基板Ｐの露光時、制御装置ＣＯＮＴは、露光レシピに基づいて、マスクステージ装置ＭＳＴ及び基板ステージ装置ＰＳＴを移動させる。具体的には、基板Ｐの露光領域ＰＡに含まれる例えば第１領域〜第６領域（不図示）の露光時において、制御装置ＣＯＮＴは、マスクＭ及び基板ＰをＸＹ平面内の所定の走査方向に移動させる。制御装置ＣＯＮＴは、露光レシピに基づいて、マスクＭと基板Ｐとを走査方向に同期移動させながらマスクＭの下面のマスクパターンＭＰに露光光ＥＬを照射させる。露光光ＥＬは、マスクパターンＭＰを介して基板Ｐの表面の第１領域〜第６領域に照射され、当該第１領域〜第６領域が露光される。  The exposure recipe includes the movement conditions of the mask stage apparatus MST and the substrate stage apparatus PST when the substrate P is exposed. When the substrate P is exposed, the control device CONT moves the mask stage device MST and the substrate stage device PST based on the exposure recipe. Specifically, at the time of exposure of, for example, a first area to a sixth area (not shown) included in the exposure area PA of the substrate P, the control device CONT moves the mask M and the substrate P in a predetermined scanning direction in the XY plane. Move to. Based on the exposure recipe, the control device CONT irradiates the mask pattern MP on the lower surface of the mask M with the exposure light EL while moving the mask M and the substrate P synchronously in the scanning direction. The exposure light EL is irradiated to the first region to the sixth region on the surface of the substrate P through the mask pattern MP, and the first region to the sixth region are exposed.

これら第１領域〜第６領域に対する露光処理を行う際、制御装置ＣＯＮＴは、第１領域〜第６領域を投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に対して基板Ｐの表面（ＸＹ平面）に沿って走査方向に移動させるとともに、マスクＭのマスクパターンＭＰを照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に対してマスクＭの下面（ＸＹ平面）に沿って走査方向に移動させる。本実施形態では、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）を例えばＸ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）も例えばＸ軸方向とする。  When performing the exposure process on the first area to the sixth area, the control device CONT performs the first area to the sixth area in the scanning direction along the surface (XY plane) of the substrate P with respect to the projection areas PR1 to PR7. While moving, the mask pattern MP of the mask M is moved in the scanning direction along the lower surface (XY plane) of the mask M with respect to the illumination regions IR1 to IR7. In the present embodiment, the scanning direction (synchronous movement direction) of the substrate P is, for example, the X-axis direction, and the scanning direction (synchronous movement direction) of the mask M is also, for example, the X-axis direction.

例えば基板Ｐの第１領域を露光する場合、制御装置ＣＯＮＴは、投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に対して基板Ｐの第１領域をＸ軸方向に移動させると共に、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に対してマスクＭのマスクパターンＭＰをＸ軸方向に移動させる。このとき制御装置ＣＯＮＴは、第１領域のＸ軸方向への移動とマスクパターンＭＰのＸ方向への移動とを同期させる。これに加えて、制御装置ＣＯＮＴは、第１領域及びマスクパターンＭＰの移動を同期させながら、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７に露光光ＥＬを照射させる。照射された露光光ＥＬは、マスクＭを透過し、投影光学系ＰＬを介して投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７に照射される。基板Ｐの第１領域は当該露光光ＥＬによって露光され、当該第１領域にはマスクパターンＭＰのパターンの像が投影される。  For example, when exposing the first region of the substrate P, the control device CONT moves the first region of the substrate P in the X-axis direction with respect to the projection regions PR1 to PR7 and also applies the mask M to the illumination regions IR1 to IR7. The mask pattern MP is moved in the X-axis direction. At this time, the control device CONT synchronizes the movement of the first region in the X-axis direction and the movement of the mask pattern MP in the X direction. In addition to this, the control apparatus CONT irradiates the exposure areas EL1 to IR7 with the exposure light EL while synchronizing the movement of the first area and the mask pattern MP. The irradiated exposure light EL passes through the mask M and is irradiated onto the projection regions PR1 to PR7 through the projection optical system PL. The first area of the substrate P is exposed by the exposure light EL, and a pattern image of the mask pattern MP is projected onto the first area.

