
本発明は、フレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a flexible touch screen panel.
タッチスクリーンパネルは、画像表示装置などの画面に表された指示内容を人の手又は物により選択することでユーザの命令を入力できるようにした入力装置である。 The touch screen panel is an input device that allows a user's command to be input by selecting an instruction content displayed on a screen of an image display device or the like with a human hand or an object.
このために、タッチスクリーンパネルは、画像表示装置の前面に設けられ、人の手又は物に直接接触した接触位置を電気的信号に変換する。これにより、接触位置で選択された指示内容が入力信号として受信される。 For this purpose, the touch screen panel is provided on the front surface of the image display device, and converts a contact position in direct contact with a human hand or an object into an electrical signal. As a result, the instruction content selected at the contact position is received as an input signal.
このようなタッチスクリーンパネルは、キーボードやマウスのように画像表示装置に接続して動作する別の入力装置を代替できるため、その使用範囲が漸次拡大する傾向にある。 Since such a touch screen panel can replace another input device that operates by connecting to an image display device such as a keyboard or a mouse, the range of use tends to gradually increase.
タッチスクリーンパネルを実現する方式としては、抵抗膜方式、光感知方式、及び静電容量方式などが知られており、このうち、静電容量方式のタッチスクリーンパネルは、人の手又は物が接触したとき、導電性センシングパターンが周辺の他のセンシングパターン又は接地電極などと形成する静電容量の変化を感知することにより、接触位置を電気的信号に変換する。 As a method for realizing a touch screen panel, a resistive film method, a light sensing method, a capacitance method, and the like are known, and among these, a capacitive touch screen panel is in contact with a human hand or an object. In this case, the contact position is converted into an electrical signal by sensing a change in capacitance formed by the conductive sensing pattern with other surrounding sensing patterns or ground electrodes.
このようなタッチスクリーンパネルは、一般に、液晶表示装置、有機電界発光表示装置のような平板表示装置の外面に貼り付けられて製品化される場合が多い。したがって、前記タッチスクリーンパネルは、高透明度及び薄型の特性が求められる。 In general, such a touch screen panel is often manufactured by being attached to the outer surface of a flat panel display device such as a liquid crystal display device or an organic light emitting display device. Therefore, the touch screen panel is required to have high transparency and thin characteristics.
また、近年、フレキシブルな平板表示装置が開発されており、この場合、前記フレキシブル平板表示装置上に貼り付けられるタッチスクリーンパネルもフレキシブルであることが求められる。 In recent years, a flexible flat panel display device has been developed. In this case, the touch screen panel attached on the flexible flat panel display device is also required to be flexible.
但し、前記静電容量方式のタッチスクリーンパネルは、タッチセンサを実現するセンシングパターンなどを形成するために薄膜成膜、パターン形成工程などを必要とするので、高耐熱性及び耐化学性などの特性が求められる。このため、耐熱性に優れたポリイミドなどの樹脂を硬化させて形成した基材フィルム上に透明電極積層体を形成することになる。 However, since the capacitive touch screen panel requires a thin film formation and pattern formation process to form a sensing pattern for realizing a touch sensor, characteristics such as high heat resistance and chemical resistance are required. Is required. For this reason, a transparent electrode laminated body will be formed on the base film formed by hardening resin, such as a polyimide excellent in heat resistance.
一方、そのような薄型で柔軟な基材フィルムは、反りや歪みが生じやすくて製造工程中の取り扱いが難しいため、透明電極積層体を形成することが困難であるという問題点があるが、その対策はまだ確立されていない。 On the other hand, such a thin and flexible base film has a problem that it is difficult to form a transparent electrode laminate because it is easy to be warped and distorted and difficult to handle during the manufacturing process. Countermeasures have not yet been established.
韓国公開特許第2012−133848号には、フレキシブルタッチスクリーンパネルが開示されているが、上記問題点に対する対策は提示されていない。 Korean Patent No. 2012-133848 discloses a flexible touch screen panel, but does not present any countermeasures against the above problems.
本発明は、透明電極積層体形成工程がより精密かつ安定的に行われるようにするフレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the manufacturing method of the flexible touch screen panel which makes a transparent electrode laminated body formation process performed more precisely and stably.
また、本発明は、粘着剤中の揮発性成分又は気化した溶媒成分による基材フィルムの平滑度の低下を抑制できるフレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法を提供することを目的とする。 Moreover, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the flexible touch screen panel which can suppress the fall of the smoothness of the base film by the volatile component in an adhesive, or the vaporized solvent component.
