【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、複数の製造工程を有
し、異なる工程順序と処理（製造）条件を持つ多数の被
生産対象を同時に製造・処理を行う多品種変量製造ライ
ンにおける処理の流れ（製造規則／以下、プロセスフロ
ーという）をチェックする製造規則チェックシステムに
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multi-variable variable production line for simultaneously producing and processing a large number of production targets having a plurality of production steps and different processing orders and processing (production) conditions. The present invention relates to a manufacturing rule check system for checking a flow (manufacturing rule / hereinafter, process flow).
【０００２】[0002]
【従来の技術】技術者・研究者あるいはコンピュータが
組んだプロセスフローは必ずしも正しいとは限らない。
例えば、図３９に示すプロセスフローは、工程番号５の
リソグラフィ工程の後に本当ならば検査工程が無ければ
ならない。また、工程番号３のアルミニウムスパッタ工
程の後に、ＳＨ処理は指定できない等のミスがある。2. Description of the Related Art Process flows formed by engineers, researchers or computers are not always correct.
For example, if the process flow shown in FIG. 39 is true after the lithography process of the process number 5, an inspection process must be performed. Further, after the aluminum sputtering process of the process No. 3, there is an error that the SH process cannot be designated.
【０００３】従来、これら処理の流れは、プロセス／デ
バイスの熟練者（エキスパート）により行われていた。
しかし、技術者／研究者のプロセスフロー作成人数およ
び、プロセスフロー数に対して、チェックを行う熟練者
の数が不足しており、熟練者が１日の多くの時間をチェ
ックの対応に追われているのが現状である（おおよそ３
００工程の処理の流れをチェックするのに約３０分を要
する程である）。Conventionally, the flow of these processes has been performed by a process / device expert.
However, the number of technicians / researchers who create process flows and the number of process flows are insufficient in the number of skilled workers who perform checks, and the skilled workers are forced to spend many hours a day checking. The current situation is (about 3
It takes about 30 minutes to check the flow of the 00 process).
【０００４】また、チェックを行う熟練者になるには長
年のプロセス／デバイスの経験と知識がなければなら
ず、簡単にはプロセスフローをチェックする人数を増や
すことはできない。さらに、熟練者の知識・経験・ノウ
ハウといったものが必ずしも正確に受け継がれることは
難しく、熟練者個人の所有となっているのが現状であ
る。さらに、今後益々処理の流れは長くなる傾向にあ
り、熟練者といえどもチェックに対するミスが生じ易く
なることが予想される。In addition, to become an expert who performs a check, it is necessary to have many years of experience and knowledge of a process / device, and it is not easy to increase the number of people who check a process flow. Furthermore, it is difficult for the knowledge, experience, and know-how of a skilled person to be always passed on accurately, and it is presently owned by the skilled person. Furthermore, the flow of processing tends to be longer and longer in the future, and it is expected that even a skilled person is likely to make a mistake in checking.
【０００５】また、プロセスフローは、ある変換手段を
用いて、プロセスシミュレータやデバイスシミュレー
タ、形状シミュレータへ情報を受渡し、計算することが
できる。しかし、プロセスフローにはリソグラフィ工程
の設計情報（マスク情報）が不足していたため、プロセ
スフロー転送前後に、技術者は計算を行いたい層（レイ
ア）の情報のみを選択し、計算を行っていた。つまり、
シミュレータにおける計算は１次元のみしか自動転送で
きなかった。The process flow can be calculated by passing information to a process simulator, a device simulator, and a shape simulator using a certain conversion means. However, because the design information (mask information) of the lithography process was insufficient in the process flow, before and after the transfer of the process flow, the engineer selected only the information of the layer (layer) to be calculated and performed the calculation. . That is,
Calculations in the simulator could only be automatically transferred in one dimension.
【０００６】また、技術者・研究者がプロセスフローを
組む場合、完成された処理（プロセス）の流れの中に
は、同じ製造工程を違う条件で処理を行なう場合が多々
ある。そのプロセスフローをチェックする場合は、各々
の製品についてその製品数分の情報を持ち、それについ
て個々にチェックを行っていた。すなわち条件の異なる
製品数が２４であった場合は２４個分の情報を持たなけ
ればならない。その結果、チェックを行なう場合、その
都度分割工程を管理しながらチェックを行わなければな
らないので、チェックシステムが複雑になり、チェック
速度が遅くなってしまう。When engineers and researchers form a process flow, there are many cases where the same manufacturing process is performed under different conditions in a completed processing (process) flow. When checking the process flow, each product has information corresponding to the number of products, and the information is checked individually. That is, if the number of products having different conditions is 24, it is necessary to have information for 24 products. As a result, every time a check is performed, the check must be performed while managing the division process, which complicates the check system and reduces the check speed.
【０００７】また、同じ条件で処理されている製品が複
数存在した場合、それについてもいちいちチェックを行
わなければならず、チェック時間が大幅にかかってしま
う。更にチェックを行う際に用いる１つの情報が大きく
なるとメモリが足りなくなる問題が発生する可能性があ
り、マスク情報を取り込むとチェックを行う為の製品１
つの情報が更に大きくなり、システムがメモリ不足をお
こし、実行不可能となってしまうことがあった。When a plurality of products are processed under the same conditions, a check must be performed for each of the products, which significantly increases the check time. Further, if one piece of information used for performing the check becomes large, a problem may occur that the memory becomes insufficient.
In some cases, the information becomes larger, and the system may run out of memory and become infeasible.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】上記のように、プロセ
スの流れをチェックする場合、人間ではミスが無いとは
限らない。さらに、チェックに多くの時間を必要とす
る。また、プロセスフローの工程数が増加し、近い将来
必ず人間の限界がおとずれることが予想される。As described above, when checking the flow of a process, a human is not always free from mistakes. In addition, the check requires a lot of time. In addition, it is expected that the number of steps in the process flow will increase, and that human limitations will surely fall in the near future.
【０００９】また、プロセスフローには設計情報（マス
ク情報）が含まれていなかったため、プロセス／デバイ
ス形状シミュレータでは、プロセスフローは１次元のみ
を扱い、２次元、３次元のシミュレーションを行うこと
ができなかった。Also, since the process flow does not include design information (mask information), the process / device shape simulator can handle only one dimension and perform two-dimensional and three-dimensional simulations. Did not.
【００１０】本発明は、この様な問題を解決し、長大か
つ複雑なプロセスの流れをより高速でチェックできる製
造規則チェックシステムを提供することを目的とする。It is an object of the present invention to solve such a problem and to provide a manufacturing rule check system capable of checking a long and complicated process flow at a higher speed.
【００１１】また、本発明は、プロセスフローに設計情
報を付加することで、２次元、３次元のプロセス／デバ
イス／形状シミュレータ用のプロセスフロー情報を生成
することができる製造規則チェックシステムを提供する
ことを目的とする。Further, the present invention provides a manufacturing rule check system capable of generating process flow information for a two-dimensional or three-dimensional process / device / shape simulator by adding design information to a process flow. The purpose is to:
【００１２】更に、本発明では、多品種変量製造ライン
の為のプロセスフローを効率的にチェックできる製造規
則チェックシステムを提供することを目的とする。It is a further object of the present invention to provide a manufacturing rule check system capable of efficiently checking a process flow for a multi-product variable quantity manufacturing line.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、本発明は、複数の製造工程を有し、異なる工程順序
と製造条件を持つ多品種変量製造ラインにおける製造規
則をチェックするシステムであって、外部記憶装置に保
存されている製造規則情報をメインメモリ上に取込む手
段と、取込まれた製造規則情報に、製品を分割処理すべ
き分割工程が存在するかどうかをチェックし、分割工程
が存在した場合に製品番号毎に製造規則情報の分類を行
い分割情報を生成し、製品番号毎の分割情報を生成した
後に同一処理される製品を単位として分類を行う分割情
報生成手段と、リソグラフィ工程で用いられるマスクパ
ターンの、寸法情報、レジスト情報をまとめたマスク情
報管理テーブルをメインメモリ上に取込み、取込まれた
情報よりレイア情報を生成するレイア情報生成手段と、
前記レイア情報生成手段によって生成されたレイア情報
から製品表面や裏面上に堆積されている膜構造を２次元
で管理する膜構造管理テーブルと、この膜構造管理テー
ブルを用いて製造規則情報のエッチング工程に書かれた
削る膜の構造と実際製品上に堆積されている膜の構造が
等しいかをチェックする膜構造チェック手段と、製品表
面に露出している膜によって、行える工程、行えない工
程をまとめた表面状態管理テーブルと、この表面状態管
理テーブルを用いてチェックする表面状態チェック手段
と、製品裏面に露出している膜によって、行える工程、
行えない工程をまとめた裏面状態管理テーブルと、この
裏面状態管理テーブルを用いてチェックする裏面状態チ
ェック手段と、製品の表面上に存在する膜によって、行
える工程、行えない工程をまとめた下地状態管理テーブ
ルと、この下地状態管理テーブルを用いてチェックする
下地状態チェック手段と、拡散炉の汚染度によってラン
ク分けを行い、それをまとめた拡散状態管理テーブル
と、この拡散状態管理テーブルを用いてチェックする拡
散状態チェック手段と、ある工程からある工程までの範
囲のなかで行える工程、行えない工程をまとめたパッケ
ージ管理テーブルと、このパッケージ管理テーブルを用
いてチェックするパッケージチェック手段と、規定され
た製造工程順序をまとめた工程順序管理テーブルと、こ
の工程順序管理テーブルを用いてチェックする工程順序
チェック手段と、行ってはいけない工程、ある工程の後
で行ってはいけない工程をまとめたルーチン外工程管理
テーブルと、このルーチン外工程管理テーブルを用いて
チェックするルーチン外工程チェック手段と、試験用製
品の挿入位置、抜き取り位置、種類をまとめた試験用製
品管理テーブルと、この試験用製品管理テーブルを用い
てチェックする試験用製品チェック手段と、連続工程の
パターンをまとめた連続工程管理テーブルと、この連続
工程管理テーブルを用いてチェックする連続工程チェッ
ク手段と、エラーメッセージをまとめたエラーコード管
理テーブルと、このエラーコード管理テーブルを用いて
エラーメッセージを作成するエラーメッセージ作成手段
と、前記各チェック手段によるチェックを行うかどうか
をまとめたチェック管理テーブルと、このチェック管理
テーブルを用いてチェックを行う前にチェックを行うチ
ェック手段を選択するチェック判断手段と、チェック結
果を出力する出力手段とから構成されている。In order to achieve the above object, the present invention provides a system for checking a production rule in a multi-product variable production line having a plurality of production steps and having different process orders and production conditions. Means for fetching the manufacturing rule information stored in the external storage device into the main memory, and checking whether or not the fetched manufacturing rule information includes a division step for dividing the product, Division information generating means for classifying the production rule information for each product number to generate division information in the case where a division step exists, generating division information for each product number, and then classifying the same processed units; , A mask information management table that summarizes dimension information and resist information of a mask pattern used in a lithography process is taken into a main memory, and a layer information is obtained from the taken information. And Leia information generating means for generating,
A film structure management table for two-dimensionally managing the film structure deposited on the front and back surfaces of the product from the layer information generated by the layer information generation means, and an etching process of manufacturing rule information using the film structure management table The film structure checking means for checking whether the structure of the film to be shaved written on the product is the same as the structure of the film actually deposited on the product, and the processes that can and cannot be performed by the film exposed on the product surface are summarized A surface condition management table, a surface condition checking means for checking using the surface condition management table, and a process that can be performed by a film exposed on the back surface of the product;
A backside state management table that summarizes the steps that cannot be performed, a backside state check unit that checks using this backside state management table, and a base state management that summarizes the steps that can and cannot be performed by the film that exists on the surface of the product Table, a base state checking means for checking using the base state management table, a rank classification based on the degree of contamination of the diffusion furnace, and a check using the diffusion state management table summarizing the classification and the diffusion state management table. Diffusion state checking means, package management table summarizing processes that can be performed in a range from a certain process to a certain process, and processes that cannot be performed, package checking means for checking using this package management table, and specified manufacturing process A process sequence management table that summarizes the sequence and this process sequence management table Means for checking using a process sequence, a process that must not be performed, a process management table outside the routine that summarizes processes that must not be performed after a certain process, and a routine that uses the process management table outside the routine to check The external process check means, the test product management table that summarizes the insertion position, extraction position, and type of the test product, the test product check means that checks using this test product management table, and the pattern of the continuous process A consolidated continuous process management table, a continuous process check means for checking using the continuous process management table, an error code management table for collecting error messages, and an error message for creating an error message using the error code management table Creating means and checking by each of the checking means. A check management table that summarizes whether or not to perform the check, a check determination unit that selects a check unit that performs a check before performing a check using the check management table, and an output unit that outputs a check result. .