制御装置ＣＯＮＴは、第１領域の露光が終了した後、次の露光領域（例えば第２領域）を露光する。このとき制御装置ＣＯＮＴは、投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７が第２領域の露光開始位置に配置されるように基板ステージ装置ＰＳＴを移動させる。また、制御装置ＣＯＮＴは、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７がマスクパターンＭＰの露光開始位置に配置されるようにマスクステージ装置ＭＳＴを移動させる。投影領域ＰＲ１〜ＰＲ７が第２領域の露光開始位置に配置され、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ７がマスクパターンＭＰの露光開始位置に配置された後、制御装置ＣＯＮＴは、第２領域の露光を開始する。  After the exposure of the first area is completed, the control device CONT exposes the next exposure area (for example, the second area). At this time, the control device CONT moves the substrate stage device PST so that the projection regions PR1 to PR7 are arranged at the exposure start position of the second region. Further, the control device CONT moves the mask stage device MST so that the illumination regions IR1 to IR7 are arranged at the exposure start position of the mask pattern MP. After the projection areas PR1 to PR7 are arranged at the exposure start position of the second area and the illumination areas IR1 to IR7 are arranged at the exposure start position of the mask pattern MP, the control device CONT starts the exposure of the second area.

このように制御装置ＣＯＮＴは、マスクステージ装置ＭＳＴに保持されるマスクＭと基板ステージ装置ＰＳＴに保持される基板ＰとをＸ軸方向に同期移動させながら基板Ｐに露光光ＥＬを照射させる。加えて、制御装置ＣＯＮＴは、複数の露光領域を露光するため、基板ＰをＸＹ平面内の所定方向（例えばＸ軸方向）にステッピング移動させる。制御装置ＣＯＮＴは、これらの露光光照射動作及びステッピング動作を露光領域ごとに繰り返させながら、マスクＭに設けられたマスクパターンＭＰ及び投影光学系ＰＬを介して、基板Ｐ上の第１領域〜第６領域を順次露光させる。  In this way, the control device CONT irradiates the substrate P with the exposure light EL while synchronously moving the mask M held by the mask stage device MST and the substrate P held by the substrate stage device PST in the X-axis direction. In addition, the control device CONT moves the substrate P in a predetermined direction (for example, the X-axis direction) in the XY plane in order to expose a plurality of exposure regions. The control device CONT repeats the exposure light irradiation operation and the stepping operation for each exposure region, and the first to second regions on the substrate P through the mask pattern MP and the projection optical system PL provided on the mask M. Six areas are sequentially exposed.

制御装置ＣＯＮＴは、一連の露光動作を行わせる際、マスクＭに設けられたマスクパターンＭＰのうち基板Ｐの所定の露光領域（第１領域〜第６領域）に転写しない部分を適宜遮光させるようにする。制御装置ＣＯＮＴは、遮光部材２９及び遮光部材３０を用いて当該遮光動作を行わせる。  When performing a series of exposure operations, the control device CONT appropriately shields a portion of the mask pattern MP provided on the mask M that is not transferred to a predetermined exposure region (first region to sixth region) of the substrate P. To. The control device CONT uses thelight shielding member 29 and thelight shielding member 30 to perform the light shielding operation.

遮光動作を行わせる際、制御装置ＣＯＮＴは、マスクパターンＭＰのうち遮光する部分の＋Ｚ方向上に遮光部材２９又は遮光部材３０を配置させる。制御装置ＣＯＮＴは、例えば当該遮光部分がマスクＭの−Ｘ側半分の領域内に設けられている場合には遮光部材２９を移動させ、遮光部分がマスクＭの＋Ｘ側半分の領域内に設けられている場合には遮光部材３０を移動させる。  When performing the light shielding operation, the control device CONT arranges thelight shielding member 29 or thelight shielding member 30 on the + Z direction of the light shielding portion of the mask pattern MP. The control device CONT moves thelight shielding member 29 when the light shielding portion is provided in the −X side half region of the mask M, for example, and the light shielding portion is provided in the + X side half region of the mask M. If so, thelight shielding member 30 is moved.