1.粘着層を介して支持体上に気体透過性基材フィルムを接合する段階と、前記粘着層を熱処理し、粘着剤中の溶媒成分又は揮発性成分を前記気体透過性基材フィルムを介して排出する段階と、前記気体透過性基材フィルム上に透明電極積層体を形成する段階とを含むフレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法。 1. Bonding a gas permeable substrate film on a support through an adhesive layer, heat treating the adhesive layer, and discharging a solvent component or a volatile component in the adhesive through the gas permeable substrate film And a step of forming a transparent electrode laminate on the gas permeable substrate film.
2.前記項目1において、前記支持体は、ガラス、石英、シリコンウエハ又はサスで製造されたものである、フレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法。 2. 2. The method for manufacturing a flexible touch screen panel according to Item 1, wherein the support is manufactured from glass, quartz, a silicon wafer, or a suspension.
3.前記項目1において、前記気体透過性基材フィルムは、ポリエチレンエーテルフタレート(polyethylene ether phthalate)、ポリエチレンナフタレート(polyethylene naphthalate)、ポリカーボネート(polycarbonate)、ポリアリーレート(polyarylate)、ポリエーテルイミド(polyether imide)、ポリエーテルスルホン酸(polyether sulfonate)、ポリイミド(polyimide)、ポリエーテルエーテルケトン(Polyether ether ketone)、ポリエチレンテレフタレート(Polyethylene Terephthalate)、トリアセチルセルロース(Triacetyl Cellulose)、シクロオレフィンポリマー(Cyclo-olefin Polymer)、アラミド(Aramide)、FRP、ポリウレタン(polyurethane)及びポリアクリレート(polyacrylate)からなる群より選択される少なくとも一つの素材で形成されたものである、フレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法。 3. In the above item 1, the gas permeable substrate film is made of polyethylene ether phthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyarylate, polyether imide. , Polyether sulfonate, polyimide, polyether ether ketone, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, cycloolefin polymer, A flexible touch screen formed of at least one material selected from the group consisting of Aramide, FRP, polyurethane, and polyacrylate. Method of manufacturing a panel.
4.前記項目1において、前記気体透過性基材フィルムは、透湿係数が1〜500g/m2/24hrである、フレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法。4). In said item 1, the said gas-permeable base film is a manufacturing method of the flexible touch screen panel whose moisture permeability coefficient is 1-500 g / m <2 > / 24hr.
5.前記項目1において、前記粘着層は、前記支持体又は前記気体透過性基材フィルムの一面に粘着剤組成物を塗工して形成される、フレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法。 5. In the item 1, the pressure-sensitive adhesive layer is formed by applying a pressure-sensitive adhesive composition to one surface of the support or the gas permeable substrate film.
6.前記項目5において、前記粘着剤組成物は、溶融温度が150〜400℃である、フレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法。 6). In said item 5, the said adhesive composition is a manufacturing method of the flexible touch screen panel whose melting temperature is 150-400 degreeC.
7.前記項目1において、前記熱処理は、粘着剤組成物の溶融温度以下の温度で行われる、フレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法。 7). In the said item 1, the said heat processing is a manufacturing method of the flexible touch screen panel performed at the temperature below the melting temperature of an adhesive composition.
8.前記項目1において、前記熱処理の後、前記透明電極積層体を形成する前に、前記気体透過性基材フィルム上に耐化学性コート層を形成する段階をさらに含む、フレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法。 8). The method for manufacturing a flexible touch screen panel according to Item 1, further comprising a step of forming a chemical-resistant coating layer on the gas permeable base film after the heat treatment and before forming the transparent electrode laminate. .
9.前記項目8において、前記耐化学性コート層は、炭素数1〜20のアルコキシ基を有する反応性アルコキシシラン化合物、アクリル系化合物、フッ素系化合物、二酸化ケイ素及び窒化ケイ素(SiNx)を含む耐化学性コート層形成用組成物を前記気体透過性基材フィルム上にコーティングして形成される、フレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法。9. In item 8, the chemical resistant coating layer includes a reactive alkoxysilane compound having an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acrylic compound, a fluorine compound, silicon dioxide, and silicon nitride (SiNx ). A method for producing a flexible touch screen panel, which is formed by coating a composition for forming a conductive coating layer on the gas-permeable substrate film.
