JP5168377B2 - Touch panel sensor and method for manufacturing touch panel sensor - Google Patents
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Description
Translated fromJapanese本発明は、基板と、基板上に所定パターンで設けられ、透明導電材料からなる下側パターンと、下側パターン上に所定パターンで設けられ、金属材料からなる上側パターンと、を備えたタッチパネルセンサに関する。また本発明は、当該タッチパネルセンサの製造方法に関する。 The present invention relates to a touch panel sensor comprising a substrate, a lower pattern provided on the substrate in a predetermined pattern and made of a transparent conductive material, and an upper pattern provided on the lower pattern in a predetermined pattern and made of a metal material. About. The present invention also relates to a method for manufacturing the touch panel sensor.
従来、基板と、基板上に所定のパターンで設けられ、タッチを検出する透明導電パターンと、透明導電パターンに電気的に接続された取出導電パターンと、を有するタッチパネルセンサが知られている。透明導電パターンは、一般に、透明導電材料からなる透明導電層をパターニングすることにより形成される。また取出導電パターンは、一般に、透明導電層上に設けられ、金属材料からなる金属層をパターニングすることにより形成される。また透明導電パターンからの信号を外部に伝達させる際の電気抵抗を低減するため、一般に、取出導電パターンと基板との間には透明導電層が介在されている。 Conventionally, a touch panel sensor having a substrate, a transparent conductive pattern that is provided on the substrate in a predetermined pattern and detects a touch, and an extraction conductive pattern that is electrically connected to the transparent conductive pattern is known. The transparent conductive pattern is generally formed by patterning a transparent conductive layer made of a transparent conductive material. The extraction conductive pattern is generally provided on the transparent conductive layer, and is formed by patterning a metal layer made of a metal material. In order to reduce the electrical resistance when a signal from the transparent conductive pattern is transmitted to the outside, a transparent conductive layer is generally interposed between the extraction conductive pattern and the substrate.
タッチパネルセンサの各パターンを基板の法線方向に沿った階層で区画して考える場合、透明導電層をパターニングすることにより得られる透明導電パターンなどのパターンは、取出導電パターンよりも基板側（下側）に位置する下側パターンとなっている。また、金属層をパターニングすることにより得られる取出導電パターンなどのパターンは、透明導電パターンよりも基板から遠ざかる側（上側）に位置する上側パターンとなっている。 When considering each pattern of the touch panel sensor in a hierarchy along the normal direction of the substrate, the pattern such as the transparent conductive pattern obtained by patterning the transparent conductive layer is closer to the substrate side (lower side) than the extracted conductive pattern. ) Is located on the lower pattern. Further, a pattern such as an extraction conductive pattern obtained by patterning the metal layer is an upper pattern positioned on the side (upper side) farther from the substrate than the transparent conductive pattern.
このようなタッチパネルセンサは、例えば、基板と、基板上に設けられた透明導電層と、透明導電層上に設けられた金属層と、金属層上に設けられた感光層と、を有する積層体を、フォトフリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより製造される。この場合、例えば特許文献１に記載されているように、パターニング工程は、透明導電層および金属層を同一パターンに成形する１回目のパターニング工程と、パターニングされた透明導電層上の金属層を部分的に除去する２回目のパターニング工程とを含んでいる。 Such a touch panel sensor includes, for example, a laminate having a substrate, a transparent conductive layer provided on the substrate, a metal layer provided on the transparent conductive layer, and a photosensitive layer provided on the metal layer. Is manufactured by patterning using a photolithographic method. In this case, for example, as described in
フォトフリソグラフィ法において、各パターニング工程は、はじめに露光マスクを用いて積層体の感光層を露光し、次に露光された感光層を現像し、その後に残っている感光層をマスクとして透明導電層や金属層をエッチングすることによって行われる。この場合、１回目のパターニング工程で用いられる露光マスク（以下、ファースト露光マスク）は、最終的に得られるタッチパネルセンサにおける透明導電層の形状に対応して感光層を残すよう設計されている。一方、２回目のパターニング工程で用いられる露光マスク（以下、セカンド露光マスク）は、除去されるべき金属層に対応する領域に感光層を残さないよう設計されている。 In the photolithographic method, each patterning step is performed by first exposing the photosensitive layer of the laminate using an exposure mask, developing the exposed photosensitive layer, and then using the remaining photosensitive layer as a mask. Or by etching the metal layer. In this case, the exposure mask used in the first patterning step (hereinafter referred to as a first exposure mask) is designed to leave a photosensitive layer corresponding to the shape of the transparent conductive layer in the finally obtained touch panel sensor. On the other hand, an exposure mask (hereinafter, second exposure mask) used in the second patterning process is designed so as not to leave a photosensitive layer in a region corresponding to a metal layer to be removed.
ところで、近年、タッチパネルセンサの検出感度を向上させるため、ノイズを遮蔽するためのシールドパターンを設けることや、取出導電パターンにおける寄生容量の偏差を抑制するためのダミーパターンを設けることなどが提案されている（例えば特許文献２，３参照）。このようなシールドパターンやダミーパターンは、製造効率の観点から考えると、透明導電パターンや取出導電パターンのパターニングと同時に透明導電層や金属層から形成されることが好ましい。 By the way, in recent years, in order to improve the detection sensitivity of the touch panel sensor, it has been proposed to provide a shield pattern for shielding noise or to provide a dummy pattern for suppressing a deviation of parasitic capacitance in the extraction conductive pattern. (For example, see Patent Documents 2 and 3). From the viewpoint of manufacturing efficiency, such a shield pattern or dummy pattern is preferably formed from a transparent conductive layer or a metal layer simultaneously with patterning of the transparent conductive pattern or extraction conductive pattern.
上述のようなシールドパターンやダミーパターンは、求められる耐ノイズ特性などに応じて、様々なパターンで形成される。従って、シールドパターンやダミーパターンを透明導電パターンや取出導電パターンのパターニングと同時に透明導電層や金属層から形成する場合、従来よりも精密なパターニングが求められる。 The shield pattern and dummy pattern as described above are formed in various patterns according to required noise resistance characteristics. Therefore, when the shield pattern and the dummy pattern are formed from the transparent conductive layer and the metal layer simultaneously with the patterning of the transparent conductive pattern and the extraction conductive pattern, more precise patterning than before is required.
パターニングの精度を決定する要因の１つとして、露光の際の露光マスクの位置決めの精度が挙げられる。しかしながら、露光マスクの位置決めの精度には限界がある。従って、例えばファースト露光マスクの配置が所望の位置からずれることにより、１回目のパターニング工程によって得られる透明導電層および金属層のパターン形状が所望のパターン形状から全体的にずれることが考えられる。また、セカンド露光マスクの配置も所望の位置からずれることが考えられる。 One factor that determines the accuracy of patterning is the accuracy of positioning of an exposure mask during exposure. However, the accuracy of positioning the exposure mask is limited. Therefore, for example, it is conceivable that the pattern shape of the transparent conductive layer and the metal layer obtained by the first patterning process is entirely deviated from the desired pattern shape by shifting the arrangement of the first exposure mask from the desired position. Further, it is conceivable that the second exposure mask is also displaced from a desired position.
また上述のように、セカンド露光マスクを用いた２回目のパターニング工程では、残っている金属層のうちの一部分のみが除去される。この場合、セカンド露光マスクの配置が所望の位置からずれ、これによってファースト露光マスクとセカンド露光マスクとの間の相対的な位置関係が理想からずれると、得られる金属層のパターン形状が全体的にずれるだけでなく、セカンド露光マスクによる露光の対象となる領域と対象とならない領域との境界で金属層のパターンの幅が細くなってしまうことが考えられる。この結果、金属層のパターンの電気抵抗が大きくなってしまうことが考えられる。 In addition, as described above, in the second patterning process using the second exposure mask, only a part of the remaining metal layer is removed. In this case, if the arrangement of the second exposure mask is deviated from the desired position, and the relative positional relationship between the first exposure mask and the second exposure mask is deviated from the ideal, the pattern shape of the obtained metal layer is totally changed. In addition to deviation, it is conceivable that the width of the metal layer pattern becomes narrow at the boundary between the region to be exposed by the second exposure mask and the region not to be exposed. As a result, it is considered that the electric resistance of the metal layer pattern is increased.
本発明は、このような課題を効果的に解決し得るタッチパネルセンサおよびタッチパネルセンサの製造方法を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the manufacturing method of the touch panel sensor and touch panel sensor which can solve such a subject effectively.
本発明は、基板と、前記基板の一側の面上に所定パターンで設けられ、透光性および導電性を有する透明導電材料からなる第１下側パターンと、前記第１下側パターン上に所定パターンで設けられ、遮光性および導電性を有する金属材料からなる第１上側パターンと、を備え、前記第１下側パターンは、多列に並べられ、各々がｘ方向に延びる複数の第１透明導電パターンと、所定の領域にわたって形成された第１シールドパターンと、を含み、前記第１上側パターンは、各第１透明導電パターンに接続され、線状に延びる第１取出導電パターンと、各第１取出導電パターンに接続された第１端子部と、少なくとも部分的に前記第１シールドパターン上に設けられた第１ダミーパターンと、を含み、前記第１ダミーパターンのうち前記第１シールドパターン上に設けられた部分は、前記第１シールドパターンの外縁全域に沿って線状に延びるとともに、前記第１シールドパターンを少なくとも部分的に露出させるよう形成されていることを特徴とするタッチパネルセンサである。 The present invention provides a substrate, a first lower pattern which is provided in a predetermined pattern on one surface of the substrate and is made of a transparent conductive material having translucency and conductivity, and the first lower pattern. A first upper pattern provided in a predetermined pattern and made of a light-shielding and conductive metal material, wherein the first lower pattern is arranged in multiple rows, and each of the first upper patterns extends in the x direction. A first conductive pattern connected to each first transparent conductive pattern and extending linearly; and a first conductive pattern that includes a transparent conductive pattern and a first shield pattern formed over a predetermined region; A first terminal connected to the first extraction conductive pattern; and a first dummy pattern provided at least partially on the first shield pattern; The touch panel is characterized in that a portion provided on the mask pattern extends linearly along the entire outer edge of the first shield pattern, and is formed to at least partially expose the first shield pattern. It is a sensor.
本発明によるタッチパネルセンサは、前記基板の他側の面上に所定パターンで設けられ、透光性および導電性を有する透明導電材料からなる第２下側パターンと、前記第２下側パターン上に所定パターンで設けられ、遮光性および導電性を有する金属材料からなる第２上側パターンと、をさらに備えていてもよい。この場合、前記第２下側パターンは、多列に並べられ、各々がｘ方向に直交するｙ方向に延びる複数の第２透明導電パターンを含み、前記第２上側パターンは、各第２透明導電パターンに接続され、線状に延びる第２取出導電パターンと、各第２取出導電パターンに接続された第２端子部と、を含み、前記第１シールドパターンの領域は、前記基板の法線方向から見た場合に各第２取出導電パターンの領域を部分的に含んでいてもよい。 The touch panel sensor according to the present invention is provided on the other surface of the substrate in a predetermined pattern, on a second lower pattern made of a transparent conductive material having translucency and conductivity, and on the second lower pattern. A second upper pattern made of a metal material having a predetermined pattern and made of a light-shielding property and conductivity may be further provided. In this case, the second lower pattern includes a plurality of second transparent conductive patterns arranged in multiple rows, each extending in the y direction orthogonal to the x direction, and the second upper pattern includes each second transparent conductive pattern. A second extraction conductive pattern connected to the pattern and extending linearly, and a second terminal portion connected to each second extraction conductive pattern, wherein the region of the first shield pattern is in a normal direction of the substrate When viewed from the above, each of the second extraction conductive pattern regions may be partially included.
