JP2011137943A - Display medium, writing device and display device - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display medium that prevents a reduction in difference between the reflectance when a liquid crystal of a liquid crystal layer is in a reflection state and the reflectance when a liquid crystal of the liquid crystal layer is in a transmission state, as compared with the case when the absorbance of light of at least a part of wavelengths in the range of 340 to 430 nm, of a layer corresponding to the first light-absorbing layer is less than 1, and to provide a writing device and a display device. <P>SOLUTION: The display medium 11 includes: a substrate 12; an electrode 16; a laminate 21 of a liquid crystal layer 20B and a liquid crystal layer 20G; a light shielding layer 22R; a photoconductive layer 24R; an electrode 17; a substrate; an electrode 18; a photoconductive layer 20R; a light shielding layer 22C; a photoconductive layer 26C; an electrode 19; and a substrate 14 in the order. The light shielding layer 22R is configured such that the absorbance 1 for light in the predetermined first wavelength region of light in blue and green wavelength regions, and light in the whole wavelength region of 340 to 430 nm, is 1 or more. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

Translated fromJapanese

本発明は、表示媒体、書込装置、及び表示装置に関する。  The present invention relates to a display medium, a writing device, and a display device.

特許文献１には、表面が親水化処理されたカーボンブラックと、重合度が１０００以上３０００以下の水溶性樹脂と、水と、を含有し、カーボンブラックと水溶性樹脂との含有比率が質量比で１：３〜１：１０の範囲である表示デバイス用水性遮光塗料組成物を用いて形成された遮光膜を有する表示デバイスが提案されている。  Patent Document 1 contains carbon black whose surface has been hydrophilized, a water-soluble resin having a polymerization degree of 1000 or more and 3000 or less, and water, and the content ratio of the carbon black and the water-soluble resin is a mass ratio. A display device having a light-shielding film formed using a water-based light-shielding coating composition for display devices in the range of 1: 3 to 1:10 is proposed.

特許文献２には、一対の電極間に、特定波長領域の可視光を反射する液晶層もしくは特定波長領域の可視光を吸収して着色する液晶層のうちの何れかの液晶層と、特定波長領域の可視光を吸収して吸収した可視光の光量に応じて抵抗値を変化させる光導電層とが積層された変調層が複数積層されてなる光変調素子が提案されている。  Patent Document 2 discloses a liquid crystal layer that reflects visible light in a specific wavelength region or a liquid crystal layer that absorbs and colors visible light in a specific wavelength region between a pair of electrodes, and a specific wavelength. There has been proposed a light modulation element in which a plurality of modulation layers in which a photoconductive layer that changes a resistance value according to the amount of visible light absorbed by absorbing visible light in a region is stacked are stacked.

特許文献３には、外光を反射する液晶層と、入射光の強度に応じて抵抗値を変化させる光導電層とが少なくとも積層された光アドレス型光変調層が複数積層されてなり、入射光が照射される光導電層の少なくとも入射光側の位置に、光導電層の吸収波長領域及び他の光導電層の吸収波長領域において相互に吸収の異なる波長領域の入射光を遮る光機能層を備えた光変調素子が提案されている。  Patent Document 3 includes a plurality of optical addressing type light modulation layers in which a liquid crystal layer that reflects external light and a photoconductive layer that changes a resistance value according to the intensity of incident light are stacked. An optical functional layer that blocks incident light in a wavelength region having different absorption in the absorption wavelength region of the photoconductive layer and the absorption wavelength region of another photoconductive layer at least on the incident light side of the photoconductive layer irradiated with light There has been proposed a light modulation element including the above.

特許文献４には、光変調素子へ画像を書き込む方法として、駆動電圧の周波数を調整する方法が提案されている。特許文献４で用いられている表示素子としては、一対の電極と、液晶層と、光導電層と、を含む光アドレス型光変調層を複数積層してなる表示素子が用いられている。  Patent Document 4 proposes a method of adjusting the frequency of the drive voltage as a method of writing an image to the light modulation element. As a display element used in Patent Document 4, a display element in which a plurality of optical addressing type light modulation layers including a pair of electrodes, a liquid crystal layer, and a photoconductive layer are stacked is used.

特許文献５には、部分けん化ポリビニルアルコールを含む遮光層を備えた光変調素子が提案されている。  Patent Document 5 proposes a light modulation element including a light shielding layer containing partially saponified polyvinyl alcohol.

特開２００９−１８１０４０号公報JP 2009-181040 A特開２００３−１４０１８４号公報JP 2003-140184 A特開２００７−１１４４７２号公報JP 2007-114472 A特開２００７−１０１７８１号公報JP 2007-101781 A特開２００７−１０１９０８号公報JP 2007-101908 A

本発明は、液晶層の液晶が反射状態とされたときの反射率と、液晶層の液晶が透過状態とされたときの反射率と、の差が、擬似太陽に暴露されたことによって減少することが抑制された表示媒体、書込装置、及び表示装置を提供することを目的とする。  In the present invention, the difference between the reflectance when the liquid crystal in the liquid crystal layer is in a reflective state and the reflectance when the liquid crystal in the liquid crystal layer is in a transmissive state is reduced by exposure to the pseudo sun. An object of the present invention is to provide a display medium, a writing device, and a display device in which the above is suppressed.