遮光部材２９又は遮光部材３０を移動させる際、制御装置ＣＯＮＴは、マスクパターンＭＰのうち遮光する部分のＸ座標を例えば露光レシピに基づいて確認し、当該Ｘ座標に対応する遮光部材２９又は遮光部材３０を選択する。ここでは、例えば遮光部材２９を選択するものとする。  When thelight shielding member 29 or thelight shielding member 30 is moved, the control device CONT confirms the X coordinate of the portion to be shielded in the mask pattern MP based on, for example, an exposure recipe, and thelight shielding member 29 or the light shielding member corresponding to the X coordinate.Select 30. Here, for example, thelight shielding member 29 is selected.

遮光部材２９を選択した後、制御装置ＣＯＮＴは、ブラインドベース部材２２Ａに設けられる回転駆動源を駆動させ、プーリ部２４Ａを回転させる。プーリ部２４Ａの回転により、当該プーリ部２４Ａに掛け回されたワイヤ機構２５Ａが回転する。ワイヤ機構２５Ａの回転によって第１移動部材２７Ａが移動し、第１移動部材２７Ａの移動に伴って第１移動部材２７Ｂ及び遮光部材２９が移動する。  After selecting thelight shielding member 29, the control device CONT drives the rotational drive source provided in theblind base member 22A to rotate thepulley portion 24A. By rotation of thepulley portion 24A, thewire mechanism 25A wound around thepulley portion 24A rotates. The first movingmember 27A is moved by the rotation of thewire mechanism 25A, and the first movingmember 27B and thelight shielding member 29 are moved along with the movement of the first movingmember 27A.

図４及び図５は、第１移動部材２７Ａ、第２移動部材２７Ｂ及び遮光部材２９が移動したときの様子を示す図である。図４は図２に対応する平面図であり、図５は図３に対応する側面図である。例えば遮光部材２９が図４及び図５に示す位置まで移動した場合、遮光部材２９、第１移動部材２７Ａ及び第２移動部材２８Ａがブラインドベース部材２２Ａ上のＸ方向中央部に集まることになる。図５に示す状態においてはブラインドベース部材２２ＡのＸ方向中央部に荷重が集中して作用する。このため、例えば遮光部材２９がブラインドベース部材２２の状態に比べてブラインドベース部材２２ＡはＸ方向中央部が−Ｚ方向に撓むように変形する。  4 and 5 are diagrams illustrating a state when the first movingmember 27A, the second movingmember 27B, and thelight shielding member 29 are moved. 4 is a plan view corresponding to FIG. 2, and FIG. 5 is a side view corresponding to FIG. For example, when thelight blocking member 29 moves to the position shown in FIGS. 4 and 5, thelight blocking member 29, the first movingmember 27A, and the second movingmember 28A are gathered at the X-direction central portion on theblind base member 22A. In the state shown in FIG. 5, the load concentrates on the X-direction center portion of theblind base member 22A. For this reason, for example, theblind base member 22 </ b> A is deformed so that the X-direction center portion bends in the −Z direction as compared with the state where thelight shielding member 29 is theblind base member 22.

ブラインドベース部材２２Ａがマスクホルダ２１に対して固定されている場合、ブラインドベース部材２２Ａの変形のモーメントは両者の固定位置を介してマスクホルダ２１に伝達され、マスクホルダ２１が変形する。マスクホルダ２１が変形すると、マスクホルダ２１のマスク保持部に保持されるマスクＭ及び移動鏡１４も変形してしまう場合がある。マスクＭが変形すると、当該マスクＭを介して転写されるパターンの像が歪んでしまい、露光精度に悪影響を及ぼすこととなる。また、移動鏡１４が変形すると、パターンの像が基板Ｐ上の所望の位置に転写されず、露光精度が悪化することとなる。  When theblind base member 22 </ b> A is fixed to themask holder 21, the deformation moment of theblind base member 22 </ b> A is transmitted to themask holder 21 through the fixing position of both, and themask holder 21 is deformed. When themask holder 21 is deformed, the mask M and themovable mirror 14 held by the mask holding portion of themask holder 21 may also be deformed. When the mask M is deformed, the pattern image transferred through the mask M is distorted, which adversely affects the exposure accuracy. If themovable mirror 14 is deformed, the pattern image is not transferred to a desired position on the substrate P, and the exposure accuracy is deteriorated.