本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第２下側パターンは、所定の領域にわたって形成された第２シールドパターンをさらに含んでいてもよい。この場合、前記第２上側パターンは、少なくとも部分的に前記第２シールドパターン上に設けられた第２ダミーパターンをさらに含み、前記第２ダミーパターンのうち前記第２シールドパターン上に設けられた部分は、前記第２シールドパターンの外縁全域に沿って線状に延びるとともに、前記第２シールドパターンを少なくとも部分的に露出させるよう形成されていてもよい。 In the touch panel sensor according to the present invention, the second lower pattern may further include a second shield pattern formed over a predetermined region. In this case, the second upper pattern further includes a second dummy pattern provided at least partially on the second shield pattern, and a portion of the second dummy pattern provided on the second shield pattern. May extend linearly along the entire outer edge of the second shield pattern, and may be formed to at least partially expose the second shield pattern.
本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第２シールドパターンの領域は、前記基板の法線方向から見た場合に各第１取出導電パターンの領域を部分的に含んでいてもよい。 In the touch panel sensor according to the present invention, the region of the second shield pattern may partially include the region of each first extraction conductive pattern when viewed from the normal direction of the substrate.
本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１ダミーパターンは、前記各第１取出導電パターンのうち最も外側に位置する第１取出導電パターンに少なくとも部分に沿って延びる部分を有していてもよい。 In the touch panel sensor according to the present invention, the first dummy pattern may have a portion extending along at least a portion of the first extraction conductive pattern located on the outermost side among the first extraction conductive patterns.
本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第２ダミーパターンは、前記各第２取出導電パターンのうち最も外側に位置する第２取出導電パターンに少なくとも部分に沿って延びる部分を有していてもよい。 In the touch panel sensor according to the present invention, the second dummy pattern may have a portion extending along at least a portion of the second extraction conductive pattern located on the outermost side among the second extraction conductive patterns.
本発明は、上記記載のタッチパネルセンサを製造する方法において、前記基板と、前記基板の一側の面上に設けられ、透明導電材料からなる第１透明導電層と、前記第１透明導電層上に設けられ、金属材料からなる第１金属層と、前記第１金属層上に設けられた光溶解型の第１感光層と、を有する積層体を準備する工程と、遮光部と透光部とを有する一側ファースト露光マスクを用いて前記第１感光層を露光する工程と、前記露光された第１感光層を現像して一側ファースト感光パターンを形成する工程と、前記一側ファースト感光パターンをマスクとして前記第１透明導電層および前記第１金属層をエッチングする工程と、パターニングされた前記第１金属層上に、光溶解型の感光層からなり、所定のパターンを有する一側セカンド感光パターンを形成する工程と、前記一側セカンド感光パターンをマスクとして前記第１金属層をさらにエッチングする工程と、を備え、前記一側セカンド感光パターンは、遮光部と透光部とを含む一側セカンド露光マスクを用いて光溶解型の感光層を露光することにより形成され、前記一側ファースト露光マスクの前記遮光部は、前記第１下側パターンおよび前記第１上側パターンのそれぞれに対応する部分を含み、前記一側セカンド露光マスクの前記透光部は、前記第１下側パターンの各第１透明導電パターンに対応する部分と、前記第１下側パターンの前記第１シールドパターンのうち露出される部分に対応する部分と、を含むことを特徴とするタッチパネルセンサの製造方法である。 In the method for manufacturing the touch panel sensor described above, the present invention provides the substrate, a first transparent conductive layer provided on one surface of the substrate, made of a transparent conductive material, and the first transparent conductive layer. A step of preparing a laminate having a first metal layer made of a metal material and a light-dissolving type first photosensitive layer provided on the first metal layer, a light shielding portion, and a light transmitting portion A step of exposing the first photosensitive layer using a one-side first exposure mask having: a step of developing the exposed first photosensitive layer to form a one-side first photosensitive pattern; and the one-side first photosensitive layer. Etching the first transparent conductive layer and the first metal layer using a pattern as a mask, and a one-side second having a predetermined pattern comprising a photodissolvable photosensitive layer on the patterned first metal layer Photosensitive And a step of further etching the first metal layer using the one-side second photosensitive pattern as a mask, wherein the one-side second photosensitive pattern includes a light shielding portion and a light transmitting portion. The light-dissolving type photosensitive layer is exposed using a side second exposure mask, and the light-shielding portion of the one-side first exposure mask corresponds to each of the first lower pattern and the first upper pattern. The translucent portion of the one-side second exposure mask includes a portion corresponding to each first transparent conductive pattern of the first lower pattern, and the first shield pattern of the first lower pattern A touch panel sensor manufacturing method comprising: a portion corresponding to an exposed portion.
本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記タッチパネルセンサは、前記基板の他側の面上に所定パターンで設けられ、透光性および導電性を有する透明導電材料からなる第２下側パターンと、前記第２下側パターン上に所定パターンで設けられ、遮光性および導電性を有する金属材料からなる第２上側パターンと、をさらに備えていてもよい。この場合、前記第２下側パターンは、多列に並べられ、各々がｘ方向に直交するｙ方向に延びる複数の第２透明導電パターンを含み、前記第２上側パターンは、各第２透明導電パターンに接続され、線状に延びる第２取出導電パターンと、各第２取出導電パターンに接続された第２端子部と、を含み、前記一側セカンド露光マスクは、その透光部のうち前記第１シールドパターンの露出される部分に対応する部分が、前記基板の法線方向から見た場合に各第２取出導電パターンの領域を部分的に含むよう配置されてもよい。 In the method for manufacturing a touch panel sensor according to the present invention, the touch panel sensor is provided in a predetermined pattern on the other surface of the substrate, and a second lower pattern made of a transparent conductive material having translucency and conductivity; And a second upper pattern that is provided in a predetermined pattern on the second lower pattern and is made of a light-shielding and conductive metal material. In this case, the second lower pattern includes a plurality of second transparent conductive patterns arranged in multiple rows, each extending in the y direction orthogonal to the x direction, and the second upper pattern includes each second transparent conductive pattern. A second extraction conductive pattern connected to the pattern and extending linearly, and a second terminal connected to each of the second extraction conductive patterns, and the one-side second exposure mask includes The portion corresponding to the exposed portion of the first shield pattern may be arranged to partially include the region of each second extraction conductive pattern when viewed from the normal direction of the substrate.
本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記積層体は、前記基板の他側の面上に設けられ、透明導電材料からなる第２透明導電層と、前記第２透明導電層上に設けられ、金属材料からなる第２金属層と、前記第２金属層上に設けられた光溶解型の第２感光層と、をさらに有していてもよい。この場合、タッチパネルセンサの製造方法は、遮光部と透光部とを有する他側ファースト露光マスクを用いて前記第２感光層を露光する工程と、前記露光された第２感光層を現像して他側ファースト感光パターンを形成する工程と、前記他側ファースト感光パターンをマスクとして前記第２透明導電層および前記第２金属層をエッチングする工程と、パターニングされた前記第２金属層上に、光溶解型の感光層からなり、所定のパターンを有する他側セカンド感光パターンを形成する工程と、前記他側セカンド感光パターンをマスクとして前記第２金属層をさらにエッチングする工程と、を備え、前記他側セカンド感光パターンは、遮光部と透光部とを含む他側セカンド露光マスクを用いて光溶解型の感光層を露光することにより形成され、前記他側ファースト露光マスクの前記遮光部は、前記第２下側パターンおよび前記第２上側パターンのそれぞれに対応する部分を含み、前記他側セカンド露光マスクの前記透光部は、前記第２下側パターンの各第２透明導電パターンに対応する部分を含んでいてもよい。 In the method for manufacturing a touch panel sensor according to the present invention, the laminate is provided on the other surface of the substrate, provided on the second transparent conductive layer made of a transparent conductive material, and the second transparent conductive layer, You may further have the 2nd metal layer which consists of metal materials, and the photodissolvable 2nd photosensitive layer provided on the said 2nd metal layer. In this case, the method for manufacturing the touch panel sensor includes a step of exposing the second photosensitive layer using an other-side first exposure mask having a light shielding portion and a light transmitting portion, and developing the exposed second photosensitive layer. Forming a second-side first photosensitive pattern, etching the second transparent conductive layer and the second metal layer using the second-side first photosensitive pattern as a mask, and applying light on the patterned second metal layer; A step of forming another side second photosensitive pattern having a predetermined pattern, and a step of further etching the second metal layer using the other side second photosensitive pattern as a mask. The side second photosensitive pattern is formed by exposing the photodissolvable photosensitive layer using the other side second exposure mask including the light shielding portion and the light transmitting portion, The light-shielding portion of the other-side first exposure mask includes portions corresponding to the second lower pattern and the second upper pattern, and the light-transmitting portion of the other-side second exposure mask is the second lower mask. A portion corresponding to each second transparent conductive pattern of the side pattern may be included.
本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記第２下側パターンは、所定の領域にわたって形成された第２シールドパターンをさらに含み、前記第２上側パターンは、少なくとも部分的に前記第２シールドパターン上に設けられた第２ダミーパターンをさらに含んでいてもよい。この場合、前記第２ダミーパターンのうち前記第２シールドパターン上に設けられた部分は、前記第２シールドパターンの外縁全域に沿って線状に延びるとともに、前記第２シールドパターンを少なくとも部分的に露出させるよう形成されており、前記他側セカンド露光マスクの前記透光部は、前記第２下側パターンの前記第２シールドパターンのうち露出される部分に対応する部分をさらに含んでいてもよい。 In the method for manufacturing a touch panel sensor according to the present invention, the second lower pattern further includes a second shield pattern formed over a predetermined region, and the second upper pattern is at least partially on the second shield pattern. May further include a second dummy pattern. In this case, a portion of the second dummy pattern provided on the second shield pattern extends linearly along the entire outer edge of the second shield pattern, and at least partially extends the second shield pattern. It is formed to be exposed, and the translucent portion of the other side second exposure mask may further include a portion corresponding to an exposed portion of the second shield pattern of the second lower pattern. .
本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記他側セカンド露光マスクは、その透光部のうち前記第２シールドパターンの露出される部分に対応する部分が、前記基板の法線方向から見た場合に各第１取出導電パターンの領域を部分的に含むよう配置されてもよい。 In the touch panel sensor manufacturing method according to the present invention, in the other side second exposure mask, a portion corresponding to the exposed portion of the second shield pattern in the translucent portion is viewed from the normal direction of the substrate. May be arranged so as to partially include a region of each first extraction conductive pattern.
本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記一側セカンド感光パターンは、はじめに、前記一側ファースト感光パターンをマスクとしてエッチングされた前記第１金属層上に光溶解型の感光層を設け、次に、この感光層を前記一側セカンド露光マスクを用いて露光し、その後、露光された感光層を現像することにより形成されてもよい。 In the method for manufacturing a touch panel sensor according to the present invention, the one-side second photosensitive pattern is first provided with a photodissolvable photosensitive layer on the first metal layer etched using the one-side first photosensitive pattern as a mask, The photosensitive layer may be formed by exposing the photosensitive layer using the one-side second exposure mask and then developing the exposed photosensitive layer.