【００１４】また前記膜構造チェック手段、表面状態チ
ェック手段、裏面状態チェック手段、及び下地状態チェ
ック手段は、製品が出来る過程をシミュレートしつつ、
前記膜構造チェック手段及びその製品に付随する製造規
則情報を用いながらチェックを行う事を特徴とし、かつ
前記膜構造チェック手段、表面状態チェック手段、及び
下地状態チェック手段は、前記レイア情報生成手段によ
って生成されたレイア情報を用いて、製品の複数のレイ
ア状態を一度にチェックすることを特徴としている。The film structure checking means, the surface state checking means, the backside state checking means, and the base state checking means simulate a process of producing a product,
The film structure checking means and the production rule information associated with the product are used for checking, and the film structure checking means, surface state checking means, and base state checking means are provided by the layer information generating means. Using the generated layer information, a plurality of layer states of the product are checked at once.
【００１５】また前記レイア情報生成手段は、マスク情
報取込み部と、マスク情報管理テーブルと、レイア情報
生成部と、機能選択部と、レイア情報受渡し部と、マス
ク情報生成部とから構成され、ＣＡＤシステムから得ら
れる設計図の長さ、レジスト有無情報から、各設計図面
毎のレイア情報を生成する事を特徴としている。The layer information generating means comprises a mask information fetching section, a mask information management table, a layer information generating section, a function selecting section, a layer information passing section, and a mask information generating section. It is characterized in that layer information for each design drawing is generated from the length of the design drawing obtained from the system and the resist presence / absence information.
【００１６】さらに、本発明は前記レイア情報生成手段
によって生成されたレイア情報を、半導体製造における
プロセス／デバイス／形状シミュレータ等の２次元、３
次元計算に用いることを特徴としている。Further, according to the present invention, the layer information generated by the layer information generating means is converted into a two-dimensional, three-dimensional data such as a process / device / shape simulator in semiconductor manufacturing.
It is characterized in that it is used for dimension calculation.
【００１７】さらに前記分割情報生成手段は、前記製造
規則情報に分割工程が何工程含まれるかを数える手段
と、その分割工程に含まれる分割数、分割枚数、及び分
割製品番号を取り込む手段を有することを特徴としてい
る。Further, the division information generating means has means for counting how many division steps are included in the manufacturing rule information, and means for taking in the number of divisions, the number of divisions, and the division product number included in the division step. It is characterized by:
【００１８】[0018]
【作用】上記手段により、本発明では、作成されたプロ
セスフローを、コンピュータの情報としてフロッピーデ
ィスクやハードディスクに代表される記録媒体に保存す
る。次に、保存されたプロセスフローに対して、チェッ
クを行う前に、分割が存在した場合のフローの分割情報
によるパターン分けを分割情報生成手段で行い、ＣＡＤ
システムより生成されるマスク情報を基にレイア情報生
成手段でレイア情報を生成し、プロセスフロー情報に付
加する。According to the present invention, the created process flow is stored as computer information in a recording medium represented by a floppy disk or a hard disk. Next, before performing a check on the stored process flow, the division information generation unit performs pattern division based on the division information of the flow when division is present, and performs CAD.
Layer information is generated by layer information generating means based on the mask information generated by the system, and is added to the process flow information.
【００１９】この後、コンピュータの記録媒体、例えば
ハードディスクにあらかじめ用意した幾つかのテーブ
ル、およびチェック中に作成する幾つかのテーブルを用
いながら、レイア情報が付加されたプロセスフローのチ
ェックを前記各チェック手段で行っている。After that, while using some tables prepared in advance on a recording medium of a computer, for example, a hard disk, and some tables created during the check, the check of the process flow to which the layer information is added is performed by each of the aforementioned checks. By means.
【００２０】[0020]
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００２１】図１はこの発明の製造規則チェック（以
下、プロセスフロールールチェックという）システムに
係わる一実施例の機能ブロック図である。FIG. 1 is a functional block diagram of an embodiment relating to a manufacturing rule check (hereinafter referred to as a process flow rule check) system according to the present invention.
【００２２】同図に示すプロセスフローチェックシステ
ムは、大きくはプロセスフロー取込み部１、分割情報生
成システム２、レイア情報生成システム６、及びチェッ
クシステム１０からなる。分割情報生成システム２は、
分割情報取込み部３と分割情報管理テーブル５から構成
され、レイア情報生成システム６は、マスク情報取込み
部７とマスク情報管理テーブル９から構成されている。The process flow check system shown in FIG. 1 includes a process flow fetch unit 1, a division information generation system 2, a layer information generation system 6, and a check system 10. The division information generation system 2
The layer information generation system 6 is composed of a mask information acquisition unit 7 and a mask information management table 9.
【００２３】また、チェックシステム１０は、各管理テ
ーブル１３〜５３、各チェック部１１〜４７、エラーメ
ッセージ作成部５１、及び結果出力部５５、チェック判
断部５７、チェック管理テーブル５９から構成されてい
る。The check system 10 includes management tables 13 to 53, check units 11 to 47, an error message creation unit 51, a result output unit 55, a check determination unit 57, and a check management table 59. .
【００２４】プロセスフロー取込み部１は、半導体製造
工程の流れを各々の工程の処理条件（レシピ）で表され
た情報（プロセスフロー情報）、例えば、半導体製造工
程を表すコード、各処理に付随する変数、およびその変
数に代入するパラメータ（変数の値）などによって表さ
れたプロセスフロー情報を記憶装置（例えばハードディ
スク）よりコンピュータのメインメモリ上に取込む機能
を有している。The process flow take-in section 1 associates the flow of the semiconductor manufacturing process with information (process flow information) represented by the processing conditions (recipe) of each process, for example, a code representing the semiconductor manufacturing process, and each process. It has a function of loading process flow information represented by variables and parameters (variable values) substituted for the variables into a main memory of a computer from a storage device (for example, a hard disk).
【００２５】分割情報生成システム２は、これからチェ
ックを行うプロセスフロー情報において、分割工程が存
在しているかどうかのチェックを行う機能と、後述する
分割情報管理テーブル５を作成する機能を有している。The division information generation system 2 has a function of checking whether a division step exists in the process flow information to be checked and a function of creating a division information management table 5 described later. .
【００２６】分割工程が存在した場合は、そこに書かれ
ている分割数、各々の分割における製品枚数、製品番号
の情報より製品毎にどの分割プロセスフロー情報を用い
るかについて分類を行い、更に同一プロセスフローで処
理される製品を単位としてグルーピングを行う。その結
果を基に分割情報管理テーブル５を作成し、分割工程を
含まない新たなプロセスフロー情報を作成する機能をも
有している。If there is a division step, classification is performed as to which division process flow information is used for each product based on information on the number of divisions written therein, the number of products in each division, and product number information. Grouping is performed for each product processed in the process flow. It also has a function of creating the division information management table 5 based on the result and creating new process flow information not including the division step.
【００２７】分割情報管理テーブル５は、製品番号毎に
分割工程において、どの分割プロセスフロー情報を用い
るかを管理するテーブルである。ここで、分割工程と
は、半導体製造における製品は、複数の製品がまとまっ
て１つのロットと呼ばれる箱に格納されて処理が行われ
ている。The division information management table 5 is a table for managing which division process flow information is used in the division step for each product number. Here, the dividing step is a process in which a plurality of products are collectively stored in a box called one lot in a semiconductor manufacturing process.
【００２８】このため、ロットに入っている複数の製品
のうち、数枚を別のプロセスフロー情報で製造したい場
合、ロット内の製品を分けて製造する事がある。このロ
ットを分割して、ある処理の条件を複数に分けて行う場
合に用いる。For this reason, when it is desired to manufacture several products out of a plurality of products included in a lot using different process flow information, the products in the lot may be separately manufactured. This lot is used to divide a lot and perform a certain processing condition in a plurality.
【００２９】例えば、プロセスフロー情報において、製
品番号＝（１，２，３）が本来のプロセスフロー情報で
処理し、製品番号＝（４，５，６）が分割で処理を行う
場合、この情報が、分割情報管理テーブル５に記述され
る。ただし、製品が１枚（個）の場合にその製品内を分
割し処理を行う場合にも、この機能は適用することがで
きる。For example, in the process flow information, when the product number = (1, 2, 3) is processed by the original process flow information and the product number = (4, 5, 6) is processed by division, this information is used. Are described in the division information management table 5. However, this function can also be applied to the case where the product is divided and processed in the case of one product (piece).