一方、本実施形態では、ブラインドベース部材２２Ａがマスクホルダ２１に対して固定されてはおらず、ブラインドベース部材２２Ａが支持部材２３に載置されているだけの構成となっている。このため、ブラインドベース部材２２Ａの変形のモーメントはマスクホルダ２１にはほとんど伝達されず、ブラインドベース部材２２Ａのみが変形する。マスクホルダ２１の変形が抑制されることになるため、マスクホルダ２１に保持されるマスクＭ及び移動鏡１４の変形も抑制される。  On the other hand, in the present embodiment, theblind base member 22A is not fixed to themask holder 21, and theblind base member 22A is merely placed on thesupport member 23. For this reason, the moment of deformation of theblind base member 22A is hardly transmitted to themask holder 21, and only theblind base member 22A is deformed. Since the deformation of themask holder 21 is suppressed, the deformation of the mask M and themovable mirror 14 held by themask holder 21 is also suppressed.

ここで、ブラインドベース部材２２Ａの変形により、例えば遮光部材２９のＸ座標が変化する場合も考えられる。これに対しては、例えばブラインドベース部材２２Ａの変形の前後における遮光部材２９のＸ座標の変化量を求めておき、制御装置ＣＯＮＴが当該変化量を考慮したＸ座標位置に遮光部材２９を移動させるよう制御すれば良い。  Here, for example, the X coordinate of thelight shielding member 29 may change due to the deformation of theblind base member 22A. For this, for example, a change amount of the X coordinate of thelight shielding member 29 before and after the deformation of theblind base member 22A is obtained, and the control device CONT moves thelight shielding member 29 to the X coordinate position in consideration of the change amount. Control may be performed as follows.

なお、露光動作において制御装置ＣＯＮＴが遮光部材３０を選択して移動させる場合であっても、上記のように遮光部材２９を選択して移動させる場合と同様の説明が可能である。  Even when the control device CONT selects and moves thelight shielding member 30 in the exposure operation, the same explanation as when thelight shielding member 29 is selected and moved as described above is possible.

以上のように、本実施形態によれば、ブラインドベース部材２２とマスクホルダ２１との間がブラインドベース部材２２の荷重方向の対向方向に関して非拘束状態になっているため、両者が拘束状態になっている場合に比べて、ブラインドベース部材２２の変形によるモーメントがマスクホルダ２１に伝わりにくくなる。このため、第１移動部材２７、第２移動部材２８、遮光部材２９及び遮光部材３０の移動によってブラインドベース部材２２が変形する場合であっても、当該ブラインドベース部材２２の変形に伴うマスクホルダ２１の変形が抑えられる。これにより、マスクＭ及び移動鏡１４の変形を抑えることができる。  As described above, according to the present embodiment, the space between theblind base member 22 and themask holder 21 is in an unrestrained state with respect to the opposing direction of the load direction of theblind base member 22, so both are in a restrained state. Compared to the case, the moment due to the deformation of theblind base member 22 is not easily transmitted to themask holder 21. For this reason, even when theblind base member 22 is deformed by the movement of the first movingmember 27, the second movingmember 28, thelight shielding member 29, and thelight shielding member 30, themask holder 21 accompanying the deformation of theblind base member 22. The deformation of is suppressed. Thereby, deformation of the mask M and themovable mirror 14 can be suppressed.

