【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はトラップ排水路内の圧力を検出して洗浄水の
供給量を調節する給水装置およびこの給水装置を備えた
便器に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a water supply device for detecting a pressure in a trap drainage channel and adjusting a supply amount of washing water, and a toilet provided with the water supply device.
(従来の技術) 従来、水洗式便器用の給水装置としてフラッシュバル
ブやシスタンが用いられており、一回の洗浄操作に対し
て所定量の洗浄水を供給している。(Prior Art) Conventionally, a flush valve or a cistern has been used as a water supply device for a flush toilet, and a predetermined amount of flush water is supplied for one flush operation.
 洗浄に必要な水量は、便器の種類(例えばサイホン
式,サイホンジェット式等の構造、ボウル部の形状・容
積、床下排水,壁側排水等)毎に異なるが、実際には6
リットル,8リットル,12リットル等の複数のランクの中
からその便器に適する洗浄水量のフラッシュバルブやシ
スタンを選択して使用している。The amount of water required for washing varies depending on the type of toilet (eg, siphon type, siphon jet type, bowl shape / volume, underfloor drainage, wall-side drainage, etc.).
 The flush valve and cistern with the flush water amount suitable for the toilet are selected and used from a plurality of ranks such as liter, 8 liter, and 12 liter.
(発明が解決しようとする課題) このため従来の給水装置においては、過剰な洗浄水が
供給されている場合もあり、節水の観点からみると好ま
しくない。一方、汚物の量が多い場合や、大量のトイレ
ットペーパー等がある場合は、一回の洗浄操作で排出さ
れないこともある。(Problems to be Solved by the Invention) For this reason, in the conventional water supply device, excessive washing water may be supplied in some cases, which is not preferable from the viewpoint of water saving. On the other hand, when the amount of waste is large, or when there is a large amount of toilet paper, the waste may not be discharged in one washing operation.
 汚物等の搬送(排出)能力はトラップ排水路のサイホ
ン作用の強弱により決定される。トラップ排水路内の負
圧を検出することによりサイホン作用が発生したか否か
およびサイホン作用の強弱を検出することができる。The ability to transport (discharge) wastes is determined by the strength of the siphon action of the trap drain. By detecting the negative pressure in the trap drainage channel, it is possible to detect whether or not the siphon action has occurred and the strength of the siphon action.
 本発明は、このような観点から、前記課題を解決し、
便器を確実に洗浄するに必要な量を供給することのでき
る洗浄給水装置および水洗式便器を提供することを目的
とする。The present invention solves the above problems from such a viewpoint,
 An object of the present invention is to provide a flush water supply device and a flush toilet capable of supplying an amount necessary for reliably flushing a toilet.
(課題を解決するための手段) 前記課題を解決するため本発明に係る洗浄給水装置
は、トラップ排水路の圧力(負圧)が予め設定した圧力
変化パターンに近づくよう洗浄水の流量を制御すること
を特徴とする。(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the cleaning water supply apparatus according to the present invention controls the flow rate of the cleaning water such that the pressure (negative pressure) of the trap drainage channel approaches a preset pressure change pattern. It is characterized by the following.
 本発明に係る水洗式便器は前記洗浄給水装置を便器に
備えたことを特徴とする。A flush toilet according to the present invention is characterized in that the flush water supply device is provided in a toilet.
(作用) トラップ排水路内の圧力変化が予め設定されたパター
ンに近づくよう洗浄水の流量が制御されるので、便器の
種類・設置条件,汚物量にかかわらず所定の強さのサイ
ホン作用が発生する。(Action) Since the flow rate of the wash water is controlled so that the pressure change in the trap drainage channel approaches a preset pattern, a siphon action of a predetermined strength occurs regardless of the type of toilet, installation conditions, and amount of waste. I do.
(実施例) 以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明す
る。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
 第1図は本発明に係る洗浄給水装置を備えたサイホン
式便器の構造図である。FIG. 1 is a structural view of a siphon type toilet provided with a flush water supply device according to the present invention.
 サイホン式便器1のトラップ排水路2には圧力検出手
段である半導体圧力センサ(以下圧力センサと記す)3
をトラップ排水路内の圧力を検出するよう取着し、圧力
センサ3の検出出力は圧力センサ接続線4により洗浄水
量調節装置(以下調節装置)5へ入力する。圧力検出手
段は、差動変圧器式やひずみゲージ式を用いてもよい。A semiconductor pressure sensor (hereinafter, referred to as a pressure sensor) 3 as a pressure detecting means is provided in a trap drainage channel 2 of the siphon type toilet 1.