【００３０】レイア情報生成システム６は、詳細は後述
するが、記憶装置に予め取込まれているマスク情報を取
り込む機能と、後述するマスク情報よりレイア情報を作
成する機能を有している。マスク情報とは、マスク設計
用ＣＡＤなどより与えられるパターンの寸法情報や、レ
ジストが残るか否かのレジスト情報などである。As will be described in detail later, the layer information generating system 6 has a function of taking in mask information previously stored in a storage device and a function of creating layer information from mask information described later. The mask information is dimensional information of a pattern given by a mask design CAD or the like, resist information indicating whether or not a resist remains.
【００３１】更に、このレイア情報生成システム６はマ
スク情報を基に、作成されるレイア情報をマスク情報管
理テーブル９に格納する機能を有している。また、この
分けられたレイアの数は、後述する膜構造管理テーブル
１３に使われる。Further, the layer information generation system 6 has a function of storing layer information to be created in the mask information management table 9 based on the mask information. The number of divided layers is used for a film structure management table 13 described later.
【００３２】図１の各チェック部１１〜４７は、プロセ
スフロー情報をチェックする機能を有している。これら
のチェック部１１〜４７は、チェック判断部５７でチェ
ック機能を付加するかしないかを指示することができ
る。以下にそれぞれのチェック部１１〜４７、各管理テ
ーブル１３〜５３、チェック判断部５７、チェック管理
テーブル５９について説明をする。Each of the check units 11 to 47 in FIG. 1 has a function of checking process flow information. The check units 11 to 47 can instruct the check judgment unit 57 whether or not to add a check function. Hereinafter, the check units 11 to 47, the management tables 13 to 53, the check determination unit 57, and the check management table 59 will be described.
【００３３】膜構造チェック部１１では、プロセスフロ
ー情報の膜を削る工程に記述されている膜を削る時間を
計算する為の膜構造と、実際の製品上に堆積されている
膜構造とが等しいかどうかをチェックする機能を有して
いる。また、製品上に堆積されている膜は、膜構造管理
テーブル１３において管理されている。In the film structure checking unit 11, the film structure for calculating the film shaving time described in the film shaving step of the process flow information is equal to the film structure deposited on the actual product. It has a function to check whether or not. The films deposited on the products are managed in the film structure management table 13.
【００３４】例えば、図２に示すプロセスフロー情報、
すなわち、アルミニウム膜と酸化膜を削る工程におい
て、エッチングする膜構造はアルミニウム膜と酸化膜と
なるが、実際製品上にはアルミニウムニウム膜のみが堆
積されている事が、図３に示す膜構造管理テーブル１３
より取得する事ができ、エッチング工程での膜構造とウ
エハ上に堆積されている膜と違う為、ＮＧである事がチ
ェックされる。For example, the process flow information shown in FIG.
That is, in the step of shaving the aluminum film and the oxide film, the film structure to be etched becomes the aluminum film and the oxide film, but only the aluminum aluminum film is actually deposited on the product. Table 13
Since the film structure can be obtained from the film structure and the film structure in the etching process is different from the film deposited on the wafer, it is checked that the film is NG.
【００３５】膜構造管理テーブル１３は、ウェハ表面、
裏面上に堆積されている膜を管理する為のテーブルであ
る。例えば何も堆積されていないウエハを酸化した場
合、ウエハ表面、裏面には、酸化膜が堆積されるので、
膜構造管理テーブル１３に酸化膜が追加される。The film structure management table 13 stores the wafer surface,
It is a table for managing the film deposited on the back surface. For example, if a wafer on which nothing is deposited is oxidized, an oxide film is deposited on the front and back surfaces of the wafer.
An oxide film is added to the film structure management table 13.
【００３６】この膜構造管理テーブル１３は、レイア情
報生成システム６で分けられたレイア数に応じたデータ
を格納する。図４に示した例では、レイアが酸化膜であ
り、レイア数は１である。The film structure management table 13 stores data corresponding to the number of layers divided by the layer information generation system 6. In the example shown in FIG. 4, the layer is an oxide film, and the number of layers is one.
【００３７】表面状態チェック部１５は、製品の表面に
露出している膜によって、処理できる工程、出来ない工
程を膜構造管理テーブル１３を用いてチェックする機能
を有している。また、このチェックに関するルールは表
面状態管理テーブル１７において管理されている。The surface state checking unit 15 has a function of checking, using the film structure management table 13, a process that can be processed and a process that cannot be performed, depending on the film exposed on the surface of the product. Further, rules regarding this check are managed in the surface state management table 17.
【００３８】図５に示す表面状態管理テーブル１７にお
いて、上の横軸には、製品表面上に存在する可能性があ
る膜の名称、左の縦軸には、行われる可能性のある工程
名が記入してある。In the surface condition management table 17 shown in FIG. 5, the upper horizontal axis represents the name of a film that may be present on the product surface, and the left vertical axis represents the name of a process that may be performed. Is filled in.
【００３９】例えば、図６に示した製品表面上にＡとい
う膜が露出している状態で、処理ａを行う場合と、処理
ｂを行う場合を考えると、図５に示す表面状態管理テー
ブル１７によって、製品表面にＡという膜が露出してい
る状態で、処理ａを行う場合はＯＫであるが、処理ｂを
行う場合はＮＧである事がチェックできる。For example, considering the case where the process a is performed and the case where the process b is performed in a state where the film A is exposed on the product surface shown in FIG. 6, the surface state management table 17 shown in FIG. Accordingly, it can be checked that the process a is OK when the process a is performed and the process b is NG when the process b is performed in a state where the film A is exposed on the product surface.
【００４０】また、図７に示す様に製品表面に膜Ａ、Ｂ
が出ている場合でも、図５に示す表面状態管理テーブル
１７において、製品表面上に膜Ｂが露出している状態で
処理ａを行う事はＮＧである事がチェックできる。As shown in FIG. 7, films A and B are formed on the product surface.
In the surface condition management table 17 shown in FIG. 5, it is possible to check that the process a is performed in a state where the film B is exposed on the product surface, even if the error occurs.
【００４１】裏面状態チェック部１９は、製品の裏面に
露出している膜によって、処理できる工程、出来ない工
程を膜構造管理テーブル１３を用いてチェックする機能
を有している。また、このチェックに関するルールは、
裏面状態管理テーブル２１において管理されている。The back surface state checking section 19 has a function of checking, using the film structure management table 13, the process that can be performed and the process that cannot be performed, depending on the film exposed on the back surface of the product. The rules for this check are:
It is managed in the back state management table 21.
【００４２】図８に示した裏面状態管理テーブル２１に
おいて、上の横軸には、製品裏面上に存在する可能性が
ある膜の名称、左の縦軸には、行われる可能性のある工
程名が記入してある。In the rear surface state management table 21 shown in FIG. 8, the upper horizontal axis represents the name of a film that may be present on the product rear surface, and the left vertical axis represents the process that may be performed. Name is filled in.
【００４３】例えば、図９に示した製品裏面上に膜Ｃが
露出している状態で、処理ａ、処理ｂを行う場合を考え
ると、図８に示した裏面状態管理テーブル２１によっ
て、製品裏面にＣという膜が露出している状態で、後に
処理ａがくる場合はＯＫであるが、後に処理ｂがくれば
ＮＧである事がチェックできる。For example, when the processing a and the processing b are performed in a state in which the film C is exposed on the product back surface shown in FIG. 9, the product back surface management table 21 shown in FIG. In the state where the film C is exposed, it is OK if the process a comes later, but it can be checked that it is NG if the process b comes later.
【００４４】下地状態チェック部２３は、ウェハ上に堆
積されている膜によって、処理できる工程、出来ない工
程を膜構造管理テーブル１３を用いてチェックする機能
を有している。また、このチェックに関するルールは、
下地状態管理テーブル２５において管理されている。The base state checking unit 23 has a function of checking, using the film structure management table 13, a process that can be performed and a process that cannot be performed, depending on the film deposited on the wafer. The rules for this check are:
It is managed in the background state management table 25.
【００４５】図１０に示した下地状態管理テーブル２５
において、上の横軸には、下地の存在する可能性がある
膜の名称、左の縦軸には、行われる可能性のある工程名
が記入してある。The background state management table 25 shown in FIG.
In the figure, the upper horizontal axis shows the name of a film that may have an underlayer, and the left vertical axis shows the name of a process that may be performed.
【００４６】例えば、図１１に示した、製品上に膜Ａ、
Ｂ、Ｃが堆積されている状態で、処理ｂを行う場合を考
えると、図１０に示した下地状態管理テーブル２５によ
って、下地にＣという膜が存在している状態で、後に処
理ｂがくればＮＧである事がチェックできる。For example, as shown in FIG.
Considering the case where the process b is performed in a state where B and C are deposited, the process b is performed later in a state where the film C is present in the base according to the base state management table 25 shown in FIG. You can check if it is NG.
【００４７】拡散状態チェック部２７は、汚染されてい
る拡散炉に入った製品が、綺麗な拡散炉に入る事を防ぐ
ため、すなわち拡散炉の汚染を防ぐチェックを行う機能
を有している。また、このチェックに関するルールは、
拡散状態管理テーブル２９において管理されている。The diffusion state check section 27 has a function of preventing a product that has entered a contaminated diffusion furnace from entering a clean diffusion furnace, that is, a check for preventing contamination of the diffusion furnace. The rules for this check are:
It is managed in the diffusion state management table 29.
【００４８】図１２に示した拡散状態管理テーブルにお
いて、上の横軸には、１つ前に製品が入った拡散炉の名
称、左の縦軸には、これから入ろうとする拡散炉の名称
が記入されている。In the diffusion state management table shown in FIG. 12, the upper horizontal axis represents the name of the diffusion furnace in which the product was placed immediately before, and the left vertical axis represents the name of the diffusion furnace to be entered. Has been filled out.
【００４９】例えば、図１３に示した製品は、拡散炉Ｄ
に入った製品であるが、この製品が次に拡散炉Ｅ、もし
くは拡散炉Ｆに入る場合を考えると、図１２に示した拡
散状態管理テーブル２９によって、拡散炉Ｄに入った製
品が拡散炉Ｅに入る場合はＯＫであるが、拡散炉Ｆに入
る事はＮＧである事がチェックできる。For example, the product shown in FIG.
If the product enters the diffusion furnace E or the diffusion furnace F next, the diffusion state management table 29 shown in FIG. It is OK to enter E, but it can be checked that entering diffusion furnace F is NG.
【００５０】パッケージチェック部３１は、ある工程
（Ａ）とある工程（Ｂ）を１つのパッケージとして、そ
のパッケージ内（Ａ、Ｂ間）に存在しなければならない
工程、存在してはいけない工程、ある工程が存在した場
合、更にある工程が存在しなければならない様なチェッ
クを行う機能を有している。また、このチェックに関す
るルールは、パッケージ管理テーブル３３において管理
されている。The package check unit 31 includes a process (A) and a process (B) as one package, a process that must exist in the package (between A and B), a process that must not exist, When a certain process is present, it has a function of performing a check such that a certain process must be present. The rules for this check are managed in the package management table 33.