また、本実施形態によれば、第２移動部材２８が、ブラインドベース部材２２上の構成要素（第１移動部材２７、第２移動部材２８、遮光部材２９及び３０）の重心移動を抑制するようになっているため、ブラインドベース部材２２の重心を安定させることができる。本実施形態では、ブラインドベース部材２２のうち上記各構成要素の移動方向であるＸ方向上の２箇所でブラインドベース部材２２を支持する構成となっているため、２箇所の支持部材２３への負荷が変化するのを抑制することができる。  Further, according to the present embodiment, the second movingmember 28 suppresses the movement of the center of gravity of the constituent elements (the first movingmember 27, the second movingmember 28, thelight shielding members 29 and 30) on theblind base member 22. Therefore, the center of gravity of theblind base member 22 can be stabilized. In the present embodiment, since theblind base member 22 is supported at two locations on the X direction, which is the moving direction of each component, among theblind base members 22, the load on thesupport members 23 at two locations. Can be suppressed.

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態の構成に加えて、ブラインドベース部材２２のＸ方向及びＹ方向の移動を規制する規制部材を配置した構成であっても構わない。図６（ａ）はブラインドベース部材２２の構成を示す平面図であり、図６（ｂ）はブラインドベース部材２２の構成を示す断面図である。図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、上記の規制部材としてはＸ方向の移動を弾性的に規制する板バネ部材３１や、Ｙ方向及びθＺ方向の移動を弾性的に規制するピン部材３２などが挙げられる。The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, in addition to the configuration of the above-described embodiment, a configuration in which a regulating member that regulates the movement of theblind base member 22 in the X direction and the Y direction may be provided. FIG. 6A is a plan view showing the configuration of theblind base member 22, and FIG. 6B is a cross-sectional view showing the configuration of theblind base member 22. As shown in FIGS. 6A and 6B, the restricting member is aleaf spring member 31 that elastically restricts movement in the X direction, and elastically restricts movement in the Y direction and θZ direction. For example, thepin member 32 is used.

板バネ部材３１は、ブラインドベース部材２２の−Ｘ方向の端面及び＋Ｘ方向の端面にそれぞれの一端が取り付けられている。板バネ部材３１の他端はマスクホルダ２１のＸ方向の両端部に支柱部材３３を介してそれぞれ固定されている。支柱部材３３は、例えばビスなどの固定部材によってマスクホルダ２１に固定されている。  Theplate spring member 31 has one end attached to the end surface in the −X direction and the end surface in the + X direction of theblind base member 22. The other end of theleaf spring member 31 is fixed to both ends of themask holder 21 in the X direction viasupport members 33. Thecolumn member 33 is fixed to themask holder 21 by a fixing member such as a screw.

ピン部材３２は、例えばブラインドベース部材２２のうちプーリ部２４に対して端部側の位置に１つずつ設けられている。ブラインドベース部材２２のうちピン部材３２の設けられる部分には貫通孔３４が形成されている。２つの貫通孔３４のうち例えば−Ｘ側に設けられる貫通孔３４は、平面視でＸ方向に広がるように形成されている。この構成により、ブラインドベース部材２２が変形したときのマージンを確保することができるようになっている。この貫通孔３４については、例えばブラインドベース部材２２の−Ｚ側から＋Ｚ側にかけて徐々に孔径が大きくなるようにテーパー状に形成しても構わない。  For example, onepin member 32 is provided at a position on the end side with respect to thepulley portion 24 of theblind base member 22. A throughhole 34 is formed in a portion of theblind base member 22 where thepin member 32 is provided. Of the two throughholes 34, the throughhole 34 provided on the −X side, for example, is formed so as to expand in the X direction in plan view. With this configuration, a margin when theblind base member 22 is deformed can be secured. The throughhole 34 may be formed in a tapered shape so that the hole diameter gradually increases from the −Z side to the + Z side of theblind base member 22, for example.

また、上記実施形態においては、ブラインドベース部材２２上の可動部（第１移動部材２７、第２移動部材２８、遮光部材２９及び遮光部材３０）を移動させる構成として、プーリ部２４及びワイヤ機構２５を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えばモータ及びボールネジを用いた構成、リニアモータやエアベアリングなど、他のアクチュエータを用いる構成としても構わない。  Moreover, in the said embodiment, thepulley part 24 and thewire mechanism 25 are the structures which move the movable part (the1st moving member 27, the 2nd movingmember 28, thelight shielding member 29, and the light shielding member 30) on theblind base member 22. FIG. However, the present invention is not limited to this. For example, a configuration using a motor and a ball screw, or a configuration using another actuator such as a linear motor or an air bearing may be used.