 Is attached so as to detect the pressure in the trap drainage channel. The pressure detecting means may use a differential transformer type or a strain gauge type.
 給水管6は流量調節弁7、大気開放弁8を介して便器
1の給水口9へ接続する。流量調節弁7は調節装置5の
電気的出力により弁閉状態から弁全開状態までの開度を
調節できるものを用いる。調節装置5と流量調節弁7と
を弁駆動信号線10で接続する。The water supply pipe 6 is connected to a water supply port 9 of the toilet 1 via a flow control valve 7 and an air release valve 8. As the flow control valve 7, a valve capable of adjusting the opening degree from the valve closed state to the valve fully opened state by the electric output of the control device 5 is used. The control device 5 and the flow control valve 7 are connected by a valve drive signal line 10.
 本実施例では、調節装置5、流量調節弁7、および大
気開放弁8を便器1の後部上方に配置しこれらをカバー
11で覆っているが、便器1本体にこれらを内装させても
よいし、これらを便器1本体とは別の箇所(例えば壁
等)に設けてもよい。In the present embodiment, the control device 5, the flow control valve 7, and the atmosphere release valve 8 are arranged above the rear part of the toilet 1 to cover them.
 Although they are covered with 11, the toilet bowl 1 body may be provided with these components, or they may be provided at a location (for example, a wall or the like) different from the toilet bowl body.
 調節装置5と洗浄入力部12は起動信号線13で接続さ
れ、洗浄起動ボタン12aが操作されると、調節装置5は
流量調節弁7を所定の開度に駆動する。これにより給水
管6−流量調節弁7−大気開放弁8−給水口9の経路で
リム給水室14に給水が行なわれ、リム通水路15の吐水口
16からボウル部7へ洗浄水が供給される。吐水口16は、
ボウル部17に対して斜めに開穿されており、ボウル部17
の溜水18に旋回を与える。ボウル17の水位が上昇する
と、トラップ排水路2の堰部2aを越えて排水路2側へ溜
水18が排出される。この排出水はトラップ2cの絞り部2d
にあたり、この部分に水シールを発生する。トラップ排
水路2内の空気は排出水とともに、図示しない排水管側
へ排出され、トラップ排水路2内は大気圧に対して負圧
状態となる。これにより溜水18はトラップ排水路2内に
呼びこまれトラップ排水路2内は排出水で充満された完
全なサイホン状態となる。The control device 5 and the cleaning input unit 12 are connected by a start signal line 13, and when the cleaning start button 12a is operated, the control device 5 drives the flow control valve 7 to a predetermined opening. As a result, water is supplied to the rim water supply chamber 14 through the path of the water supply pipe 6-the flow control valve 7-the atmosphere release valve 8-the water supply port 9, and the water outlet of the rim water passage 15 is provided.
 Wash water is supplied from 16 to the bowl 7. The spout 16
 It is opened diagonally to the bowl part 17,
 Gives a turn to the pool 18. When the water level in the bowl 17 rises, the accumulated water 18 is discharged to the drainage channel 2 side beyond the weir portion 2a of the trap drainage channel 2. This discharged water is collected by the throttle 2d of the trap 2c.
 In this case, a water seal is generated in this portion. The air in the trap drain 2 is discharged together with the discharged water to a drain pipe (not shown), and the inside of the trap drain 2 is in a negative pressure state with respect to the atmospheric pressure. As a result, the accumulated water 18 is drawn into the trap drainage channel 2, and the inside of the trap drainage channel 2 is completely in a siphon state filled with the discharged water.
 ここで調節装置5は、トラップ排水路2の圧力(負
圧)が、予め設定した圧力(負圧)変化パターンに近づ
くよう流量調節弁7の開度を調節する。よって、給水管
6の圧力が高い場合は過剰な洗浄水が供給されないよう
流量調節弁7の開度を絞り、逆に給水圧が低く便器へ供
給する洗浄水量が不足している場合は流量調節弁7の開
度を大きくしてサイホン作用発生に必要な流量を供給す
る。Here, the adjusting device 5 adjusts the opening of the flow control valve 7 so that the pressure (negative pressure) of the trap drainage channel 2 approaches a preset pressure (negative pressure) change pattern. Therefore, when the pressure of the water supply pipe 6 is high, the opening degree of the flow control valve 7 is narrowed so that excessive cleaning water is not supplied. Conversely, when the water supply pressure is low and the amount of cleaning water supplied to the toilet is insufficient, the flow control is performed. By increasing the opening of the valve 7, a flow rate necessary for generating the siphon action is supplied.
