【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、エレクトロルミネッセンス（BL）表示体の
表面材料や展示用の窓材料等のように高い光線透過率が
要求される用途に適した反射防止フィルムに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention is suitable for applications requiring high light transmittance, such as a surface material of an electroluminescence (BL) display or a window material for display. It relates to an antireflection film.
近年、ガラスの表面にフッ化マグネシウムをスパッタ
リングして反射防止膜を形成した反射防止ガラスが開発
された。この反射防止ガラスは、反射損失が約1.4％と
少なく高い光線透過率を有するため、展示用の窓ガラス
や眼鏡のレンズ等の用途に適したものである。In recent years, an antireflection glass in which an antireflection film is formed by sputtering magnesium fluoride on the surface of glass has been developed. This antireflection glass has a high light transmittance with a low reflection loss of about 1.4%, and is suitable for applications such as window glasses for display and lenses of eyeglasses.
しかしながら、かかる反射防止ガラスは、ガラス自体
が可撓性を持たずロール巻き不能なものであるため、効
率よく連続生産できないという問題があった。しかも、
ある程度の厚みがないと簡単に破損するため、薄型のEL
表示体の表面材料等の用途には不適当という問題があっ
た。However, such an antireflection glass has a problem that it cannot be continuously produced efficiently because the glass itself has no flexibility and cannot be rolled. Moreover,
If it is not thick enough, it will be easily broken, so a thin EL
There is a problem that it is unsuitable for applications such as surface materials of display bodies.
このような問題は、ガラスに代えて可撓性のある薄い
透明プラスチックフィルムを基材として使用すれば、一
応解決できる。けれども、透明なプラスチックフィルム
の表面にフッ化マグネシウムをスパッタリングして反射
防止膜を形成する場合は、次のような問題があった。Such a problem can be solved by using a flexible thin transparent plastic film as a substrate instead of glass. However, when magnesium fluoride is sputtered on the surface of a transparent plastic film to form an antireflection film, there are the following problems.
即ち、基材がプラスチックフィルムであると、スパッ
タリング時の熱で該フィルムが溶融しないように冷却し
ながらフッ化マグネシウムをスパッタリングする必要が
あるため、該フィルムに対するフッ化マグネシウム粒子
の密着性が低下する。そのため、フッ化マグネシウムの
反射防止膜を形成しても、摩擦力やその他の外力によっ
て該反射防止膜が比較的簡単に剥がれてしまい、短期間
のうちに反射防止効果がなくなるという問題があった。That is, when the base material is a plastic film, it is necessary to sputter the magnesium fluoride while cooling so that the film is not melted by heat at the time of sputtering, so that the adhesion of the magnesium fluoride particles to the film is reduced. . Therefore, even if an anti-reflection film of magnesium fluoride is formed, the anti-reflection film is relatively easily peeled off due to frictional force or other external force, and the anti-reflection effect is lost within a short period of time. .
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、長期間にわたって優れた反射防止効果
を維持できる反射防止フィルムと、その効率の良い連続
製造法を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an antireflection film capable of maintaining an excellent antireflection effect for a long period of time, and an efficient continuous production method thereof.
上記目的を達成するため、本発明の反射防止フィルム
は、可撓性を有する透明なプラスチックフィルムの少な
くとも片面に、該プラスチックフィルムよりも光屈析率
が小さいフッ素系無機化合物が無機バインダーで固結さ
れた焼付け被膜を形成したことを特徴とするものであ
り、また、本発明の製造方法は、可撓性を有する透明な
プラスチックフィルムの少なくとも片面に、該プラスチ
ックフィルムよりも光屈析率が小さいフッ素系無機化合
物と無機バインダーを含んだコーティング液をコーティ
ングして焼付けることを特徴とするものである。この焼
付けには、焼付けに相当する加熱、硬化も勿論含まれ
る。In order to achieve the above object, the antireflection film of the present invention has a structure in which a fluorine-based inorganic compound having a smaller photorefractive index than the plastic film is fixed on at least one surface of a transparent plastic film having flexibility with an inorganic binder. Wherein the baked film is formed, and the production method of the present invention has a photorefractive rate smaller than that of the plastic film on at least one surface of a flexible transparent plastic film. It is characterized by coating and baking a coating liquid containing a fluorine-based inorganic compound and an inorganic binder. This baking includes, of course, heating and curing corresponding to baking.