【００５１】図１４に示したパッケージ管理テーブル３
３において、上の横軸には、パッケージの基になる工程
の名称、パッケージ内の存在しなければいけない工程
名、パッケージ内の存在してはいけない工程名、パッケ
ージ内に存在した場合、更に存在しなければならない工
程名、エラーコードが記入されている。The package management table 3 shown in FIG.
In 3, the upper horizontal axis shows the name of the process on which the package is based, the name of the process that must exist in the package, the name of the process that must not exist in the package, and the presence of the process if it exists in the package. The process name and error code that must be performed are entered.
【００５２】例えば、図１５に示したプロセスフロー情
報、すなわち、リソグラフィ工程とレジスト剥離工程と
の間に熱酸化工程が存在した場合を考えると、図１４に
示したパッケージ管理テーブル３３によって、製品上に
フォトレジストが塗布されている状態で酸化炉に入れる
事はＮＧである事がチェックできる。For example, considering the process flow information shown in FIG. 15, that is, the case where a thermal oxidation step exists between the lithography step and the resist stripping step, the package management table 33 shown in FIG. It is possible to check that putting a photoresist in an oxidation furnace while the photoresist is applied is NG.
【００５３】また、図１６に示したプロセスフロー情報
すなわち、リソグラフィ工程とリソグラフィ工程の間
に、レジスト剥離工程が存在しない場合を考えると、図
１４に示したパッケージ管理テーブル３３によって、レ
ジスト剥離工程が存在しないという事でＮＧである事が
チェックできる。Considering the process flow information shown in FIG. 16, that is, the case where there is no resist stripping step between lithography steps, the resist stripping step is determined by the package management table 33 shown in FIG. Since it does not exist, it can be checked that it is NG.
【００５４】工程順序チェック部３５は、ある工程の前
に存在しなければならない工程、ある工程の後に存在し
なければならない工程、ある工程の前に存在してはいけ
ない工程、ある工程の後に存在してはいけない工程につ
いてチェックを行う機能を有している。また、このチェ
ックに関するルールは、工程順序管理テーブル３７にお
いて管理されている。The process order check unit 35 includes a process that must exist before a certain process, a process that must exist after a certain process, a process that must not exist before a certain process, and a process that exists after a certain process. It has a function to check for processes that must not be performed. The rules for this check are managed in the process order management table 37.
【００５５】図１７に示した工程順序管理テーブル３７
において、上の横軸には、検索元となる工程名、検索先
となる工程名、検索先となる工程名の位置、検索先の工
程が存在しなければならないのか、存在してはいけない
のか、エラーコードが記入される。The process order management table 37 shown in FIG.
In the upper horizontal axis, the process name as the search source, the process name as the search destination, the position of the process name as the search destination, and whether the process at the search destination must exist or should not exist , An error code is entered.
【００５６】例えば、図１８に示したプロセスフロー情
報、すなわち熱酸化工程の前に洗浄処理が存在しなかっ
た場合を考えると、図１７に示した工程順序管理テーブ
ル３７によって、熱酸化工程の前に洗浄処理が存在して
いないという事でＮＧである事がチェックされる。For example, considering the process flow information shown in FIG. 18, that is, the case where the cleaning process does not exist before the thermal oxidation process, the process sequence management table 37 shown in FIG. Since no cleaning process exists, it is checked that the process is NG.
【００５７】ルーチン外チェック部３９では、プロセス
フロー情報において、処理を行う為に作業者の許可を必
要とする工程をチェックする機能を有している。また、
このチェックに関するルールは、ルーチン外管理テーブ
ル４１において管理されている。The out-of-routine check unit 39 has a function of checking, in the process flow information, a process that requires an operator's permission to perform a process. Also,
Rules related to this check are managed in the out-of-routine management table 41.
【００５８】図１９に示したルーチン外管理テーブル４
１において、上の横軸には、検索元となる工程名、検索
先となる工程名、エラーコードが記入されている。例え
ば、図２０に示したプロセスフロー情報、すなわち、配
線の抵抗率を測定する工程が存在した場合を考えると、
図１９に示したルーチン外管理テーブル４１によって、
配線の抵抗率を測定する工程は許可が必要な工程である
という事で、ＮＧである事がチェックされる。Out-of-routine management table 4 shown in FIG.
In FIG. 1, on the upper horizontal axis, a process name as a search source, a process name as a search destination, and an error code are written. For example, when the process flow information illustrated in FIG. 20, that is, the case where there is a step of measuring the resistivity of the wiring exists,
According to the non-routine management table 41 shown in FIG.
Since the process of measuring the resistivity of the wiring is a process that requires permission, it is checked that it is NG.
【００５９】テストピースチェック部４３では、製品に
膜を堆積した時の膜厚、イオン注入を行った時の製品の
抵抗率を測定する為のテストピース（ＴＰ／試験用製
品）の挿入位置、ＴＰの種類のチェックを行う機能を有
している。また、このチェックに関するルールは、テス
トピース管理テーブル４５において管理されている。In the test piece check section 43, the insertion position of a test piece (TP / test product) for measuring the film thickness when a film is deposited on the product, the resistivity of the product when ion implantation is performed, It has a function to check the type of TP. The rules for this check are managed in the test piece management table 45.
【００６０】図２１に示したテストピース管理テーブル
４５の上の横軸には、ＴＰを必要とする工程名、ＴＰを
挿入する位置、ＴＰの種類、エラーコードが記入されて
いる。On the horizontal axis above the test piece management table 45 shown in FIG. 21, the name of the process requiring the TP, the position where the TP is inserted, the type of the TP, and the error code are entered.
【００６１】例えば、図２２に示したプロセスフロー情
報、すなわち、前洗浄処理、アルミニウム膜を堆積する
工程、膜厚を測定する工程において、本来ＴＰは、前洗
浄処理において挿入し、膜厚を測定する工程において抜
き取るが、この場合は、アルミニウム膜を堆積する工程
でＴＰを挿入し、膜厚を測定する工程で抜き取っている
ので、図２１に示したテストピース管理テーブル４５に
よって、ＴＰの挿入位置が違うという事で、ＮＧである
事がチェックされる。For example, in the process flow information shown in FIG. 22, ie, in the pre-cleaning process, the step of depositing an aluminum film, and the process of measuring the film thickness, TP is originally inserted in the pre-cleaning process to measure the film thickness. In this case, since the TP is inserted in the step of depositing the aluminum film and the TP is extracted in the step of measuring the film thickness, the TP insertion position is determined by the test piece management table 45 shown in FIG. Is different, so it is checked that it is NG.
【００６２】また、ＴＰの種類についても、図２１に示
したテストピース管理テーブル４５によってチェックさ
れる。すなわち図２２に示したプロセスフロー情報にお
いて、アルミニウム膜の膜厚を測定するＴＰは、本来専
用のものを用いなければならないが、回収のＴＰを用い
ているので、図２１に示したテストピース管理テーブル
４５によってＮＧである事がチェックされる。The type of TP is also checked by the test piece management table 45 shown in FIG. That is, in the process flow information shown in FIG. 22, the TP for measuring the thickness of the aluminum film must originally be a dedicated TP, but since the recovery TP is used, the test piece management shown in FIG. The table 45 checks that it is NG.
【００６３】連続工程チェック部４７では、プロセスフ
ロー情報に記述されている連続工程（待ち状態となって
はいけない工程）の記述方法が正しいかをチェックする
機能を有している。また、このチェックに関するルール
は、連続工程管理テーブル４９において管理されてい
る。The continuous process check unit 47 has a function of checking whether the description method of the continuous process (the process that should not be in the waiting state) described in the process flow information is correct. The rules for this check are managed in the continuous process management table 49.
【００６４】図２３に示した連続工程管理テーブル４９
の上の横軸には、連続工程として考えられる工程の名
称、エラーコードが記入されている。The continuous process management table 49 shown in FIG.
On the horizontal axis above, the name of a process considered as a continuous process and an error code are written.
【００６５】例えば、図２４に示したプロセスフロー情
報、すなわち、連続開始、前洗浄処理、酸化工程、膜厚
測定、前洗浄処理、アルミニウム膜堆積工程、膜厚測
定、連続終了の工程において、本来、連続工程中の前洗
浄処理は、最初のみ必要で、後は必要としないが、図２
４に示したプロセスフロー情報では、後すなわち、アル
ミニウム膜を堆積する工程の前に前洗浄処理が存在して
いるので、図２３に示した連続工程管理テーブル４９に
よってＮＧである事がチェックされる。For example, in the process flow information shown in FIG. 24, that is, in the steps of continuous start, pre-cleaning process, oxidation step, film thickness measurement, pre-cleaning process, aluminum film deposition step, film thickness measurement, and continuous end step, The pre-cleaning process during the continuous process is necessary only at the beginning, and is not necessary thereafter.
In the process flow information shown in FIG. 4, since the pre-cleaning process exists later, that is, before the step of depositing the aluminum film, it is checked that the process is NG by the continuous process management table 49 shown in FIG. .
【００６６】エラーメッセージ作成部５１は、様々なチ
ェックを行った後で、ＮＧがあった場合、それに見合っ
たエラーメッセージを作成する機能を有している。ま
た、エラーメッセージに関する情報は、エラーコード管
理テーブル５３において管理されている。The error message creating section 51 has a function of creating an error message corresponding to the NG when there is an NG after performing various checks. Information on the error message is managed in the error code management table 53.
【００６７】図２５に示すエラーコード管理テーブル５
３には、横軸にエラー番号、エラーメッセージが記入さ
れている。Error code management table 5 shown in FIG.
3, an error number and an error message are written on the horizontal axis.
【００６８】例えば、図２６に示すプロセスフロー情報
すなわち、アルミニウム膜を堆積する工程の前に前洗浄
処理がなかっ場合、本来、アルミニウム膜を堆積する工
程の前には前洗浄処理が必要であるが、この場合存在し
ないため、工程順序チェック部３５により、工程順序管
理テーブル３７においてＮＧである事がチェックされ、
同時にそのＮＧに対して図２５に示すエラーコード管理
テーブル５３において、上記ＮＧに対応するエラーコー
ド（この場合“００８”）に対応するエラーメッセージ
「膜を堆積する工程の前に洗浄処理がありません」が作
成される。For example, if the process flow information shown in FIG. 26, that is, the pre-cleaning process is not performed before the process of depositing an aluminum film, the pre-cleaning process is originally required before the process of depositing an aluminum film. In this case, since it does not exist, the process sequence checking unit 35 checks that the process sequence management table 37 is NG.
At the same time, in the error code management table 53 shown in FIG. 25 for the NG, an error message corresponding to the error code corresponding to the NG (in this case, “008”) “There is no cleaning process before the step of depositing the film” Is created.