上記課題は、以下の本発明により達成される。すなわち、  The above-mentioned subject is achieved by the following present invention. That is,

請求項１に係る発明は、第１の電極と、反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、第２の電極と、第３の電極と、反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、第４の電極と、をこの順に備えた表示媒体である。  The invention according to claim 1 includes a first electrode, a first liquid crystal layer that reflects blue light when in a reflecting state, and a second liquid crystal that reflects green light when in a reflecting state. First, the absorbance of the laminate having the liquid crystal layer, the light in the first wavelength region in the blue and green wavelength regions, and the light in the entire wavelength region from 340 nm to 430 nm is 1 or more. A first light-absorbing layer, a first photoconductive layer exhibiting an electrical characteristic distribution corresponding to the intensity distribution of the light by absorbing light in the first wavelength region, a second electrode, and a third electrode Electrodes, a third liquid crystal layer that reflects red light when in a reflective state, and a predetermined one of the light in the red wavelength region that transmits light in the first wavelength region A second light-absorbing layer having an absorbance of 1 or more with respect to light in the second wavelength region; and the second wavelength A second photoconductive layer showing the electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the light by absorbing the light of the frequency, which is a display medium comprising the fourth electrode, in this order.

請求項２に係る発明は、前記第１の光吸収層が、複数の層からなる積層体である請求項１に記載の表示媒体である。  The invention according to claim 2 is the display medium according to claim 1, wherein the first light absorption layer is a laminated body including a plurality of layers.

請求項３に係る発明は、第１の電極と、反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、第２の電極と、第３の電極と、反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、第４の電極と、をこの順に備えた表示媒体について、前記第１の電極と前記第２の電極の間、及び前記第３の電極と前記第４の電極の間に電圧を印加する電圧印加装置と、前記表示媒体の前記第４の電極側から、前記第１の波長領域の光及び前記第２の波長領域の光の少なくとも一方を照射する照射装置と、を備えた書込装置である。  The invention according to claim 3 is a first electrode, a first liquid crystal layer that reflects blue light when in a reflecting state, and a second liquid crystal layer that reflects green light when in a reflecting state. First, the absorbance of the laminate having the liquid crystal layer, the light in the first wavelength region in the blue and green wavelength regions, and the light in the entire wavelength region from 340 nm to 430 nm is 1 or more. A first light-absorbing layer, a first photoconductive layer exhibiting an electrical characteristic distribution corresponding to the intensity distribution of the light by absorbing light in the first wavelength region, a second electrode, and a third electrode Electrodes, a third liquid crystal layer that reflects red light when in a reflective state, and a predetermined one of the light in the red wavelength region that transmits light in the first wavelength region A second light-absorbing layer having an absorbance of 1 or more with respect to light in the second wavelength region; and the second wavelength A display medium comprising a second photoconductive layer exhibiting an electrical characteristic distribution corresponding to the intensity distribution of the light by absorbing the light in the region and a fourth electrode in this order; A voltage applying device for applying a voltage between the second electrode and between the third electrode and the fourth electrode, and the first wavelength from the fourth electrode side of the display medium. An irradiating device that irradiates at least one of light in a region and light in the second wavelength region.

請求項４に係る発明は、第１の電極と、反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、第２の電極と、第３の電極と、反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、第４の電極と、をこの順に備えた表示媒体と、前記第１の電極と前記第２の電極の間、及び前記第３の電極と前記第４の電極の間に電圧を印加する電圧印加装置と、前記表示媒体の前記第４の電極側から、前記第１の波長領域の光及び前記第２の波長領域の光の少なくとも一方を照射する照射装置と、を備えた表示装置である。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a first electrode, a first liquid crystal layer that reflects blue light when in a reflecting state, and a second liquid crystal that reflects green light when in a reflecting state. First, the absorbance of the laminate having the liquid crystal layer, the light in the first wavelength region in the blue and green wavelength regions, and the light in the entire wavelength region from 340 nm to 430 nm is 1 or more. A first light-absorbing layer, a first photoconductive layer exhibiting an electrical characteristic distribution corresponding to the intensity distribution of the light by absorbing light in the first wavelength region, a second electrode, and a third electrode Electrodes, a third liquid crystal layer that reflects red light when in a reflective state, and a predetermined one of the light in the red wavelength region that transmits light in the first wavelength region A second light-absorbing layer having an absorbance of 1 or more with respect to light in the second wavelength region; and the second wavelength A display medium comprising a second photoconductive layer exhibiting an electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the light by absorbing the light in the region, and a fourth electrode in this order, and the first electrode A voltage applying device for applying a voltage between the second electrode and between the third electrode and the fourth electrode, and the first wavelength from the fourth electrode side of the display medium. And an irradiation device that irradiates at least one of light in a region and light in the second wavelength region.

請求項１、３、４に記載の発明によれば、本発明における第1の光吸収層に相当する層の、３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の波長領域内の少なくとも一部の波長の光における吸光度が１未満である場合に比べて、液晶層の液晶が反射状態とされたときの反射率と、液晶層の液晶が透過状態とされたときの反射率と、の差が、擬似太陽に暴露されたことによって減少することが抑制される、という効果を奏する。  According to the first, third, and fourth aspects of the present invention, the layer corresponding to the first light-absorbing layer in the present invention has an absorbance of light of at least some wavelengths in a wavelength region of 340 nm to 430 nm. The difference between the reflectivity when the liquid crystal of the liquid crystal layer is in a reflective state and the reflectivity when the liquid crystal of the liquid crystal layer is in a transmissive state is exposed to the pseudo sun compared to There is an effect that the reduction is suppressed.

請求項２に記載の発明によれば、第１の光吸収層を単層構成とした場合に比べて、第１の光吸収層の厚みが容易に調整される、という効果を奏する。  According to invention of Claim 2, compared with the case where a 1st light absorption layer is made into a single layer structure, there exists an effect that the thickness of a 1st light absorption layer is adjusted easily.