本発明の反射防止フィルムにおいては、プラスチック
フィルムよりも光屈折率が小さいフッ素系無機化合物が
無機バインダーで固結された焼付け被膜が反射防止膜と
して作用する。いま、プラスチックフィルムの片面に焼
付け被膜を形成した反射防止フィルムを例にとってその
フッ素系無機化合物の焼付け被膜の光屈折率をn1、膜厚
をｄ、プラスチックフィルムの光屈折率をn2（n2＞n1）
とし、空気中から波長λの光が垂直に入射すると仮定す
ると、その垂直入射光に対する反射率は、n1 dがλ/4の
奇数倍で最小値となり、その反射率の最小値Rminは、 Rmin＝（n12−n2）2/（n12＋n2）２ となる。In the antireflection film of the present invention, a baked film in which a fluorine-based inorganic compound having a smaller light refractive index than the plastic film is fixed with an inorganic binder acts as the antireflection film. Now, taking as an example an antireflection film in which a baked film is formed on one side of a plastic film, the fluorinated inorganic compound baked film has a light refractive index of n1 , a film thickness of d, and a plastic film of n2 (n2> n1)
Assuming that light having a wavelength λ is perpendicularly incident from the air, the reflectance for the vertically incident light has the minimum value when n1 d is an odd multiple of λ / 4, and the minimum value Rmin of the reflectance is , Rmin = (n12 −n2 )2 / (n12 + n2 )2 .
一方、プラスチックフィルム単独の反射率R0は、 R0＝（１−n2）2/（１＋n2）２ であるから、この反射防止フィルムによれば、最大限、
R0−Rminの反射防止効果が得られることになる。On the other hand, the reflectance R0 of the plastic film alone is R0 = (1−n2 )2 / (1 + n2 )2 .
An anti-reflection effect of R0 −Rmin is obtained.
しかも、プラスチックフィルム表面の焼付け被膜は、
フッ素系無機化合物を単にコーティングしたものではな
く、更に焼付けることによってフッ素系無機化合物を無
機バインダーで固結して形成したものであるから、プラ
スチックフィルムに対する密着性が極めて高く、摩擦等
によって簡単に剥げ落ちる恐れは皆無に等しい。従っ
て、本発明の反射防止フィルムは、長期間にわたって上
記の反射防止効果を維持することができる。Moreover, the baked film on the plastic film surface is
It is not simply coated with a fluorine-based inorganic compound, but is formed by solidifying the fluorine-based inorganic compound with an inorganic binder by further baking. There is no danger of flaking. Therefore, the antireflection film of the present invention can maintain the above antireflection effect for a long period of time.
また、本発明の製造方法は、フッ素系無機化合物と無
機バインダーを含んだコーティング液をプラスチックフ
ィルムにコーティングして、それを焼付けるだけの簡単
なものであるから、これらのコーティング工程と焼付け
工程を組込んだ単一の製造ラインにプラスチックフィル
ムを連続供給してコーティングと焼付けを行うことによ
り、本発明の反射防止フィルムを効率よく連続製造する
ことができる。Further, since the production method of the present invention is a simple method of coating a plastic film with a coating liquid containing a fluorine-based inorganic compound and an inorganic binder and baking it, these coating and baking steps are performed. By continuously supplying and baking a plastic film to a single integrated production line, the antireflection film of the present invention can be efficiently and continuously produced.
以下、図面を参照しながら本発明の実施例を詳述す
る。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第１図は本発明の反射防止フィルムの一実施例を示す
断面図であって、図示の如く、この反射防止フィルムは
プラスチックフィルム１の片面に焼付け被膜２を形成し
た二層構造をしている。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the antireflection film of the present invention. As shown, the antireflection film has a two-layer structure in which a baking film 2 is formed on one surface of a plastic film 1. .