【００６９】結果出力部５５は、上記チェックを行った
後、間違いが有った場合エラーファイル（エラーメッセ
ージをまとめたファイル）を作成し、間違いが無かった
場合は、ＣＡＭファイルを作成する機能を有している。After performing the above-described check, the result output unit 55 has a function of creating an error file (file summarizing error messages) if there is an error, and a function of creating a CAM file if there is no error. Have.
【００７０】チェック判断部５７は、上記チェックを行
うか否かについて管理する機能を有している。また、こ
のチェックするか否かの情報は、チェック管理テーブル
５９において管理されている。The check judging section 57 has a function of managing whether or not to perform the above check. Information on whether or not to perform the check is managed in the check management table 59.
【００７１】図２７に示すチェック管理テーブル５９
は、チェック項目の名称、チェックを行うか否かの情報
が記入されている。例えば図２７に示されたテーブルで
は、下地状態チェック以外は行うことを示している。こ
れによって、必要の無いチェックを省略する事が可能と
なる。Check management table 59 shown in FIG.
Indicates the name of the check item and information on whether or not to perform the check. For example, the table shown in FIG. 27 indicates that a check other than the background state check is performed. This makes it possible to omit unnecessary checks.
【００７２】次に本発明の具体的な実現手段について、
再度図１を参照しながら説明する。フロー取込み部１、
分割情報取込み部３、マスク情報取込み部７、各チェッ
ク部１１〜４７、エラーメッセージ作成部５１はＣＰＵ
に付属するメインメモリで実現されている。Next, specific means for realizing the present invention will be described.
Description will be made again with reference to FIG. Flow intake unit 1,
The division information acquisition unit 3, the mask information acquisition unit 7, each of the check units 11 to 47, and the error message creation unit 51
It is realized by the main memory attached to
【００７３】各管理テーブル５〜５３はハードディス
ク、あるいはフロッピーディスクなどの記録媒体に保存
されている。例えば、記憶媒体に保存された各管理テー
ブル５〜５３は、チェック開始時に前記メインメモリに
呼び込まれ、ＣＰＵによるソフトウエア制御のもとに各
チェック部１１〜４７、エラーメッセージ作成部５１が
時間をおって、ＣＰＵに付属する前記メインメモリ内で
チェック判断部５７、チェック管理テーブル５９を参照
して順次実現される。Each of the management tables 5 to 53 is stored in a recording medium such as a hard disk or a floppy disk. For example, each of the management tables 5 to 53 stored in the storage medium is called into the main memory at the start of the check, and each of the check units 11 to 47 and the error message creation unit 51 are controlled by the CPU under software control. Then, it is sequentially realized by referring to the check determination unit 57 and the check management table 59 in the main memory attached to the CPU.
【００７４】チェック結果は、チェック時にエラーが発
生した場合は、エラーメッセージ作成部５１、エラーコ
ード管理テーブル５３によってエラーファイルが、プリ
ンター、もしくは、記憶媒体に出力される。If an error occurs at the time of the check, an error file is output to a printer or a storage medium by the error message creating unit 51 and the error code management table 53.
【００７５】次にこの発明における製造規則チェックシ
ステムの作用について述べる。Next, the operation of the manufacturing rule check system according to the present invention will be described.
【００７６】フロー取込み部１では、記憶装置、例えば
ハードディスク、フロッピーディスク等にあらかじめス
クリーンエディタ等で作成されたプロセスフロー情報を
コンピュータのメインメモリー上に取込む。そのプロセ
スフロー情報の一例を図２８に示す。同図には、コード
群が、処理工程順に記述されている。なお、プロセスフ
ローデータの１行が、１工程に相当する。The flow fetch unit 1 fetches the process flow information previously created by a screen editor or the like into a storage device, for example, a hard disk or a floppy disk, into a main memory of the computer. FIG. 28 shows an example of the process flow information. In this figure, the code groups are described in the order of processing steps. One line of the process flow data corresponds to one process.
【００７７】次に、分割情報生成システム２において、
メインメモリに取込まれたプロセスフロー情報に、ロッ
ト分割工程が存在するかどうかのチェックが行われる。
ロット分割工程が存在した場合は、そこに書かれている
分割数、各々の分割枚数、分割製品番号によって、どの
製品がどの分割プロセスフロー情報を用いるかによって
分類を行い、更に同一プロセスフローで処理される製品
を単位として製品番号のグルーピングを行う。Next, in the division information generation system 2,
It is checked whether or not a lot division step exists in the process flow information taken into the main memory.
If there is a lot division process, the product is classified according to which product uses which process flow information based on the number of divisions, the number of each division, and the divided product number, and then processed in the same process flow. Product numbers are grouped in units of products to be processed.
【００７８】この結果、すなわちどの製品がどの分割プ
ロセスフロー情報を使用するかは、分割情報管理テーブ
ル５において管理される。この作業を行う事によって、
分割工程を含まないプロセスフロー情報を作成する事が
でき、チェックにはこのプロセスフロー情報を用いるの
で、プロセスフローチェックシステムが大幅に簡略化で
きる。As a result, which product uses which divided process flow information is managed in the divided information management table 5. By doing this,
Since process flow information that does not include the division step can be created and the process flow information is used for the check, the process flow check system can be greatly simplified.
【００７９】レイア情報生成システム６で、プロセスフ
ローのリソグラフィ工程で用いられるマスクパターンの
寸法データ、およびリソグラフィ工程でレジストが残る
か否かのレジスト情報を、そのプロセスフローで用いら
れる全てのマスクパターンについて取得し、パターンの
重なる部分、重ならない部分のグルーピングを行い新た
にレイア情報管理テーブル９を作成する。このレイア情
報のレイア数は、膜構造管理テーブル１３に用いられ
る。In the layer information generating system 6, the dimension data of the mask pattern used in the lithography step of the process flow and the resist information indicating whether or not the resist remains in the lithography step are used for all the mask patterns used in the process flow. A layer information management table 9 is newly created by grouping the acquired and overlapping portions of the pattern. The layer number of the layer information is used for the film structure management table 13.
【００８０】次に分割情報生成システム２によって新た
に作成されたプロセスフロー情報を、各チェック部１１
〜４７、及び各管理テーブル１３〜４９によってチェッ
クを行う。ここでは、図２８に示したプロセスフロー情
報の５番目の工程がチェックされる場合を考える。Next, the process flow information newly created by the division information generation system 2 is
To 47 and the management tables 13 to 49. Here, it is assumed that the fifth step in the process flow information shown in FIG. 28 is checked.
【００８１】まず膜構造チェック部１１において、エッ
チング工程に書かれている削る膜の構造と膜構造管理テ
ーブル１３で管理されている製品上に堆積されている膜
の構造が等しいかどうかのチェックを行う。ただし、図
２８に示したプロセスフロー情報内にはエッチング工程
が存在しないので、チェックは省略される。First, the film structure checking unit 11 checks whether or not the structure of the film to be cut described in the etching process is equal to the structure of the film deposited on the product managed by the film structure management table 13. Do. However, since there is no etching step in the process flow information shown in FIG. 28, the check is omitted.
【００８２】表面状態チェック部１５では、膜構造管理
テーブル１３より製品の表面に存在する膜、及び５番目
の工程の情報をプロセスフローより取込み、５番目の工
程が、製品表面に存在する膜によって、行えるか否かに
ついて、表面状態管理テーブル１７を用いてチェックさ
れる。The surface state checking unit 15 fetches information on the film existing on the surface of the product from the film structure management table 13 and the information on the fifth step from the process flow, and determines whether the fifth step is the film existing on the product surface. Is checked using the surface state management table 17.
【００８３】裏面状態チェック部１９において、膜構造
管理テーブル１３より、製品裏面に存在する膜、及び５
番目の工程の情報をプロセスフローより取込み、５番目
の工程が、製品裏面に存在する膜によって、行えるか否
かについて、裏面状態管理テーブル２１を用いてチェッ
クされる。In the back surface state checking unit 19, the film existing on the back surface of the product and 5
The information of the fifth step is fetched from the process flow, and whether or not the fifth step can be performed by the film existing on the back surface of the product is checked using the back surface state management table 21.
【００８４】下地状態チェック部２３において、膜構造
管理テーブル１３より製品上に存在している全ての膜、
及び５番目の工程の情報をプロセスフローより取込み、
５番目の工程が、製品の表面上に存在する膜によって、
行えるか否かについて、下地状態管理テーブル２５を用
いてチェックを行う。In the base state checking unit 23, all the films existing on the product from the film structure management table 13 are displayed.
And the information of the fifth step is taken from the process flow,
The fifth step is that the film present on the surface of the product
A check is made using the background state management table 25 as to whether or not it can be performed.
【００８５】拡散状態チェック部２７において、番号５
で用いられた拡散炉と番号１６で用いられる拡散炉とを
比較して、製品が汚染された拡散炉から、綺麗な拡散炉
に入ることを防ぐチェックを拡散状態管理テーブル２９
を用いて行う。In the diffusion status check section 27, the number 5
In comparison with the diffusion furnace used in No. 16 and the diffusion furnace used in No. 16, a check is performed to prevent a product from entering a clean diffusion furnace from a contaminated diffusion furnace.
This is performed using
【００８６】パッケージチェック部３１において、５番
目の工程が、ある工程とある工程とのパッケージの中に
存在するかどうかをパッケージ管理テーブル３３を用い
てチェックする。The package check unit 31 checks, using the package management table 33, whether or not the fifth step exists in a package of a certain step and a certain step.
【００８７】工程順序チェック部３５において、５番目
の工程の前後に規定された工程が存在するかどうか、ま
たは存在してはいけない工程が存在するかどうかのチェ
ックを工程順序管理テーブル３７を用いて行う。The process order check unit 35 checks whether or not there is a process specified before or after the fifth process or whether there is a process that should not exist using the process sequence management table 37. Do.
【００８８】ルーチン外チェック部３９において、５番
目の工程が、行ってはいけない工程かどうかのチェック
をルーチン外管理テーブル４１を用いて行う。In the out-of-routine check section 39, a check is made using the out-of-routine management table 41 as to whether the fifth step is a step that should not be performed.
【００８９】テストピースチェック部４３において５番
目の工程で用いられているテストピーチが正しいもので
あるかどうか、テストピースを挿入、抜き取る工程が正
しいかをテストピース管理テーブル４５を用いてチェッ
クを行う。The test piece checking section 43 checks whether the test peach used in the fifth step is correct and whether the steps of inserting and removing the test piece are correct by using the test piece management table 45. .
【００９０】最後に連続工程チェック部４７において、
連続開始、連続終了で囲まれている中に工程の順序が正
しいかどうかを連続工程管理テーブル４９を用いてチェ
ックを行う。Finally, in the continuous process check section 47,
It is checked using the continuous process management table 49 whether or not the order of the processes is correct while being surrounded by the continuous start and the continuous end.