10.前記項目1において、前記気体透過性基材フィルム上に前記透明電極積層体を形成した後、前記透明電極積層体が形成された前記気体透過性基材フィルムを前記粘着層から剥離する段階をさらに含む、フレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法。 10. In the item 1, after the transparent electrode laminate is formed on the gas permeable substrate film, the step of peeling the gas permeable substrate film on which the transparent electrode laminate is formed from the adhesive layer is further included. A method for manufacturing a flexible touch screen panel.
11.前記項目1〜10のいずれか1項の方法により製造されたフレキシブルタッチスクリーンパネル。 11. The flexible touch screen panel manufactured by the method of any one of the said items 1-10.
12.前記項目11に記載のフレキシブルタッチスクリーンパネルを含むフレキシブル画像表示装置。 12 12. A flexible image display device including the flexible touch screen panel according to item 11.
本発明は、基材フィルムを支持体に接合して後続工程を行うことにより、透明電極積層体形成工程がより精密かつ安定的に進むようにする。 In the present invention, the transparent electrode laminate forming process proceeds more precisely and stably by joining the base film to the support and performing the subsequent process.
また、本発明は、粘着剤中の揮発性成分及び気化した溶媒成分による基材フィルムの平滑度の低下を抑えることができる。 Moreover, this invention can suppress the fall of the smoothness of the base film by the volatile component in an adhesive, and the vaporized solvent component.
本発明は、粘着層を介して支持体上に気体透過性基材フィルムを接合する段階と、前記粘着層を熱処理し、粘着剤中の溶媒成分又は揮発性成分を前記気体透過性基材フィルムを介して排出する段階と、前記気体透過性基材フィルム上に透明電極積層体を形成する段階とを含むことにより、透明電極積層体形成工程がより精密かつ安定的に進むようになるとともに、粘着剤中の揮発性成分及び気化した溶媒成分による基材フィルムの平滑度の低下を抑制できるフレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法に関する。 The present invention includes a step of bonding a gas permeable substrate film on a support via an adhesive layer, heat-treating the adhesive layer, and removing a solvent component or a volatile component in the adhesive from the gas permeable substrate film. And the step of forming a transparent electrode laminate on the gas permeable substrate film, the transparent electrode laminate formation process proceeds more precisely and stably, The present invention relates to a method for producing a flexible touch screen panel capable of suppressing a decrease in the smoothness of a substrate film due to a volatile component and an evaporated solvent component in an adhesive.
タッチスクリーンパネルは、重量を低減し携帯性を改善するために漸次薄型化されているが、このタッチスクリーンパネルに用いられる基材フィルムは、反りや歪みが生じやすいため、製造工程中における取り扱いが難しい。 Although the touch screen panel is gradually thinned to reduce weight and improve portability, the base film used in this touch screen panel is likely to be warped and distorted, so that it can be handled during the manufacturing process. difficult.
このことから、本発明の製造方法は、基材フィルムを支持体に粘着して固定することで取り扱い性を向上させ、後続工程である透明電極積層体形成工程がより精密かつ安定的に進むようにする。 From this, the manufacturing method of the present invention improves the handleability by adhering and fixing the base film to the support so that the transparent electrode laminate forming process as a subsequent process proceeds more precisely and stably. To.
一方、粘着層をなす粘着剤中の溶媒成分は、透明電極積層体の形成のための蒸着工程、熱処理工程などの高温工程により気化し得るが、その場合、気泡が発生して基材フィルムの平滑度が低下することがある。この問題は、粘着剤中の揮発性成分によっても発生し得る。 On the other hand, the solvent component in the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer can be vaporized by a high-temperature process such as a vapor deposition process or a heat treatment process for forming the transparent electrode laminate, but in that case, bubbles are generated and the base film Smoothness may decrease. This problem can also occur due to volatile components in the adhesive.
しかし、本発明は、高温の後続工程の前に、予め粘着剤中の溶媒成分又は揮発性成分を排出することにより、前記問題点を解決できる。 However, the present invention can solve the above-mentioned problems by discharging the solvent component or volatile component in the pressure-sensitive adhesive in advance before the high-temperature subsequent process.