また、上記実施形態においては、ブラインドベース部材２２の２箇所を支持するように各ブラインドベース部材２２について支持部材２３を２つずつ配置する構成としたが、これに限られることは無く、例えば３つ以上配置する構成とすることもできる。ただし、ブラインドベース部材２２の変形に起因するマスクホルダ２１の変形を抑制する観点では、各ブラインドベース部材２２（２２Ａ〜２２Ｄ）を２箇所で支持することが好ましい。  Moreover, in the said embodiment, although it was set as the structure which arrange | positions twosupport members 23 about eachblind base member 22 so that two places of theblind base member 22 may be supported, it is not restricted to this, For example, 3 It is also possible to adopt a configuration in which two or more are arranged. However, from the viewpoint of suppressing the deformation of themask holder 21 due to the deformation of theblind base member 22, it is preferable to support the blind base members 22 (22A to 22D) at two locations.

また、支持部材２３の形状としては、上記実施形態のように三角柱形状には限られず、例えば他の多角柱形状に構成して線若しくは面で支持する構成であっても構わないし、例えば円錐形状又は角錐形状に形成して点で支持する構成としても構わない。  Further, the shape of thesupport member 23 is not limited to the triangular prism shape as in the above-described embodiment. For example, thesupport member 23 may be configured in another polygonal column shape and supported by lines or surfaces. Or it is good also as a structure which forms in a pyramid shape and supports with a point.

なお、上述の実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。  As the substrate P in the above-described embodiment, not only a semiconductor wafer for manufacturing a semiconductor device but also a glass substrate for a display device, a ceramic wafer for a thin film magnetic head, or an original mask (reticle) used in an exposure apparatus ( Synthetic quartz, silicon wafer) or the like is applied.

なお、上述の実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのマスクパターンＭＰの像を基板Ｐに投影するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）である場合を例にして説明したが、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのマスクパターンＭＰの像を一括投影し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。  In the above-described embodiment, the exposure apparatus EX is a step-and-scan type scanning exposure apparatus that projects the mask pattern MP image of the mask M onto the substrate P by moving the mask M and the substrate P synchronously. (Scanning stepper) has been described by way of example, but the mask pattern MP image of the mask M is collectively projected while the mask M and the substrate P are stationary, and the substrate P is sequentially moved step by step. The present invention can also be applied to a repeat type projection exposure apparatus (stepper).

露光装置ＥＸの種類としては、液晶表示素子製造用又はフラットパネルディスプレイ製造用の露光装置に限られず、感光基板に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。  The type of the exposure apparatus EX is not limited to an exposure apparatus for manufacturing a liquid crystal display element or a flat panel display. An exposure apparatus for manufacturing a semiconductor element that exposes a semiconductor element pattern on a photosensitive substrate, a thin film magnetic head, and an image sensor (CCD), micromachine, MEMS, DNA chip, or an exposure apparatus for manufacturing a reticle or mask can be widely applied.

上述の実施形態の露光装置ＥＸは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。
各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。The exposure apparatus EX of the above-described embodiment is manufactured by assembling various subsystems including the respective constituent elements recited in the claims of the present application so as to maintain predetermined mechanical accuracy, electrical accuracy, and optical accuracy. Is done. In order to ensure these various accuracies, before and after assembly, various optical systems are adjusted to achieve optical accuracy, various mechanical systems are adjusted to achieve mechanical accuracy, and various electrical systems are Adjustments are made to achieve electrical accuracy.
The assembly process from the various subsystems to the exposure apparatus includes mechanical connection, electrical circuit wiring connection, pneumatic circuit piping connection and the like between the various subsystems. Needless to say, there is an assembly process for each subsystem before the assembly process from the various subsystems to the exposure apparatus. When the assembly process of the various subsystems to the exposure apparatus is completed, comprehensive adjustment is performed to ensure various accuracies as the entire exposure apparatus. The exposure apparatus is preferably manufactured in a clean room where the temperature, cleanliness, etc. are controlled.