本実施の形態における、表示媒体、書込装置、及び表示媒体の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the display medium in this Embodiment, a writing device, and a display medium.本実施の形態における表示媒体、書込装置、及び表示媒体の図１とは異なる態様を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the aspect different from FIG. 1 of the display medium in this Embodiment, a writing device, and a display medium.実施例及び比較例における遮光層のスペクトルを示す線図である。It is a diagram which shows the spectrum of the light shielding layer in an Example and a comparative example.

本発明の書込装置及び書込方法の一の実施の形態を図面に基づき説明する。  An embodiment of a writing apparatus and a writing method of the present invention will be described with reference to the drawings.

図１に示すように、本実施の形態に係る表示装置１０は、書込装置１３と、表示媒体１１と、を備えている。書込装置１３は、表示媒体１１に画像の書き込みを行う装置である。  As shown in FIG. 1, thedisplay device 10 according to the present embodiment includes awriting device 13 and adisplay medium 11. Thewriting device 13 is a device that writes an image on thedisplay medium 11.

表示媒体１１は、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板１５、電極１８、液晶層２０Ｒ、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４を、この順に設けた構成とされている。  Thedisplay medium 11 includes asubstrate 12, anelectrode 16, aliquid crystal layer 20B and alaminate 21 of aliquid crystal layer 20G, alight shielding layer 22R, aphotoconductive layer 24R, anelectrode 17, asubstrate 15, anelectrode 18, aliquid crystal layer 20R, aphotoconductive layer 20R, The light shielding layer 22C, the photoconductive layer 26C, theelectrode 19, and thesubstrate 14 are provided in this order.

なお、本実施の形態においては、表示媒体１１が、本発明の表示媒体に相当し、書込装置１３が、本発明の書込装置に相当し、表示装置１０が、本発明の表示装置に相当する。また、電極１６が、本発明の表示媒体における第１の電極に相当し、液晶層２０Ｂが第１の液晶層に相当し、液晶層２０Ｇが第２の液晶層に相当し、積層体２１が積層体に相当する。また、遮光層２２Ｒが第１の光吸収層に相当し、光導電層２４Ｒが第１の光導電層に相当し、電極１７が第２の電極に相当する。また、電極１８が第３の電極に相当し、液晶層２０Ｒが第３の液晶層に相当し、遮光層２２Ｃが第２の光吸収層に相当する。また、光導電層２６Ｃが第２の光導電層に相当し、電極１９が第４の電極に相当する。  In the present embodiment, thedisplay medium 11 corresponds to the display medium of the present invention, thewriting device 13 corresponds to the writing device of the present invention, and thedisplay device 10 corresponds to the display device of the present invention. Equivalent to. Theelectrode 16 corresponds to the first electrode in the display medium of the present invention, theliquid crystal layer 20B corresponds to the first liquid crystal layer, theliquid crystal layer 20G corresponds to the second liquid crystal layer, and thelaminate 21 It corresponds to a laminate. Thelight shielding layer 22R corresponds to the first light absorption layer, thephotoconductive layer 24R corresponds to the first photoconductive layer, and theelectrode 17 corresponds to the second electrode. Theelectrode 18 corresponds to a third electrode, theliquid crystal layer 20R corresponds to a third liquid crystal layer, and the light shielding layer 22C corresponds to a second light absorption layer. The photoconductive layer 26C corresponds to the second photoconductive layer, and theelectrode 19 corresponds to the fourth electrode.

本実施の形態の表示媒体１１において、基板１２、基板１５、及び基板１４は、必ずしも設ける必要はないが、表示媒体１１の形状保持や表面保護のため設けることがよい。また、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板１５、電極１８、液晶層２０Ｒ、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４は、上記順に設けられた構成であればよく、間に接着層や隔離層等の他の層をはさんだ構成であってもよい。  In thedisplay medium 11 of the present embodiment, thesubstrate 12, thesubstrate 15, and thesubstrate 14 are not necessarily provided, but may be provided for shape retention and surface protection of thedisplay medium 11. Also, thesubstrate 12, theelectrode 16, theliquid crystal layer 20B and thelaminate 21 of theliquid crystal layer 20G, thelight shielding layer 22R, thephotoconductive layer 24R, theelectrode 17, thesubstrate 15, theelectrode 18, theliquid crystal layer 20R, thephotoconductive layer 20R, and the light shielding layer 22C. The photoconductive layer 26 </ b> C, theelectrode 19, and thesubstrate 14 may be configured to be provided in the order described above, and may be configured such that another layer such as an adhesive layer or a separator layer is interposed therebetween.

液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、及び液晶層２０Ｒは、各々、電場によって特定の色の光の反射状態及び透過状態を変調する機能を有し、且つ選択した状態が無電場で保持される性質（所謂、メモリ性）を有する層である。表示層２０Ｂは、層内に含まれる液晶を反射状態とされたときの色が青色の層である。表示層２０Ｇは、層内に含まれる液晶を反射状態とされたときの色が緑色の層である。表示層２０Ｒは、層内に含まれる液晶を反射状態とされたときの色が赤色の層である。すなわち、表示層２０Ｂは青色の光を選択反射し、表示層２０Ｇは緑色の光を選択反射し、表示層２０Ｒは赤色の光を選択反射する層である。  Each of theliquid crystal layer 20B, theliquid crystal layer 20G, and theliquid crystal layer 20R has a function of modulating a reflection state and a transmission state of light of a specific color by an electric field, and the selected state is maintained without an electric field ( This is a layer having a so-called memory property. Thedisplay layer 20B is a blue layer when the liquid crystal contained in the layer is brought into a reflective state. Thedisplay layer 20G is a layer whose color is green when the liquid crystal contained in the layer is brought into a reflective state. Thedisplay layer 20R is a layer whose color is red when the liquid crystal contained in the layer is brought into a reflective state. That is, thedisplay layer 20B selectively reflects blue light, thedisplay layer 20G selectively reflects green light, and thedisplay layer 20R is a layer that selectively reflects red light.