図1には、本発明のフレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法の一具現例の工程フローチャートが概略的に示されている。以下、図面を参照して、本発明のフレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法の一具現例をその段階別に詳しく説明する。 FIG. 1 schematically shows a process flowchart of an embodiment of a method for manufacturing a flexible touch screen panel according to the present invention. Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing a flexible touch screen panel according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
まず、粘着層20を介して支持体10上に気体透過性基材フィルム30を接合する。 First, the gas
支持体10としては、基材フィルムが工程中に容易に反ったり歪んだりしないように固定される適正強度を有し、熱や化学処理に殆ど影響されない材料であれば特に制限なく使用できる。例えば、ガラス、石英、Siウエハ、サスなどを使用でき、好ましくはガラスを使用することができる。 As the
気体透過性基材フィルム30は、後述する透明電極が形成される基材であり、本発明は、適正強度を有する支持体10の一面に基材フィルム30を固定し、基材フィルム30上に透明電極を形成する工程が円滑に進むようにする。 The gas
気体透過性基材フィルム30は、フィルムシート又はロールツーロール(Roll to Roll)の形で工程に提供されるが、これに制限されるものではない。また、気体透過性基材フィルム30は、少なくとも一面に保護フィルム(図示せず)が貼り付けられた状態で工程に提供できる。その場合、支持体10との接合時には、保護フィルム(図示せず)は取り除いてから接合することになる。 The gas
気体透過性基材フィルム30は、後述する熱処理工程、透明電極積層体形成工程などの高温工程に耐え得る優れた耐熱性を有し、粘着剤中の揮発性成分及び気化した溶媒成分が透過できる気体透過性を有するものであれば特に限定されない。例えば、ポリエチレンエーテルフタレート(polyethylene ether phthalate)、ポリエチレンナフタレート(polyethylene naphthalate)、 ポリカーボネート(polycarbonate)、ポリアリーレート(polyarylate)、ポリエーテルイミド(polyether imide)、ポリエーテルスルホン酸(polyether sulfonate)、ポリイミド(polyimide)、ポリエーテルエーテルケトン(Polyether ether ketone)、ポリエチレンテレフタレート(Polyethylene Terephthalate)、トリアセチルセルロース(Triacetyl Cellulose)、シクロオレフィンポリマー(Cyclo-olefin Polymer)、アラミド(Aramide)、FRP、ポリウレタン(polyurethane)、ポリアクリレート(polyacrylate)などで製造されたフィルムであってもよい。これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。 The gas-
気体透過性基材フィルム30の厚さは、特に限定されず、例えば1〜150μmであってもよい。 The thickness of the gas
気体透過性基材フィルム30の透湿係数(Water Vapor Transmission Rate)は、粘着剤中の揮発性成分又は後述する工程によって気化した溶媒成分がこれを透過でき、かつ十分な耐久性を有する範囲内であれば特に限定されず、例えば1〜500g/m2/24hrであってもよい。透湿係数が前記範囲内であれば、揮発性成分又は気化した粘着剤中の溶媒成分がこれを透過でき、かつ基材フィルム30が十分な耐熱性及び耐久性を有することができる。The moisture permeability coefficient (Water Vapor Transmission Rate) of the gas
粘着層20は、前記支持体10又は気体透過性基材フィルム30の一面に粘着剤組成物を塗工して形成することができる。 The pressure-
粘着剤組成物を塗工する方法としては、当分野で通常用いられる方法を制限なく適用できる。例えば、注液(pouring)コート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ドロップコート、ロールコート、グラビアコート等の方法が適用できるが、これらに限定されるものではない。 As a method for applying the pressure-sensitive adhesive composition, a method usually used in this field can be applied without limitation. For example, methods such as pouring coating, spin coating, spray coating, dip coating, drop coating, roll coating, and gravure coating can be applied, but the method is not limited thereto.
又は、粘着層20は、両面に離型フィルム40が貼り付けられた粘着シート又はロールツーロール(Roll to Roll)方式により工程に提供することもできる。 Alternatively, the pressure-
粘着剤中の溶媒成分の気化を最小限に抑えるために、粘着剤組成物は溶融温度Tmが高いことが好ましく、例えば150〜400℃であってもよく、好ましくは200〜350℃であってもよい。粘着剤組成物の溶融温度が150〜400℃であると、溶媒成分の気化を最小限に抑えることができる。粘着剤組成物の溶融温度が150℃未満であると、形成された粘着層が、後述する高温工程で溶融して透明電極積層体の形成が困難になることがある。 In order to minimize vaporization of the solvent component in the pressure-sensitive adhesive, the pressure-sensitive adhesive composition preferably has a high melting temperature Tm, for example, 150 to 400 ° C, preferably 200 to 350 ° C. Also good. When the melting temperature of the pressure-sensitive adhesive composition is 150 to 400 ° C., vaporization of the solvent component can be minimized. When the melting temperature of the pressure-sensitive adhesive composition is less than 150 ° C., the formed pressure-sensitive adhesive layer may be melted in a high-temperature process described later, making it difficult to form a transparent electrode laminate.
