JP4278426B2

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Publication number: JP4278426B2
Application number: JP2003125685A
Authority: JP
Inventors: 友和田中
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2003-04-30
Filing date: 2003-04-30
Publication date: 2009-06-17
Anticipated expiration: 2023-04-30
Also published as: JP2004335552A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトマスク基板などの搬送や収納に用いられる清浄空間保持装置に関し、さらには、清浄空間保持装置を用いたフォトマスクの搬送方法及びフォトマスク基板の収納保持方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体基板や液晶表示パネル基板、又はそれらの製造に用いられるフォトマスクなどは、多くの工程を経て製造されている。
例えば、フォトマスクは、成膜装置により、石英ガラス基板などの透光性基板上にクロム膜を成膜する工程と、レジストコータによりクロム膜上にレジスト膜を塗布する工程と、レーザ描画装置や電子線描画装置によりレジスト膜に所定のパターン描画を行う工程と、レジスト現像装置により現像処理を行う工程と、エッチング装置によりクロム膜をエッチングする工程と、レジスト剥離装置によりレジストの剥離を行う工程と、洗浄装置により基板の洗浄を行う工程と、欠陥検査装置により遮光膜パターンのパターン検査を行う工程と、必要に応じて、パターン修正装置により遮光膜パターンの修正を行う工程とを経て製造される。そして、最終的には、洗浄装置により仕上げ洗浄を行い、異物検査装置により異物検査を行った後、ペリクルを装着し、フォトマスクとして出荷される。
【０００３】
上記のように多くの工程を経て製造されるフォトマスクなどは、各工程で使用する装置間の移動が頻繁に発生し、その際には、基板を安全に搬送するだけでなく、基板に対するパーティクルなどの付着も防止することが求められる。
特に、液晶パネル基板や液晶パネル製造用フォトマスクには、一辺が３００ｍｍを超えるような大型基板があるため、基板を搬送する際には、安全上、搬送台車を用いる必要がある。また、近年においては、これらの基板が大型化する傾向にあり、それに伴って基板の重量も増加するため、その必要性が高まっている。
【０００４】
従来、上記のような要求に対応可能な搬送台車としては、搬送中の基板を、上記製造が行われるクリーンルームよりも清浄度が高い空間に収納することにより、基板をパーティクルの付着から保護することができるようにしたものが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
例えば、特許文献１に示される搬送台車（基板搬送装置）は、基板を収納する収納体（箱体）の上方から清浄な空気を送り込む気流発生手段（清浄空気送風機）と、この気流発生手段から送り込まれた空気を下方へ排気する排気手段（パンチングメタル）とを備えることにより、収納体の内部空間を清浄な状態に保持している。
【０００５】
【特許文献１】
特開平７−２４６３号公報（第１頁、第１図）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特許文献１に示される搬送台車は、気流発生手段により清浄度の高い空間を作り出してはいるものの、収納体外部の気流が収納体内部に入り込むことによって、依然として外部の気流に含まれるパーティクルが基板に付着してしまうという問題点があった。
【０００７】
また、収納体内部の清浄度を増すために、基板の出し入れ口となる開放部に扉を設け、基板の出し入れ時のみ開放部を開くようにすることが考えられるが、本発明者が調査したところ、開放部を開く時間が僅かであっても、収納体外部の気流が収納体内部に入り込み、内部空間の清浄度が低下することが判明した。
その理由としては、以下のことが考えられる。
（１）扉を開けた際、収納体内外の気流速度差により、収納体外部の気流が収納体内部に流れ込んでしまう（図１２の（ａ）参照。）。
（２）扉を開けた際、収納体外部の横方向の気流により、収納体外部の空気が収納体内部に押し込まれる（図１２の（ｂ）参照。）。
（３）人の手を収納体内部に挿入した際、挿入した手によって収納体外部の空気を収納体内部に送り込んでしまう（図１２の（ｃ）参照。）。
【０００８】
本発明は、上記の事情にかんがみなされたものであり、収納体の開放部から外気が入り込むことを抑えることによって、収納体の内部空間を清浄な状態に保持し、基板などの物体に対するパーティクルの付着を防止することができる清浄空間保持装置の提供を第一の目的とする。
また、上記清浄空間保持装置を用いて、フォトマスク基板を搬送及び収納保持することを第二の目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本発明の清浄空間保持装置は、一辺が３００ｍｍを超える基板を、該基板の主表面が鉛直方向となるよう内部に収納する収納体を有し、前記収納体の内部空間を清浄な状態に保持する清浄空間保持装置であって、前記収納体の側面部に形成され、前記基板の出し入れ口となる、開閉扉を備えた開放部と、前記収納体の上部に設けられ、前記収納体の上方から内部に清浄な空気を送り込む気流発生手段と、前記収納体の底部に設けられ、前記気流発生手段から送り込まれた空気を前記収納体の下方へ排気する排気手段と、前記収納体の内部に備えられ、前記開閉扉を開いたときに、前記収納体の上方から送りこまれた空気による気流のうち前記開放部近傍の気流を前記収納体の外側へ向かうように方向付ける風向調整手段と、を備えた構成としてある。
【００１０】
また、本発明は、前記収納体の外部に設けられ、前記開放部外側の気流の速度又は気流の向きを調整することにより、前記開閉扉を開いたときに開放部から収納体内部への気流の流入を抑制する、外気流調整手段を更に備える構成とすることもできる。
【００１１】
また、本発明は、前記風向調整手段が、前記収納体の内部に設けられた風向調整板を備える構成とすることもできる。
【００１２】
また、本発明は、前記収納体の底部に、前記収納体下方への排気を許容する排気領域と、前記収納体下方への排気を遮蔽する遮蔽領域とを有し、前記遮蔽領域から前記排気領域への気流の流れにより、前記開放部近傍の気流を前記収納体の外側へ方向付ける構成とすることもできる。
【００１３】
また、本発明は、前記収納体の底部に、前記遮蔽領域より前記排気領域が低位となる傾斜板を備える構成とすることもできる。
【００１４】
また、本発明は、前記排気領域が、前記遮蔽領域から外側に向けて、連続的又は段階的に開口率が大きくなる排気孔群を有する構成とすることもできる。
【００１５】
また、本発明は、前記外気流調整手段を、前記収納体の外側上方を囲むように設けられたカーテンとすることもできる。
【００１６】
また、本発明は、前記基板を、フォトマスク基板とすることができる。
【００１７】