【００９１】これら全てのチェックにおいて、ＮＧと判
断された場合、エラーメッセージ作成部５１において、
エラーコード管理テーブル５３を参照してメッセージが
作成され、結果出力部５５より外部記憶装置に出力され
る。ＮＧがまったく存在しなかった場合は、結果出力部
５５よりＣＡＭファイルが外部記憶装置に出力される。In all of these checks, if it is determined that the result is NG, the error message creating unit 51
A message is created with reference to the error code management table 53, and is output from the result output unit 55 to the external storage device. If no NG exists, the CAM file is output from the result output unit 55 to the external storage device.
【００９２】また、チェック判断部５７、チェック管理
テーブル５９によって、今まで述べたチェックを行う
か、行わないかの選択ができる。The check judging section 57 and the check management table 59 allow the user to select whether to perform the above-described check or not.
【００９３】このように、この発明の製造規則チェック
システムでは、各管理テーブル１３〜４９を用いて工程
順に記述されたプロセスフローを高速にチェックを行う
事ができる。例えば、人間では３００工程の処理フロー
をチェックするのに約３０分かかるところをこのチェッ
ク装置では約１／１０以下でチェックすることができる
ようになった。また、これらのチェックは行わない事も
できる。ただし、それについてはシステム管理者が設定
をする事ができる。As described above, in the manufacturing rule check system according to the present invention, it is possible to check the process flows described in the order of processes at high speed by using the management tables 13 to 49. For example, where a human takes about 30 minutes to check a processing flow of 300 steps, the checking device can check the processing flow by about 1/10 or less. Also, these checks may not be performed. However, it can be set by the system administrator.
【００９４】次に、前述した図１における分割情報生成
システム２について以下に詳しく説明する。Next, the above-described division information generating system 2 in FIG. 1 will be described in detail.
【００９５】図２９はこの分割情報生成システム２の機
能ブロック図である。同図に示す処理システムは、分割
工程数カウント部６３、ロット分割数カウント部６５、
製品毎分割工程場合分け部６７、グルーピング部６９、
フロー生成部７１、分割情報管理テーブル５から構成さ
れている。FIG. 29 is a functional block diagram of the division information generation system 2. The processing system shown in the figure includes a division process number counting section 63, a lot division number counting section 65,
Product dividing process case dividing unit 67, grouping unit 69,
The flow generation unit 71 includes a division information management table 5.
【００９６】分割工程数カウント部６３は、プロセスフ
ローにロット分割工程が存在した場合その工程数を数え
る。例えば図３０に示すプロセスフローにおいて、ロッ
ト分割工程が２工程存在しているので、この場合は２と
カウントされる。また、図３１に図３０のロットの流れ
の概略図を示す。The division step number counting section 63 counts the number of lot division steps, if any, in the process flow. For example, in the process flow shown in FIG. 30, there are two lot division steps. FIG. 31 is a schematic diagram showing the flow of the lot shown in FIG.
【００９７】ロット分割数カウント部６５では、分割工
程に書かれているロット分割数をメモリ上に取り込む機
能を有している。図３０に示すプロセスフローでは、最
初の分割工程では、本体を３つに分割し、２回目の分割
工程では本体を２つに分割することを示している。The lot division number counting section 65 has a function of loading the number of lot divisions written in the division process into a memory. The process flow shown in FIG. 30 shows that the main body is divided into three in the first dividing step, and the main body is divided into two in the second dividing step.
【００９８】製品毎分割工程場合分け部６７では、ロッ
ト分割工程に書いてある情報より更に製品番号ごとに、
どの分割工程を用いるかによって場合分けを行う。図３
０に示すプロセスフローでは、１回目の分割では製品番
号１，２は本体、製品番号３，４は分割、製品番号
５，６は分割のプロセスフローを用いることを示して
いる。２回目の分割では製品番号１，３，５は本体、製
品番号２，４，６は分割のプロセスフローを用いるこ
とを示している。これをまとめたものを図３２に示す。In the case of the division process for each product, the classifying section 67 further calculates, for each product number, the information written in the lot division process.
The case is divided depending on which division process is used. FIG.
In the process flow shown as 0, in the first division, the product numbers 1 and 2 use the main body, the product numbers 3 and 4 use the division, and the product numbers 5 and 6 use the division process flow. In the second division, the product numbers 1, 3, and 5 indicate that the main unit is used, and the product numbers 2, 4, and 6 indicate that the division process flow is used. FIG. 32 shows a summary of this.
【００９９】グルーピング部６９では、製品毎分割工程
場合分け部６７で得られた情報より、同一プロセスフロ
ー情報でグルーピングを行う。グルーピングをした結果
をもとに分割情報管理テーブル５が作成される。図３３
に示した分割情報管理テーブルにおいて、図３２におい
て同一情報が存在しないので、分割パターンはａ，ｂ，
ｃ，ｄ，ｅ，ｆの６種類に分割される事がわかる。The grouping section 69 performs grouping based on the same process flow information based on the information obtained by the product dividing step case dividing section 67. The division information management table 5 is created based on the result of the grouping. FIG.
Since the same information does not exist in FIG. 32 in the division information management table shown in FIG.
It can be seen that it is divided into six types, c, d, e, and f.
【０１００】グルーピング部６９において、分割情報テ
ーブル５を用いて、製品毎にプロセスフロー情報を作成
する。図３４に示す様に、投入から１回目の分割までを
Ａ、１回目の分割において、本体をＢ、分割をＣ、分
割をＤ、１回目の分割の合流から、２回目の分割まで
の工程をＥ、２回目の分割において本体をＦ、分割を
Ｇ、２回目の分割から払い出しまでをＨとすると、図３
３の分割情報管理テーブルより、フロー生成部７１にお
いて分割工程を含まないプロセスフローが生成される。
例えば製品番号１は、図３５に示す様にＡ＋Ｂ＋Ｅ＋Ｆ
＋Ｈとなる。In the grouping section 69, process flow information is created for each product using the division information table 5. As shown in FIG. 34, the process from the input to the first division is A, the main division is B, the division is C, the division is D in the first division, and the steps from the merge of the first division to the second division Is E, the body is F in the second division, G is the division, and H is from the second division to the payout.
From the division information management table No. 3, the flow generation unit 71 generates a process flow that does not include the division step.
For example, product number 1 is A + B + E + F as shown in FIG.
+ H.
【０１０１】次に、このシステム実現手段について、図
２９を参照しながら説明する。分割工程数カウント部６
３、ロット分割数カウント部６５、製品毎分割工程場合
分け部６７、グルーピング部６９、フロー生成部７１は
ＣＰＵに付属するメインメモリで実現されている。Next, the system realizing means will be described with reference to FIG. Division process number counting section 6
3. The lot division number counting unit 65, the division process case division unit 67 for each product, the grouping unit 69, and the flow generation unit 71 are realized by a main memory attached to the CPU.
【０１０２】分割情報管理テーブル５はハードディス
ク、あるいはフロッピーディスクなどの記録媒体に保存
されている。The division information management table 5 is stored on a recording medium such as a hard disk or a floppy disk.
【０１０３】例えば、ＣＰＵに付属するメインメモリ上
で、分割工程数カウント部６３、ロット分割数カウント
部６５、製品毎分割工程場合分け部６７、グルーピング
部６９が時間をおって実現される。その結果は、分割情
報管理テーブル５に出力され、フロー生成部７１で分割
管理テーブル５を参照して分割工程を含まないプロセス
フローが記憶媒体に出力される。For example, on a main memory attached to the CPU, a division process number counting unit 63, a lot division number counting unit 65, a division process case division unit 67 for each product, and a grouping unit 69 are realized with time. The result is output to the division information management table 5, and the flow generation unit 71 refers to the division management table 5 and outputs a process flow that does not include the division step to the storage medium.
【０１０４】次にこの分割情報生成システムの作用につ
いて述べる。Next, the operation of the division information generation system will be described.
【０１０５】まず、分割工程数カウント部６３におい
て、フロー取り込み部１によってメインメモリに取り込
まれたプロセスフロー情報に、ロット分割工程が存在す
るかどうかのチェックが行われる。ロット分割工程が存
在した場合は、そのロット分割工程数を数える。ここ
で、分割工程が１つも存在しなかった場合は、この分割
情報取り込み部で行われる作業は終了する。First, in the division step counting section 63, it is checked whether or not the lot division step exists in the process flow information fetched into the main memory by the flow fetch section 1. If there is a lot division step, the number of lot division steps is counted. Here, if there is no division step, the operation performed by the division information capturing unit ends.
【０１０６】次にロット分割数カウント部６５におい
て、各々の分割工程内にある製品分割数を数える。Next, the lot division number counting section 65 counts the number of product divisions in each division process.
【０１０７】次にロット分割工程に書かれているロット
分割の内訳（各々の分割枚数、分割製品番号）によっ
て、どの製品がどの分割のプロセスフロー情報を用いる
かによって分類を行い、グルーピング部６９において同
一プロセスフロー情報単位で製品番号のグルーピングを
行う。Next, according to the breakdown of the lot division (each divided number and the divided product number) written in the lot division process, classification is performed according to which product uses which process flow information for which division, and the grouping unit 69 performs the classification. Group product numbers in the same process flow information unit.
【０１０８】このグルーピングの結果は分割情報管理テ
ーブル５に格納される。The result of this grouping is stored in the division information management table 5.
【０１０９】次にフロー生成部において、分割情報管理
テーブル５を用いて、どの製品がどの分割プロセスフロ
ー情報を使用するかによって分割工程を含まないプロセ
スフローを作成する。チェックにはこのプロセスフロー
情報を用いる。Next, the flow generation unit uses the division information management table 5 to create a process flow that does not include a division step depending on which product uses which division process flow information. This process flow information is used for the check.
【０１１０】すなわち、この分割情報管理システムを用
いればプロセスフローに分割工程が存在していてもあた
かも分割工程が存在しないかの様に是非の判断をコンピ
ュータにより行うことが可能となる。これにより、プロ
セスフローのチェックに際しては分割の事を考慮にいれ
る必要がないのでチェックシステムを大幅に簡略化する
事ができる。That is, if this division information management system is used, even if there is a division step in the process flow, it is possible to make a judgment as to whether or not the division step exists by using a computer. As a result, it is not necessary to consider division when checking the process flow, so that the check system can be greatly simplified.
【０１１１】次に、前述した図１におけるレイア情報生
成システム６の詳細について以下に説明する。Next, the details of the layer information generating system 6 in FIG. 1 will be described below.
【０１１２】図３６は、レイア情報生成システム６の機
能ブロック図である。FIG. 36 is a functional block diagram of the layer information generating system 6. As shown in FIG.