 第2図は洗浄給水装置の構成を示すブロック図であ
る。FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of the cleaning water supply device.
 圧力センサ3の出力電圧を反転型の直流増幅器51で直
流増幅し、その出力51aを差動増幅器52の反転入力端子5
2aへ印加する。パターンジェネレータ53は第3図に示す
圧力変化パターンに対する出力電圧を発生する回路部
で、その出力端子53aは差動増幅器52の非反転入力端子5
2bへ接続する。パターンジェネレータ53はトリガ入力端
子53bを備え、洗浄タイマ回路54のトリガ出力54a信号を
受けて予め設定した電圧波形(第3図の圧力変化パター
ンに対応する)を発生する。また、このパターンジェネ
レータ53は、予め設定した電圧波形を発生していない時
は、電圧入力端子53cに印加された電圧を出力端子53aを
出力するよう構成されている。洗浄タイマ回路54は洗浄
起動ボタン12aからの起動信号で起動され、予め設定さ
れた洗浄時間の間所定の開度に対応する電圧を出力端子
54bに発生するとともに、所定のタイミングでトリガ出
力54a信号を発生する。The output voltage of the pressure sensor 3 is DC-amplified by an inverting DC amplifier 51, and its output 51 a is input to an inverting input terminal 5 of a differential amplifier 52.
 Apply to 2a. The pattern generator 53 is a circuit for generating an output voltage corresponding to the pressure change pattern shown in FIG. 3, and its output terminal 53a is connected to the non-inverting input terminal 5 of the differential amplifier 52.
 Connect to 2b. The pattern generator 53 has a trigger input terminal 53b and generates a preset voltage waveform (corresponding to the pressure change pattern in FIG. 3) in response to a trigger output 54a signal of the cleaning timer circuit 54. The pattern generator 53 is configured to output the voltage applied to the voltage input terminal 53c to the output terminal 53a when a preset voltage waveform is not generated. The cleaning timer circuit 54 is activated by an activation signal from the cleaning activation button 12a, and outputs a voltage corresponding to a predetermined opening during a preset cleaning time.
 A signal is generated at 54b and a trigger output 54a signal is generated at a predetermined timing.
 差動増幅器52の出力52cは、比例・積分・微分増幅回
路(PID回路と記す)55へ入力され、パターンジェネレ
ータ53の発生する電圧(目標とする負圧に対応)とトラ
ップ排水路2内に発生した負圧に対応する負圧との差
(偏差)に対して比例・積分・微分演算が施される。PI
D回路55の出力55aは加算回路56の一方の入力端子56aへ
印加され、他方の入力端子56bに印加された所定開度に
対応する電圧54bとの両者が加算された出力電圧56cがパ
ルス幅変調回路57へ入力される。パルス幅変調回路57
は、加算回路56の出力56c電圧に基づいて流量調節弁7
のソレノイドへ供給する電力を調節して流量調節弁7の
開度を制御する。The output 52c of the differential amplifier 52 is input to a proportional / integral / differential amplifier circuit (referred to as a PID circuit) 55, and is supplied to the voltage (corresponding to the target negative pressure) generated by the pattern generator 53 and the trap drain passage 2. Proportional / integral / differential operations are performed on the difference (deviation) between the generated negative pressure and the corresponding negative pressure. PI
 The output 55a of the D circuit 55 is applied to one input terminal 56a of the addition circuit 56, and the output voltage 56c obtained by adding both the voltage 54b corresponding to the predetermined opening applied to the other input terminal 56b and the pulse width becomes The signal is input to the modulation circuit 57. Pulse width modulation circuit 57
 Is based on the output 56c voltage of the addition circuit 56,
 The opening degree of the flow control valve 7 is controlled by adjusting the power supplied to the solenoid.
次に調節装置5の動作を説明する。 Next, the operation of the adjusting device 5 will be described.
 洗浄起動ボタン12aが操作されると洗浄タイマ回路54
の出力電圧54bにより流量調節弁7は所定の開度となり
便器1へ洗浄水が供給される。次に洗浄タイマ回路54は
所定のタイミングでトリガ出力54aを発生し、パターン
ジェネレータ53を起動させる。When the cleaning start button 12a is operated, the cleaning timer circuit 54 is operated.