本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記一側セカンド感光パターンは、はじめに、エッチングされた前記第１金属層上に残っている前記一側ファースト感光パターンを前記一側セカンド露光マスクを用いて露光し、その後、露光された前記一側ファースト感光パターンを現像することにより形成されてもよい。 In the method for manufacturing a touch panel sensor according to the present invention, the one-side second photosensitive pattern is first exposed by using the one-side second exposure mask to expose the one-side first photosensitive pattern remaining on the etched first metal layer. Then, it may be formed by developing the exposed one-side first photosensitive pattern.
本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記他側セカンド感光パターンは、はじめに、前記他側ファースト感光パターンをマスクとしてエッチングされた前記第２金属層上に光溶解型の感光層を設け、次に、この感光層を前記他側セカンド露光マスクを用いて露光し、その後、露光された感光層を現像することにより形成されてもよい。 In the method of manufacturing a touch panel sensor according to the present invention, the other side second photosensitive pattern is first provided with a photodissolvable photosensitive layer on the second metal layer etched using the other side first photosensitive pattern as a mask, The photosensitive layer may be exposed by using the second exposure mask on the other side, and then the exposed photosensitive layer may be developed.
本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記他側セカンド感光パターンは、はじめに、エッチングされた前記第２金属層上に残っている前記他側ファースト感光パターンを前記他側セカンド露光マスクを用いて露光し、その後、露光された前記他側ファースト感光パターンを現像することにより形成されてもよい。 In the method of manufacturing a touch panel sensor according to the present invention, the other side second photosensitive pattern is first exposed by using the other side second exposure mask to expose the other side first photosensitive pattern remaining on the etched second metal layer. Then, it may be formed by developing the exposed other side first photosensitive pattern.
本発明によれば、前記基板の一側の面上に形成され、透明導電材料からなる第１下側パターンは、所定の領域にわたって形成された第１シールドパターンを含んでおり、第１下側パターン上に形成され、金属材料からなる第１上側パターンは、少なくとも部分的に前記第１シールドパターン上に設けられた第１ダミーパターンを含んでいる。この第１ダミーパターンのうち第１シールドパターン上に設けられた部分は、第１シールドパターンを少なくとも部分的に露出させるよう形成されている。このような第１シールドパターンを形成することにより、基板の一側から他側への視認性を確保しながら、ノイズが基板の一側から他側へ、または他側から一側へ放出されるのを防ぐことができる。また第１ダミーパターンは、第１シールドパターンの外縁全域に沿って線状に延びている。この場合、第１シールドパターンの一端から他端へ至る電流経路として、外縁に沿って延びる第１ダミーパターンの一方の経路、例えば右回りの経路と、外縁に沿って延びる第１ダミーパターンの他方の経路、例えば左回りの経路の２つの経路が確保されることになる。このため、第１シールドパターンを少なくとも部分的に露出させるようフォトリソグラフィー法を用いて第１シールドパターン上の金属材料を除去する際、ファースト露光マスクとセカンド露光マスクとの間の相対的な位置関係がずれ、これによって第１ダミーパターンの一方の経路が細くなったとしても、一方の経路が細くなった分だけ第１ダミーパターンの他方の経路が太くなるようになっている。このため、ファースト露光マスクとセカンド露光マスクとの間の相対的な位置関係がずれた場合であっても、第１シールドパターンの一端から他端へ至る電流経路の電気抵抗が大きく劣化するのを防ぐことができる。 According to the present invention, the first lower pattern formed on one surface of the substrate and made of a transparent conductive material includes the first shield pattern formed over a predetermined region, and the first lower side The first upper pattern formed on the pattern and made of a metal material includes a first dummy pattern provided at least partially on the first shield pattern. A portion of the first dummy pattern provided on the first shield pattern is formed so as to at least partially expose the first shield pattern. By forming such a first shield pattern, noise is emitted from one side of the substrate to the other side or from the other side to the one side while ensuring visibility from one side of the substrate to the other side. Can be prevented. The first dummy pattern extends linearly along the entire outer edge of the first shield pattern. In this case, as a current path from one end to the other end of the first shield pattern, one path of the first dummy pattern extending along the outer edge, for example, the clockwise path and the other of the first dummy pattern extending along the outer edge 2 routes, for example, a left-handed route, are secured. For this reason, when removing the metal material on the first shield pattern by using a photolithography method so as to at least partially expose the first shield pattern, the relative positional relationship between the first exposure mask and the second exposure mask. Even if one path of the first dummy pattern becomes narrow due to this, the other path of the first dummy pattern is thickened by the amount of the narrowing of one path. For this reason, even if the relative positional relationship between the first exposure mask and the second exposure mask is shifted, the electrical resistance of the current path from one end to the other end of the first shield pattern is greatly deteriorated. Can be prevented.
以下、図１乃至図１０を参照して、本発明の実施の形態について説明する。はじめに図１を参照して、本実施の形態によるタッチパネルセンサ６０全体について説明する。図１は、タッチパネルセンサ６０を示す平面図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. First, the entire
タッチパネルセンサ
タッチパネルセンサ６０は、タッチパネルセンサ６０への外部導体（例えば、人間の指）の接触位置または接近位置を検知して、検知に基づく信号を外部に送るものである。このタッチパネルセンサ６０は、基板１２と、基板１２上に所定のパターンで設けられ、接触位置などのいわゆるタッチを検出する透明導電パターン６１，６２と、透明導電パターン６１，６２にそれぞれ電気的に接続された取出導電パターン６３，６４と、を備えている。このうち基板１２の一側（例えば観察者側）には、多列に並べられ、各々がｘ方向に延びる複数の第１透明導電パターン６１と、各第１透明導電パターン６１に接続され、線状に延びる複数の第１取出導電パターン６３とが設けられている。また、基板１２の他側（例えば表示部側）には、多列に並べられ、各々がｙ方向に延びる複数の第２透明導電パターン６２と、各第２透明導電パターン６２に接続され、線状に延びる複数の第２取出導電パターン６４とが設けられている。なお「線状に延びる」とは、図１および後述の図２Ａ，２Ｂに示すように、第１取出導電パターン６３および第２取出導電パターン６４が、略一定の幅を有するとともに様々な方向へ引き回されている、という態様を表しているThe touch panel sensor
また、第１透明導電パターン６１および第２透明導電パターン６２からの信号を外部へ取り出すための第１端子部６５および第２端子部６６が、それぞれ第１取出導電パターン６３および第２取出導電パターン６４に接続されている。なお図１においては、基板１２の他側に設けられている構成要素が点線で表されている。 In addition, the first
図１に示すように、基板１２上の領域は、表示部（図示せず）からの映像が表示される表示領域Ｔ０であって、タッチを検出する第１透明導電パターン６１および第２透明導電パターン６２が配置される表示領域Ｔ０と、表示領域Ｔ０の周囲に形成され、第１取出導電パターン６３および第２取出導電パターン６４が配置される配線領域Ｔ１と、配線領域Ｔ１の外側に形成され、第１端子部６５および第２端子部６６が配置される端子領域Ｔ２と、に区画される。このうち配線領域Ｔ１および端子領域Ｔ２は、表示部からの映像が表示されない非表示領域となっている。図１に示すように、第１取出導電パターン６３および第２取出導電パターン６４は、配線領域Ｔ１から端子領域Ｔ２へ延びている。As shown in FIG. 1, the area on the
上述のように、第１透明導電パターン６１および第２透明導電パターン６２は、表示部からの映像が表示される表示領域Ｔ０に設けられている。このため、第１透明導電パターン６１および第２透明導電パターン６２は、導電性および透光性を有する透明導電材料から構成されている。一方、上述のように、第１取出導電パターン６３、第２取出導電パターン６４、第１端子部６５および第２端子部６６は、表示部からの映像が表示されない非表示領域に設けられている。このため、取出導電パターン６３，６４および端子部６５，６６を構成する材料が透光性を有する必要はない。従って取出導電パターン６３，６４および端子部６５，６６は一般に、透透明導電材料よりも高い電気伝導率を有し、遮光性を備えた金属材料から構成される。As described above, the first transparent
〔一側の構成要素〕
次に図１および図２Ａを参照して、タッチパネルセンサ６０の各構成要素のうち基板１２の一側に設けられているさらなる構成要素について説明する。図２Ａは、基板１２の一側に設けられている構成要素を示す平面図である。[One side component]
Next, with reference to FIG. 1 and FIG. 2A, the further component provided in the one side of the board |
（シールドパターン）
図２Ａに示すように、基板１２の一側の配線領域Ｔ１には、所定の領域にわたって隙間無く形成された第１シールドパターン７１が設けられている。この第１シールドパターン７１の領域は、基板１２の法線方向から見た場合に基板１２の他側に設けられている上述の各第２取出導電パターン６４の領域を部分的に含んでいる。例えば図１から見て取れるように、第１シールドパターン７１は、各第２取出導電パターン６４をほぼ全域にわたって覆うよう配置されている。このような第１シールドパターン７１を設けることにより、タッチパネルセンサ６０の一側において生じるノイズが基板１２の他側の第２取出導電パターン６４に伝達されることを防ぐことができる。例えば、指などの外部導体が基板１２の一側の第１透明導電パターン６１にタッチし、この際の容量変化に基づいて基板１２の一側でノイズが発生したとしても、このノイズが、基板１２の他側の第２取出導電パターン６４に伝達されることを防ぐことができる。これによって、基板１２の他側における検出の感度を向上させることができる。(Shield pattern)
As shown in FIG. 2A, the wiring region T1 of the one side of the