また、本発明のフォトマスク基板の搬送方法は、前記フォトマスク基板を搬送するための方法であって、前記フォトマスク基板を、前記清浄空間保持装置の収納体に収納して搬送するようにしてある。
【００１８】
また、本発明のフォトマスク基板の収納保持方法は、ダウンフローを有するクリーンルームにおいてフォトマスク基板を収納保持するための方法であって、前記クリーンルーム内部に前記清浄空間保持装置の収納体を設置するとともに、前記収納体にフォトマスク基板を収納し、かつ、前記収納体の上方から内部に送り込まれる気流の速度を前記ダウンフローよりも速くするようにしてある。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
［清浄空間保持装置］
まず、本発明に係る清浄空間保持装置の基本構成について、図１及び図２を参照して説明する。
【００２０】
図１は、清浄空間保持装置の基本構成を示す側面図、図２は、清浄空間保持装置の基本構成を示す正面図である。
これらの図に示すように、清浄空間保持装置は、フォトマスク基板などの基板を清浄な空間に収納する収納装置や、基板を清浄な空間に収納して搬送する搬送台車として機能するように、収納体１０、気流発生手段２０、排気手段３０及び車輪４０を備えて構成されている。
【００２１】
収納体１０は、箱状に枠組みされたフレーム１１を有し、このフレーム１１によって形成される四つの側面のうち、対向する二つの側面が開放部１２となり、他の側面が遮蔽面となっている。開放部１２は、基板Ｋの出し入れ口であり、その左右両縁部には、開放部１２を開閉する両開き状の扉１３がヒンジ１３ａを介して取り付けられている。また、扉１３及び遮蔽面を覆う壁板１４は、透光性の板材からなり、扉１３を閉じた状態でも、収納体１０の内部が目視可能となっている。
なお、開放部１２の数は、二つに限らず、一つ又は三つ以上であってもよい。また、開放部１２は、収納体１０の側面全体に形成することなく、側面の一部に形成してもよい。
【００２２】
収納体１０の内部には、基板Ｋを保持する基板保持具１５が設けられている。基板保持具１５は、例えば、基板Ｋの隣接する二つの辺を下方から支える複数の支持部材１５ａを有しており、主表面が鉛直方向に沿い、かつ、辺が傾いた縦置き姿勢で基板Ｋを保持するように構成される。このように構成された基板保持具１５は、サイズが異なる各種の基板Ｋを保持できるという利点がある。
【００２３】
気流発生手段２０は、収納体１０の上部に設けられた清浄空気送風機であり、収納体１０の内部空間に上方から清浄な空気を送り込んでいる。気流発生手段２０が収納体１０の内部空間に発生させる気流の速度は、通常、清浄空間保持装置が設置されるクリーンルームのダウンフロー（例えば、０．３ｍ／ｓｅｃ）よりも速くなっており、例えば、０．６ｍ／ｓｅｃに設定されている。
【００２４】
排気手段３０は、収納体１０の底部に設けられ、気流発生手段２０から内部空間へ送り込まれた空気を収納体１０の下方へ排気している。排気手段３０としては、様々な通気部材を用いることが可能であるが、強度やコストの点からパンチングメタルなどの多孔板で形成することが好ましい。
【００２５】
車輪４０は、収納体１０の下面四隅に設けられ、清浄空間保持装置を移動自在に支持している。これにより、清浄空間保持装置は、基板Ｋを収納体１０の内部空間に収納して、所望の場所へ搬送することが可能になる。また、収納体１０の内部空間に収納された基板Ｋは、気流発生手段２０から送り込まれる空気により清浄な状態に保たれるが、開放部１２を開けた際には、図１２に示した理由により収納体１０の内部に外気が流れ込み、外気に含まれるパーティクルが基板Ｋに付着する可能性がある。
本発明の清浄空間保持装置（クリーンルームの床部及び天井部の一部を含む。）は、このような問題を解決するために、風向調整手段や外気流調整手段を備えている。
【００２６】
風向調整手段は、開放部１２付近の気流を収納体１０の外側へ方向付けるように構成される。収納体１０の外側へ方向付けられた気流は、開放部１２から外方へ吹き出す気流となり、開放部１２からの外気の流入を抑制することになる。これにより、収納体１０の内部空間を清浄な状態に保持し、基板Ｋに対するパーティクルの付着を防止することが可能になる。
【００２７】
また、外気流調整手段は、収納体１０の外側上方（クリーンルームの天井部）に設けられ、開放部１２の外側付近における気流の速度及び／又は向きを調整するように構成される。つまり、外気流調整手段によって、開放部１２の外側付近における気流の速度を速くしたり、開放部１２の外側付近における気流の向きを整えることにより、開放部１２からの外気の流れ込みを効果的に抑制することが可能になる。
以下、風向調整手段や外気流調整手段を備える清浄空間保持装置の各種実施形態について説明する。
【００２８】
［第一実施形態］
まず、風向調整手段として第一の風向ガイド部材のみを備える清浄空間保持装置の実施形態について、図３〜図５を参照して説明する。
図３は、清浄空間保持装置の第一実施形態を示す概略正面図、図４（ａ）は、風向調整板の配置を示す平面図、図４（ｂ）は、風向調整板の配置を示す正面図、図５は、風向板ユニットを示す斜視図である。
【００２９】
これらの図に示すように、第一実施形態の清浄空間保持装置は、第一の風向ガイド部材として、片側二枚、全体で四枚の風向調整板５０を備えている。この風向調整板５０は、気流発生手段２０から開放部１２付近へ送り込まれる空気の流れを、収納体１０の外側へ方向付けるように、収納体１０の内部上方に設けられている。このような風向調整板５０を備えれば、特に、開放部１２の上側領域において外気の流れ込みを効果的に抑制することが可能になる。また、開放部１２の高さ寸法が小さい清浄空間保持装置では、後述する第二の方向ガイド部材や外気流調整手段を設けることなく、上記の風向調整板５０を設けるだけで、十分な外気流入防止効果を発揮することができる。
【００３０】
本実施形態の風向調整板５０は、樹脂などの板状部材からなり、気流発生手段２０の直下位置で、かつ、開放部１２の上端部に沿う位置に配置されている。風向調整板５０の取付角度は、気流発生手段２０から開放部１２付近に送り込まれる空気の流れを、収納体１０の外側へ方向付けられる角度（例えば、３０〜５０ｄｅｇ）であればよいが、取付角度を調整可能とし、状況に応じて適宜調整できるようにすることもできる。また、図４に示すように、複数の風向調整板５０を並列状に配置するようにすれば、収納体１０の外側へ吹き出す風量を増加させ、外気流入防止効果を高めることができる。
【００３１】
図４は、複数の風向調整板５０を並列状に備える風向板ユニット５１を示している。この風向板ユニット５１は、二枚の風向調整板５０と、その両端部から突出する支軸５０ａを回動自在に支持する一対の取り付け板５２とからなり、あらかじめユニットとして組み立てられた後、収納体１０の上部に取り付けられる。これにより、風向調整板５０の取付作業を簡略化することが可能になる。また、風向板ユニット５１では、風向調整板５０が回動自在に支持されているため、風向調整板５０の角度を任意に調整することができる。風向調整板５０を任意の角度で固定するための手段としては、風向調整板５０の端部を貫通して取り付け板５２に螺入されるビスなどが挙られる。
なお、風向調整板５０は、二枚に限られるものではなく三枚以上あるいは、一枚であってもよい。また、風向調整板５０は、収納体１０の開放部側のみに設けてもよい。
【００３２】
［第二実施形態］