光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃは、互いに異なる波長領域の光を吸収することによって、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す。本実施の形態では、光導電層２４Ｒは、詳細は後述するが、青色及び緑色の何れか一方または双方の波長領域の光が照射されると、該光の強度に応じて抵抗値が低下して、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示すように構成されている。また、光導電層２４Ｃは、赤色の波長領域の光が照射されると、該光の強度に応じて抵抗値が低下して、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示すように構成されている。  The photoconductive layer 24 </ b> R and the photoconductive layer 26 </ b> C exhibit electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the light by absorbing light in different wavelength regions. In this embodiment, thephotoconductive layer 24R will be described in detail later, but when light in one or both of the blue and green wavelength regions is irradiated, the resistance value decreases according to the intensity of the light. Thus, an electrical characteristic distribution corresponding to the intensity distribution of the light is shown. Further, when the photoconductive layer 24C is irradiated with light in the red wavelength region, the resistance value decreases in accordance with the intensity of the light, and exhibits an electrical characteristic distribution in accordance with the intensity distribution of the light. It is configured.

遮光層２２Ｃは、光導電層２６Ｃが感度を有する赤色の波長領域の光のうちの、予め定められた波長または波長領域の光（以下、「第２の波長領域の光」と称する場合がある）を遮光する。また、遮光層２２Ｃは、光導電層２４Ｒが感度を有する緑色及び青色の少なくとも一方の波長領域の光のうちの、予め定められた波長または波長領域の光（以下、「第１の波長領域の光」と称する場合がある）を透過する。  The light shielding layer 22C may be referred to as light having a predetermined wavelength or wavelength region out of the light in the red wavelength region that the photoconductive layer 26C has sensitivity (hereinafter referred to as “light in the second wavelength region”). ) Is shielded from light. The light shielding layer 22C has a predetermined wavelength or light of a wavelength region (hereinafter referred to as “first wavelength region light”) of the light of at least one of the green and blue wavelength regions that thephotoconductive layer 24R has sensitivity. Light).

この第１の波長領域の光は、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの少なくとも一方への画像書込時に、光導電層２４Ｒへ照射される光である。このため、この第１の波長領域は、光導電層２４Ｒが感度を有する光の波長領域から適宜定めればよい。本実施の形態では、第１の波長領域は、赤色の波長領域の光のうちの特定の波長領域が、光導電層２６Ｃの感度や後述する遮光層２２Ｃの遮光性能に応じて予め定められる。
また、第２の波長領域の光は、液晶層２０Ｒへの画像書込時に、光導電層２６Ｃへ照射される光である。このため、この第２の波長領域は、光導電層２６Ｃが感度を有する光の波長領域から適宜定めればよい。本実施の形態では、第２の波長領域は、青色及び緑色の波長領域の光のうちの特定の波長領域が、光導電層２４Ｒの感度や後述する遮光層２２Ｒの遮光性能に応じて予め定められる。The light in the first wavelength region is light irradiated to thephotoconductive layer 24R when writing an image on at least one of theliquid crystal layer 20B and theliquid crystal layer 20G. For this reason, the first wavelength region may be determined as appropriate from the wavelength region of light with which thephotoconductive layer 24R has sensitivity. In the present embodiment, the first wavelength region is determined in advance according to the sensitivity of the photoconductive layer 26C and the light shielding performance of the light shielding layer 22C described later, in the specific wavelength region of the light in the red wavelength region.
The light in the second wavelength region is light irradiated to the photoconductive layer 26C when writing an image on theliquid crystal layer 20R. For this reason, the second wavelength region may be determined as appropriate from the wavelength region of light with which the photoconductive layer 26C has sensitivity. In the present embodiment, the second wavelength region is determined in advance according to the sensitivity of thephotoconductive layer 24R and the light shielding performance of thelight shielding layer 22R described later, as the specific wavelength region of the light in the blue and green wavelength regions. It is done.

なお、本実施の形態では、「遮光」とは、少なくとも対象の波長領域内の全領域の光に対する吸光度が少なくとも１以上であることを示し、２以上、３以上であってもよい。  In the present embodiment, “light shielding” indicates that the absorbance to light in all regions within the target wavelength region is at least 1 or more, and may be 2 or more and 3 or more.

一方、遮光層２２Ｒは、上記第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上とされている。  On the other hand, thelight shielding layer 22R has an absorbance of 1 or more for the light in the first wavelength region and the light in the entire wavelength region of 340 nm to 430 nm.