このような第１シールドパターン７１は、好ましくは、透光性を有する材料から構成される。例えば、第１透明導電パターン６１を構成する透明導電材料と同一の透明導電材料から構成される。これによって、タッチパネルセンサ６０の製造工程において、第１シールドパターン７１の反対側に形成される第２取出導電パターン６４を視認することが可能となり、このことにより、第２取出導電パターン６４の断線チェックなどを簡易に実施することができる。 Such a
フォトリソグラフィー法を用いてタッチパネルセンサ６０が製造される場合、第１透明導電パターン６１および第１シールドパターン７１は、例えば後述する積層体の透明導電層をパターニングすることにより同時に形成される。これによって、より少ない工数で第１透明導電パターン６１および第１シールドパターン７１を形成することが可能となる。 When the
（ダミーパターン）
また図２Ａに示すように、複数の第１取出導電パターン６３のうち最も外側にある各第１取出導電パターン６３のさらに外側に、第１ダミーパターン７３が設けられている。この第１ダミーパターン７３は、最も外側にある各第１取出導電パターン６３に部分的に沿って延びるとともに、少なくとも部分的に上述の第１シールドパターン７１上に位置するよう形成されている。また第１ダミーパターン７３は、配線領域Ｔ１から端子領域Ｔ２へ延び、そして第１端子部７５に接続されている。第１端子部７５は、適切な配線（図示せず）などを介して接地されている。(Dummy pattern)
Further, as shown in FIG. 2A, a
（ダミーパターンの第１の目的）
このような第１ダミーパターン７３は、第１に、各第１取出導電パターン６３における寄生容量の偏差を低減するという目的のために設けられている。第２に、第１シールドパターン７１を低抵抗で接地するという目的のために設けられている。はじめに、第１の目的について説明する。(First purpose of dummy pattern)
First, the
図２Ａに示すように、複数の第１取出導電パターン６３のうち最も外側にある各第１取出導電パターン６３においては、隣接する第１取出導電パターン６３が片側にしか形成されていない。このため、仮に第１ダミーパターン７３が設けられていないとする場合、最も外側にある各第１取出導電パターン６３において形成される静電容量は、その他の第１取出導電パターン６３において形成される静電容量よりも小さくなってしまう。この場合、最も外側にある各第１取出導電パターン６３に対応する第１透明導電パターン６１をスキャンする際の容量検出感度が、その他の第１取出導電パターン６３に対応する第１透明導電パターン６１をスキャンする際の容量検出感度と異なることが考えられる。
ここで本実施の形態によれば、最も外側にある各第１取出導電パターン６３のさらに外側に、第１ダミーパターン７３が設けられている。このため、最も外側にある各第１取出導電パターン６３において形成される静電容量と、その他の第１取出導電パターン６３において形成される静電容量とをほぼ等しくすることができる。これによって、第１透明導電パターン６１による検出感度が向上することが期待される。なおこのような効果は、第１ダミーパターン７３のうち図２Ａにおいて矢印Ｒにより示される範囲に対応する部分によってもたらされる。As shown in FIG. 2A, in each of the first extraction
Here, according to the present embodiment, the
このような第１ダミーパターン７３は、好ましくは、第１取出導電パターン６３を構成する金属材料と同一の金属材料から、第１取出導電パターン６３と略同一のパターン幅で形成される。また、最も外側にある第１取出導電パターン６３と第１ダミーパターン７３との間の間隔は、隣接する２つの第１取出導電パターン６３間の間隔と略同一となっている。これによって、寄生容量の偏差を低減するという効果をより高めることができる。 Such a
（ダミーパターンの第２の目的）
次に第２の目的について説明する。上述のように、第１ダミーパターン７３は、少なくとも部分的に上述の第１シールドパターン７１上に位置するよう形成されている。具体的には、第１ダミーパターン７３のうち第１シールドパターン７１上に設けられた部分は、第１シールドパターン７１の外縁全域に沿って線状に延びるとともに、第１シールドパターン７１のうちその外縁よりも内側の部分を露出させるよう形成されている。なお「露出させる」とは、図２Ａに示すように、第１シールドパターン７１のうちその外縁よりも内側の部分の上に第１ダミーパターン７３が設けられていないということを意味している。また「露出させる」という文言は、第１ダミーパターン７３以外の構成要素、例えば保護層（図示せず）などが第１シールドパターン７１のうちその外縁よりも内側の部分の上に設けられることを排除するものではない。なお第１シールドパターン７１の外縁全域に沿って線状に延びる第１ダミーパターン７３の幅は、例えば、外縁全域にわたって均一の幅ｔとなっている（図２Ａ参照）。(Second purpose of dummy pattern)
Next, the second purpose will be described. As described above, the
このような第１ダミーパターン７３を設けることにより、第１ダミーパターン７３を介して第１シールドパターン７１を低抵抗で接地することができ、このことにより、第１シールドパターン７１のシールド効果を高めることができる。また後述するように、第１ダミーパターン７３が第１シールドパターン７１の外縁全域に沿って線状に延びることにより、露光マスクの位置ずれが生じた場合であっても、第１シールドパターン７１を常に低抵抗で接地することができる。 By providing the
〔他側の構成要素〕
次に図１および図２Ｂを参照して、タッチパネルセンサ６０の各構成要素のうち基板１２の他側に設けられているさらなる構成要素について説明する。図２Ｂは、基板１２の他側に設けられている構成要素を示す平面図である。なお便宜上、図２Ｂには、基板１２の一側から見た場合のパターン形状が示されている。[Components on the other side]
Next, with reference to FIG. 1 and FIG. 2B, the further component provided in the other side of the board |
（シールドパターン）
図２Ｂに示すように、基板１２の他側の配線領域Ｔ１には、所定の領域にわたって隙間無く形成された第２シールドパターン７２が設けられている。この第２シールドパターン７２の領域は、基板１２の法線方向から見た場合に基板１２の一側に設けられている上述の各第１取出導電パターン６３の領域を部分的に含んでいる。例えば図１から見て取れるように、第２シールドパターン７２は、各第１取出導電パターン６３をほぼ全域にわたって覆うよう配置されている。このような第２シールドパターン７２を設けることにより、タッチパネルセンサ６０の他側において生じるノイズが基板１２の一側の第１取出導電パターン６３に伝達されることを防ぐことができる。例えば、表示部から放射されるノイズが基板１２の一側の第１取出導電パターン６３に伝達されることを防ぐことができる。これによって、基板１２の一側における検出の感度を向上させることができる。(Shield pattern)
As shown in FIG. 2B, the wiring region T1 of the other side of the
第２シールドパターン７２の材料は、上述の第１シールドパターン７１の場合と略同一であるので、詳細な説明は省略する。 Since the material of the
（ダミーパターン）
また図２Ｂに示すように、複数の第２取出導電パターン６４のうち最も外側にある第２取出導電パターン６４のさらに外側に、第２ダミーパターン７４が設けられている。この第２ダミーパターン７４は、最も外側にある各第２取出導電パターン６４に部分的に沿って延びるとともに、少なくとも部分的に上述の第２シールドパターン７２上に位置するよう形成されている。また第２ダミーパターン７４は、配線領域Ｔ１から端子領域Ｔ２へ延び、そして第２端子部７６に接続されている。第２端子部７６は、適切な配線（図示せず）などを介して接地されている。(Dummy pattern)
Further, as shown in FIG. 2B, a
この第２ダミーパターン７４により、上述の第１ダミーパターン７３の場合と同様に、各第２取出導電パターン６４における寄生容量の偏差を低減するとともに、第２シールドパターン７２を低抵抗で接地することができる。なお寄生容量の偏差を低減するという効果は、第２ダミーパターン７４のうち図２Ｂにおいて矢印Ｒにより示される範囲に対応する部分によってもたらされる。 As in the case of the
第２ダミーパターン７４は、好ましくは、第２取出導電パターン６４を構成する金属材料と同一の金属材料から、第２取出導電パターン６４と略同一のパターン幅で形成される。また、最も外側にある第２取出導電パターン６４と第２ダミーパターン７４との間の間隔は、隣接する２つの第２取出導電パターン６４間の間隔と略同一となっている。これによって、寄生容量の偏差を低減するという効果をより高めることができる。 The
また図２Ｂに示すように、第２ダミーパターン７４のうち第２シールドパターン７２上に設けられた部分は、第２シールドパターン７２の外縁全域に沿って線状に延びるとともに、第２シールドパターン７２のうちその外縁よりも内側の部分を露出させるよう形成されている。これによって、第１ダミーパターン７３の場合と同様に、露光マスクの位置ずれが生じた場合であっても、第２シールドパターン７２を常に低抵抗で接地することが可能となる。なお第２シールドパターン７２の外縁全域に沿って線状に延びる第２ダミーパターン７４の幅は、例えば、外縁全域にわたって均一の幅ｕとなっている（図２Ｂ参照）。 2B, the portion of the
タッチパネルセンサの製造方法
次に、タッチパネルセンサ６０の製造方法について説明する。本実施の形態によるタッチパネルセンサ６０は、フォトリソグラフィー法を用いて積層体をパターニングすることにより得られる。はじめに、用いられる積層体について説明する。Manufacturing method for a touch panel sensor Next, a method for manufacturing the
（積層体）
図３（ａ）は、積層体１３を示す縦断面図である。また図３（ｂ）は、フォトリソグラフィー法を用いて積層体１３をパターニングすることにより得られるタッチパネルセンサ６０を模式的に表す縦断面図である。(Laminate)
FIG. 3A is a longitudinal sectional view showing the
積層体１３は、基板１２と、基板１２の一側の面上に設けられ、透明導電材料からなる第１透明導電層１４と、第１透明導電層１４上に設けられ、金属材料からなる第１金属層１５と、第１金属層１５上に設けられた光溶解型の第１感光層１６と、基板１２の他側の面上に設けられ、透明導電材料からなる第２透明導電層１７と、第２透明導電層１７上に設けられ、金属材料からなる第２金属層１８と、第２金属層１８上に設けられた光溶解型の第２感光層１９と、を有している。 The
第１透明導電層１４および第２透明導電層１７を構成する透明導電材料としては、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物が用いられる。これらの金属酸化物が２種以上複合されてもよい。 Examples of the transparent conductive material constituting the first transparent
第１金属層１５および第２金属層１８を構成する金属材料としては、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン、パラジウム、銀（Ａｇ）、クロム、銅等の金属及びそれらを主成分とする合金、あるいはそれら合金を含む積層体が用いられる。このうち銀を含む合金の例としては、銀、パラジウム、銅を含んでなるＡＰＣ合金が挙げられる。 Examples of the metal material constituting the
第１感光層１６および第２感光層１９としては、所定の光、例えば紫外線によって照射されることにより溶解する光溶解型の感光層が用いられる。 As the first
後述するように、第１取出導電パターン６３、第１端子部６５、第１ダミーパターン７３および第１端子部７５は、積層体１３の第１金属層１５をパターニングすることにより同時に形成される。これによって、より少ない工数で第１取出導電パターン６３、第１端子部６５、第１ダミーパターン７３および第１端子部７５を形成することが可能となる。 As will be described later, the first extraction
ところでフォトリソグラフィー法を用いて製造されたタッチパネルセンサ６０においては、一般に、第１取出導電パターン６３、第１端子部６５、第１ダミーパターン７３および第１端子部７５と基板１２との間に第１透明導電層１４が介在されている。なぜなら、これによって、第１取出導電パターン６３、第１端子部６５、第１ダミーパターン７３および第１端子部７５における電気抵抗を、第１透明導電層１４の分だけ低減することができるからである。このようにタッチパネルセンサ６０において、第１取出導電パターン６３、第１端子部６５、第１ダミーパターン７３および第１端子部７５は、パターニングされた第１透明導電層１４上に設けられたパターンとなっている。すなわち、本実施の形態におけるタッチパネルセンサ６０は、図３（ｂ）で模式的に示されているように、第１透明導電層１４をパターニングすることにより得られる第１下側パターン２０と、第１下側パターン２０上に所定パターンで設けられ、第１金属層１５をパターニングすることにより得られる第１上側パターン３０と、を備えている。このうち第１下側パターン２０には、上述の第１透明導電パターン６１および第１シールドパターン７１が含まれている。また第１上側パターン３０には、上述の第１取出導電パターン６３、第１端子部６５、第１ダミーパターン７３および第１端子部７５が含まれている。 By the way, in the
同様に、基板１２の他側に関しても、本実施の形態におけるタッチパネルセンサ６０は、第２透明導電層１７をパターニングすることにより得られる第２下側パターン２５と、第２下側パターン２５上に所定パターンで設けられ、第２金属層１８をパターニングすることにより得られる第２上側パターン３５と、を備えている。このうち第２下側パターン２５には、上述の第２透明導電パターン６２および第２シールドパターン７２が含まれている。また第２上側パターン３５には、上述の第２取出導電パターン６４、第２端子部６６、第２ダミーパターン７４および第２端子部７６が含まれている。 Similarly, with respect to the other side of the
（露光マスク）
次に、フォトリソグラフィー法において用いられる露光マスクについて説明する。本実施の形態においては、後述するように２回の露光工程が実施される。(Exposure mask)
Next, an exposure mask used in the photolithography method will be described. In the present embodiment, two exposure steps are performed as described later.