つぎに、風向調整手段として第一及び第二の風向ガイド部材を備える清浄空間保持装置の実施形態について、図６及び図７を参照して説明する。
図６は、清浄空間保持装置の第二実施形態を示す概略正面図、図７は、グレーチングの配置を示す平面図である。
【００３３】
これらの図に示すように、第二実施形態の清浄空間保持装置は、第一の風向ガイド部材として前述の風向調整板５０を備えるだけでなく、第二の風向ガイド部材を備える。第二の風向ガイド部材は、収納体１０の下方への排気を許容する排気領域と、収納体１０の下方への排気を遮蔽する遮蔽領域とを有し、遮蔽領域から排気領域への気流の流れにより、開放部１２付近の気流を収納体１０の外側へ方向付けるように構成されている。
【００３４】
このように第一及び第二の風向ガイド部材を備える清浄空間保持装置では、第一の風向ガイド部材によって、開放部１２の上側領域における外気の流れ込みを抑制しながら、第二の風向ガイド部材によって、開放部１２の下側領域における外気の流れ込みを抑制することができるため、収納体１０内部の清浄度をさらに高めることが可能になる。
【００３５】
本実施形態における第二の風向ガイド部材は、クリーンルームの床面を形成する二種類のグレーチング６０、６１を利用して構成される。一方のグレーチング６０は、排気孔のない遮蔽グレーチングであり、清浄空間保持装置が所定の基板出し入れ位置にあるとき、清浄空間保持装置の下方に位置するように敷設される。また、他方のグレーチング６１は、多数の排気孔が形成され、床面下方への排気が可能な排気グレーチングであり、清浄空間保持装置が所定の基板出し入れ位置にあるとき、清浄空間保持装置の周囲下方に位置するように敷設される。
【００３６】
上記のように構成された第二の風向ガイド部材によれば、開放部１２を開いたとき、収納体１０の下方へ排気されるべき空気の流れが、排気グレーチング６１側へ方向付けられるので、開放部１２の下側領域において外方へ吹き出すような気流が発生し、外気の流入を抑制することが可能になる。
【００３７】
［第三実施形態］
つぎに、第二の風向ガイド部材として傾斜板７０を備える清浄空間保持装置の実施形態について、図８〜図１０を参照して説明する。
図８は、清浄空間保持装置の第三実施形態を示す概略正面図、図９（ａ）は、傾斜板の平面図、図９（ｂ）は、傾斜板の配置を示す正面図、図１０は、傾斜板の斜視図である。
【００３８】
これらの図に示すように、第三実施形態の清浄空間保持装置は、第二の風向ガイド部材としての傾斜板７０を、収納体１０の内部下方に備える。傾斜板７０は、収納体１０の下方への排気を許容する排気領域と、収納体１０の下方への排気を遮蔽する遮蔽領域とを有し、遮蔽領域から排気領域への気流の流れにより、開放部１２付近の気流を収納体１０の外側へ方向付ける点では前記実施形態のものと同様であるが、収納体１０の内部下方で風向調整を行うことにより、前記実施形態よりも優れた外気流入防止効果が得られる。
また、傾斜板７０の排気領域は、排気手段３０を兼ねることが可能であるため、部材の兼用化により、部品点数を削減できるだけでなく、装置の構造を簡略化できるという利点がある。
【００３９】
傾斜板７０は、排気領域のみに排気孔７０ａ、７０ｂを有するパンチングメタルなどで形成され、遮蔽領域より排気領域が低位となる傾斜姿勢で収納体１０の内部下方に配置される。これにより、遮蔽領域から排気領域への気流の流れを促進し、開放部１２の下側領域における外気の流れ込みを効果的に抑制することが可能になる。なお、本実施形態の清浄空間保持装置は、二つの開放部１２を備えるため、傾斜板７０を二枚とし、基板Ｋの下端部支持位置近傍が山頂となり、かつ、開放部１２の下端部が山裾となるように、支持部材７１を介して山形状に取り付けられている。
【００４０】
また、傾斜板７０の排気孔７０ａ、７０ｂは、図９や図１０に示すように、遮蔽領域から外側に向けて、連続的又は段階的に開口率が大きくなるように形成されている。図９に示す例では、外側ほど排気孔７０ａ、７０ｂの数を増やすことにより開口率を変化させ、また、図１０に示す例では、外側の排気孔７０ｂほど孔径を大きくすることにより開口率を変化させている。
このように構成された傾斜板７０によれば、外側ほど気流の速度が速くなるため、風速が速い方に気流が引かれる現象を利用し、遮蔽領域から排気領域への気流の流れを促進することができる。しかも、連続的又は段階的に開口率を大きくすることにより、気流の流れを円滑にし、気流の乱れによる外気の流入を防止できる利点がある。
【００４１】
［第四実施形態］
つぎに、第一の風向ガイド部材、第二の風向ガイド部材及び外気流調整手段を備える清浄空間保持装置の実施例について、図１１を参照して説明する。
図１１は、清浄空間保持装置の第四実施形態を示す概略正面図である。
この図に示すように、第四実施形態の清浄空間保持装置は、前述した外気流調整手段としてカーテン８０を備える。カーテン８０は、例えば、塩化ビニールなどで形成されており、清浄空間保持装置が所定の基板出し入れ位置にあるとき、収納体１０の外側上方を囲むように、クリーンルームの天井部に吊り下げ状に設けられる。
【００４２】
上記のように設けられたカーテン８０は、開放部１２の外側付近における気流の速度及び／又は向きを調整することができる。例えば、カーテン８０により、開放部１２の外側付近における外気周の速度を速くし（例えば、０．５ｍ／ｓｅｃ）、かつ、開放部１２の外側付近における気流の向きを整えれば、開放部１２からの外気の流れ込みを効果的に抑制することが可能になる。また、本実施形態のように、第一の風向ガイド部材や第二の風向ガイド部材を併用すれば、外気流入防止効果を更に高めることができる。
【００４３】
［フォトマスクの搬送方法］
つぎに、本発明に係るフォトマスク基板の搬送方法について説明する。
まず、従来と同様の方法を用いてフォトマスク基板を製造した後、洗浄装置を用いて洗浄を行った。その後、本発明の清浄空間保持装置を用いて、洗浄後のフォトマスク基板を異物検査装置まで搬送した。搬送されたフォトマスク基板を人手により取り出し、異物検査装置にセットして異物検査を行った。その結果、所定の欠陥レベルを越え、再洗浄を要する欠陥が、従来より減少した。その後、異物検査の洗浄度が保たれたまま、ペリクルの装着を行うことができた。
【００４４】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、清浄空間保持装置において、収納体の開放部から外気が入り込むことを抑えることによって、収納体の内部空間を清浄な状態に保持し、基板などの物体に対するパーティクルの付着を防止することができる。
また、フォトマスク基板の搬送方法において、上記清浄空間保持装置を用いて、フォトマスク基板を搬送することにより、フォトマスク基板に対するパーティクルの付着を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】清浄空間保持装置の基本構成を示す側面図である。
【図２】清浄空間保持装置の基本構成を示す正面図である。
【図３】清浄空間保持装置の第一実施形態を示す概略正面図である。
【図４】（ａ）は、風向調整板の配置を示す平面図、（ｂ）は、風向調整板の配置を示す正面図である。
【図５】風向板ユニットを示す斜視図である。
【図６】清浄空間保持装置の第二実施形態を示す概略正面図である。
【図７】グレーチングの配置を示す平面図である。