 The flow control valve 7 is set to a predetermined opening degree by the output voltage 54b, and the flush water is supplied to the toilet 1. Next, the cleaning timer circuit 54 generates a trigger output 54a at a predetermined timing, and activates the pattern generator 53.
 パターンジェネレータ53が起動されると、差動増幅器
52の出力端子52cには目標とする負圧とトラップ排水路
2内に実際に発生している負圧の差に対応する電圧が出
力される。この出力電圧は、PID回路55で演算増幅さ
れ、加算回路56を介してパルス幅変調回路57へ印加され
て、流量調節弁7の開度が制御される。このフィードバ
ック制御によりトラップ排水路2はサイホン状態となり
汚物の搬送が行なわれる。When the pattern generator 53 is activated, the differential amplifier
 A voltage corresponding to the difference between the target negative pressure and the negative pressure actually generated in the trap drainage channel 2 is output to the output terminal 52c of 52. This output voltage is arithmetically amplified by the PID circuit 55, applied to the pulse width modulation circuit 57 via the addition circuit 56, and the opening of the flow control valve 7 is controlled. By this feedback control, the trap drainage channel 2 is in a siphon state, and the waste is conveyed.
 サイホン状態が終了した後も、洗浄タイマ回路54で定
められた時間の間、流量調節弁7は所定の開度に保たれ
ており、これによりボウル部17への封水給水が行なわれ
る。Even after the siphon state ends, the flow control valve 7 is kept at a predetermined opening degree for the time determined by the washing timer circuit 54, whereby the sealed water supply to the bowl portion 17 is performed.
 第4図は本発明の他の実施例に係るサイホンジェット
式便器の構造図である。FIG. 4 is a structural view of a siphon jet toilet according to another embodiment of the present invention.
 本実施例のサイホンジェット式便器21は、ボウル部17
の底部にジェットノズル22を備えるとともに、トラップ
排水路2の下流側に便器本体とは別体の水シール発生機
構23を接続している。水シール発生機構23は、拡径筒部
23aの内側に汚物ガイド筒23bを備えるとともに、排水口
24に絞り部23cを形成している。汚物ガイド筒23bは、第
5図の水平断面図に示すように複数の連結部23dにより
拡径筒部23a内に固定され、汚物ガイド筒23bの径はトラ
ップ排水路2の径と略同等に形成している。The siphon jet toilet 21 of the present embodiment has a bowl 17
 A jet nozzle 22 is provided at the bottom of the toilet, and a water seal generating mechanism 23 separate from the toilet body is connected downstream of the trap drainage channel 2. The water seal generating mechanism 23 is
 A waste guide cylinder 23b is provided inside the
 24 has a narrowed portion 23c. As shown in the horizontal sectional view of FIG. 5, the dirt guide cylinder 23b is fixed in the enlarged diameter cylinder part 23a by a plurality of connecting parts 23d, and the diameter of the dirt guide cylinder 23b is substantially equal to the diameter of the trap drainage channel 2. Has formed.
 したがって、トラップ排水路2を流れる洗浄水の一部
は、拡径筒部23aと汚物ガイド筒23bとの間に入り、絞り
部23cから排水口24の中央に向けて噴射するように流
れ、この部分に水シールを効率よく発生させる。一方、
トラップ排水路2内を洗浄水とともに搬送される汚物
は、汚物ガイド筒23bの内側を通り、排水口24より図示
しない排水管へ排出される。Therefore, a part of the washing water flowing through the trap drainage channel 2 enters between the enlarged-diameter tube portion 23a and the waste guide tube 23b, and flows from the throttle portion 23c toward the center of the drain port 24, so as to flow. Efficiently generate a water seal on the part. on the other hand,
 The waste conveyed together with the washing water in the trap drain passage 2 passes through the inside of the waste guide tube 23b, and is discharged from a drain port 24 to a drain pipe (not shown).
 トラップ排水路2の略頂部には、圧力センサ3を取着
する。A pressure sensor 3 is attached to a substantially top portion of the trap drainage channel 2.
 給水管6からの洗浄水は、定流量弁25、電磁開閉弁2
6、大気開放弁8を介して便器21の給水口9へ供給する
とともに、流量調節弁27、大気開放弁28、ジェット用導
水管29を介してジェットノズル22へ供給する構成として
いる。Wash water from the water supply pipe 6 is supplied to the constant flow valve 25,
 6. It is configured to supply the water to the water supply port 9 of the toilet 21 via the air release valve 8 and supply the water to the jet nozzle 22 via the flow control valve 27, the air release valve 28, and the jet water pipe 29.