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図７に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。  As shown in FIG. 7, a microdevice such as a semiconductor device includes astep 201 for designing a function / performance of the microdevice, astep 202 for producing a mask (reticle) based on the design step, and a substrate as a base material of the device.Substrate processing step 204 including substrate processing (exposure processing) including exposing the substrate with exposure light using a mask pattern and developing the exposed substrate according to the above-described embodiment. The device is manufactured through a device assembly step (including processing processes such as a dicing process, a bonding process, and a package process) 205, aninspection step 206, and the like.

本発明の実施の形態に係る露光装置の概略的な構成を示す斜視図。1 is a perspective view showing a schematic configuration of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.本実施形態に係るマスクステージの構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the mask stage which concerns on this embodiment.本実施形態に係るマスクステージの構成を示す側面図。The side view which shows the structure of the mask stage which concerns on this embodiment.本実施形態に係るマスクステージの構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the mask stage which concerns on this embodiment.本実施形態に係るマスクステージの構成を示す側面図。The side view which shows the structure of the mask stage which concerns on this embodiment.本発明に係るマスクステージの他の構成を示す図。The figure which shows the other structure of the mask stage which concerns on this invention.マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート。The flowchart which shows an example of the manufacturing process of a microdevice.

符号の説明Explanation of symbols

ＥＸ…露光装置 Ｍ…マスク ＭＳＴ…マスクステージ装置 ＰＳＴ…基板ステージ装置 ＣＯＮＴ…制御装置 １４…移動鏡 ２１…マスクホルダ ２２（２２Ａ〜２２Ｄ）…ブラインドベース部材 ２３…支持部材 ２４…プーリ部 ２５（２５Ａ〜２５Ｄ）…ワイヤ機構 ２７（２７Ａ〜２７Ｄ）…移動部材 ２８（２８Ａ〜２８Ｄ）…移動部材 ２９、３０…遮光部材 ３１…板バネ部材 ３２…ピン部材  EX ... Exposure apparatus M ... Mask MST ... Mask stage apparatus PST ... Substrate stage apparatus CONT ...Control apparatus 14 ... Movingmirror 21 ... Mask holder 22 (22A-22D) ...Blind base member 23 ...Support member 24 ... Pulley section 25 (25A) To 25D) ... wire mechanism 27 (27A to 27D) ... moving member 28 (28A to 28D) ... movingmember 29, 30 ...light shielding member 31 ...leaf spring member 32 ... pin member

Claims (12)