１回目の露光工程においては、図４Ａに示す一側ファースト露光マスク４０と、図４Ｂに示す他側ファースト露光マスク４５と、が使用される。このうち一側ファースト露光マスク４０は、１回目の露光工程において基板１２の一側に配置される露光マスクとなっており、一方、他側ファースト露光マスク４５は、１回目の露光工程において基板１２の他側に配置される露光マスクとなっている。 In the first exposure process, the one-side
また２回目の露光工程においては、図５Ａに示す一側セカンド露光マスク５０と、図５Ｂに示す他側セカンド露光マスク５５と、が使用される。このうち一側セカンド露光マスク５０は、２回目の露光工程において基板１２の一側に配置される露光マスクとなっており、一方、他側セカンド露光マスク５５は、２回目の露光工程において基板１２の他側に配置される露光マスクとなっている。 In the second exposure step, one side
以下、各露光マスク４０，４５，５０，５５について詳細に説明する。 Hereinafter, each of the exposure masks 40, 45, 50, and 55 will be described in detail.
〔一側ファースト露光マスク〕
はじめに一側ファースト露光マスク４０について説明する。一側ファースト露光マスク４０は、光を遮蔽する遮光部４１と、光を透過させる透光部４２とからなっている。このうち遮光部４１は、図４Ａに示すように、第１感光層１６のうち第１シールドパターン７１に対応する領域に露光光が照射されるのを防ぐシールドパターン用遮光部４３と、第１感光層１６のうち第１透明導電パターン６１に対応する領域に露光光が照射されるのを防ぐ透明導電パターン用遮光部４４と、を含んでいる。また図４Ａに示すように、遮光部４１は、第１感光層１６のうち第１取出導電パターン６３，第１端子部６５，第１ダミーパターン７３および第１端子部７５に対応する領域に露光光が照射されるのを防ぐ部分をさらに含んでいる。すなわち遮光部４１は、第１感光層１６のうち上述した第１下側パターン２０および第１上側パターン３０に含まれる各パターンに対応する領域に露光光が照射されるのを防ぐよう形成されている。[One side first exposure mask]
First, the one-side
〔一側セカンド露光マスク〕
次に一側セカンド露光マスク５０について説明する。一側セカンド露光マスク５０は、光を遮蔽する遮光部５１と、光を透過させる透光部５２とからなっている。このうち透光部５２は、図５Ａに示すように、基板１２の一側の感光層のうち第１シールドパターン７１に対応する領域に向けて露光光を透過させるシールドパターン用透光部５３と、基板１２の一側の感光層のうち第１透明導電パターン６１に対応する領域に向けて露光光を透過させる透明導電パターン用透光部５４と、を含んでいる。なお上述のように第１シールドパターン７１の領域が各第２取出導電パターン６４の領域を部分的に含む場合、一側セカンド露光マスク５０は、露光の際、シールドパターン用透光部５３が第２取出導電パターン６４となる領域を部分的に含むよう配置される。[One side second exposure mask]
Next, the one-side
なお上述のように、第１シールドパターン７１上には、第１シールドパターン７１の外縁全域に沿って線状に延びる第１ダミーパターン７３が形成される。従って、一側セカンド露光マスク５０のシールドパターン用透光部５３の寸法は、第１ダミーパターン７３の幅の分だけ一側ファースト露光マスク４０のシールドパターン用遮光部４３よりも小さくなっている。具体的には、第１ダミーパターン７３の幅をｔとする場合（図２Ａ参照）、一側セカンド露光マスク５０のシールドパターン用透光部５３の寸法は、一側ファースト露光マスク４０のシールドパターン用遮光部４３の寸法よりも、ｘ方向およびｙ方向においてそれぞれ２ｔだけ小さくなっている。また、各露光マスク４０，５０は、シールドパターン用遮光部４３の中心とシールドパターン用透光部５３の中心とが対応するよう形成されている。これによって、第１シールドパターン７１の外縁全域に沿って線状に延び、幅ｔを有する第１ダミーパターン７３を得ることができる。 As described above, the
なお本実施の形態において、第１ダミーパターン７３の幅ｔは、起こりうる露光マスクの相対的な位置のずれの程度よりも大きくなっている。例えば、一側ファースト露光マスク４０と一側セカンド露光マスク５０との間で生じうる位置のずれが最大５０μｍである場合、第１ダミーパターン７３の幅ｔは５０μｍよりも大きくなっている。これによって、仮に露光マスクの間の相対的な位置のずれが生じた場合であっても、第１シールドパターン７１の外縁に沿って線状に延びる第１ダミーパターン７３が途中で途切れてしまうことを防ぐことができる。 In the present embodiment, the width t of the
なお露光マスクの位置のずれとは、所定のアライメントマーク（図示せず）を基準とした場合の一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の位置ずれだけでなく、第１シールドパターン７１を基準とした場合の一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の位置ずれも含む概念とする。従って、露光マスクの位置のずれは、各露光マスク４０，５０を位置決めする露光機（図示せず）のアライメント精度に起因して生じるだけでなく、一側ファースト露光マスク４０を用いた露光から一側セカンド露光マスク５０を用いた露光までの間に生じうる積層体１３の伸縮などにも起因して生じ得る。 The displacement of the exposure mask position is not only the displacement of the one-side
〔他側ファースト露光マスク〕
次に他側ファースト露光マスク４５について説明する。他側ファースト露光マスク４５は、光を遮蔽する遮光部４６と、光を透過させる透光部４７とからなっている。このうち遮光部４６は、図４Ｂに示すように、第２感光層１９のうち第２シールドパターン７２に対応する領域に露光光が照射されるのを防ぐシールドパターン用遮光部４８と、第２感光層１９のうち第２透明導電パターン６２に対応する領域に露光光が照射されるのを防ぐ透明導電パターン用遮光部４９と、を含んでいる。また図４Ｂに示すように、遮光部４６は、第２感光層１９のうち第２取出導電パターン６４，第２端子部６６，第２ダミーパターン７４および第２端子部７６に対応する領域に露光光が照射されるのを防ぐ部分をさらに含んでいる。すなわち遮光部４６は、一側ファースト露光マスク４０の遮光部４１の場合と同様に、第２感光層１９のうち上述した第２下側パターン２５および第２上側パターン３５に含まれる各パターンに対応する領域に露光光が照射されるのを防ぐよう形成されている。[Other side first exposure mask]
Next, the other side
〔他側セカンド露光マスク〕
次に他側セカンド露光マスク５５について説明する。他側セカンド露光マスク５５は、光を遮蔽する遮光部５６と、光を透過させる透光部５７とからなっている。このうち透光部５７は、図５Ｂに示すように、基板１２の他側の感光層のうち第２シールドパターン７２に対応する領域に向けて露光光を透過させるシールドパターン用透光部５８と、基板１２の他側の感光層のうち第２透明導電パターン６２に対応する領域に向けて露光光を透過させる透明導電パターン用透光部５９と、を含んでいる。なお上述のように第２シールドパターン７２の領域が各第１取出導電パターン６３の領域を部分的に含んでいる場合、他側セカンド露光マスク５５は、露光の際、シールドパターン用透光部５８が第１取出導電パターン６３となる領域を部分的に含むよう配置される。[Other side second exposure mask]
Next, the other side
なお上述のように、第２シールドパターン７２上には、第２シールドパターン７２の外縁全域に沿って線状に延びる第２ダミーパターン７４が形成される。従って、他側セカンド露光マスク５５のシールドパターン用透光部５８の寸法は、第２ダミーパターン７４の幅の分だけ他側ファースト露光マスク４５のシールドパターン用遮光部４８よりも小さくなっている。具体的には、第２ダミーパターン７４の幅をｕとする場合（図２Ｂ参照）、他側セカンド露光マスク５５のシールドパターン用透光部５８の寸法は、他側ファースト露光マスク４５のシールドパターン用遮光部４８の寸法よりも、ｘ方向およびｙ方向においてそれぞれ２ｕだけ小さくなっている。また、各露光マスク４５，５５は、シールドパターン用遮光部４８の中心とシールドパターン用透光部５８の中心とが対応するよう形成されている。これによって、第２シールドパターン７２の外縁全域に沿って線状に延び、幅ｕを有する第２ダミーパターン７４を得ることができる。 As described above, on the
第２ダミーパターン７４の幅ｕは、第１ダミーパターン７３の幅ｔの場合と同様に、起こりうる露光マスクの相対的な位置のずれの程度よりも大きくなっている。これによって、仮に露光マスクの間の相対的な位置のずれが生じた場合であっても、第２シールドパターン７２の外縁に沿って線状に延びる第２ダミーパターン７４が途中で途切れてしまうことを防ぐことができる。 Similar to the case of the width t of the
（１回目のパターニング工程）
次に、露光マスク４０，４５，５０，５５を用いて積層体１３をパターニングする工程について説明する。はじめに図６（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）を参照して、一側ファースト露光マスク４０および他側ファースト露光マスク４５を用いる１回目のパターニング工程について説明する。なお図６（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示す積層体１３の縦断面図は、パターニング工程を模式的に示すためのものであり、図１乃至図２Ｂに示すタッチパネルセンサ６０の各パターンの形状とは厳密には一致していない。(First patterning process)
Next, the process of patterning the
まず積層体１３を準備する。次に図６（ａ）に示すように、積層体１３の一側に一側ファースト露光マスク４０を配置し、積層体１３の他側に他側ファースト露光マスク４５を配置する。 First, the laminate 13 is prepared. Next, as illustrated in FIG. 6A, the one-side
その後、第１感光層１６の感光特性に対応した露光光（例えば、紫外線）を、ファースト露光マスク４０を介して第１感光層１６に照射する。同時に、第２感光層１９の感光特性に対応した露光光（例えば、紫外線）を、他側ファースト露光マスク４５を介して第２感光層１９に照射する。この結果、第１感光層１６および第２感光層１９が、最終的に得られる第１下側パターン２０および第２下側パターン２５に対応したパターンで露光される。 Thereafter, the first
なお、図６（ａ）に示すように、積層体１３において、第１感光層１６と第２感光層１９との間には、遮光性を有する第１金属層１５および第２金属層１８が介在されている。このため、積層体１３の一側から照射される露光光が第２感光層１９に到達することはなく、同様に、積層体１３の他側から照射される露光光が第１感光層１６に到達することもない。このため、第１感光層１６および第２感光層１９を同時に露光することが可能となっている。 As shown in FIG. 6A, in the laminate 13, between the first
次に、露光された第１感光層１６および第２感光層１９を現像する。これによって、図６（ｂ）に示すように、最終的に得られる第１下側パターン２０と略同一のパターンを有する一側ファースト感光パターン１６ａと、最終的に得られる第２下側パターン２５と略同一のパターンを有する他側ファースト感光パターン１９ａとが形成される。 Next, the exposed first
次に、一側ファースト感光パターン１６ａをマスクとして、第１金属層１５をエッチングする。同様に、他側ファースト感光パターン１９ａをマスクとして、第２金属層１８をエッチングする。これによって、図６（ｃ）に示すように、第１金属層１５が一側ファースト感光パターン１６ａと略同一のパターンにパターニングされ、第２金属層１８が他側ファースト感光パターン１９ａと略同一のパターンにパターニングさる。この際、エッチング液は、第１金属層１５および第２金属層１８を構成する材料に応じて適宜選択されるが、例えば燐酸、硝酸、酢酸および水などを所定の割合で含むエッチング液が用いられる。 Next, the
次に、一側ファースト感光パターン１６ａをマスクとして、第１透明導電層１４をエッチングする。また、他側ファースト感光パターン１９ａをマスクとして、第２透明導電層１７をエッチングする。これによって、図６（ｄ）に示すように、第１透明導電層１４が一側ファースト感光パターン１６ａと略同一のパターンにパターニングされ、第２透明導電層１７が他側ファースト感光パターン１９ａと略同一のパターンにパターニングされる。この際、エッチング液は、第１透明導電層１４および第２透明導電層１７を構成する材料に応じて適宜選択されるが、例えば塩化第二鉄を含むエッチング液が用いられる。 Next, the first transparent
図７Ａは、１回目のパターニング工程により得られた基板１２の一側の積層パターンを示す平面図であり、図７Ｂは、１回目のパターニング工程により得られた基板１２の他側の積層パターンを示す平面図である。図７Ａに示すように、第１透明導電層１４，第１金属層１５および一側ファースト感光パターン１６ａは、第１下側パターン２０および第１上側パターン３０のそれぞれを包含する形状を有している。また図７Ｂに示すように、第２透明導電層１７，第２金属層１８および他側ファースト感光パターン１９ａは、第２下側パターン２５および第２上側パターン３５のそれぞれを包含する形状を有している。 7A is a plan view showing a laminated pattern on one side of the
（２回目のパターニング工程）
次に図８（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）を参照して、一側セカンド露光マスク５０および他側セカンド露光マスク５５を用いる２回目のパターニング工程について説明する。なお図８（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示す積層体１３の縦断面図は、パターニング工程を模式的に示すためのものであり、図１乃至図２Ｂに示すタッチパネルセンサ６０の各パターンの形状とは厳密には一致していない。(Second patterning process)
Next, with reference to FIGS. 8A, 8B, 8C, and 8D, a second patterning process using the first side
はじめに図８（ａ）に示すように、１回目のパターニングが実施された後の積層体１３の一側に一側セカンド露光マスク５０を配置し、他側に他側セカンド露光マスク５５を配置する。 First, as shown in FIG. 8A, the one-side