本発明による粘着剤組成物は、前記条件を満たすものであれば特に限定されることなく、当分野で通常使用されるポリアクリル酸樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、シロキサン樹脂などを含む粘着剤組成物を使用できる。 The pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is not particularly limited as long as the above conditions are satisfied, and includes a polyacrylic acid resin, a polyurethane resin, a polyester resin, an epoxy resin, a siloxane resin, and the like that are usually used in the art. An adhesive composition can be used.
この後、前記粘着層20を熱処理して、粘着剤中の溶媒成分又は揮発性成分を前記気体透過性基材フィルム30を介して排出させる。 Thereafter, the pressure-
粘着層20をなす粘着剤中の溶媒成分は、後述する透明電極積層体の形成のための蒸着工程、熱処理工程などの高温工程により気化し得るが、その場合、気泡が発生して基材フィルム30の平滑度が低下することがある。また、粘着剤中の揮発性成分によっても前記問題が発生し得る。 The solvent component in the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-
これに対し、本発明のフレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法は、透明電極積層体の形成前に予め溶媒成分又は揮発性成分を排出することにより、前記問題点を解決できる。揮発性成分又は気化した溶媒成分は、気体透過性基材フィルム30を透過して空気中に排出される。 On the other hand, the manufacturing method of the flexible touch screen panel of this invention can solve the said problem by discharging | emitting a solvent component or a volatile component previously before formation of a transparent electrode laminated body. The volatile component or the vaporized solvent component passes through the gas
熱処理の温度及び時間は、特に限定されず、粘着剤中の溶媒成分が十分に気化でき、かつ支持体10及び基材フィルム30を損しない範囲内で適宜選択することができるが、例えば、前記粘着剤組成物の溶融温度以下の温度で行うことができ、具体的には溶融温度よりも20℃低い温度で1〜400分行うことができる。 The temperature and time of the heat treatment are not particularly limited, and can be appropriately selected within a range in which the solvent component in the pressure-sensitive adhesive can be sufficiently vaporized and the
熱処理段階は、粘着剤中の溶媒成分が十分に気化するのに必要な熱エネルギーを供給できるように、すぐに高温で行うか、段階別に行うか、又は温度を変化させながら行うこともできる。昇温温度、各段階別の実行時間などは適宜選択することができる。 The heat treatment step may be performed immediately at a high temperature, step by step, or while changing the temperature so that the heat energy necessary for sufficiently evaporating the solvent component in the pressure-sensitive adhesive can be supplied. The temperature rise temperature, the execution time for each stage, and the like can be selected as appropriate.
本発明は、前記熱処理を行ってから、透明電極積層体を形成する前に、気体透過性基材フィルム30上に耐化学性コート層(図示せず)を形成する段階をさらに含むことができる。 The present invention may further include a step of forming a chemical resistant coating layer (not shown) on the gas
気体透過性基材フィルム30は、後続工程中に多数の薬液に曝されるが、耐化学性コート層を形成することにより、薬液による損傷を抑えることができる。 Although the gas
耐化学性コート層は、当分野で通常使用される耐化学性コート層形成用組成物を注液コート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ドロップコート、ロールコート、グラビアコートなどにより、前記気体透過性基材フィルム(30)上に塗布して形成するか、又は化学気相蒸着法、物理気相蒸着法、スパッタリング法などにより直接に成膜できるが、これらに制限されるものではない。 The chemical-resistant coating layer is a gas-resistant coating, spin coating, spray coating, dip coating, drop coating, roll coating, gravure coating, etc. The film can be formed by coating on the permeable substrate film (30) or directly by chemical vapor deposition, physical vapor deposition, sputtering, or the like, but is not limited thereto.
耐化学性コート層形成用組成物は、炭素数1〜20のアルコキシ基を有する反応性アルコキシシラン化合物、アクリル系化合物、フッ素系化合物などからなる有機物;二酸化ケイ素(SiO2)、窒化ケイ素(SiNx)などからなる無機物;有無機ハイブリッド物などを含むものであってもよいが、これらに制限されるものではない。The composition for forming a chemical-resistant coat layer is an organic substance composed of a reactive alkoxysilane compound having 1 to 20 carbon atoms, an acrylic compound, a fluorine compound, etc .; silicon dioxide (SiO2 ), silicon nitride (SiN)x ) and other inorganic materials; presence / absence hybrid devices may be included, but are not limited thereto.