【図８】清浄空間保持装置の第三実施形態を示す概略正面図である。
【図９】（ａ）は、傾斜板の平面図、（ｂ）は、傾斜板の配置を示す正面図である。
【図１０】傾斜板の斜視図である。
【図１１】清浄空間保持装置の第四実施形態を示す概略正面図である。
【図１２】（ａ）〜（ｃ）は、従来の問題点を示す説明図である。
【符号の説明】
Ｋ基板
１０収納体
１２開放部
１３扉
１５基板保持具
２０気流発生手段
３０排気手段
４０車輪
５０風向調整板
５１風向板ユニット
６０遮蔽グレーチング
６１排気グレーチング
７０傾斜板
７０ａ排気孔
７０ｂ排気孔
８０カーテン[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a clean space holding device used for transporting and storing a photomask substrate and the like, and further to a photomask transport methodand a photomask substrate storage and holding method using the clean space holding device.
[0002]
[Prior art]
A semiconductor substrate, a liquid crystal display panel substrate, or a photomask used for manufacturing them is manufactured through many steps.
For example, a photomask includes a step of forming a chromium film on a light-transmitting substrate such as a quartz glass substrate by a film formation device, a step of applying a resist film on the chromium film by a resist coater, a laser drawing device, A step of drawing a predetermined pattern on a resist film by an electron beam drawing apparatus, a step of developing by a resist developing device, a step of etching a chromium film by an etching device, and a step of removing the resist by a resist peeling device The substrate is manufactured through a step of cleaning the substrate with a cleaning device, a step of performing a pattern inspection of the light shielding film pattern with a defect inspection device, and a step of correcting the light shielding film pattern with a pattern correction device as necessary. . Finally, finish cleaning is performed by a cleaning device, foreign matter inspection is performed by a foreign matter inspection device, a pellicle is mounted, and the product is shipped as a photomask.
[0003]
Photomasks manufactured through many processes as described above frequently move between devices used in each process. In this case, not only the substrate is transported safely, but also particles on the substrate. It is required to prevent such adhesion.
In particular, a liquid crystal panel substrate or a photomask for manufacturing a liquid crystal panel includes a large substrate having a side exceeding 300 mm. Therefore, when transporting the substrate, it is necessary to use a transport carriage for safety. In recent years, these substrates tend to increase in size, and the weight of the substrate increases accordingly, and the necessity thereof is increasing.
[0004]
Conventionally, as a transport cart capable of meeting the above requirements, a substrate being transported is housed in a space having a higher degree of cleanliness than a clean room where the above manufacturing is performed, thereby protecting the substrate from adhesion of particles. There has been proposed one that can perform (see, for example, Patent Document 1).
For example, a transport carriage (substrate transport apparatus) shown in Patent Document 1 includes an airflow generating means (clean air blower) that sends clean air from above a storage body (box body) that stores a substrate, and an airflow generating means. By providing exhaust means (punching metal) for exhausting the sent air downward, the internal space of the storage body is kept clean.