ベースのプラスチックフィルム１としては、ポリエチ
レンテレフタレート樹脂フィルム（以下、PETフィルム
と記す）、ポリカーボネート樹脂フィルム、アクリル樹
脂フィルムその他の可撓性を有する透明な熱可塑性樹脂
フィルムを使用できるが、特にPETフィルムが好適であ
る。PETフィルムは光屈折率が1.65（550nm）と他の樹脂
より大きいため、後述するように優れた反射防止効果を
発揮でき、しかも、耐熱性があるためフッ素系無機化合
物を焼付け易いからである。プラスチックフィルム１の
厚み25〜500μｍ程度が適当である。これより厚くなる
とロール巻きが困難になり、逆に薄くなると強度低下に
より破損し易くなるからである。より好ましい厚みは50
〜350μｍ程度であり、最も好ましい厚みは75〜150μｍ
程度である。As the base plastic film 1, a polyethylene terephthalate resin film (hereinafter, referred to as a PET film), a polycarbonate resin film, an acrylic resin film, or any other transparent thermoplastic resin film having flexibility can be used. It is suitable. This is because the PET film has a light refractive index of 1.65 (550 nm), which is larger than other resins, so that it can exhibit an excellent antireflection effect as described later, and since it has heat resistance, it is easy to bake a fluorine-based inorganic compound. The thickness of the plastic film 1 is suitably about 25 to 500 μm. If it is thicker than this, it becomes difficult to wind the roll, and if it is thinner, it tends to be broken due to a decrease in strength. More preferred thickness is 50
About 350 μm, the most preferable thickness is 75 to 150 μm
It is about.
焼付け被膜２は、後述するように無機バインダーを含
むフッ素系無機化合物のコーティング液をコーティング
し、これを焼付けることによって形成された薄膜であ
り、フッ素系無機化合物の微粒子が無機バイダーで互い
に固結されてプラスチックフィルム１の表面に密着した
ミクロ的構造を有する。そのため、この焼付け被膜２は
プラスチックフィルム１に対する密着強度が大きく、摩
擦等によって剥げ落ちる心配は殆どない。特に、フッ素
系無機化合物と無機バインダーが等量又は等量に近い割
合であると、フッ素系無機化合物の粒子が無機バイダー
で強固に結合されるため、密着強度が極めて大きい焼付
け被膜となる。The baked film 2 is a thin film formed by coating a coating solution of a fluorine-based inorganic compound containing an inorganic binder as described later and baking the coating solution. Fine particles of the fluorine-based inorganic compound are fixed to each other by an inorganic binder. It has a microscopic structure that is in close contact with the surface of the plastic film 1. Therefore, the baked film 2 has a high adhesion strength to the plastic film 1 and is hardly peeled off by friction or the like. In particular, when the fluorine-based inorganic compound and the inorganic binder are in the same amount or in a ratio close to the same amount, the particles of the fluorine-based inorganic compound are firmly bonded by the inorganic binder, so that a baked film having extremely high adhesion strength is obtained.
焼付け被膜２を構成するフッ素系無機化合物として
は、プラスチックフィルムの光屈折率より小さい1.4以
下（550nm）の光屈折率を有する化合物、例えば、光屈
折率が1.38（550nm）のフッ化マグネシウム、1.36〜1.3
7（546nm）のフッ化リチウム、1.35（550nm）のクリオ
ライト（Na3AlF6）、1.34（550nm）のフッ化ナトリウ
ム、1.23〜1.26（546nm）のフッ化カルシウム等が使用
される。理論的には、フッ素系無機化合物の光屈折率が
小さいものほど反射防止効果は大きくなるが、形成され
る約付け被膜の強度等を考慮すると、上記化合物のうち
ではフッ化マグネシウムが最も望ましい。従って、焼付
け被膜２とプラスチックフィルム１の材質の組合わせと
しては、焼付け被膜２がフッ化マグネシウムより成り、
プラスチックフィルム１が前記のPETフィルムより成る
組合わせが最適である。As the fluorine-based inorganic compound constituting the baked film 2, a compound having a light refractive index of 1.4 or less (550 nm) smaller than the light refractive index of the plastic film, for example, magnesium fluoride having a light refractive index of 1.38 (550 nm), 1.36 ~ 1.3
7 (546 nm) lithium fluoride, 1.35 (550 nm) cryolite (Na3 AlF6 ), 1.34 (550 nm) sodium fluoride, 1.23 to 1.26 (546 nm) calcium fluoride, and the like are used. Theoretically, the smaller the optical refractive index of the fluorine-based inorganic compound, the greater the antireflection effect. However, considering the strength of the formed coating film, magnesium fluoride is most preferable among the above compounds. Therefore, as a combination of the materials of the baking film 2 and the plastic film 1, the baking film 2 is made of magnesium fluoride,
The combination in which the plastic film 1 is made of the PET film described above is optimal.