次に露光光を、一側セカンド露光マスク５０を介して一側ファースト感光パターン１６ａに照射する。同時に、露光光を、他側セカンド露光マスク５５を介して他側ファースト感光パターン１９ａに照射する。この結果、一側ファースト感光パターン１６ａのうち第１透明導電パターン６１および第１シールドパターン７１に対応する部分が露光される。また、他側ファースト感光パターン１９ａのうち第２透明導電パターン６２および第２シールドパターン７２に対応する部分が露光される。 Next, the one-side first
次に、露光された一側ファースト感光パターン１６ａおよび他側ファースト感光パターン１９ａを現像する。これによって、図８（ｂ）に示すように、最終的に得られる第１上側パターン３０と略同一のパターンを有する一側セカンド感光パターン１６ｂと、最終的に得られる第２上側パターン３５と略同一のパターンを有する他側セカンド感光パターン１９ｂと、が形成される。 Next, the exposed one side first
次に、一側セカンド感光パターン１６ｂをマスクとして、第１透明導電層１４上に残っている第１金属層１５をエッチングする。同様に、他側セカンド感光パターン１９ｂをマスクとして、第２透明導電層１７上に残っている第２金属層１８をエッチングする。これによって、図８（ｃ）に示すように、第１金属層１５が一側セカンド感光パターン１６ｂと略同一のパターンにパターニングされ、第２金属層１８が他側セカンド感光パターン１９ｂと略同一のパターンにパターニングされる。この際、エッチング液としては、第１透明導電層１４および第２透明導電層１７をエッチングすることなく第１金属層１５および第２金属層１８のみを選択的にエッチングするエッチング液が用いられる。例えば燐酸、硝酸、酢酸および水などを所定の割合で含むエッチング液が用いられる。 Next, the
最後に、第１金属層１５および第２金属層１８上に残っている一側セカンド感光パターン１６ｂおよび他側セカンド感光パターン１９ｂを除去する。これによって、図８（ｄ）に示すように、基板１２と、基板１２の一側の面上に所定パターンで設けられた第１下側パターン２０と、第１下側パターン２０上に所定パターンで設けられた第１上側パターン３０と、基板１２の他側の面上に所定パターンで設けられた第２下側パターン２５と、第２下側パターン２５上に所定パターンで設けられた第２上側パターン３５と、を含むタッチパネルセンサ６０が得られる。 Finally, the one-side second
（露光マスクの配置がずれる場合について）
ところで上述のように、露光マスクの位置決めの精度には限界がある。このため、上述した２回のパターニング工程において、一側ファースト露光マスク４０および他側ファースト露光マスク４５に対する一側セカンド露光マスク５０および他側セカンド露光マスク５５の相対的な位置関係がずれることが考えられる。以下、そのような相対的な位置関係のずれが生じた場合における、本実施の形態の効果について説明する。(When the exposure mask is misaligned)
As described above, there is a limit to the positioning accuracy of the exposure mask. For this reason, in the two patterning steps described above, the relative positional relationship between the one-side
なお、一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の相対的な位置関係のずれが生じた場合における効果と、他側ファースト露光マスク４５に対する他側セカンド露光マスク５５の相対的な位置関係のずれが生じた場合における効果とは略同一となっている。従って、ここでは、一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の相対的な位置関係のずれが生じた場合における効果についてのみ説明する。 It should be noted that the effect when the relative positional relationship of the one-side
図９（ａ）（ｂ）（ｃ）は、本実施の形態による第１シールドパターン７１および第１ダミーパターン７３を模式的に示す平面図である。このうち図９（ａ）は、一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の相対的な位置ずれが無い場合に得られる第１シールドパターン７１および第１ダミーパターン７３を示す図である。また、図９（ｂ）（ｃ）は、一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の相対的な位置ずれがｙ方向（図９（ｂ）における上下方向）およびｘ方向（図９（ｃ）における左右方向）に生じた場合に得られる第１シールドパターン７１および第１ダミーパターン７３を示す図である。 FIGS. 9A, 9B and 9C are plan views schematically showing the
はじめに、一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の相対的な位置ずれが無い場合について説明する。この場合、図９（ａ）に示すように、得られる第１ダミーパターン７３の幅は、第１シールドパターン７１の外縁全域にわたってｔとなっている。 First, a case where there is no relative displacement of the one-side
ここで、第１シールドパターン７１のうち図９（ａ）において符号Ｐで示す点が、第１ダミーパターン７３および第１端子部７５を介して接地される経路について考える。この場合、点Ｐは、矢印ｋ１で示される、右回りで第１ダミーパターン７３を介して第１端子部７５に到達する経路（以下、右回り経路）と、矢印ｋ２で示される、左回りで第１ダミーパターン７３を介して第１端子部７５に到達する経路（以下、左回り経路）と、の２つの経路で接地されている。なお、第１シールドパターン７１の電気抵抗は第１ダミーパターン７３の電気抵抗に比べて大きいので、第１シールドパターン７１を通って第１端子部７５に到達する経路は無視されている。Here, let us consider a path in which the point indicated by symbol P in FIG. 9A in the
次に、一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の相対的な位置ずれがｙ方向に生じた場合について説明する。この場合、図９（ｂ）に示すように、露光マスクの位置ずれの分だけ、右回り経路の第１ダミーパターン７３のうちｘ方向に延びる部分の幅が小さくなっている。一方、露光マスクの位置ずれの分だけ、左回り経路の第１ダミーパターン７３のうちｘ方向に延びる部分の幅が大きくなっている。この結果、図９（ａ）に示す形態および図９（ｂ）に示す形態において、点Ｐから第１ダミーパターン７３を介して第１端子部７５に至る経路の電気抵抗は略同一になっている。 Next, a case where a relative positional shift of the one-side
次に、一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の相対的な位置ずれがｘ方向に生じた場合について説明する。この場合、図９（ｃ）に示すように、露光マスクの位置ずれの分だけ、右回り経路の第１ダミーパターン７３のうちｙ方向に延びる部分の幅が小さくなっている。一方、露光マスクの位置ずれの分だけ、左回り経路の第１ダミーパターン７３のうちｙ方向に延びる部分の幅が大きくなっている。この結果、図９（ａ）に示す形態および図９（ｃ）に示す形態において、点Ｐから第１ダミーパターン７３を介して第１端子部７５に至る経路の電気抵抗は略同一になっている。 Next, a case where a relative positional shift of the one-side
このように本実施の形態によれば、上述のように、透明導電材料からなる第１下側パターン２０は、所定の領域にわたって隙間無く形成された第１シールドパターン７１を含んでいる。また、第１下側パターン２０上に形成され、金属材料からなる第１上側パターン３０は、少なくとも部分的に第１シールドパターン７１上に設けられた第１ダミーパターン７３を含んでいる。この第１ダミーパターン７３のうち第１シールドパターン７１上に設けられた部分は、第１シールドパターン７１の外縁全域に沿って線状に延びている。このため、一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の相対的な位置関係がずれ、これによって第１ダミーパターン７３の右回り経路が細くなったとしても、右回り経路が細くなった分だけ左回り経路が太くなるようになっている。このため、一側ファースト露光マスク４０に対する一側セカンド露光マスク５０の相対的な位置関係がずれた場合であっても、第１シールドパターン７１を全域にわたって常に低抵抗で接地することができる。これによって、第１シールドパターン７１のシールド効果を常に安定して実現することができる。 Thus, according to the present embodiment, as described above, the first
また本実施の形態によれば、第１ダミーパターン７３のうち第１シールドパターン７１上に設けられた部分は、第１シールドパターン７１を少なくとも部分的に露出させるよう形成されている。このため、基板１２の一側から他側への視認性を確保しながら、ノイズが基板の一側から他側へ、または他側から一側へ放出されるのを防ぐことができる。 According to the present embodiment, the portion of the
また本実施の形態によれば、第１シールドパターン７１の外縁に沿って第１ダミーパターン７３を形成することにより、第１ダミーパターン７３に、第１シールドパターン７１を低抵抗で接地する作用、および、第１取出導電パターン６３の寄生容量の偏差を抑制する作用の両方を付与することができる。これによって、簡易な構成で効率的にタッチパネルセンサ６０の特性を向上させることができる。 Further, according to the present embodiment, by forming the
なお図２Ａに示すように、積層体１３の第１金属層１５をパターニングして第１取出導電パターン６３、第１端子部６５、第１ダミーパターン７３および第１端子部７５を形成する際、同時に第１アライメントマーク６７が形成されてもよい。この第１アライメントマーク６７は、例えば、タッチパネルセンサ６０を表示部（図示せず）に組み合わせる際のアライメントマークとして利用される。 2A, when the
また図２Ｂに示すように、第２金属層１８をパターニングして第２取出導電パターン６４、第２端子部６６、第２ダミーパターン７４および第２端子部７６を形成する際、同時に第２アライメントマーク６８や第２ＩＤ領域７０が形成されてもよい。第２アライメントマーク６８は、例えば、タッチパネルセンサ６０を表示部（図示せず）に組み合わせる際のアライメントマークとして利用される。また第２ＩＤ領域７０は、タッチパネルセンサ６０の製品名や製造番号などのＩＤ情報を表示するよう利用される。 Also, as shown in FIG. 2B, when the second extraction
比較の形態
次に、図１０（ａ）（ｂ）（ｃ）を参照して、本実施の形態の効果を比較の形態と比較して説明する。図１０（ａ）（ｂ）（ｃ）に示す比較の形態によるタッチパネルセンサの第１シールドパターンおよび第１ダミーパターンは、第１ダミーパターンが第１シールドパターンの片側にのみ設けられている点が異なるのみであり、他の構成は、上述の本実施の形態におけるタッチパネルセンサの第１シールドパターンおよび第１ダミーパターンと略同一である。図１０（ａ）（ｂ）（ｃ）に示す比較の形態において、上述の本実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。Comparison Mode Next, the effects of the present embodiment will be described in comparison with the comparison mode with reference to FIGS. The first shield pattern and the first dummy pattern of the touch panel sensor according to the comparative form shown in FIGS. 10A, 10B, and 10C are such that the first dummy pattern is provided only on one side of the first shield pattern. The only difference is the other configuration, which is substantially the same as the first shield pattern and the first dummy pattern of the touch panel sensor in the present embodiment described above. In the comparison mode shown in FIGS. 10A, 10B, and 10C, the same portions as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
図１０（ａ）（ｂ）（ｃ）は、比較の形態による第１シールドパターン７１および第１ダミーパターン１７３を模式的に示す平面図である。このうち図１０（ａ）は、露光マスク間の相対的な位置ずれが無い場合に得られる第１シールドパターン７１および第１ダミーパターン１７３を示す図である。また、図１０（ｂ）（ｃ）は、露光マスク間の相対的な位置ずれがｙ方向（図１０（ｂ）における上下方向）およびｘ方向（図１０（ｃ）における左右方向）に生じた場合に得られる第１シールドパターン７１および第１ダミーパターン１７３を示す図である。 FIGS. 10A, 10B, and 10C are plan views schematically showing a
図１０（ａ）に示すように、比較の形態においては、第１ダミーパターン１７３が第１シールドパターン７１の片側にのみ設けられている。従って、比較の形態においては、点Ｐは、上述の本実施の形態における右回り経路のみによって接地されている。 As shown in FIG. 10A, in the comparative form, the
次に、露光マスク間の相対的な位置ずれがｙ方向に生じた場合について説明する。この場合、図１０（ｂ）に示すように、露光マスクの位置ずれの分だけ、第１ダミーパターン１７３のうちｘ方向に延びる部分の幅が小さくなっている。この結果、図１０（ｂ）に示す形態においては、図１０（ａ）に示す形態に比べて、点Ｐから第１ダミーパターン１７３を介して第１端子部７５に至る経路の電気抵抗が大きくなっている。 Next, a case where relative positional deviation between exposure masks occurs in the y direction will be described. In this case, as shown in FIG. 10B, the width of the portion extending in the x direction in the