[0005]
[Patent Document 1]
JP 7-2463 A (first page, FIG. 1)
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, although the carriage shown in Patent Document 1 creates a space with high cleanliness by the airflow generation means, it is still included in the external airflow when the airflow outside the storage body enters the inside of the storage body. There is a problem that particles adhere to the substrate.
[0007]
Further, in order to increase the cleanliness inside the storage body, it is conceivable that a door is provided at an opening part serving as a substrate loading / unloading opening, and the opening part is opened only when the substrate is loaded / unloaded. However, it has been found that even if the opening time is short, the airflow outside the storage body enters the storage body, and the cleanliness of the internal space decreases.
The reason is considered as follows.
(1) When the door is opened, the airflow outside the storage body flows into the storage body due to the difference in the air flow velocity inside and outside the storage body (see FIG. 12A).
(2) When the door is opened, the air outside the storage body is pushed into the storage body by a lateral airflow outside the storage body (see FIG. 12B).
(3) When a human hand is inserted into the storage body, air outside the storage body is sent into the storage body by the inserted hand (see FIG. 12C).
[0008]
The present invention has been considered in view of the above circumstances, and by suppressing the outside air from entering from the opening of the storage body, the internal space of the storage body is maintained in a clean state, and particles on an object such as a substrate can be maintained. The first object is to provide a clean space holding device capable of preventing adhesion.
Asecond object is to transport,store, and hold a photomask substrate using the clean space holding device.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the clean space holding device of the present inventionhas a storage body for storing a substrate having aside exceeding 300 mm so that the main surface of the substrate is in the vertical direction, and the internal space of the storage body. A clean space holding device for holding thesubstrate in a clean state, provided on an upper portion of the storage body, andan open portionprovided with an open /close door that is formed on a side surface portion of the storage body and serves asan entrance / exit of thesubstrate.An airflow generating means for sending clean air into theinterior from above the storage body; an exhaust meansprovided at the bottom of the storage body for exhausting the air sent from the airflow generation means to the lower side of the storage body;When the open / close door is opened, the airflow in the vicinity of the openingis directed to the outside of the storage bodyamong the airflows sent from above the storage body when the door is opened. Wind direction adjustment hand When, a configuration equipped with.
[0010]
In addition, the present invention is provided outside the storage body, and adjusts the airflow speed or the direction of the airflow outside the opening to adjust the airflow from the opening to the inside of the storage when the door is opened. It can also be set as the structure further provided with an external airflow adjustment means which suppresses inflow of air.
[0011]
Moreover, this invention can also be set as the structure by which the said wind direction adjustment means is provided with the wind direction adjustment board provided in the inside of the said storage body.
[0012]
In the present invention, the bottom of the storage body has an exhaust region that allows exhaust to the lower side of the storage body, and a shielding region that shields exhaust to the lower side of the storage body. It can also be set as the structure which orient | assigns the airflow near the said opening part to the outer side of the said storage body by the flow of the airflow to an area | region.
[0013]
Moreover, this invention can also be set as the structure provided with the inclination board from which the said exhaust_gas | exhaustion area | region becomes lower than the said shielding area | region in the bottom part of the said container.
[0014]
Further, the present invention may be configured such that the exhaust region has an exhaust hole group whose aperture ratio increases continuously or stepwise from the shielding region toward the outside.
[0015]
In the present invention, the external airflow adjusting means may be a curtain provided so as to surround the upper outside of the storage body.
[0016]
In the present invention, the substrate can be a photomask substrate.
[0017]
The photomask substrate transport method of the present invention is a method for transporting the photomask substrate, wherein the photomask substrate is stored in a storage body of the clean space holding device and transported. is there.
[0018]
The method for storing and holding a photomask substrate of the present invention is a method for storing and holding a photomask substrate in a clean room having a down flow, wherein the storage body of the clean space holding device is installed inside the clean room. The photomask substrate is stored in the storage body, and the speed of the airflow sent from above the storage body is made faster than the downflow.
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Clean space holding device]
First, the basic configuration of the clean space holding device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
[0020]
FIG. 1 is a side view showing the basic configuration of the clean space holding device, and FIG. 2 is a front view showing the basic configuration of the clean space holding device.
As shown in these drawings, the clean space holding device functions as a storage device that stores a substrate such as a photomask substrate in a clean space, or a transport carriage that stores and transports the substrate in a clean space. Thestorage body 10, the airflow generation means 20, the exhaust means 30, and thewheels 40 are provided.
[0021]
Thestorage body 10 includes aframe 11 that is framed in a box shape. Of the four side surfaces formed by theframe 11, two opposing side surfaces serve as anopen portion 12, and the other side surfaces serve as shielding surfaces. Yes. The openingpart 12 is an entrance / exit of the board | substrate K, Thedoor 13 of the double opening shape which opens and closes theopening part 12 is attached to the right-and-left both edge part via thehinge 13a. Moreover, the wall board 14 which covers thedoor 13 and a shielding surface consists of a translucent board | plate material, and the inside of thestorage body 10 is visible even if thedoor 13 is closed.
Note that the number of the openingportions 12 is not limited to two, and may be one or three or more. Moreover, you may form theopen part 12 in a part of side surface, without forming in the whole side surface of theaccommodating body 10. FIG.
[0022]
A substrate holder 15 that holds the substrate K is provided inside thestorage body 10. The substrate holder 15 includes, for example, a plurality ofsupport members 15a that support two adjacent sides of the substrate K from below, and the substrate is placed in a vertically placed posture in which the main surface is along the vertical direction and the sides are inclined. Configured to hold K. The substrate holder 15 configured as described above has an advantage that various types of substrates K having different sizes can be held.
[0023]
The airflow generation means 20 is a clean air blower provided in the upper part of thestorage body 10 and sends clean air into the internal space of thestorage body 10 from above. The speed of the airflow generated by the airflow generation means 20 in the internal space of thecontainer 10 is usually faster than the downflow (for example, 0.3 m / sec) of the clean room where the clean space holding device is installed. , 0.6 m / sec.