【０１１３】レイア情報生成システム６は、マスク情報
取込み部７、マスク情報管理テーブル９、レイア情報生
成部１０１、機能選択部１０３，レイア情報受渡し部１
０５から構成されている。またマスク情報生成システム
６は、マスク情報生成部１０７、ＣＡＤシステム１０
９、チェックシステム１０，シミュレーションシステム
１１１、他システム１１３と接続されている。The layer information generation system 6 includes a mask information acquisition section 7, a mask information management table 9, a layer information generation section 101, a function selection section 103, and a layer information transfer section 1.
05. The mask information generation system 6 includes a mask information generation unit 107 and a CAD system 10.
9, the check system 10, the simulation system 111, and other systems 113 are connected.
【０１１４】ＣＡＤシステム１０９は、一般に市販され
たり、各企業にて開発されたレイアウト設計システムで
あり、その特殊性は問わない。このＣＡＤシステム１０
９にてマスク情報の長さや面積等の情報を生成する。例
えば、半導体製造におけるマスクレイアウトを例に取る
と、図３７（ａ）に示す様な設計図を作成することがで
きる。The CAD system 109 is a layout design system which is generally commercially available or has been developed by each company, and its speciality does not matter. This CAD system 10
In step 9, information such as the length and area of the mask information is generated. For example, taking a mask layout in semiconductor manufacturing as an example, a design drawing as shown in FIG. 37A can be created.
【０１１５】この図３７（ａ）の例では、マスク１では
１本の線を、マスク２では２本の線、マスク３では２個
の穴を表している。In the example of FIG. 37A, the mask 1 represents one line, the mask 2 represents two lines, and the mask 3 represents two holes.
【０１１６】この様に半導体製造の場合、このマスク情
報が複数存在し、その図の形や長さはまちまちである。
また、半導体製造の場合には、図３７（ａ）に示す黒塗
の部分には、レジストが残るか否かの情報が付帯してい
る。つまり、半導体製造を例に取ると、ＣＡＤシステム
１０９では、マスク情報、例えば「長さ」と「レジスト
有無」を生成する。ただし、この情報は、設計図面の面
積などであっても良い。As described above, in the case of semiconductor manufacturing, there are a plurality of pieces of mask information, and the shapes and lengths of the figures vary.
In the case of semiconductor manufacturing, information on whether or not the resist remains is attached to the black portion shown in FIG. In other words, taking semiconductor manufacturing as an example, the CAD system 109 generates mask information, for example, “length” and “presence / absence of resist”. However, this information may be the area of the design drawing or the like.
【０１１７】マスク情報生成部１０７は、ＣＡＤシステ
ム１０９で生成された情報を次の機能部へ転送するため
に加工する部分である。例えば、上記半導体製造の例を
取ると、ＣＡＤシステム１０９で生成されたマスクの
「長さ」情報と「レジスト有無」情報は、このマスク情
報生成部１０７にて英数字の形に変換される。The mask information generation unit 107 is a unit that processes information generated by the CAD system 109 so as to be transferred to the next functional unit. For example, in the case of the above-described semiconductor manufacturing, the “length” information and the “presence / absence of resist” information of the mask generated by the CAD system 109 are converted into alphanumeric characters by the mask information generation unit 107.
【０１１８】図３７（ａ），（ｂ）を参照して、ＣＡＤ
システム１０９での図形情報、例えばマスク１のある１
次元部分（図３７（ａ）の一点破線）のマスクの「長
さ」情報は、『ａ１，ａ２，ａ３』と表され、一方、
「レジスト有無」情報は、レジスト「有り」を「１」、
「無」を「０」とすると、『０、１、０』で表される。
つまり、マスク情報生成部１０７は、ＣＡＤシステム１
０９で指定された場所からマスクの「長さ」情報と「レ
ジスト有無」情報、『ａ１，ａ２，ａ３／０、１、０』
を生成する機能を有している。Referring to FIGS. 37 (a) and (b), CAD
Graphic information in the system 109, for example, 1 with mask 1
The “length” information of the mask of the dimensional portion (the one-dot broken line in FIG. 37A) is expressed as “a1, a2, a3”.
"Resist" information is "1" for resist "Yes",
If “absence” is set to “0”, it is represented by “0, 1, 0”.
In other words, the mask information generation unit 107 uses the CAD system 1
09 "length" information and "registration presence / absence" information of the mask from the location designated by 09, "a1, a2, a3 / 0, 1, 0"
Is generated.
【０１１９】図３７（ｂ）に図３７（ａ）から変換され
たこれらの情報のイメージを示す。マスク情報生成部１
０７は、図３７（ａ）から（ｂ）への変換を行ってい
る。ここで、マスクの情報を収集したい部分の指定は、
例えばマウス等の入力媒体を使用することにより指定す
ることができる。マウスをマスク形状のある任意の一点
に移動しクリックすることで、全てのマスクの同一位置
の情報を得ることができる。図３７の例を参照すると、
マスク１の一点破線のいかなる部分をクリックすること
で、マスク２、３・・・の同一位置の情報を収集でき
る。FIG. 37 (b) shows an image of these pieces of information converted from FIG. 37 (a). Mask information generation unit 1
07 performs conversion from FIG. 37A to FIG. Here, the specification of the part where you want to collect mask information is
For example, it can be specified by using an input medium such as a mouse. By moving the mouse to an arbitrary point of the mask shape and clicking, it is possible to obtain information on the same position of all masks. Referring to the example of FIG.
By clicking any part of the dashed line of the mask 1, information on the same position of the masks 2, 3,... Can be collected.
【０１２０】上記の例ではマスク情報の１次元に対応し
ているが、次の方法を採用することで２次元にも対応可
能である。Although the above example corresponds to one-dimensional mask information, it can also correspond to two-dimensional by adopting the following method.
【０１２１】マスクの「長さ」情報や、「レジスト有
無」情報の場所を指定する場合、マスク上にある１点を
指定したが、この指定方法を任意の原点から、任意のス
テップにより、ずらして指定することで擬２次元の「長
さ」情報や、「レジスト有無」情報を指定することがで
きる。When designating the location of the "length" information or "registration presence / absence" information of a mask, one point on the mask is designated. However, this designation method is shifted from an arbitrary origin by an arbitrary step. Thus, pseudo two-dimensional "length" information and "registration presence / absence" information can be designated.
【０１２２】具体的には、図３８（ａ）に示す様に、任
意に原点Ｏを指定し、ステップも任意に指定すること
で、「長さ」情報が『ａ１，ａ２，ａ３』、『ｂ１，ｂ
２，ｂ３』、『ｃ１，ｃ２，ｃ３』とずれて指定でき
る。これらの情報をマスク情報生成部１０７において例
えば、図３８（ｂ）に示す様にマトリックスとして生成
することができる。More specifically, as shown in FIG. 38 (a), the origin O is arbitrarily specified and the step is arbitrarily specified, so that the "length" information is "a1, a2, a3", " b1, b
2, b3 "and" c1, c2, c3 ". These pieces of information can be generated as a matrix in the mask information generation unit 107, for example, as shown in FIG.
【０１２３】上記のように生成されたマスクの「長さ」
情報や、「レジスト有無」情報は、レイア情報生成シス
テム６内の記録媒体に格納される。The “length” of the mask generated as described above
The information and the “presence / absence of resist” information are stored in a recording medium in the layer information generation system 6.
【０１２４】マスク情報取込み部７は、上記マスク情報
生成部１０７の情報を記録媒体から取り出し、マスク情
報管理テーブル９に展開した後、レイア情報生成部１０
１へ受け渡す部分である。The mask information fetching unit 7 extracts the information of the mask information generating unit 107 from the recording medium, develops the information in the mask information management table 9, and then stores the information in the layer information generating unit 10.
This is the part to be transferred to 1.
【０１２５】レイア情報生成部１０１は、マスク情報生
成部１０７にて生成された情報から、「レイア情報」と
呼ばれる情報を生成する部分である。具体的に、図３０
（ｂ），（ｃ）を参照してこのレイア情報生成部１０１
について解説する。The layer information generating section 101 is a section for generating information called “layer information” from the information generated by the mask information generating section 107. Specifically, FIG.
With reference to (b) and (c), the layer information generation unit 101
Is explained.
【０１２６】マスク情報生成部１０７にて生成された情
報、すなわち図３７（ｂ）におけるマスク１の情報は、
図３７（ｃ）では３つの部分（ａ１〜ａ３）に分けるこ
とができる。この１つ１つの部分がレイアと呼ばれる情
報であり、マスクが１枚の場合には、マスク情報とレイ
ア情報は同じである。ちなみに、マスク１枚の時のレイ
ア情報は３レイアで長さとレジスト有無情報はそれぞれ
『ａ１，ａ２，ａ３／０、１、０』である。The information generated by the mask information generation unit 107, that is, the information of the mask 1 in FIG.
In FIG. 37 (c), it can be divided into three parts (a1 to a3). Each of these portions is information called a layer, and when one mask is used, the mask information and the layer information are the same. Incidentally, the layer information for one mask is three layers, and the length and the resist presence / absence information are "a1, a2, a3 / 0, 1, 0", respectively.
【０１２７】次にマスク２をマスク１に重ね合わせる
と、レイアは図３７（ｃ）の如く５レイア（ｂ１〜ｂ
５）となる。さらに、マスク３を重ね合わせると、レイ
ア数は９レイアとなる。この時長さは、レイア（１）″
はｃ１であるが、レイア（２）″は（ｂ１−ｃ１）、レ
イア（３）″は（（ｃ１＋ｃ２）−ｂ１）等となり、レ
ジスト有無情報もそれぞれ「０、１、１・・・・・」と
なる。Next, when the mask 2 is superimposed on the mask 1, the layers are five layers (b1 to b) as shown in FIG.
5). Further, when the masks 3 are superimposed, the number of layers becomes 9 layers. At this time, the length is Leia (1) "
Is c1, but layer (2) ″ is (b1−c1), layer (3) ″ is ((c1 + c2) −b1), and the resist presence / absence information is also “0, 1, 1,...”. ".
【０１２８】この様に、レイア情報生成部１０１では、
マスク情報生成部１０７から渡されたマスク情報を上記
例の示す様なレイア情報に変換する部分である。この時
マスク枚数は、何枚あっても構わない。つまり、レイア
情報生成部１０１は、図３０（ｂ）の情報を（ｃ）の情
報へと変換する機能を有している。As described above, in the layer information generation unit 101,
This is a part for converting the mask information passed from the mask information generation unit 107 into layer information as shown in the above example. At this time, the number of masks may be any number. That is, the layer information generation unit 101 has a function of converting the information in FIG. 30B into the information in FIG.