このように、本実施の形態の表示媒体１１は、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板、電極１８、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４を、この順に設けた構成において、この遮光層２２Ｒが、第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上とされているので、液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、液晶層２０Ｒ自体の構成を調整することなく、遮光層２２Ｒの特性が本実施の形態における特性の少なくとも一部を満たさない場合に比べて、液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、及び液晶層２０Ｒの各液晶層における、液晶層の液晶が反射状態とされたときの反射率と、液晶層の液晶が透過状態とされたときの反射率と、の差が、擬似太陽に暴露されたことによって減少することが抑制されると考えられる。  As described above, thedisplay medium 11 of the present embodiment includes thesubstrate 12, theelectrode 16, thelaminated body 21 of theliquid crystal layer 20B and theliquid crystal layer 20G, thelight shielding layer 22R, thephotoconductive layer 24R, theelectrode 17, the substrate, theelectrode 18, and the light. In the configuration in which theconductive layer 20R, the light shielding layer 22C, the photoconductive layer 26C, theelectrode 19, and thesubstrate 14 are provided in this order, thelight shielding layer 22R includes light in the first wavelength region and all wavelengths from 340 nm to 430 nm. Since the light absorbance in the region is 1 or more, the characteristics of thelight shielding layer 22R are at least part of the characteristics in the present embodiment without adjusting the configuration of theliquid crystal layer 20B, theliquid crystal layer 20G, and theliquid crystal layer 20R itself. Compared with the case where theliquid crystal layer 20B, theliquid crystal layer 20G, and theliquid crystal layer 20R are not satisfied, the reflectance when the liquid crystal of the liquid crystal layer is in a reflective state and the liquid crystal of the liquid crystal layer The difference between the reflectance when the transmission state, is to be reduced by exposed to the pseudo sun is considered to be suppressed.

以下、本実施の形態の表示媒体１１の各構成について詳細に説明する。  Hereinafter, each structure of thedisplay medium 11 of this Embodiment is demonstrated in detail.

なお、本実施の形態の表示媒体１１では、基板１２側が表示面側とされており、基板１４側が非表示面側とされている。  In thedisplay medium 11 of the present embodiment, thesubstrate 12 side is the display surface side, and thesubstrate 14 side is the non-display surface side.

基板１２、基板１４、及び基板１５各々は、絶縁性を有している。また、基板１２、基板１４、及び基板１５各々は、透光性を有している。  Each of thesubstrate 12, thesubstrate 14, and thesubstrate 15 has an insulating property. In addition, each of thesubstrate 12, thesubstrate 14, and thesubstrate 15 has translucency.

これらの基板１２、基板１４、及び基板１５各々には、必要に応じて、その表面に、液晶配向層、耐摩耗層、ガスの混入を防止するバリア層など公知の機能性膜を形成してもよく、また各基板は複数層から構成されていてもよい。  A known functional film such as a liquid crystal alignment layer, a wear-resistant layer, and a barrier layer for preventing gas from being mixed is formed on the surface of each of thesubstrate 12, thesubstrate 14, and thesubstrate 15 as necessary. In addition, each substrate may be composed of a plurality of layers.

基板１２、基板１５、及び基板１４は、外力に耐える強度を有するシート形状の物体であり、表示面側に設けられた基板１２は少なくとも入射光を、表示面と反対側に設けられた基板１５及び基板１４は、後述する光源３５から照射される光を透過する。  Thesubstrate 12, thesubstrate 15, and thesubstrate 14 are sheet-shaped objects having strength that can withstand external forces, and thesubstrate 12 provided on the display surface side at least receives incident light, and thesubstrate 15 provided on the side opposite to the display surface. And the board |substrate 14 permeate | transmits the light irradiated from thelight source 35 mentioned later.

これらの基板１２、基板１５、及び基板１４としては、透明な絶縁体シートもしくはフィルムが好適に用いられる。例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリイミド、ＰＥＳ（ポリエーテルスルホン）、トリアセチルセルロース等の透明性樹脂やガラス、セラミック等が用いられる。これらの基板として、透明性樹脂を使用する場合には、必要に応じて水蒸気バリア層を付加形成することが望ましい。フレキシブル基板が得られること、成形が容易なこと、コストの点などから光透過性の樹脂基板を用いることがより有利である。
これらの基板１２、基板１５、及び基板１４の厚みとしては、２５μｍ以上５００μｍ以下の範囲程度が良い。As these board |substrate 12, board |substrate 15, and board |substrate 14, a transparent insulator sheet or film is used suitably. For example, transparent resins such as PET (polyethylene terephthalate), PC (polycarbonate), polyethylene, polystyrene, polyimide, PES (polyethersulfone), triacetylcellulose, glass, ceramics, and the like are used. When a transparent resin is used as these substrates, it is desirable to additionally form a water vapor barrier layer as necessary. It is more advantageous to use a light-transmitting resin substrate from the viewpoint of obtaining a flexible substrate, easy molding, cost and the like.
The thickness of thesubstrate 12, thesubstrate 15, and thesubstrate 14 is preferably in the range of 25 μm to 500 μm.

なお、本実施の形態において、「絶縁」及び「絶縁性」とは、体積抵抗率で１０^１２Ωｃｍ以上の範囲を意味する。一方、導電性とは、体積抵抗率で１０^１０Ωｃｍ以下の範囲を意味する。また、本実施の形態において、「透明」とは、可視領域の光を実質的に透過（透過率８０％以上）することをいう。また、本実施の形態において「透過」とは、対象とする波長領域の光に対する透過率が８０％以上であることをいう。In the present embodiment, “insulation” and “insulating” mean a volume resistivity of 10¹² Ωcm or more. On the other hand, the conductivity means a range of 10¹⁰ Ωcm or less in volume resistivity. In the present embodiment, “transparent” means that light in the visible region is substantially transmitted (transmittance of 80% or more). In this embodiment, “transmission” means that the transmittance for light in the target wavelength region is 80% or more.