この焼付け被膜２の最適な厚みｄは、可視光領域の中
間の波長付近、即ち550nm付近で反射率が最小となるよ
うに設定することが好ましい。従って、焼付け被膜２の
光屈折率をn1とすれば、好ましい厚みｄは、 ｄ＝550/4÷n1〔nm〕 ＝0.1375/n1〔μｍ〕 となり、例えば光屈折率が1.38（550nm）のフッ化マグ
ネシウムで焼付け被膜２を形成する場合には、最適膜厚
が約0.1μｍとなる。It is preferable that the optimum thickness d of the baked film 2 is set so that the reflectance becomes minimum around the wavelength in the middle of the visible light region, that is, around 550 nm. Therefore, if the refractive index of the baked coating film 2 and n1, preferred thickness d is, d = 550/4 ÷ n 1 [nm] = 0.1375 / n1 [μm], and the example refractive index 1.38 (550 nm In the case of forming the baked film 2 with magnesium fluoride in (2), the optimum film thickness is about 0.1 μm.
以上のような構成の反射防止フィルムは、作用のとこ
ろで詳述したように、プラスチックフィルム１より光屈
折率の小さい焼付け被膜２が反射防止膜として作用する
ため、垂直入射光に対する反射率が最小値Rminが、 Rmin＝（n12−n2）2/（n12＋n2）２ 〔但し、n1は焼付け被膜２の光屈折率、n2はプラスチッ
クフィルム１の光屈折率である〕 となる。従って、例えば光屈折率が1.65（550nm）のPET
フィルムの片面に、光屈折率が1.38（550nm）のフッ化
マグネシウムの焼付け被膜（厚さ0.1μｍ）を形成した
反射防止フィルムの場合は、反射率の最小値が550nm付
近の波長域で約0.5％となる。これに対し、PETフィルム
単独の反射率は約６％であるから、差引して最大限5.5
％の反射防止効果が発揮されることになり、その分だけ
光線透過率が向上する。従って、この反射防止フィルム
を例えばEL表示体の表面フィルムとして使用すれば、輝
度の低下を生じることが殆どなくなり、また展示用の窓
材料等として使用すれば、展示物を鮮明に透視すること
ができ、従来のように自分の姿が薄く写ったり、電灯の
光等が反射して見づらくなったりすることはなくなる。In the antireflection film having the above-described structure, as described in detail in the section of the operation, the baking film 2 having a smaller light refractive index than the plastic film 1 acts as an antireflection film, and therefore, the reflectance for vertically incident light has a minimum value. Rminis, R min = (n 1 2 -n 2) 2 / (n 1 2 + n 2) 2 [where, n1 is the optical refractive index of the baked coating 2, n2 is a refractive index of the plastic film 1 There is]. Therefore, for example, PET with a light refractive index of 1.65 (550 nm)
In the case of an anti-reflection film in which a baked film (thickness: 0.1 μm) of magnesium fluoride having a light refractive index of 1.38 (550 nm) is formed on one side of the film, the minimum value of the reflectance is about 0.5 in a wavelength region near 550 nm. %. On the other hand, the reflectivity of the PET film alone is about 6%.
% Of the antireflection effect is exhibited, and the light transmittance is improved accordingly. Therefore, if this antireflection film is used, for example, as a surface film of an EL display, it hardly causes a decrease in luminance, and if it is used as a window material for display, etc., it is possible to see through the display clearly. It is possible to prevent a person from being faintly reflected in the image or from being difficult to see due to the reflection of the light of an electric lamp or the like as in the related art.