 第6図は洗浄給水装置のブロック構成図、第7図は洗
浄給水のタイミングを示すタイムチャートである。FIG. 6 is a block diagram of the cleaning water supply apparatus, and FIG. 7 is a time chart showing the timing of cleaning water supply.
 本実施例の洗浄水量調節装置(以下調節装置と記す)
30は、A/Dコンバータ31aを内蔵したマイクロコンピュー
タ31を用いて構成している。圧力センサ3の出力信号は
直流増幅器32で増幅された後、A/Dコンバータ31aへ入力
する。Washing water amount adjusting device of this embodiment (hereinafter referred to as adjusting device)
 Reference numeral 30 is configured using a microcomputer 31 having an A / D converter 31a built therein. The output signal of the pressure sensor 3 is amplified by the DC amplifier 32 and then input to the A / D converter 31a.
 洗浄起動ボタン12aが操作されると、CPU31bは駆動回
路33を介して電磁開閉弁26を時間T1の間、開状態に駆動
する。これにより便器21のボウル部17へ所定流量の洗浄
水が供給されるボウル部17の前洗浄が行なわれる。When the cleaning start button 12a is operated, the CPU 31b drives the electromagnetic on-off valve 26 via the drive circuit 33 to the open state for the time T1. As a result, the pre-cleaning of the bowl 17 in which the predetermined amount of the cleaning water is supplied to the bowl 17 of the toilet 21 is performed.
 次に、CPU31bは予め設定したデータをパルス幅変調回
路34へ出力する。このパルス幅変調回路34内は、複数ビ
ットの入力データに対応して流量調節弁へ供給する電流
を可変するよう構成されている。したがって、流量調節
弁27は所定の開度に駆動される。ジェットノズル22から
洗浄水がトラップ上昇管2e内へ向けて噴射され、この洗
浄水および溜水18が堰部2aを越えてトラップ排水路2の
下流側へ流出し、水シール発生機構23の絞り部23cに水
シールを発生しトラップ排水路2内の空気は洗浄水とと
もに図示しない排水管側へ排出される。よって、トラッ
プ排水路2内の圧力は大気圧に対して負圧側へ変化す
る。Next, the CPU 31b outputs preset data to the pulse width modulation circuit. The pulse width modulation circuit 34 is configured to vary the current supplied to the flow control valve in accordance with the input data of a plurality of bits. Therefore, the flow control valve 27 is driven to a predetermined opening. Wash water is jetted from the jet nozzle 22 into the trap rising pipe 2e, and the wash water and the accumulated water 18 flow out of the weir portion 2a to the downstream side of the trap drainage channel 2, and the water seal generating mechanism 23 A water seal is generated in the portion 23c, and the air in the trap drain 2 is discharged to the drain pipe (not shown) together with the washing water. Therefore, the pressure in the trap drain passage 2 changes to the negative pressure side with respect to the atmospheric pressure.
 CPU31bは、A/Dコンバータ31aを介してトラップ排水路
2内の圧力値を所定の時間間隔毎に読み込み、ROM31c内
に予め記憶されている圧力変化パターンのデータと比較
を行ない、トラップ排水路2内の圧力が圧力変化パター
ンに近づくようパルス幅変調回路34を介して流量調節弁
の開度を制御する(第7図T2)。The CPU 31b reads the pressure value in the trap drainage channel 2 at predetermined time intervals via the A / D converter 31a, compares the pressure value with the pressure change pattern data stored in the ROM 31c in advance, and reads the trap drainage channel 2 The opening of the flow control valve is controlled via the pulse width modulation circuit 34 so that the internal pressure approaches the pressure change pattern (T2 in FIG. 7).
 次に、CPU31bは電磁開閉弁26を時間T3の間、再度開状
態に駆動してボウル部17の封水を行なう。Next, the CPU 31b drives the electromagnetic on-off valve 26 to the open state again for the time T3 to seal the bowl portion 17 with water.
 なお、洗浄入力部12に大および小洗浄用の起動ボタン
を設けるとともに、各洗浄入力に対して異なる圧力変化
パターンの設定してサイホン作用の強弱の調節ならびに
洗浄水量の調節を行なう構成としてもよい。The cleaning input unit 12 may be provided with start buttons for large and small cleaning, and may be configured to set a different pressure change pattern for each cleaning input to adjust the strength of the siphon action and the amount of cleaning water. .