電極１６、電極１７、電極１８、及び電極１９は、導電性（体積抵抗で２０００Ωｃｍ以下、以下これに準ずる）を有している。これらの電極１６、電極１７、電極１８、及び電極１９のうち、複数の液晶層（液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、及び液晶層２６Ｃ）のうちの最も非表示面に設けられた液晶層２０Ｒより、表示面側に設けられている電極１６、電極１７、及び電極１８は、少なくとも基板１２側から入射した入射光を透過する。そして、液晶層２０Ｒより非表示面側に設けられた電極１９は、書込時に光源３５（詳細後述、図１参照）から照射される光を透過する。  Theelectrode 16, theelectrode 17, theelectrode 18, and theelectrode 19 have conductivity (volume resistance is 2000 Ωcm or less, hereinafter the same applies). Among theseelectrodes 16, 17, 18, and 19, the liquid crystal layer 20 </ b> R provided on the most non-display surface among the plurality of liquid crystal layers (the liquid crystal layer 20 </ b> B, the liquid crystal layer 20 </ b> G, and the liquid crystal layer 26 </ b> C). Theelectrode 16, theelectrode 17, and theelectrode 18 provided on the display surface side transmit at least incident light incident from thesubstrate 12 side. Theelectrode 19 provided on the non-display surface side from theliquid crystal layer 20R transmits light emitted from the light source 35 (details will be described later, see FIG. 1) during writing.

電極１６、電極１７、電極１８、及び電極１９としては、例えば、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）などの金属薄膜、酸化インジウム錫（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ_２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）などの導電性金属酸化物、ポリピロールなど導電性高分子の薄膜など透光性の電気伝導体が用いられる。これらの電極１６、電極１７、電極１８、及び電極１９の厚みは特に限定されないが、１０ｎｍ以上１０μｍ以下の範囲から選択され、蒸着、スパッタリングなどにより形成される。As theelectrode 16, theelectrode 17, theelectrode 18, and theelectrode 19, for example, a metal thin film such as gold (Au), aluminum (Al), copper (Cu), indium tin oxide (ITO), tin oxide (ITO) A light-transmitting electric conductor such as a conductive metal oxide such as SnO₂ ) or zinc oxide (ZnO), or a thin film of a conductive polymer such as polypyrrole is used. The thicknesses of theelectrode 16, theelectrode 17, theelectrode 18, and theelectrode 19 are not particularly limited, but are selected from a range of 10 nm to 10 μm and formed by vapor deposition, sputtering, or the like.

表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々は、電場によって特定の色の光の反射及び透過状態を変調する機能を有し、且つ選択した状態が無電場で保持される性質（所謂、メモリ性）を有する層である。  Each of thedisplay layer 20B, thedisplay layer 20G, and thedisplay layer 20R has a function of modulating the reflection and transmission states of light of a specific color by an electric field, and the property that the selected state is maintained without an electric field (so-called It is a layer having a memory property.

上述のように、表示層２０Ｂは、反射状態とされたときには、Ｂ（ブルー）色の光を反射する。表示層２０Ｇは、反射状態とされたときには、Ｇ（グリーン）色の光を反射する。表示層２０Ｒは、反射状態とされたときには、Ｒ（レッド）の色を反射する。As described above, when thedisplay layer 20B is in the reflective state, it reflects B (blue) light. When thedisplay layer 20G is in the reflective state, it reflects G (green) light. When thedisplay layer 20R is in the reflective state, it reflects the color of R (red).

これらの液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、及び液晶層２６Ｃのうち、同じ電極間に設けられている液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇは、反射状態と透過状態との間で変化するために必要な電圧が異なる。  Among theseliquid crystal layer 20B,liquid crystal layer 20G, and liquid crystal layer 26C, the voltage required for theliquid crystal layer 20B and theliquid crystal layer 20G provided between the same electrodes to change between the reflective state and the transmissive state. Is different.

なお、表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々は、曲げや圧力などの外力に対して破壊されない構造であることがよい。Note that each of thedisplay layer 20B, thedisplay layer 20G, and thedisplay layer 20R preferably has a structure that is not broken by an external force such as bending or pressure.

表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々には、カイラルネマチック液晶（コレステリック液晶）をゼラチンバインダー（高分子マトリックス）中に分散させたＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）構造が用いられる。なお、本実施の形態では、表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々がＰＤＬＣ構造を採用する場合を説明するが、この構造に限ることなく、コレステリック液晶を、リブを介し電極間距離を固定したセルに配置する方式やカプセル化液晶により実現してもよい。また、液晶もコレステリック液晶に限ることなく、スメクチックＡ液晶、ネマチック液晶、ディスコティック液晶などが利用される。  Each of thedisplay layer 20B, thedisplay layer 20G, and thedisplay layer 20R has a PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal) structure in which chiral nematic liquid crystal (cholesteric liquid crystal) is dispersed in a gelatin binder (polymer matrix). Note that in this embodiment, the case where each of thedisplay layer 20B, thedisplay layer 20G, and thedisplay layer 20R adopts a PDLC structure is described. However, the cholesteric liquid crystal is not limited to this structure and the interelectrode distance is interposed via a rib. May be realized by a method of arranging them in a fixed cell or an encapsulated liquid crystal. Further, the liquid crystal is not limited to the cholesteric liquid crystal, but a smectic A liquid crystal, a nematic liquid crystal, a discotic liquid crystal, or the like is used.