[0024]
The exhaust means 30 is provided at the bottom of thestorage body 10 and exhausts the air sent from the airflow generation means 20 to the internal space to the lower side of thestorage body 10. Although various ventilation members can be used as the exhaust means 30, it is preferably formed of a perforated plate such as a punching metal from the viewpoint of strength and cost.
[0025]
Thewheels 40 are provided at the four corners of the lower surface of thestorage body 10 and support the clean space holding device movably. Thus, the clean space holding device can store the substrate K in the internal space of thestorage body 10 and transport it to a desired place. Further, the substrate K stored in the internal space of thestorage body 10 is kept in a clean state by the air sent from the airflow generation means 20, but when theopening 12 is opened, the reason shown in FIG. As a result, outside air may flow into thehousing 10 and particles contained in the outside air may adhere to the substrate K.
In order to solve such a problem, the clean space holding device of the present invention (including a part of the floor and ceiling of the clean room) includes a wind direction adjusting means and an external air flow adjusting means.
[0026]
The wind direction adjusting means is configured to direct the airflow in the vicinity of theopening 12 to the outside of thestorage body 10. The airflow directed to the outside of thestorage body 10 becomes an airflow that blows outward from the openingportion 12, and suppresses the inflow of outside air from the openingportion 12. Thereby, it becomes possible to keep the internal space of thestorage body 10 in a clean state and prevent particles from adhering to the substrate K.
[0027]
Further, the external air flow adjusting means is provided on the outer upper side (ceiling portion of the clean room) of thestorage body 10 and is configured to adjust the velocity and / or direction of the air flow in the vicinity of the outer side of the openingportion 12. In other words, the outside air flow adjusting means effectively increases the speed of the air flow near the outside of theopen portion 12 or adjusts the direction of the air flow near the outside of theopen portion 12, thereby effectively flowing in the outside air from theopen portion 12. It becomes possible to suppress.
Hereinafter, various embodiments of the clean space holding device including the wind direction adjusting means and the external airflow adjusting means will be described.
[0028]
[First embodiment]
First, an embodiment of a clean space holding device including only a first wind direction guide member as a wind direction adjusting means will be described with reference to FIGS.
FIG. 3 is a schematic front view showing the first embodiment of the clean space holding device, FIG. 4A is a plan view showing the arrangement of the wind direction adjusting plates, and FIG. 4B shows the arrangement of the wind direction adjusting plates. FIG. 5 is a perspective view showing a wind direction plate unit.
[0029]
As shown in these drawings, the clean space holding device of the first embodiment includes two winddirection adjusting plates 50 as a first wind direction guide member. The winddirection adjusting plate 50 is provided above the inside of thestorage body 10 so as to direct the flow of air sent from the airflow generation means 20 to the vicinity of theopening 12 toward the outside of thestorage body 10. If such a winddirection adjusting plate 50 is provided, it is possible to effectively suppress the inflow of outside air particularly in the upper region of the openingportion 12. Further, in the clean space holding device in which the height dimension of the openingportion 12 is small, sufficient outside air inflow can be obtained only by providing the winddirection adjusting plate 50 without providing a second direction guide member and an outside air flow adjusting means described later. The prevention effect can be exhibited.
[0030]
The winddirection adjusting plate 50 of the present embodiment is made of a plate-like member such as resin, and is disposed at a position directly below the airflow generation means 20 and along the upper end portion of the openingportion 12. The attachment angle of the winddirection adjusting plate 50 may be an angle (for example, 30 to 50 deg) that directs the flow of air sent from the airflow generation means 20 to the vicinity of theopening 12 to the outside of thestorage body 10. The angle can be adjusted so that it can be adjusted appropriately according to the situation. Further, as shown in FIG. 4, if a plurality of winddirection adjusting plates 50 are arranged in parallel, the amount of air blown to the outside of thestorage body 10 can be increased, and the effect of preventing the inflow of outside air can be enhanced.
[0031]
FIG. 4 shows a wind direction plate unit 51 having a plurality of winddirection adjustment plates 50 arranged in parallel. The wind direction plate unit 51 includes two winddirection adjustment plates 50 and a pair of attachment plates 52 that rotatably support the support shafts 50a protruding from both ends thereof. Attached to the top of thebody 10. Thereby, it becomes possible to simplify the attachment operation | work of the winddirection adjustment board 50. FIG. Moreover, in the wind direction board unit 51, since the winddirection adjustment board 50 is rotatably supported, the angle of the winddirection adjustment board 50 can be adjusted arbitrarily. Examples of means for fixing the winddirection adjusting plate 50 at an arbitrary angle include a screw that passes through an end of the winddirection adjusting plate 50 and is screwed into the mounting plate 52.
Note that the winddirection adjusting plate 50 is not limited to two, and may be three or more or one. Further, the winddirection adjusting plate 50 may be provided only on the open portion side of thestorage body 10.
[0032]
[Second Embodiment]
Next, an embodiment of a clean space holding device including first and second wind direction guide members as wind direction adjusting means will be described with reference to FIGS. 6 and 7.
FIG. 6 is a schematic front view showing a second embodiment of the clean space holding device, and FIG. 7 is a plan view showing the arrangement of grating.
[0033]
As shown in these drawings, the clean space holding device of the second embodiment includes not only the aforementioned winddirection adjusting plate 50 as the first wind direction guide member but also a second wind direction guide member. The second airflow direction guide member has an exhaust region that allows exhaust downward of thestorage body 10 and a shield region that shields exhaust downward of thestorage body 10, and airflow from the shield region to the exhaust region. The air flow in the vicinity of the openingportion 12 is configured to be directed to the outside of thestorage body 10 by the flow.
[0034]
As described above, in the clean space holding device including the first and second wind direction guide members, the first wind direction guide member suppresses the flow of outside air in the upper region of theopen portion 12, and the second wind direction guide member Since the flow of outside air in the lower region of theopening 12 can be suppressed, the cleanliness inside thehousing 10 can be further increased.
[0035]
The 2nd wind direction guide member in this embodiment is comprised using two types ofgratings 60 and 61 which form the floor surface of a clean room. Onegrating 60 is a shield grating without an exhaust hole, and is laid so as to be positioned below the clean space holding device when the clean space holding device is in a predetermined substrate loading / unloading position. Further, theother grating 61 is an exhaust grating in which a large number of exhaust holes are formed and exhaust is possible below the floor surface. When the clean space holding device is at a predetermined substrate loading / unloading position, the periphery of the clean space holding device is It is laid so as to be located below.