第２図は本発明の反射防止フィルムのもう一つの実施
例を示す断面であって、図示の如く、この反射防止フィ
ルムは、プラスチックフィルム１の両面に焼付け被膜2,
2を形成した三層構造をしている。このように焼付け被
膜2,2を両面に形成すると反射防止効果がより一層顕著
になる。FIG. 2 is a cross-sectional view showing another embodiment of the antireflection film of the present invention.
2 has a three-layer structure. When the baked films 2, 2 are formed on both surfaces in this way, the antireflection effect becomes more remarkable.
尚、プラスチックフィルム１や焼付け被膜2,2は、前
記実施例のものと同様であるので説明を省略する。Incidentally, the plastic film 1 and the baked coatings 2, 2 are the same as those of the above-mentioned embodiment, and the description thereof will be omitted.
第４図は厚さ125μｍのPETフィルムの片面に膜厚0.1
μｍのフッ化マグネシウムの焼付け被膜を形成した反射
防止フィルム（以下、本発明品Ａと記す）についての光
線透過率を示すグラフであり、第５図は厚さ125μｍのP
ETフィルムの両面に膜厚0.1μｍのフッ化マグネシウム
の焼付け被膜を形成した反射防止フィルム（以下、本発
明品Ｂと記す）についての光線透過率を示すグラフであ
り、第６図は厚さ125μｍのPETフィルム単独についての
光線透過率を示すグラフである。尚、これらの光線透過
率はいずれも分光光度計（島津自記分光光度計UV−3100
型）を用いて測定したものである。FIG. 4 shows a PET film having a thickness of 0.1 μm on one side of a 125 μm thick PET film.
FIG. 5 is a graph showing the light transmittance of an antireflection film (hereinafter, referred to as product A of the present invention) on which a baked film of magnesium fluoride having a thickness of μm is formed.
FIG. 6 is a graph showing the light transmittance of an antireflection film (hereinafter referred to as a product B of the present invention) having a baked film of 0.1 μm thick magnesium fluoride formed on both sides of an ET film, and FIG. 6 shows a thickness of 125 μm. 3 is a graph showing the light transmittance of the PET film alone. In addition, all of these light transmittances were measured by a spectrophotometer (Shimadzu self-recording spectrophotometer UV-3100).
(Type).
第４図と第６図を比較すれば明らかなように、PETフ
ィルム単独の光線透過率（第６図）は可視光領域（約40
0〜700nm）において約86.5〜89％の範囲であるのに対
し、片面に焼付け被膜を形成した本発明品Ａの光線透過
率（第４図）は約88.5〜93％の範囲であり、反射防止効
果によって光線透過率が最大で約４％向上していること
が判る。また、焼付け被膜を両面に形成した本発明品Ｂ
の光線透過率（第５図）は可視光領域において約88〜97
％であり、本発明品Ａよりも光線透過率が更に向上して
いることが判る。As is clear from the comparison between FIG. 4 and FIG. 6, the light transmittance of the PET film alone (FIG. 6) is in the visible light region (about 40%).
(0-700 nm) in the range of about 86.5-89%, whereas the light transmittance (FIG. 4) of the product A of the present invention having a baked film on one side is in the range of about 88.5-93%, It can be seen that the light transmission is improved by about 4% at the maximum due to the prevention effect. In addition, the product B of the present invention having a baked film formed on both sides
Has a light transmittance of about 88 to 97 in the visible light region (FIG. 5).
%, Which indicates that the light transmittance is further improved as compared with the product A of the present invention.
下記第１表は、４種類の本発明品A,C,D,Eについて、
プラスチックフィルムの種類と厚みと光屈折率、焼付け
被膜の種類と膜厚、全光線透過率、テープ剥離試験の成
績、並びにプラスチックフィルム単独の全光線透過率を
示したものである。なお、焼付け被膜の膜厚は理論値で
あり、全光線透過率はスガ試験機（株）製の直読ヘーズ
コンピューターHGH−2DPで測定した値である。またテー
プ剥離試験は、本発明品A,C,D,Eの焼付け被膜に切込み
を入れて100分割し、その上に貼りつけた粘着テープを
剥ぎ取ったときに、粘着テープと一緒に剥離しないでベ
ースのプラスチックフィルム表面に残存する焼付け被膜
の分割個数を調べたものである。Table 1 below shows the four types of products A, C, D and E of the present invention.