その後、前記気体透過性基材フィルム30上に透明電極積層体50を形成する。 Thereafter, a
透明電極積層体50を形成する方法は、当分野で公知の様々な方法を制限なく用いることができる。 As a method of forming the
透明電極積層体50は、具体的な用途に応じて様々な構造で形成できるが、例えば、タッチ地点の位置情報を提供する第1の透明電極層及び第2の透明電極層と、前記第1の透明電極層と第2透明電極層との間に介在し、二つの層を電気的に分離させる絶縁層と、絶縁層に形成され、第1の透明電極層と第2の透明電極層とが電気的に接続できるようにするコンタクトホールなどを含むことができる。 The
本発明のフレキシブルタッチスクリーンパネルの製造方法は、前記段階の後に、透明電極積層体50が形成された気体透過性基材フィルム30を粘着層20から剥離する段階をさらに含むことができる。 The method for manufacturing a flexible touch screen panel of the present invention may further include a step of peeling the gas
前記剥離工程は、粘着層20にレーザーを照射して行うか、又は非レーザー工程、例えば気体透過性基材フィルム30及び支持体10をそれぞれ治具に挟んで物理的な力で分離する工程、Airの投入による工程、或いは温度変化によるUV照射による工程により行うことができる。好ましくは、非レーザー工程を用いることができる。 The peeling step is performed by irradiating the
透明電極積層体50が形成された気体透過性基材フィルム30は、ディスプレイパネル部と結合されてタッチスクリーンパネルとして使用することができる。 The gas
また、本発明は、前記フレキシブルタッチスクリーンパネルを含む画像表示装置を提供する。 The present invention also provides an image display apparatus including the flexible touch screen panel.
本発明の画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置に通常使用される構成をさらに含むことができる。 The image display device of the present invention may further include a configuration that is normally used for a flexible image display device.
以下、本発明の理解を助けるために好適な実施例を提示するが、下記実施例は、本発明を例示するものに過ぎず、本発明の範疇及び技術思想の範囲内で様々な変更及び修正が可能なことは、当業者にとって明らかであり、このような変形及び修正が添付の特許請求の範囲に属することも当然のことである。 Hereinafter, preferred examples are presented to help understanding of the present invention. However, the following examples are merely illustrative of the present invention, and various changes and modifications may be made within the scope and technical idea of the present invention. It will be apparent to those skilled in the art that such changes and modifications are within the scope of the appended claims.
製造例
(1)粘着シートの製造
ドデシルアクリレート45重量部、メチルアクリレート45重量部、アクリル酸5重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート5重量部、及びPerbutyl ND(日本油脂社製)0.2重量部を混合した。その後、エチルアセテート230重量部を加え、55℃で4時間攪拌し、粘着剤組成物を調製した。重合された樹脂の重量平均分子量は700,000であり、粘着剤組成物の溶融温度は350℃であった。Production Example (1) Production of pressure-sensitive adhesive sheet 45 parts by weight of dodecyl acrylate, 45 parts by weight of methyl acrylate, 5 parts by weight of acrylic acid, 5 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, and 0.2 part by weight of Perbutyl ND (manufactured by NOF Corporation) Were mixed. Thereafter, 230 parts by weight of ethyl acetate was added and stirred at 55 ° C. for 4 hours to prepare a pressure-sensitive adhesive composition. The weight average molecular weight of the polymerized resin was 700,000, and the melting temperature of the pressure-sensitive adhesive composition was 350 ° C.
前記粘着剤組成物をPET離型フィルム上に塗布し、120℃で20分間乾燥し、粘着シートを製造した。 The pressure-sensitive adhesive composition was applied on a PET release film and dried at 120 ° C. for 20 minutes to produce a pressure-sensitive adhesive sheet.
(2)粘着シートの製造
シリコーン粘着剤として7657(ダウコーニング社製)60重量部、シリコーン離型剤7226(ダウコーニング社製)40重量部、架橋剤として7367(ダウコーニング社製)2重量部、白金触媒1重量部、及びアンカレッジエージェントとして9250(ダウコーニング社製)2重量部を混合し、シリコーン系粘着剤組成物を調製した。調製された粘着剤組成物の溶融温度は180℃であった。(2) Production of pressure-sensitive adhesive sheet 60 parts by weight of 7657 (manufactured by Dow Corning) as a silicone pressure-sensitive adhesive, 40 parts by weight of silicone release agent 7226 (manufactured by Dow Corning), and 2 parts by weight of 7367 (manufactured by Dow Corning) as a crosslinking agent Then, 1 part by weight of a platinum catalyst and 2 parts by weight of 9250 (manufactured by Dow Corning) as an anchorage agent were mixed to prepare a silicone-based pressure-sensitive adhesive composition. The melting temperature of the prepared pressure-sensitive adhesive composition was 180 ° C.