[0036]
According to the second wind direction guide member configured as described above, when the openingportion 12 is opened, the flow of air to be exhausted downward of thehousing body 10 is directed to the exhaust grating 61 side. An air flow that blows outward in the lower region of the openingportion 12 is generated, and the inflow of outside air can be suppressed.
[0037]
[Third embodiment]
Next, an embodiment of a clean space holding device including aninclined plate 70 as a second wind direction guide member will be described with reference to FIGS.
FIG. 8 is a schematic front view showing a third embodiment of the clean space holding device, FIG. 9A is a plan view of the inclined plate, FIG. 9B is a front view showing the arrangement of the inclined plate, and FIG. FIG. 3 is a perspective view of an inclined plate.
[0038]
As shown in these drawings, the clean space holding device of the third embodiment includes aninclined plate 70 as a second wind direction guide member in the lower part inside thehousing 10. Theinclined plate 70 has an exhaust region that allows exhaust downward of thestorage body 10 and a shield region that shields exhaust downward of thestorage body 10, and by the flow of airflow from the shield region to the exhaust region, Although it is the same as that of the said embodiment in the point which orient | assigns the airflow of theopen part 12 vicinity to the outer side of thestorage body 10, outside air superior to the said embodiment by adjusting a wind direction inside thestorage body 10 inside. Inflow prevention effect is obtained.
Further, since the exhaust area of theinclined plate 70 can also serve as the exhaust means 30, there is an advantage that not only the number of parts can be reduced but also the structure of the apparatus can be simplified by using the members in common.
[0039]
Theinclined plate 70 is formed of punching metal or the like having exhaust holes 70a and 70b only in the exhaust region, and is disposed below the inside of thestorage body 10 in an inclined posture in which the exhaust region is lower than the shielding region. Thereby, the flow of the airflow from the shielding region to the exhaust region can be promoted, and the inflow of outside air in the lower region of theopening 12 can be effectively suppressed. In addition, since the clean space holding | maintenance apparatus of this embodiment is provided with the twoopen parts 12, it makes theinclination board 70 two sheets, the lower end part support position vicinity of the board | substrate K becomes a mountaintop, and the lower end part of theopen part 12 is It is attached to the mountain shape via the support member 71 so that it may become a mountain skirt.
[0040]
Further, as shown in FIGS. 9 and 10, the exhaust holes 70a and 70b of theinclined plate 70 are formed so that the aperture ratio increases continuously or stepwise from the shielding region to the outside. In the example shown in FIG. 9, the aperture ratio is changed by increasing the number of exhaust holes 70a and 70b toward the outer side, and in the example shown in FIG. 10, the aperture ratio is increased by increasing the hole diameter toward the outer exhaust hole 70b. It is changing.
According to theinclined plate 70 configured in this manner, the speed of the airflow increases toward the outer side, and therefore, the phenomenon in which the airflow is drawn toward the higher wind speed is utilized to promote the flow of the airflow from the shielding area to the exhaust area. be able to. Moreover, by increasing the aperture ratio continuously or stepwise, there is an advantage that the flow of the airflow can be made smooth and the inflow of outside air due to the turbulence of the airflow can be prevented.
[0041]
[Fourth embodiment]
Next, an embodiment of the clean space holding device including the first wind direction guide member, the second wind direction guide member, and the external airflow adjusting means will be described with reference to FIG.
FIG. 11 is a schematic front view showing a fourth embodiment of the clean space holding device.
As shown in this figure, the clean space holding device of the fourth embodiment includes acurtain 80 as the external air flow adjusting means described above. Thecurtain 80 is made of, for example, vinyl chloride, and is provided in a suspended manner on the ceiling of the clean room so as to surround the upper outside of thestorage body 10 when the clean space holding device is at a predetermined substrate loading / unloading position. It is done.
[0042]
Thecurtain 80 provided as described above can adjust the speed and / or direction of the airflow near the outside of theopening 12. For example, if the outside air circumference speed near the outside of the openingportion 12 is increased by the curtain 80 (for example, 0.5 m / sec) and the direction of the airflow near the outside of the openingportion 12 is adjusted, the openingportion 12 It is possible to effectively suppress the inflow of outside air from. Moreover, if the 1st wind direction guide member and the 2nd wind direction guide member are used together like this embodiment, the external air inflow prevention effect can be heightened further.
[0043]
[Photomask transport method]
Next, a method for transporting a photomask substrate according to the present invention will be described.
First, a photomask substrate was manufactured using the same method as before, and then cleaned using a cleaning device. Thereafter, the cleaned photomask substrate was transported to the foreign matter inspection device using the clean space holding device of the present invention. The transported photomask substrate was manually taken out and set in a foreign matter inspection apparatus for foreign matter inspection. As a result, the number of defects exceeding a predetermined defect level and requiring re-cleaning has been reduced. After that, the pellicle could be mounted while maintaining the cleaning level of the foreign substance inspection.
[0044]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, in the clean space holding device, the internal space of the storage body is maintained in a clean state by suppressing the outside air from entering from the opening portion of the storage body, and the substrate and other objects are prevented. Particle adhesion can be prevented.
Further, in the method for transporting the photomask substrate, it is possible to prevent the particles from adhering to the photomask substrate by transporting the photomask substrate using the clean space holding device.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a side view showing a basic configuration of a clean space holding device.
FIG. 2 is a front view showing a basic configuration of a clean space holding device.
FIG. 3 is a schematic front view showing a first embodiment of a clean space holding device.
4A is a plan view showing the arrangement of wind direction adjusting plates, and FIG. 4B is a front view showing the arrangement of wind direction adjusting plates.
FIG. 5 is a perspective view showing a wind direction plate unit.
FIG. 6 is a schematic front view showing a second embodiment of the clean space holding device.
FIG. 7 is a plan view showing the arrangement of gratings.
FIG. 8 is a schematic front view showing a third embodiment of the clean space holding device.