It shows the type, thickness and light refractive index of the plastic film, the type and thickness of the baked film, the total light transmittance, the results of the tape peeling test, and the total light transmittance of the plastic film alone. The thickness of the baked film is a theoretical value, and the total light transmittance is a value measured by a direct reading haze computer HGH-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. In addition, the tape peeling test, the present invention products A, C, D, E cut into the baked film and divided into 100, when peeling off the adhesive tape stuck on it, does not peel with the adhesive tape The number of divided pieces of the baked film remaining on the surface of the base plastic film was examined.
この第１表を見れば、ベースのプラスチックフィルム
としてPETフィルムを用いた本発明品Ａは、ポリカーボ
ネートフィルムやポリメチルメタクリレートフィルムを
用いた本発明品C,Dよりも優れた反射防止効果を発揮す
ることが判る。また、PETフィルムを使用していても、
フッ化マグネシウムの焼付け被膜の厚さが0.3μｍと大
きい本発明品Ｄは、反射防止効果があまり大きくないこ
とが判る。また、本発明品A,C,D,Eはいずれもテープ剥
離試験の成績が100/100であり、焼付け被膜の密着強度
が大きいものであることが判る。 According to Table 1, the product A of the present invention using a PET film as the base plastic film exerts an antireflection effect superior to the products C and D of the present invention using a polycarbonate film or a polymethyl methacrylate film. You can see that. Also, even if you use PET film,
It can be seen that the product D of the present invention, in which the thickness of the baked film of magnesium fluoride is as large as 0.3 μm, does not have much antireflection effect. Further, all of the products A, C, D, and E of the present invention had a tape peeling test result of 100/100, and it can be seen that the adhesion strength of the baked film was large.
次に、第３図を参照しながら本発明の製造方法を説明
する。Next, the manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG.
この第３図は本発明製造方法の一実施例のフローシー
トであって、10はフィルム繰出し機、11はディップコー
ター、12は乾燥炉、13は加熱炉、14はトリミング装置、
15は巻取り機を示す。FIG. 3 is a flow sheet of one embodiment of the production method of the present invention, in which 10 is a film feeding machine, 11 is a dip coater, 12 is a drying furnace, 13 is a heating furnace, 14 is a trimming device,
Reference numeral 15 denotes a winder.
即ち、この実施例の製造方法によれば、まずフィルム
繰出し機10のロールからベースのプラスチックフィルム
１が連続して繰出され、ガイドローラでディップコータ
ー11に導かれる。そしてプラスチックフィルタ１の両面
にフッ素系無機化合物のコーティング液がディップコー
ティングされる。このコーティング液は、有機溶媒に前
述のフッ素系無機化合物と無機バインダーを配合したも
ので、例えばエタノール等にフッ化マグネシウムとシリ
カ系の無機粉末をそれぞれ３重量％づつ配合して調製し
たものが好適に使用される。このようにフッ素系無機化
合物と無機バインダーを等量若しくは等量に近い割合で
配合したコーティング液を使用すると、既述したように
密着性に優れた機械的強度の大きい焼付き被膜を形成で
きる利点がある。コーティングの手段としては、この他
にバーコーターやロールコーターなど公知の種々の手段
を採用できることは勿論である。また片面に焼付け被膜
を形成する場合は、コーティング液をプラスチックフィ
ルムの片面のみにコーティングすればよいことは言うま
でもない。尚、コーティングの前に、プラスチックフィ
ルム１にプライマー処理やコロナ放電処理を施して表面
活性を高めたり、静電処理を施してゴミを除去しておく
と、コーティング液の密着性が向上するので好ましい。That is, according to the manufacturing method of this embodiment, first, the base plastic film 1 is continuously fed from the roll of the film feeding machine 10 and guided to the dip coater 11 by the guide roller. Then, a coating solution of a fluorine-based inorganic compound is dip-coated on both surfaces of the plastic filter 1. This coating liquid is prepared by blending the above-mentioned fluorine-based inorganic compound and inorganic binder in an organic solvent, and is preferably prepared by blending magnesium fluoride and silica-based inorganic powder in ethanol or the like at 3% by weight each. Used for As described above, when the coating liquid in which the fluorine-based inorganic compound and the inorganic binder are blended in the same amount or in a ratio close to the same amount is used, an advantage that a seizure coating film having excellent mechanical strength and excellent adhesion can be formed as described above. There is. It goes without saying that various known means such as a bar coater and a roll coater can be adopted as the means for coating. When a baking film is formed on one side, it goes without saying that the coating liquid may be coated on only one side of the plastic film. It is preferable to apply a primer treatment or a corona discharge treatment to the plastic film 1 to increase the surface activity before coating, or to remove dust by applying an electrostatic treatment because the adhesion of the coating liquid is improved. .