次に、露光マスク間の相対的な位置ずれがｘ方向に生じた場合について説明する。この場合、図１０（ｃ）に示すように、露光マスクの位置ずれの分だけ、第１ダミーパターン１７３のうちｙ方向に延びる部分の幅が小さくなっている。この結果、図１０（ｃ）に示す形態においては、図１０（ａ）に示す形態に比べて、点Ｐから第１ダミーパターン１７３を介して第１端子部７５に至る経路の電気抵抗が大きくなっている。 Next, a case where a relative positional shift between exposure masks occurs in the x direction will be described. In this case, as shown in FIG. 10C, the width of the portion extending in the y direction of the
このように比較の形態においては、露光マスク間の相対的な位置ずれの分だけ、第１シールドパターン７１の接地抵抗が変動してしまうことが考えられる。 As described above, in the comparative embodiment, it is conceivable that the ground resistance of the
これに対して本実施の形態によれば、上述のように、第１ダミーパターン７３のうち第１シールドパターン７１上に設けられた部分は、第１シールドパターン７１の外縁全域に沿って線状に延びている。このため、露光マスク間の相対的な位置ずれが生じた場合であっても、第１シールドパターン７１を全域にわたって常に低抵抗で接地することができる。 On the other hand, according to the present embodiment, as described above, the portion of the
なお本実施の形態において、第１上側パターン３０によってその外縁全域を囲われた第１下側パターン２０が、第１ダミーパターン７３によってその外縁全域を囲われた第１シールドパターン７１からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、第１シールドパターン７１および第１ダミーパターン７３の組合せ以外にも、第１上側パターン３０によってその外縁全域を囲われた第１下側パターン２０が存在していてもよい。 In the present embodiment, an example in which the first
また本実施の形態において、一側ファースト露光マスク４０を用いた露光と他側ファースト露光マスク４５を用いた露光とが同時に実施される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、一側ファースト露光マスク４０を用いた露光と他側ファースト露光マスク４５を用いた露光とが別々に実施されてもよい。同様に、一側セカンド露光マスク５０を用いた露光と他側セカンド露光マスク５５を用いた露光とが別々に実施されてもよい。 In the present embodiment, the example in which the exposure using the one-side
また本実施の形態において、一側セカンド感光パターン１６ｂが、はじめに、第１上側パターン３０上に残っている一側ファースト感光パターン１６ａを一側セカンド露光マスク５０を用いて露光し、その後、露光された一側ファースト感光パターン１６ａを現像することにより形成される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、１回目のパターニング工程の後、第１上側パターン３０上に残っている一側ファースト感光パターン１６ａを除去し、次に、第１上側パターン３０上に新たに追加で光溶解型の感光層（図示せず）を設け、その後、この追加の感光層を一側セカンド露光マスク５０を用いて露光し、そして、露光された追加の感光層を現像することにより一側セカンド感光パターン１６ｂが形成されてもよい。 In the present embodiment, the one-side second
同様に、本実施の形態において、他側セカンド感光パターン１９ｂが、はじめに、第２上側パターン３５上に残っている他側ファースト感光パターン１９ａを他側セカンド露光マスク５５を用いて露光し、その後、露光された他側ファースト感光パターン１９ａを現像することにより形成される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、１回目のパターニング工程の後、第２上側パターン３５上に残っている他側ファースト感光パターン１９ａを除去し、次に、第２上側パターン３５上に新たに追加で光溶解型の感光層（図示せず）を設け、その後、この追加の感光層を他側セカンド露光マスク５５を用いて露光し、そして、露光された追加の感光層を現像することにより他側セカンド感光パターン１９ｂが形成されてもよい。 Similarly, in the present embodiment, the other side second
なお、第１上側パターン３０上および第２上側パターン３５上に新たに追加で光溶解型の感光層を設ける方法は特に限定されず、様々な公知の方法が用いられ得る。例えば、感光層の材料が溶解している感光液中に積層体１３を浸漬させる方法、いわゆるディップコート法により、第１上側パターン３０上および第２上側パターン３５上に新たに追加で光溶解型の感光層が設けられる。なおディップコート法を用いる場合、第１上側パターン３０上および第２上側パターン３５上に一側ファースト感光パターン１６ａおよび他側ファースト感光パターン１９ａが残っていたとしても、積層体１３が感光液中に浸漬されている間に一側ファースト感光パターン１６ａおよび他側ファースト感光パターン１９ａが感光液中に溶解され得る。すなわち、ディップコート法を用いる場合、第１上側パターン３０上および第２上側パターン３５上に残っている一側ファースト感光パターン１６ａおよび他側ファースト感光パターン１９ａを除去することと、第１上側パターン３０上および第２上側パターン３５上に新たに追加で光溶解型の感光層（図示せず）を設けることとを同時に実施することができる。またディップコート法を用いる場合、基板１２の両側に同時に感光層を同時に設けることができる。従って、基板１２の両側に感光層が設けられる場合、ディップコート法が好ましく用いられる。 Note that a method for newly providing a light-dissolving type photosensitive layer on the first
また上述の本実施の形態において、第１感光層１６および第２感光層１９として光溶解型の感光層が用いられる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、感光層１６および第２感光層１９として光硬化型の感光層が用いられてもよい。
なお光硬化型の感光層が用いられる場合、当業者にとって自明なことではあるが、各露光マスク４０，４５，５０，５５における遮光部と透光部のパターンが反転されることになる。
また光硬化型の感光層が用いられる場合、１回目のパターニング工程の後、残っている感光層が除去されることになる。その後、２回目のパターニング工程において、新たな感光層が設けられ、そしてセカンド露光マスクによって感光層が露光される。In the above-described embodiment, an example in which a photodissolvable photosensitive layer is used as the first
If a photo-curing type photosensitive layer is used, it will be obvious to those skilled in the art, but the pattern of the light-shielding part and the light-transmitting part in each of the exposure masks 40, 45, 50, 55 is reversed.
When a photocurable photosensitive layer is used, the remaining photosensitive layer is removed after the first patterning step. Thereafter, in the second patterning step, a new photosensitive layer is provided, and the photosensitive layer is exposed with a second exposure mask.
また上述の本実施の形態において、基板１２の一側および他側の両方に下側パターンおよび上側パターンからなる積層パターンが形成される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、基板１２の一側または他側の一方にのみ積層パターンが形成されていてもよい。基板１２の一側または他側の一方にのみ積層パターンが形成されている場合であっても、上述の本実施の形態における技術的思想を適用することにより、下側パターンの外縁全域にわたって形成される上側パターンの抵抗値が変動することを防ぐことができる。 In the above-described embodiment, an example in which a laminated pattern including a lower pattern and an upper pattern is formed on both one side and the other side of the
また上述の本実施の形態において、第１シールドパターン７１または第２シールドパターン７２が、所定の領域にわたって隙間無く形成されている例を示した。すなわち、第１シールドパターン７１または第２シールドパターン７２がいわゆるベタ層として形成されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、第１シールドパターン７１または第２シールドパターン７２は、ストライプ状などの様々な模様を有していてもよい。これによって、第１シールドパターン７１または第２シールドパターン７２は、様々な周波数のノイズに柔軟に対応することができる。従って、本実施の形態における第１シールドパターン７１または第２シールドパターン７２は、ノイズを遮蔽するために第１透明導電層１４または第２透明導電層１７が形成されている領域として定義される。 In the above-described embodiment, the example in which the
１０ 積層パターン基板
１２ 基板
１３ 積層体
１４ 第１透明導電層
１５ 第１金属層
１６ 第１感光層
１７ 第２透明導電層
１８ 第２金属層
１９ 第２感光層
２０ 第１下側パターン
２５ 第２下側パターン
３０ 第１上側パターン
３５ 第２上側パターン
４０ 一側ファースト露光マスク
４１ 遮光部
４２ 透光部
４５ 他側ファースト露光マスク
４６ 遮光部
４７ 透光部
５０ 一側セカンド露光マスク
５１ 遮光部
５２ 透光部
５５ 他側セカンド露光マスク
５６ 遮光部
５７ 透光部
６０ タッチパネルセンサ
６１ 第１透明導電パターン
６２ 第２透明導電パターン
６３ 第１取出導電パターン
６４ 第２取出導電パターン
６５ 第１端子部
６６ 第２端子部
６７ 第１アライメントマーク
６８ 第２アライメントマーク
７０ 第２ＩＤ領域
７１ 第１シールドパターン
７２ 第２シールドパターン
７３ 第１ダミーパターン
７４ 第２ダミーパターン
７５ 第１端子部
７６ 第２端子部
Ｔ０ 表示領域
Ｔ１ 配線領域
Ｔ２ 端子領域
Ｔ３ 中間領域DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Laminated pattern board |
Claims (15)
Translated fromJapanese前記基板の一側の面上に所定パターンで設けられ、透光性および導電性を有する透明導電材料からなる第１下側パターンと、
前記第１下側パターン上に所定パターンで設けられ、遮光性および導電性を有する金属材料からなる第１上側パターンと、を備え、
前記第１下側パターンは、多列に並べられ、各々がｘ方向に延びる複数の第１透明導電パターンと、所定の領域にわたって形成された第１シールドパターンと、を含み、
前記第１上側パターンは、各第１透明導電パターンに接続され、線状に延びる第１取出導電パターンと、各第１取出導電パターンに接続された第１端子部と、少なくとも部分的に前記第１シールドパターン上に設けられた第１ダミーパターンと、を含み、
前記第１ダミーパターンのうち前記第１シールドパターン上に設けられた部分は、前記第１シールドパターンの外縁全域に沿って線状に延びるとともに、前記第１シールドパターンを少なくとも部分的に露出させるよう形成されていることを特徴とするタッチパネルセンサ。A substrate,
A first lower pattern that is provided in a predetermined pattern on one surface of the substrate and is made of a transparent conductive material having translucency and conductivity;
A first upper pattern that is provided in a predetermined pattern on the first lower pattern and is made of a metal material having light shielding properties and electrical conductivity;
The first lower pattern includes a plurality of first transparent conductive patterns arranged in multiple rows, each extending in the x direction, and a first shield pattern formed over a predetermined region,
The first upper pattern is connected to each of the first transparent conductive patterns, and extends in a linear manner. The first extraction conductive pattern is connected to each of the first extraction conductive patterns. The first terminal portion is connected to each of the first extraction conductive patterns. A first dummy pattern provided on one shield pattern,
A portion of the first dummy pattern provided on the first shield pattern extends linearly along the entire outer edge of the first shield pattern, and at least partially exposes the first shield pattern. A touch panel sensor that is formed.