前記粘着剤組成物をPET離型フィルム上に塗布し、100℃で20分間乾燥し、粘着シートを製造した。 The pressure-sensitive adhesive composition was applied on a PET release film and dried at 100 ° C. for 20 minutes to produce a pressure-sensitive adhesive sheet.
実施例1
厚さ500μmの液晶ディスプレイ用ガラス(EAGLE XG、サムスンコーニング精密素材社製)上に、前記製造例(1)で得られた粘着シートを貼り付けて粘着層を形成し、粘着層上に厚さ25μmの気体透過性基材フィルムシート(Kapton Type HN Film、デュポン社製)を貼り合うことにより、気体透過性基材フィルムを接合した。Example 1
The adhesive sheet obtained in Production Example (1) is pasted on a 500 μm-thick glass for liquid crystal display (EAGLE XG, manufactured by Samsung Corning Precision Materials Co., Ltd.) to form an adhesive layer. The gas permeable base film was joined by bonding a 25 μm gas permeable base film sheet (Kapton Type HN Film, manufactured by DuPont).
前記接合体を150℃の熱風乾燥炉で60分間熱処理し、粘着剤中の揮発性成分及び気化した溶媒成分を排出させた。 The joined body was heat-treated in a hot air drying furnace at 150 ° C. for 60 minutes to discharge volatile components and vaporized solvent components in the adhesive.
その後、反応性エトキシシラン化合物を含む耐化学性コート層形成用組成物を前記気体透過性基材フィルム上にコートし、耐化学性コート層を形成した。 Then, the chemical-resistant coating layer forming composition containing a reactive ethoxysilane compound was coated on the gas permeable substrate film to form a chemical-resistant coating layer.
次いで、耐化学性コート層が形成された基材フィルム上にITOをスパッタリング法により厚さ500Åに成膜し、透明電極積層体を形成した。 Subsequently, ITO was formed into a film with a thickness of 500 mm by a sputtering method on the base film on which the chemical-resistant coating layer was formed, thereby forming a transparent electrode laminate.
その後、透明電極積層体が形成された気体透過性基材フィルムを180度方向から30m/分の速度で引っ張ることで粘着層から剥離した。 Then, the gas permeable base film in which the transparent electrode laminated body was formed was peeled from the adhesion layer by pulling at a speed of 30 m / min from the 180 degree direction.
実施例2
製造例(2)で得られた粘着シートを用いた以外は、実施例1と同様な方法で行った。Example 2
The same procedure as in Example 1 was performed except that the pressure-sensitive adhesive sheet obtained in Production Example (2) was used.
実施例3
厚さ100μmの気体透過性基材フィルムシート(SUMILITE FS−1300、住友ベークライト社製)を用いた以外は、実施例1と同様な方法で行った。Example 3
It was carried out in the same manner as in Example 1 except that a gas permeable base film sheet (SUMILITE FS-1300, manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was used.
実施例4
厚さ250μmの気体透過性基材フィルムシート(ZEONOR 1020R、ゼオン社製)を用いた以外は、実施例1と同様な方法で行った。Example 4
The same procedure as in Example 1 was performed, except that a gas permeable substrate film sheet (ZEONOR 1020R, manufactured by Zeon Corporation) having a thickness of 250 μm was used.
実施例5
厚さ500μmの気体透過性基材フィルムシート(Estane 58237 TPU、ルーブリゾール社製)を用いた以外は、実施例1と同様な方法で行った。Example 5
It was carried out in the same manner as in Example 1 except that a gas permeable substrate film sheet having a thickness of 500 μm (Estane 58237 TPU, manufactured by Lubrizol) was used.
実施例6
耐化学性コート層を形成していない以外は、実施例1と同様な方法で行った。Example 6
The same method as in Example 1 was performed except that the chemical resistant coating layer was not formed.
比較例
気体透過性基材フィルムの代わりに非気体透過性基材フィルム(moisture Barrier Films FG100、マテリオン社製)を用いた以外は、実施例1と同様な方法で行った。Comparative Example It was carried out in the same manner as in Example 1 except that a non-gas permeable substrate film (moisture Barrier Films FG100, manufactured by Materion Co.) was used instead of the gas permeable substrate film.