このようにディップコーティングされたプラスチック
フィルム１は、一対の絞りローラ16,16によって両面の
コーティング層の厚みが規制されて乾燥炉12に供給さ
れ、乾燥炉12を通過する間にコーティング層中の有機溶
媒が除去される。コーティング層の厚みは、コーティン
グ液中のフッ素系無機化合物と無機バインダーの配合量
を考慮して、最終的に0.1μｍの焼付け被膜が形成され
るように規制する必要があることは言うまでもない。ま
た、乾燥炉12の温度は100℃程度に設定するのが好まし
く、その場合はプラスチックフィルム１を0.5分ほど乾
燥炉12内に通すだけで、効率よく溶媒を除去することが
できる。The plastic film 1 thus dip-coated is supplied to the drying furnace 12 while the thickness of the coating layer on both sides is regulated by the pair of squeezing rollers 16, 16. The solvent is removed. Needless to say, the thickness of the coating layer must be regulated so as to finally form a baked film having a thickness of 0.1 μm in consideration of the compounding amounts of the fluorine-based inorganic compound and the inorganic binder in the coating solution. The temperature of the drying furnace 12 is preferably set to about 100 ° C. In this case, the solvent can be efficiently removed simply by passing the plastic film 1 through the drying furnace 12 for about 0.5 minutes.
コーティング層の乾燥が終わったプラスチックフィル
ム１は次いで加熱炉13に通され、コーティング層の焼付
けが行われる。焼付け温度（加熱炉13内の温度）はプラ
スチックフィルム１の軟化温度よりもかなり高い温度に
設定する必要があり、例えばPETフィルムの場合には、
少なくとも200℃以上、好ましくは220〜240℃の範囲内
に設定される。加熱炉13を通過させる時間（焼付け時
間）は焼付け温度を考慮して決定すればよく、焼付け温
度が高くなるほど焼付け時間を短縮することができ、上
記焼付け温度220〜240℃であると焼付け時間は５〜２分
である。例えばPETフィルムを230℃の加熱炉に通す場合
には３分程度の焼付け時間が適当である。また、加熱炉
13内のプラスチックフィルム１の移動は、テンターのク
リップで該フィルム１の両側端を挟み込み、該フィルム
１の熱伸縮率を考慮して両側のクリップの間隔を加熱炉
13の出口に近づくにつれて徐々に拡大又は縮小しなが
ら、該フィルム１に弛みが生じないように、且つ該フィ
ルムに引張力が殆ど付与されないように移動させること
が望ましい。焼付け温度が低かったり、プラスチックフ
ィルムに弛み等が生じたりすると、形成される焼付け被
膜の密着性が低下するので注意を要する。The plastic film 1 after the drying of the coating layer is passed through a heating furnace 13 to bake the coating layer. The baking temperature (the temperature in the heating furnace 13) needs to be set to a temperature considerably higher than the softening temperature of the plastic film 1. For example, in the case of a PET film,
The temperature is set at least at 200 ° C. or higher, preferably within the range of 220 to 240 ° C. The time for passing through the heating furnace 13 (the baking time) may be determined in consideration of the baking temperature, and the baking time can be shortened as the baking temperature increases. When the baking temperature is 220 to 240 ° C., the baking time is reduced. 5 to 2 minutes. For example, when passing a PET film through a heating furnace at 230 ° C., a baking time of about 3 minutes is appropriate. Also heating furnace
In order to move the plastic film 1 inside the film 13, the both ends of the film 1 are sandwiched between clips of a tenter, and the distance between the clips on both sides is adjusted in consideration of the thermal expansion and contraction rate of the film 1 by a heating furnace.