Translated fromJapanese

物体を保持する第１ベース部と、
前記第１ベース部に対して移動可能な可動部を保持する第２ベース部と、
前記第１ベース部上に設けられ、前記第２ベース部の荷重方向に対向する対向方向に関して非拘束状態で該第２ベース部を支持するベース支持部と、
を備え、
前記可動部は、前記荷重方向と直交する所定方向に移動可能な第１移動部材と、該第１移動部材の前記所定方向の一方側への移動に連動して前記所定方向の他方側へ移動する第２移動部材と、を含み、
前記ベース支持部は、前記所定方向の２箇所で前記第２ベース部を支持することを特徴とするステージ装置。A first base for holding an object;
A second base part holding a movable part movable relative to the first base part;
A base support portion provided on the first base portion and supporting the second base portion in an unconstrained state with respect to a facing direction opposite to a load direction of the second base portion;
Equipped witha,
The movable portion moves to the other side of the predetermined direction in conjunction with a first moving member movable in a predetermined direction orthogonal to the load direction and the movement of the first moving member to one side of the predetermined direction. A second moving member that includes:
The stagesupport device, wherein the base support part supports the second base part at two locations in the predetermined direction . 前記非拘束状態は、前記第２ベース部が前記ベース支持部に載置された状態であることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。  The stage apparatus according to claim 1, wherein the unconstrained state is a state in which the second base portion is placed on the base support portion. 前記第２移動部材は、前記第１移動部材の前記所定方向の一方側への移動に伴う前記可動部の重心移動を抑制するように前記所定方向の他方側へ移動することを特徴とする請求項１または２に記載のステージ装置。The said2nd moving member moves tothe other side of the said predetermined direction so that the gravity center movementof the said movable partaccompanying the movement to the one side of the said predetermined direction of the said 1st moving member may be suppressed. Item 3. The stage apparatus according to Item 1 or 2.前記第２移動部材は、前記可動部の重心位置が前記第２ベース部の前記所定方向に関する中央部から移動しないように前記所定方向へ移動することを特徴とする請求項３に記載のステージ装置。4. The stage apparatus according to claim 3, wherein the second moving member moves in the predetermined direction so that the position of the center of gravity of the movable portion does not move from a central portion of the second base portion with respect to the predetermined direction. . 前記物体は、複数のパターン領域を有すると共に前記パターン領域が照明光によって照明されるものであり、
前記可動部は、前記第１移動部材に接続され前記所定方向に移動可能に設けられた前記照明光を遮光する遮光部材を有することを特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載のステージ装置。The object has a plurality of pattern areas and the pattern areas are illuminated by illumination light.
The said movable part has a light-shielding member which shieldsthe said illumination lightprovided so that it could move to the said predetermined direction connected to the said 1st moving member, The any one of Claims1-4 characterizedby the above-mentioned. The stage apparatus according to item. 前記荷重方向に直交する直交方向への前記第２ベース部の移動を規制する規制部材を更に備えることを特徴とする請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載のステージ装置。Stage apparatus as claimed in any one of claims 1 to5, characterized by further comprising a regulating member for regulating the movement of the second base portion in thedirection orthogonal to the load direction. 前記規制部材は、少なくとも前記所定方向への前記第２ベース部の移動を弾性的に規制することを特徴とする請求項６に記載のステージ装置。The stage device according to claim6 , wherein the restriction member elastically restricts movement of the second base portion in at least thepredetermined direction .前記ベース支持部は、前記第１ベース部上の前記所定方向の２箇所に配置された柱状または錘状の複数の支持部材を含み、該複数の支持部材によって前記第２ベース部の下面を支持することを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載のステージ装置。The base support portion includes a plurality of columnar or weight-shaped support members disposed at two locations in the predetermined direction on the first base portion, and supports the lower surface of the second base portion by the plurality of support members. The stage apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein前記複数の支持部材は、点状、線状または面状に形成された上端部を有し、該上端部によって前記第２ベース部の下面を支持することを特徴とする請求項８に記載のステージ装置。The plurality of support members have an upper end portion formed in a dot shape, a line shape, or a planar shape, and support the lower surface of the second base portion by the upper end portion. Stage device. パターンが設けられた物体を保持する請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載のステージ装置と、
感光剤が設けられた基板を保持する基板ステージと、
前記パターンを介して前記基板に露光光を照射する照射系と、
を備えることを特徴とする露光装置。The stage apparatus according to any one of claims 1 to 9, which holds an object provided with a pattern;
A substrate stage for holding a substrate provided with a photosensitive agent;
An irradiation system for irradiating the substrate with exposure light through the pattern;
An exposure apparatus comprising:前記基板は、１辺のサイズが５００ｍｍのガラスプレートであることを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。The exposure apparatus according to claim 10, wherein the substrate is a glass plate having a side size of 500 mm. 請求項１０または請求項１１に記載の露光装置を用いて、前記基板にパターンを転写することと、
前記パターンが転写された前記感光剤を現像して、前記パターンに対応する露光パターン層を形成することと、
前記露光パターン層を介して前記基板を加工することと、
を含むデバイス製造方法。Using the exposure apparatus according toclaim 10or 11 ,transferring apattern to the substrate;
Developing the photosensitive agent having thepattern transferred thereon to form an exposure pattern layer corresponding to the pattern;
Processing the substrate through the exposed pattern layer;
A device manufacturing method including:

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