 また、第7図のタイムチャートは給水タイミングの一
例を示したものであり、例えばボウル部の前洗浄中にジ
ェット給水を開始してもよいし、ジェット噴射を停止し
た後所定時間後に封水のための給水を行なう等、各種の
給水タイミングへ変更可能である。The time chart in FIG. 7 shows an example of water supply timing. For example, jet water supply may be started during pre-washing of the bowl portion, or water may be sealed after a predetermined time after stopping jet injection. It can be changed to various water supply timings, such as performing water supply for water supply.
(発明の効果) 以上説明したように本発明に係る洗浄給水装置は、ト
ラップ排水路内の圧力変化が予め設定した圧力変化パタ
ーンに近づくよう洗浄水の流量を制御するので給水圧力
の高低や汚物量の多少にかかわらず、一回の洗浄操作で
所定の強さのサイホン作用を発生させることができる。
さらに、サイホン作用を発生させるに必要な流量を供給
するようフィードバック制御を行なうものであるから、
過剰な洗浄水が供給されることはなく節水に寄与する。(Effect of the Invention) As described above, the flush water supply apparatus according to the present invention controls the flow rate of the flush water so that the pressure change in the trap drainage channel approaches a preset pressure change pattern. Regardless of the amount, the siphon action of a predetermined intensity can be generated in one washing operation.
 Furthermore, since feedback control is performed so as to supply a flow rate necessary for generating a siphon effect,
 Excessive washing water is not supplied and contributes to water saving.
 また、洗浄給水装置を便器に内装することにより、洗
浄給水装置の設置場所が不要となり、設置も容易とな
る。In addition, by installing the flush water supply device in the toilet, an installation place of the flush water supply device is not required, and the installation becomes easy.
 第1図は本発明に係る洗浄給水装置を備えたサイホン式
便器の構造図、第2図は洗浄給水装置の構成を示すブロ
ック図、第3図はトラップ排水路内の圧力変化パターン
を示すグラフ、第4図は本発明の他の実施例に係るサイ
ホンジェット式便器の構造図、第5図は第4図のV−V
線断面図、第6図は洗浄給水装置のブロック構成図、第
7図は洗浄給水のタイミングを示すタイムチャートであ
る。 なお、図面中、1はサイホン式便器、2はトラップ排水
路、3は圧力センサ、5,30は洗浄水量調節装置、6は給
水管、7,27は流量調節弁、21はサイホンジェット式便
器、31cは予め設定した圧力変化パターンに対応するデ
ータが収納されたROM、53は予め設定した圧力変化パタ
ーンに対応する電圧を発生するパターンジェネレータで
ある。FIG. 1 is a structural view of a siphon-type toilet provided with a flush water supply device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of the flush water supply device, and FIG. 3 is a graph showing a pressure change pattern in a trap drainage channel. FIG. 4 is a structural view of a siphon jet toilet according to another embodiment of the present invention, and FIG.
 FIG. 6 is a block diagram of the cleaning water supply device, and FIG. 7 is a time chart showing the timing of cleaning water supply. In the drawings, 1 is a siphon toilet, 2 is a trap drain, 3 is a pressure sensor, 5 and 30 are flush water regulators, 6 is a water supply pipe, 7 and 27 are flow control valves, and 21 is a siphon jet toilet. Reference numeral 31c denotes a ROM storing data corresponding to a preset pressure change pattern, and 53 denotes a pattern generator for generating a voltage corresponding to the preset pressure change pattern.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柴田 信次 神奈川県茅ケ崎市本村2丁目8番1号 東陶機器株式会社茅ケ崎工場内 (72)発明者 新原 登 神奈川県茅ケ崎市本村2丁目8番1号 東陶機器株式会社茅ケ崎工場内 (56)参考文献 特開 平1−287334(JP,A) 特開 平3−90755(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) E03D 5/10 E03D 11/02 E03D 3/00──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Shinji Shibata 2-8-1, Honmura, Chigasaki-shi, Kanagawa Prefecture Tochiki Kikai Co., Ltd. Chigasaki Plant (72) Inventor Noboru Niihara 2--8, Honmura, Chigasaki-shi, Kanagawa Prefecture No. 1 Tochiki Kikai Co., Ltd. Chigasaki Plant (56) References JP-A-1-287334 (JP, A) JP-A-3-90755 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl.6 , (DB name) E03D 5/10 E03D 11/02 E03D 3/00
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