前記第２下側パターン上に所定パターンで設けられ、遮光性および導電性を有する金属材料からなる第２上側パターンと、をさらに備え、
前記第２下側パターンは、多列に並べられ、各々がｘ方向に直交するｙ方向に延びる複数の第２透明導電パターンを含み、
前記第２上側パターンは、各第２透明導電パターンに接続され、線状に延びる第２取出導電パターンと、各第２取出導電パターンに接続された第２端子部と、を含み、
前記第１シールドパターンの領域は、前記基板の法線方向から見た場合に各第２取出導電パターンの領域を部分的に含んでいることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネルセンサ。A second lower pattern made of a transparent conductive material provided with a predetermined pattern on the other surface of the substrate and having translucency and conductivity;
A second upper pattern that is provided in a predetermined pattern on the second lower pattern and is made of a metal material having a light shielding property and conductivity;
The second lower pattern includes a plurality of second transparent conductive patterns arranged in multiple rows, each extending in the y direction orthogonal to the x direction,
The second upper pattern includes a second extraction conductive pattern connected to each second transparent conductive pattern and extending linearly, and a second terminal portion connected to each second extraction conductive pattern,
2. The touch panel sensor according to claim 1, wherein the region of the first shield pattern partially includes a region of each second extraction conductive pattern when viewed from a normal direction of the substrate.
前記第２上側パターンは、少なくとも部分的に前記第２シールドパターン上に設けられた第２ダミーパターンをさらに含み、
前記第２ダミーパターンのうち前記第２シールドパターン上に設けられた部分は、前記第２シールドパターンの外縁全域に沿って線状に延びるとともに、前記第２シールドパターンを少なくとも部分的に露出させるよう形成されていることを特徴とする請求項２に記載のタッチパネルセンサ。The second lower pattern further includes a second shield pattern formed over a predetermined region,
The second upper pattern further includes a second dummy pattern provided at least partially on the second shield pattern,
A portion of the second dummy pattern provided on the second shield pattern extends linearly along the entire outer edge of the second shield pattern, and at least partially exposes the second shield pattern. The touch panel sensor according to claim 2, wherein the touch panel sensor is formed.
前記基板と、前記基板の一側の面上に設けられ、透明導電材料からなる第１透明導電層と、前記第１透明導電層上に設けられ、金属材料からなる第１金属層と、前記第１金属層上に設けられた光溶解型の第１感光層と、を有する積層体を準備する工程と、
遮光部と透光部とを有する一側ファースト露光マスクを用いて前記第１感光層を露光する工程と、
前記露光された第１感光層を現像して一側ファースト感光パターンを形成する工程と、
前記一側ファースト感光パターンをマスクとして前記第１透明導電層および前記第１金属層をエッチングする工程と、
パターニングされた前記第１金属層上に、光溶解型の感光層からなり、所定のパターンを有する一側セカンド感光パターンを形成する工程と、
前記一側セカンド感光パターンをマスクとして前記第１金属層をさらにエッチングする工程と、を備え、
前記一側セカンド感光パターンは、遮光部と透光部とを含む一側セカンド露光マスクを用いて光溶解型の感光層を露光することにより形成され、
前記一側ファースト露光マスクの前記遮光部は、前記第１下側パターンおよび前記第１上側パターンのそれぞれに対応する部分を含み、
前記一側セカンド露光マスクの前記透光部は、前記第１下側パターンの各第１透明導電パターンに対応する部分と、前記第１下側パターンの前記第１シールドパターンのうち露出される部分に対応する部分と、を含むことを特徴とするタッチパネルセンサの製造方法。The method of manufacturing the touch panel sensor according to claim 1,
The substrate, a first transparent conductive layer provided on one surface of the substrate and made of a transparent conductive material, a first metal layer provided on the first transparent conductive layer and made of a metal material, A step of preparing a laminate having a photodissolvable first photosensitive layer provided on the first metal layer;
Exposing the first photosensitive layer using a one-side first exposure mask having a light shielding portion and a light transmitting portion;
Developing the exposed first photosensitive layer to form a one-side first photosensitive pattern;
Etching the first transparent conductive layer and the first metal layer using the one-side first photosensitive pattern as a mask;
Forming a one-side second photosensitive pattern comprising a photodissolving photosensitive layer on the patterned first metal layer and having a predetermined pattern;
Further etching the first metal layer using the one-side second photosensitive pattern as a mask,
The one-side second photosensitive pattern is formed by exposing a photodissolvable photosensitive layer using a one-side second exposure mask including a light-shielding portion and a light-transmitting portion,
The light shielding portion of the one-side first exposure mask includes portions corresponding to the first lower pattern and the first upper pattern,
The translucent portion of the one-side second exposure mask includes a portion corresponding to each first transparent conductive pattern of the first lower pattern and an exposed portion of the first shield pattern of the first lower pattern. And a portion corresponding to the touch panel sensor.
前記第２下側パターンは、多列に並べられ、各々がｘ方向に直交するｙ方向に延びる複数の第２透明導電パターンを含み、
前記第２上側パターンは、各第２透明導電パターンに接続され、線状に延びる第２取出導電パターンと、各第２取出導電パターンに接続された第２端子部と、を含み、
前記一側セカンド露光マスクは、その透光部のうち前記第１シールドパターンの露出される部分に対応する部分が、前記基板の法線方向から見た場合に各第２取出導電パターンの領域を部分的に含むよう配置されることを特徴とする請求項７に記載のタッチパネルセンサの製造方法。The touch panel sensor is provided in a predetermined pattern on the other surface of the substrate, and includes a second lower pattern made of a transparent conductive material having translucency and conductivity, and a predetermined pattern on the second lower pattern. A second upper pattern made of a metal material having a light shielding property and conductivity,
The second lower pattern includes a plurality of second transparent conductive patterns arranged in multiple rows, each extending in the y direction orthogonal to the x direction,
The second upper pattern includes a second extraction conductive pattern connected to each second transparent conductive pattern and extending linearly, and a second terminal portion connected to each second extraction conductive pattern,
In the one-side second exposure mask, when the portion corresponding to the exposed portion of the first shield pattern in the translucent portion is viewed from the normal direction of the substrate, the region of each second extraction conductive pattern is defined. The touch panel sensor manufacturing method according to claim 7, wherein the touch panel sensor is arranged so as to partially include the touch panel sensor.
前記タッチパネルセンサの製造方法は、
遮光部と透光部とを有する他側ファースト露光マスクを用いて前記第２感光層を露光する工程と、
前記露光された第２感光層を現像して他側ファースト感光パターンを形成する工程と、
前記他側ファースト感光パターンをマスクとして前記第２透明導電層および前記第２金属層をエッチングする工程と、
パターニングされた前記第２金属層上に、光溶解型の感光層からなり、所定のパターンを有する他側セカンド感光パターンを形成する工程と、
前記他側セカンド感光パターンをマスクとして前記第２金属層をさらにエッチングする工程と、を備え、
前記他側セカンド感光パターンは、遮光部と透光部とを含む他側セカンド露光マスクを用いて光溶解型の感光層を露光することにより形成され、
前記他側ファースト露光マスクの前記遮光部は、前記第２下側パターンおよび前記第２上側パターンのそれぞれに対応する部分を含み、
前記他側セカンド露光マスクの前記透光部は、前記第２下側パターンの各第２透明導電パターンに対応する部分を含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネルセンサの製造方法。The laminated body is provided on the other surface of the substrate, and a second transparent conductive layer made of a transparent conductive material, a second metal layer provided on the second transparent conductive layer and made of a metal material, A photodissolvable second photosensitive layer provided on the second metal layer,
The touch panel sensor manufacturing method includes:
Exposing the second photosensitive layer using the other-side first exposure mask having a light-shielding portion and a light-transmitting portion;
Developing the exposed second photosensitive layer to form the other side first photosensitive pattern;
Etching the second transparent conductive layer and the second metal layer using the other-side first photosensitive pattern as a mask;
A step of forming a second photosensitive pattern on the second metal layer, which is a photo-dissolving photosensitive layer and having a predetermined pattern, on the second metal layer;
Further etching the second metal layer using the other side second photosensitive pattern as a mask,
The other side second photosensitive pattern is formed by exposing a photodissolvable photosensitive layer using an other side second exposure mask including a light shielding portion and a light transmitting portion,
The light-shielding portion of the other-side first exposure mask includes portions corresponding to the second lower pattern and the second upper pattern,
9. The method of manufacturing a touch panel sensor according to claim 8, wherein the translucent portion of the other side second exposure mask includes a portion corresponding to each second transparent conductive pattern of the second lower pattern.
前記第２上側パターンは、少なくとも部分的に前記第２シールドパターン上に設けられた第２ダミーパターンをさらに含み、
前記第２ダミーパターンのうち前記第２シールドパターン上に設けられた部分は、前記第２シールドパターンの外縁全域に沿って線状に延びるとともに、前記第２シールドパターンを少なくとも部分的に露出させるよう形成されており、
前記他側セカンド露光マスクの前記透光部は、前記第２下側パターンの前記第２シールドパターンのうち露出される部分に対応する部分をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載のタッチパネルセンサの製造方法。The second lower pattern further includes a second shield pattern formed over a predetermined region,
The second upper pattern further includes a second dummy pattern provided at least partially on the second shield pattern,
A portion of the second dummy pattern provided on the second shield pattern extends linearly along the entire outer edge of the second shield pattern, and at least partially exposes the second shield pattern. Formed,
The touch panel as set forth in claim 9, wherein the translucent portion of the other side second exposure mask further includes a portion corresponding to an exposed portion of the second shield pattern of the second lower pattern. Sensor manufacturing method.
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