これらの各表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々に含まれる液晶が反射状態とされたときの色は、液晶としてコレステリック液晶を用いる場合には、該コレステリック液晶の螺旋ピッチにより調整される。コレステリック液晶の螺旋ピッチは、ネマチック液晶に対するカイラル剤の添加量で調整される。また、コレステリック液晶の螺旋ピッチの温度依存性を補償するために、捩じれ方向が異なる、または逆の温度依存性を示す複数のカイラル剤を添加する公知の手法を用いてもよい。  The color when the liquid crystal contained in each of thedisplay layer 20B, thedisplay layer 20G, and thedisplay layer 20R is in a reflective state is adjusted by the helical pitch of the cholesteric liquid crystal when the cholesteric liquid crystal is used as the liquid crystal. The The helical pitch of the cholesteric liquid crystal is adjusted by the amount of chiral agent added to the nematic liquid crystal. Further, in order to compensate the temperature dependence of the helical pitch of the cholesteric liquid crystal, a known method of adding a plurality of chiral agents having different twisting directions or opposite temperature dependences may be used.

各表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々の層厚は、１μｍ以上１００μｍの範囲が挙げられる。  Examples of the thickness of eachdisplay layer 20B,display layer 20G, anddisplay layer 20R are in the range of 1 μm to 100 μm.

表示層２０Ｂ、表示層２０Ｇ、及び表示層２０Ｒ各々に含まれる液晶材料としては、シアノビフェニル系、フェニルシクロヘキシル系、フェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゾエート系、アゾメチン系、アゾベンゼン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサン系、スチルベン系、トラン系など公知の液晶組成物が利用される。液晶材料には２色性色素などの色素、粒子などの添加剤を加えてもよく、高分子マトリクス中に分散したものや、高分子ゲル化したものや、マイクロカプセル化したものでもよい。また、液晶は高分子、低分子のいずれでもよく、またこれらの混合物でもよい。  Examples of the liquid crystal material included in each of thedisplay layer 20B, thedisplay layer 20G, and thedisplay layer 20R include cyanobiphenyl, phenylcyclohexyl, phenylbenzoate, cyclohexylbenzoate, azomethine, azobenzene, pyrimidine, dioxane, cyclohexyl Known liquid crystal compositions such as cyclohexane, stilbene, and tolan are used. Additives such as pigments and particles such as dichroic pigments and particles may be added to the liquid crystal material, and may be dispersed in a polymer matrix, polymerized, or microencapsulated. The liquid crystal may be either a polymer or a low molecule, or a mixture thereof.

光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃは、互いに異なる波長領域の光を吸収することによって、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す。詳細には、光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃは、電場下で、各々が感度を有する光を照射されると、内部光電効果による電荷の移動が発生し、光の強度に応じて抵抗値が小さくなる性質を有する。  The photoconductive layer 24 </ b> R and the photoconductive layer 26 </ b> C exhibit electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the light by absorbing light in different wavelength regions. Specifically, when thephotoconductive layer 24R and the photoconductive layer 26C are each irradiated with light having sensitivity under an electric field, charge transfer due to the internal photoelectric effect occurs, and the resistance value depends on the light intensity. Has the property of decreasing.

本実施の形態では、光導電層２４Ｒは、電極１６及び電極１７の電極間に設けられている液晶層である液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの反射状態とされたときの色である青色及び緑色の波長領域の光に対して感度を有する。本実施の形態では、この青色及び緑色の波長領域の光のうちの、予め定められた波長領域または波長として、上記第１の波長領域が定められている。このため、光導電層２４Ｒは、本実施の形態では、第１の波長領域の光（例えば、青色または緑色の光）が照射されることで、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す。このため、光導電層２４Ｒの色は、本実施の形態では、赤として視認される。  In the present embodiment, thephotoconductive layer 24R is blue and green, which are colors when theliquid crystal layer 20B and theliquid crystal layer 20G, which are liquid crystal layers provided between theelectrodes 16 and 17, are reflected. It has sensitivity to light in the wavelength region. In the present embodiment, the first wavelength region is determined as a predetermined wavelength region or wavelength of the light in the blue and green wavelength regions. For this reason, in the present embodiment, thephotoconductive layer 24R is irradiated with light in the first wavelength region (for example, blue or green light), whereby an electrical characteristic distribution corresponding to the intensity distribution of the light is obtained. Indicates. For this reason, the color of thephotoconductive layer 24R is visually recognized as red in the present embodiment.

一方、光導電層２６Ｃは、電極１８及び電極１９の電極間に設けられている液晶層である液晶層２０Ｒの反射状態とされたときの色である赤色の波長領域の光に対して感度を有する。本実施の形態では、この赤色の波長領域の光のうちの、予め定められた波長領域または波長として、上記第２の波長領域が定められている。このため、光導電層２６Ｃは、本実施の形態では、第２の波長領域の光（例えば、赤色の光）が照射されることで、該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す。このため、光導電層２６Ｃの色は、本実施の形態では、シアンとして視認される。  On the other hand, the photoconductive layer 26C is sensitive to light in the red wavelength region, which is a color when theliquid crystal layer 20R, which is a liquid crystal layer provided between theelectrodes 18 and 19, is in a reflective state. Have. In the present embodiment, the second wavelength region is determined as a predetermined wavelength region or wavelength of the light in the red wavelength region. For this reason, in the present embodiment, the photoconductive layer 26C is irradiated with light in the second wavelength region (for example, red light), and thus exhibits an electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the light. . For this reason, the color of the photoconductive layer 26C is visually recognized as cyan in the present embodiment.