9A is a plan view of an inclined plate, and FIG. 9B is a front view showing the arrangement of the inclined plate.
FIG. 10 is a perspective view of an inclined plate.
FIG. 11 is a schematic front view showing a fourth embodiment of the clean space holding device.
FIGS. 12A to 12C are explanatory diagrams showing conventional problems. FIGS.
[Explanation of symbols]
K substrate 10housing 12opening 13 door 15substrate holder 20 airflow generating means 30 exhaust means 40wheel 50 wind direction adjusting plate 51 winddirection plate unit 60 shielding grating 61 exhaust grating 70 inclined plate 70a exhaust hole70b exhaust hole 80 curtain

Claims

Translated fromJapanese

一辺が３００ｍｍを超える基板を、該基板の主表面が鉛直方向となるよう内部に収納する収納体を有し、前記収納体の内部空間を清浄な状態に保持する清浄空間保持装置であって、
前記収納体の側面部に形成され、前記基板の出し入れ口となる、開閉扉を備えた開放部と、
前記収納体の上部に設けられ、前記収納体の上方から内部に清浄な空気を送り込む気流発生手段と、
前記収納体の底部に設けられ、前記気流発生手段から送り込まれた空気を前記収納体の下方へ排気する排気手段と、
前記収納体の内部に備えられ、前記開閉扉を開いたときに、前記収納体の上方から送りこまれた空気による気流のうち前記開放部近傍の気流を前記収納体の外側へ向かうように方向付ける風向調整手段と、
を備えることを特徴とする清浄空間保持装置。A clean space holding devicehaving a storage body for storing a substrate having a side longer than 300 mm inside so that the main surface of the substrate is in a vertical direction, and holding the internal space of the storage body in a clean state,
An open portionprovided with an open /close door, which is formed on a side surface portion of the storage body and serves asan inlet / outlet of thesubstrate ;
An airflow generating meansprovided at an upper portion of the storage body, for sending clean air into theinterior from above the storage body;
An exhaust means thatis provided at the bottom of the storage body and exhausts the air sent from the airflow generation means to the lower side of the storage body;
When the open / close door is opened, the airflow in the vicinity of the openingis directedtoward the outside of the storage bodyamong the airflows sent from above the storage body when the door is opened. Wind direction adjusting means;
A clean space holding device comprising:

前記収納体の外部に設けられ、
前記開放部外側の気流の速度又は気流の向きを調整することにより、前記開閉扉を開いたときに開放部から収納体内部への気流の流入を抑制する、外気流調整手段を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の清浄空間保持装置。Provided outside the housing,
It further comprises an external air flow adjusting means that suppresses the inflow of the air flow from the open portion to the inside of the container when the open / close door is opened by adjusting the speed of the air flow outside the open portion or the direction of the air flow. The clean space holding device accordingto claim 1, wherein the device is a clean space holding device.

前記風向調整手段が、前記収納体の内部に設けられた風向調整板を備えること
を特徴とする請求項１又は２に記載の清浄空間保持装置。The wind direction adjusting meansincludes a wind direction adjusting plate provided inside the storage body.
The clean space holding device accordingto claim 1 or 2 .

前記収納体の底部に、前記収納体下方への排気を許容する排気領域と、前記収納体下方への排気を遮蔽する遮蔽領域とを有し、前記遮蔽領域から前記排気領域への気流の流れにより、前記開放部近傍の気流を前記収納体の外側へ方向付けることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の清浄空間保持装置。The bottom portion of the housing body, and an exhaust region to allow exhaust into the container below, and a shielding region for shielding the exhaust to the container below, the flow of the air current fromthe shielded area tothe exhaust area The clean space holding device according to any one of claims 1 to 3, wherein the airflow in the vicinity of the open portion is directed to the outside of the storage body.

前記収納体の底部に、前記遮蔽領域より前記排気領域が低位となる傾斜板を備えることを特徴とする請求項３又は４記載の清浄空間保持装置。The clean space holding device according to claim 3, further comprising an inclined plate ata bottom portion of the housing body, the inclined area having the exhaust area lower than the shielding area.

前記排気領域が、前記遮蔽領域から外側に向けて、連続的又は段階的に開口率が大きくなる排気孔群を有することを特徴とする請求項４〜５のいずれかに記載の清浄空間保持装置。 The clean space holding device according to any one of claims 4 to 5, wherein the exhaust area has an exhaust hole group whose aperture ratio increases continuously or stepwise from the shielding area toward the outside. .

前記外気流調整手段が、前記収納体の外側上方を囲むように設けられたカーテンであることを特徴とする請求項２〜６のいずれかに記載の清浄空間保持装置。The clean space holding device according to any one of claims 2 to 6, wherein the external air flow adjusting means isa curtain provided so as to surround the upper outside of the storage body .

前記基板が、フォトマスク基板であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の清浄空間保持装置。The clean space holding device according to claim 1, wherein thesubstrate is a photomask substrate.

前記フォトマスク基板を搬送するための方法であって、前記フォトマスク基板を、請求項１〜８のいずれかに記載した清浄空間保持装置の収納体に収納して搬送することを特徴とするフォトマスク基板の搬送方法。A method for transportingthe photomask substrate, a photo of the photomask substrate, characterized in that it conveyed housed in the housing of the clean space holding device as claimed in any one of claims 1 to 8 Mask substrate transfer method.

ダウンフローを有するクリーンルームにおいてフォトマスク基板を収納保持するための方法であって、A method for storing and holding a photomask substrate in a clean room having a downflow,
前記クリーンルーム内部に請求項１〜８のいずれかに記載した清浄空間保持装置の収納体を設置するとともに、前記収納体にフォトマスク基板を収納し、かつ、前記収納体の上方から内部に送り込まれる気流の速度を前記ダウンフローよりも速くしたことを特徴とするフォトマスク基板の収納保持方法。A storage body of the clean space holding device according to any one of claims 1 to 8 is installed inside the clean room, a photomask substrate is stored in the storage body, and sent into the storage body from above. A method for storing and holding a photomask substrate, characterized in that the airflow speed is made faster than the downflow.