実験例
(1)透湿係数(WVTR:Water Vapor Transmission Rate)の測定
実施例及び比較例で用いられた基材フィルムの透湿係数をASTM E96−95−Procedure BWに基づいて測定した。Experimental Example (1) Measurement of moisture permeability coefficient (WVTR: Water Vapor Transmission Rate) The moisture permeability coefficient of the base film used in Examples and Comparative Examples was measured based on ASTM E96-95-Procedure BW.
(2)平滑度の評価
実施例及び比較例の透明電極積層体について、成膜が均一であるかどうかを目視で観察し、面抵抗の面内均一性を測定し、下記基準に基づいて平滑度を評価した。
<評価基準>
◎:均一に成膜されており、面抵抗の変化率が10%以内
○:均一に成膜されており、面抵抗の変化率が20%以内
△:均一に成膜されているが、面抵抗の変化率が20%を超える
X:基材フィルムの浮きが発生し、透明電極積層体が均一に成膜されていない(2) Evaluation of smoothness About the transparent electrode laminated body of an Example and a comparative example, it was observed visually whether the film-forming was uniform, the surface uniformity of surface resistance was measured, and smoothing was performed based on the following reference | standard. The degree was evaluated.
<Evaluation criteria>
A: The film is formed uniformly, and the rate of change in surface resistance is within 10%. O: The film is formed uniformly, and the rate of change in surface resistance is within 20%. Δ: The film is formed uniformly. Resistance change rate exceeds 20% X: The base film floats and the transparent electrode laminate is not uniformly formed
(3)耐化学性の評価
実施例及び比較例の積層体を、20℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)及び5%水酸化カリウム(KOH)水溶液にそれぞれ10分間浸漬した。10分後に引き上げて脱イオン水で洗浄し、室温で5分間乾燥した。その後、基材フィルムの表面を目視で観察し、下記基準に基づいて耐化学性を評価した。
<評価基準>
◎:基材フィルムにおいて、表面がきれいで、破損部分が全く観察されない
○:基材フィルムにおいて、表面はきれいであるが、僅かに破損した部分が観察される
△:基材フィルムにおいて、黄色への変色または収縮が観察される
X:基材フィルムにおいて、薬液による白色への変色または破損が観察される(3) Evaluation of chemical resistance The laminates of Examples and Comparative Examples were each immersed for 10 minutes in 20 ° C. propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and 5% potassium hydroxide (KOH) aqueous solution. After 10 minutes, it was lifted, washed with deionized water, and dried at room temperature for 5 minutes. Thereafter, the surface of the base film was visually observed, and the chemical resistance was evaluated based on the following criteria.
<Evaluation criteria>
A: The surface of the base film is clean and no damaged portion is observed. ○: The surface of the base film is clean but a slightly damaged portion is observed. Δ: The base film is yellow. Discoloration or shrinkage of X is observed. X: Discoloration or damage to white due to chemicals is observed in the base film
上記表1から、実施例1〜3の積層体は、平滑度及び基材フィルムの耐化学性が非常に優れていることが分かる。 From the said Table 1, it turns out that the laminated body of Examples 1-3 is very excellent in the smoothness and the chemical resistance of a base film.
基材フィルムにおける、透湿係数の低い実施例4及び透湿係数の高い実施例5は、平滑度はやや低下したが、依然として優れた性能を示した。 In the base film, Example 4 having a low moisture permeability coefficient and Example 5 having a high moisture permeability coefficient had a slight decrease in smoothness, but still showed excellent performance.
耐化学性コート層を形成していない実施例6の積層体は、耐化学性はやや低下したが、依然として優れており、非常に優れた平滑度を示した。 The laminate of Example 6 in which no chemical-resistant coating layer was formed had a slight decrease in chemical resistance, but was still excellent, and showed excellent smoothness.
これに対し、比較例の積層体は、粘着剤中の揮発性成分及びITO成膜工程中に気化した溶媒成分により気泡が発生し、基材フィルムの平滑度が不良であった。 On the other hand, in the laminate of the comparative example, bubbles were generated due to the volatile component in the pressure-sensitive adhesive and the solvent component evaporated during the ITO film forming step, and the smoothness of the base film was poor.
10:支持体
20:粘着層
30:気体透過性基材フィルム
40:離型フィルム
50:透明電極積層体10: Support 20: Adhesive layer 30: Gas-permeable substrate film 40: Release film 50: Transparent electrode laminate
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