【０１２９】機能選択部１０３は、レイア情報生成部１
０１で生成された情報を図１で示したチェックシステム
１０、シミュレーションシステム１１１、あるいは他シ
ステム１１３等へ転送する場合の選択機能を有してい
る。[0129] The function selection unit 103 includes the layer information generation unit 1
01 has a selection function when transferring the information generated in step S01 to the check system 10, the simulation system 111, the other system 113, or the like shown in FIG.
【０１３０】レイア情報受渡し部１０５は、上記機能選
択部１０３で選択されたいずれかのシステムへレイア情
報を受渡す部分である。The layer information transfer section 105 is a section for transferring layer information to one of the systems selected by the function selecting section 103.
【０１３１】なお、シミュレーションシステム１１１
は、プロセス／デバイス／形状シミュレータに代表され
るシミュレーションシステムである。他システム１１３
は、上記システム以外のレイア情報を必要とするシステ
ムである。Note that the simulation system 111
Is a simulation system represented by a process / device / shape simulator. Other systems 113
Is a system that requires layer information other than the above system.
【０１３２】[0132]
【発明の効果】以上述べたように、本発明による製造規
則チェックシステムでは、プロセスフロー情報のチェッ
クをコンピュータにより自動的に行うことが可能とな
る。これにより、誰でもが簡単に共通の知識として利用
できるようになるとともに、チェックのミスが減少す
る。As described above, in the manufacturing rule check system according to the present invention, the process flow information can be automatically checked by a computer. This makes it easy for anyone to use it as common knowledge and reduces checking errors.
【０１３３】さらに、本発明による製造規則チェックシ
ステムによれば、プロセスフロー情報にマスク情報が付
加されていることから、プロセス／デバイス／形状シミ
ュレータへ２次元、３次元情報を自動転送することがで
きる。Further, according to the manufacturing rule check system of the present invention, since mask information is added to process flow information, two-dimensional and three-dimensional information can be automatically transferred to a process / device / shape simulator. .
【図１】本発明の一実施例における製造規則チェックシ
ステムのハードウェア構成。FIG. 1 is a hardware configuration of a manufacturing rule check system according to an embodiment of the present invention.
【図２】膜構造チェック部を説明する為のプロセスフロ
ー情報。FIG. 2 is process flow information for explaining a film structure check unit.
【図３】膜構造管理テーブル。FIG. 3 is a film structure management table.
【図４】膜構造管理テーブル。FIG. 4 is a film structure management table.
【図５】表面状態管理テーブル。FIG. 5 is a surface state management table.
【図６】膜Ａが製品の表面に堆積されている時に処理
ａ、処理ｂを行う場合の概念図。FIG. 6 is a conceptual diagram in the case where processing a and processing b are performed when the film A is deposited on the surface of a product.
【図７】膜Ａ、膜Ｂが製品の表面に堆積されている時に
処理ａ、処理ｂを行う場合の概念図。FIG. 7 is a conceptual diagram in the case where processing a and processing b are performed when films A and B are deposited on the surface of a product.
【図８】裏面状態管理テーブル。FIG. 8 is a back surface state management table.
【図９】膜Ｃが製品の裏面に堆積されている時に処理
ａ、処理ｂを行う場合の概念図。FIG. 9 is a conceptual diagram of a case where processing a and processing b are performed when a film C is deposited on the back surface of a product.
【図１０】下地状態管理テーブル。FIG. 10 is a base state management table.
【図１１】膜Ａ、Ｂ、Ｃが製品表面に堆積されている時
に処理ｂを行う場合の概念図。FIG. 11 is a conceptual diagram of a case where a process b is performed when films A, B, and C are deposited on a product surface.
【図１２】拡散状態管理テーブル。FIG. 12 is a spread state management table.
【図１３】拡散炉Ｄに入った製品が、拡散炉Ｅ、Ｆに入
る場合の概念図。FIG. 13 is a conceptual diagram in the case where a product that has entered the diffusion furnace D enters the diffusion furnaces E and F.
【図１４】パッケージ管理テーブル。FIG. 14 is a package management table.
【図１５】パッケージチェック部を説明する為のプロセ
スフロー情報。FIG. 15 is process flow information for explaining a package check unit.
【図１６】パッケージチェック部を説明する為のプロセ
スフロー情報。FIG. 16 is process flow information for explaining a package check unit.
【図１７】工程順序管理テーブル。FIG. 17 is a process order management table.
【図１８】工程順序チェック部を説明する為のプロセス
フロー情報。FIG. 18 is process flow information for explaining a process order check unit.
【図１９】ルーチン外管理テーブル。FIG. 19 is a non-routine management table.
【図２０】ルーチン外チェック部を説明するためのプロ
セスフロー情報。FIG. 20 is process flow information for explaining a non-routine check unit.
【図２１】テストピース管理テーブル。FIG. 21 is a test piece management table.
【図２２】テストピースチェック部を説明するためのプ
ロセスフロー情報。FIG. 22 is process flow information for explaining a test piece check unit.
【図２３】連続工程管理テーブル。FIG. 23 is a continuous process management table.
【図２４】連続工程チェック部を説明するためのプロセ
スフロー情報。FIG. 24 is process flow information for explaining a continuous process check unit.
【図２５】エラーコード管理テーブル。FIG. 25 is an error code management table.
【図２６】エラーメッセージ作成部を説明する為のプロ
セスフロー情報。FIG. 26 is process flow information for explaining an error message creation unit.
【図２７】チェック管理テーブル。FIG. 27 is a check management table.
【図２８】人手で作成したプロセスフロー情報。FIG. 28 is process flow information created manually.
【図２９】図１で示した分割情報生成システムのハード
ウェア構成。FIG. 29 is a hardware configuration of the division information generation system shown in FIG. 1;
【図３０】ロット分割工程を含んだプロセスフロー情
報。FIG. 30 is process flow information including a lot division step.
【図３１】図３０のロットの流れを示す概略図。FIG. 31 is a schematic view showing the flow of the lot in FIG. 30.
【図３２】製品番号ごとにどの分割工程を用いるかを管
理する概念図。FIG. 32 is a conceptual diagram for managing which division process is used for each product number.
【図３３】図３２を同一分割情報でパターン分けを行っ
た結果を管理する概念図。FIG. 33 is a conceptual diagram for managing a result of pattern division of FIG. 32 using the same division information.
【図３４】プロセスフローをパターン分けした概略図。FIG. 34 is a schematic diagram in which a process flow is divided into patterns.
【図３５】製品番号１の分割工程を含まないプロセスフ
ローの概略図。FIG. 35 is a schematic diagram of a process flow that does not include the dividing step of product number 1.
【図３６】図１で示したレイア情報生成システムの詳細
な機能ブロック図。FIG. 36 is a detailed functional block diagram of the layer information generation system shown in FIG. 1;
【図３７】レイア情報生成システムによるマスク情報か
らレイア情報への生成イメージ図。FIG. 37 is an image diagram of generation from mask information to layer information by the layer information generation system.
【図３８】レイア情報生成システムによるマスク情報か
ら２次元レイア情報への生成イメージ図。FIG. 38 is an image diagram of generation from mask information to two-dimensional layer information by the layer information generation system.
【図３９】従来用いられていたプロセスフローの一例。FIG. 39 is an example of a process flow conventionally used.
１ プロセスフロー取込み部 ２ 分割情報生成システム ３ 分割情報取込み部 ５ 分割情報管理テーブル ６ レイア情報生成システム ７ マスク情報取込み部 ９ マスク情報管理テーブル １０ チェックシステム １１ 膜構造チェック部 １３ 膜構造管理テーブル １５ 表面状態チェック部 １７ 表面状態管理テーブル １９ 裏面状態チェック部 ２１ 裏面状態管理テーブル ２３ 下地状態チェック部 ２５ 下地状態管理テーブル ２７ 拡散状態チェック部 ２９ 拡散状態管理テーブル ３１ パッケージチェック部 ３３ パッケージ管理テーブル ３５ 工程順序チェック部 ３７ 工程順序管理テーブル ３９ ルーチン外チェック部 ４１ ルーチン外管理テーブル ４３ テストピースチェック部 ４５ テストピース管理テーブル ４７ 連続工程チェック部 ４９ 連続工程管理テーブル ５１ エラーメッセージ作成部 ５５ 結果出力部 ５７ チェック判断部 ５９ チェック管理テーブル ６３ 分割工程カウント部 ６５ ロット分割数カウント部 ６７ 製品毎分割工程場合分け部 ６９ グルーピング部 ７１ フロー生成部 １０１ レイア情報生成部 １０３ 機能選択部 １０５ レイア情報受渡し部 １０７ マスク情報生成部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Process flow acquisition part 2 Division information generation system 3 Division information acquisition part 5 Division information management table 6 Layer information generation system 7 Mask information acquisition part 9 Mask information management table 10 Check system 11 Film structure check part 13 Film structure management table 15 Surface State check unit 17 Front surface state management table 19 Back side state check unit 21 Back side state management table 23 Base state check unit 25 Base state management table 27 Diffusion state check unit 29 Diffusion state management table 31 Package check unit 33 Package management table 35 Process order check Unit 37 Process order management table 39 Non-routine check unit 41 Non-routine management table 43 Test piece check unit 45 Test piece management table 47 Continuous process check unit 49 Continuous Process management table 51 Error message creation unit 55 Result output unit 57 Check determination unit 59 Check management table 63 Division process counting unit 65 Lot division number counting unit 67 Product division process case division unit 69 Grouping unit 71 Flow generation unit 101 Layer information generation Unit 103 function selection unit 105 layer information transfer unit 107 mask information generation unit
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05043293AJP3202388B2 (en) | 1992-10-08 | 1993-03-11 | Production rule check system |
| US08/031,881US5495417A (en) | 1990-08-14 | 1993-03-16 | System for automatically producing different semiconductor products in different quantities through a plurality of processes along a production line |
| US08/562,173US5694325A (en) | 1990-08-14 | 1995-11-22 | Semiconductor production system |
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-269987 | 1992-10-08 | ||
| JP26998792 | 1992-10-08 | ||
| JP05043293AJP3202388B2 (en) | 1992-10-08 | 1993-03-11 | Production rule check system |
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06176994A JPH06176994A (en) | 1994-06-24 |
| JP3202388B2true JP3202388B2 (en) | 2001-08-27 |
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05043293AExpired - Fee RelatedJP3202388B2 (en) | 1990-08-14 | 1993-03-11 | Production rule check system |
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3202388B2 (en) |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100243806B1 (en)* | 1996-06-07 | 2000-02-01 | 가네꼬 히사시 | Process flow working system |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) | Free format text:PAYMENT UNTIL: 20090622 Year of fee payment:8 | |
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) | Free format text:PAYMENT UNTIL: 20090622 Year of fee payment:8 | |
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) | Free format text:PAYMENT UNTIL: 20100622 Year of fee payment:9 | |
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