It is desirable that the film 1 be moved so that the film 1 is not loosened and the film is hardly subjected to a tensile force, while gradually expanding or contracting as approaching the exit 13. When the baking temperature is low or the plastic film is loosened, attention must be paid to the fact that the adhesion of the formed baking film is reduced.
このように加熱炉13内での焼付けによってフッ素系無
機化合物の焼付け被膜が形成された本発明の反射防止フ
ィルムＦは、トリミング装置14でトリミング加工されて
から、巻取り機15のロールに巻取られる。The antireflection film F of the present invention, on which the baked film of the fluorine-based inorganic compound is formed by baking in the heating furnace 13 as described above, is trimmed by the trimming device 14, and then wound on a roll of a winder 15. Can be
以上の説明から明らかなように、本発明の反射防止フ
ィルムは、フッ素系無機化合物が無機バインダーで固結
された焼付け被膜によって光線の反射率を満足なレベル
まで下げることができるため、その分だけ光線透過率が
向上して透視性が良くなり、しかも焼付け被膜が優れた
密着性と大きい機械的強度を有し摩擦等によって容易に
剥げ落ちることがないため、長期間にわたって満足な反
射防止効果を維持することができ、又プラスチックフィ
ルムは可撓性を有するので、可撓性のないガラスやプラ
スチック基材のように割れることがなく、その製造も本
発明の製造方法によって連続して効率よく行うことがで
きるといった顕著な効果を奏する。As apparent from the above description, the antireflection film of the present invention can reduce the reflectance of light rays to a satisfactory level by a baked film in which a fluorine-based inorganic compound is solidified with an inorganic binder. The light transmittance is improved to improve the transparency, and the baked film has excellent adhesion and large mechanical strength, and does not easily peel off due to friction, etc. It can be maintained, and the plastic film has flexibility, so that it does not break like a non-flexible glass or plastic substrate, and its production is continuously and efficiently performed by the production method of the present invention. It has a remarkable effect that it can be done.
第１図は本発明の反射防止フィルムの一実施例を示す断
面図、第２図は本発明の反射防止フィルムの他の実施例
を示す断面図、第３図は本発明の製造方法の一実施例を
示すフローシート、第４図はPETフィルムの片面にフッ
化マグネシウムの焼付け被膜を形成した本発明の反射防
止フィルムの光線透過率を示すグラフ、第５図はPETフ
ィルムの両面にフッ化マグネシウムの焼付け被膜を形成
した本発明の反射防止フィルムの光線透過率を示すグラ
フ、第６図はPETフィルム単独の光線透過率を示すグラ
フである。 １……プラスチックフィルム、２……フッ素系無機化合
物の焼付け被膜、11……ディップコーター、12……乾燥
炉、13……加熱炉、Ｆ……反射防止フィルム。FIG. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of the antireflection film of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing another embodiment of the antireflection film of the present invention, and FIG. FIG. 4 is a graph showing the light transmittance of an antireflection film of the present invention in which a baked film of magnesium fluoride is formed on one side of a PET film, and FIG. FIG. 6 is a graph showing the light transmittance of the antireflection film of the present invention having a baked magnesium film, and FIG. 6 is a graph showing the light transmittance of the PET film alone. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Plastic film, 2 ... Bake coating of a fluorine-based inorganic compound, 11 ... Dip coater, 12 ... Drying furnace, 13 ... Heating furnace, F ... Anti-reflection film.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亀井 博 大阪府大阪市中央区安土町２丁目３番13 号 タキロン株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−167501（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−284975（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−76001（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−213643（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 G02B 1/10 C08J 7/04 - 7/06 B29D 11/00 C03C 15/00 - 23/00──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (72) Inventor Hiroshi Kamei 2-3-13-1 Azuchicho, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka Inside Takiron Co., Ltd. (56) References JP-A-2-167501 (JP, A) Hei 2-284975 (JP, A) JP-A-64-76001 (JP, A) JP-A-59-213643 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl.6 , DB name) B32B 1 / 00-35/00 G02B 1/10 C08J 7/04-7/06 B29D 11/00 C03C 15/00-23/00
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