光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃは、上記特性を有する層であればよいが、これらの光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃとしては、（ａ）無機半導体材料として、アモルファス・シリコンや、ＺｎＳｅ、ＣｄＳなどの化合物半導体により構成される層、（ｂ）光照射によって電荷を発生する電荷発生材料及び電界によって電荷移動を生ずる電荷輸送材料の混合物や積層体により構成される層などが挙げられる。  Thephotoconductive layer 24R and the photoconductive layer 26C may be layers having the above characteristics. However, thephotoconductive layer 24R and the photoconductive layer 26C include (a) amorphous silicon or ZnSe as an inorganic semiconductor material. And a layer composed of a compound semiconductor such as CdS, (b) a layer composed of a mixture or laminate of a charge generating material that generates charge by light irradiation and a charge transport material that generates charge transfer by an electric field.

詳細には、光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃは、ａ−Ｓｉ：Ｈ、ａ−Ｓｅ、Ｔｅ−Ｓｅ、Ａｓ₂Ｓｅ₃、ＣｄＳｅ、ＣｄＳなどの無機光導電体、あるいはアゾ顔料、フタロシアニン顔料、ペリレン顔料、キナクリドン顔料、ピロロピロール顔料、インジゴ顔料などの電荷発生材料とアリールアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、ポリビニルカルバゾールなどの電荷輸送材料とを組合せた有機光導電体などにより構成される。Specifically, thephotoconductive layer 24R and the photoconductive layer 26C are formed of inorganic photoconductors such as a-Si: H, a-Se, Te-Se, As₂ Se₃ , CdSe, and CdS, or azo pigments and phthalocyanine pigments. , Organic photoconductors that combine charge generation materials such as perylene pigments, quinacridone pigments, pyrrolopyrrole pigments, indigo pigments, and charge transport materials such as arylamine derivatives, hydrazone derivatives, triphenylmethane derivatives, and polyvinylcarbazole. The

また、光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃの層厚としては、１μｍ以上１００μｍ以下の範囲が挙げられる。The layer thickness of thephotoconductive layer 24R and the photoconductive layer 26C includes a range of 1 μm to 100 μm.

電荷発生層２４Ｒ_３、及び電荷発生層２６Ｃ_３は、各々の光導電層２４Ｒ及び光導電層２６Ｃが、上述の電気的特性分布を示す波長領域の光を吸収して、電荷を発生させる機能を有する層である。Thecharge generation layer 24R₃ and the charge generation layer 26C₃ have a function in which each of thephotoconductive layer 24R and the photoconductive layer 26C absorbs light in the wavelength region showing the above-described electrical characteristic distribution and generates charges. It is a layer which has.

電荷発生層２４Ｒ_３及び電荷発生層２６Ｃ_３各々を構成する電荷発生材料としては、例えば、金属または無金属フタロシアニン化合物、ビスおよびトリスアゾ化合物、ペリレン化合物、スクアリリウム化合物、アズレニウム化合物、アントロン化合物、ピリリウム化合物、多環キノン化合物、インジゴ化合物、縮合芳香族系化合物、キサンテン化合物、キナクリドン化合物、シアニン色素、ピロピロール色素などの有機材料が挙げられるが、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン等の各種フタロシアニン結晶が用いられる。Examples of the charge generation material constituting each of thecharge generation layer 24R₃ and the charge generation layer 26C₃ include metal or metal-free phthalocyanine compounds, bis and trisazo compounds, perylene compounds, squarylium compounds, azurenium compounds, anthrone compounds, pyrylium compounds, Examples include organic materials such as polycyclic quinone compounds, indigo compounds, condensed aromatic compounds, xanthene compounds, quinacridone compounds, cyanine dyes, pyropyrrole dyes, such as chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, titanyl phthalocyanine, and dichlorotin phthalocyanine. Various phthalocyanine crystals are used.

電荷発生層２４Ｒ_３及び電荷発生層２６Ｃ_３の各々の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などドライな膜形成方法のほか、上記電荷発生材料をバインダー樹脂に分散した塗布液をバーコート法、スピンコート法、ロールコート法、ディップ法、キャスティング法、ブレードコーティング法、スプレーコーティング法などのウエットな膜形成方法が挙げられる。上記塗布液を用いる場合、該塗布液中の電荷発生材料の濃度としては、１質量％以上２０質量％以下、より好ましくは１．５質量％以上５質量％以下が挙げられる。As a method of forming each of thecharge generating layer 24R₃ and a charge generating layer 26C_3, a vacuum vapor deposition method, sputtering method, ion plating method, in addition to the dry film forming method such as CVD method, the charge generating material to the binder resin Examples of the dispersed coating solution include wet film forming methods such as a bar coating method, a spin coating method, a roll coating method, a dip method, a casting method, a blade coating method, and a spray coating method. When using the said coating liquid, as a density | concentration of the charge generation material in this coating liquid, 1 mass% or more and 20 mass% or less, More preferably, 1.5 mass% or more and 5 mass% or less are mentioned.

上記塗布液に含まれるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、及びこれらの共重合体などの絶縁性樹脂が挙げられる。これらバインダー樹脂は単独で用いても２種以上を併用してもよい。前記塗布液を調整するための溶媒としては、バインダー樹脂を溶解する溶媒が用いられ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の環状または鎖状のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロエチレン、トリクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、リグロイン等の鉱油、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。  As the binder resin contained in the coating solution, polycarbonate resin, polyarylate resin, polyethylene resin, polyurethane resin, polypropylene resin, polyester resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl acetal resin, phenoxy resin, polyamide resin, acrylic resin Insulating resins such as methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, and copolymers thereof. These binder resins may be used alone or in combination of two or more. As a solvent for adjusting the coating solution, a solvent that dissolves a binder resin is used. For example, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol, n-butanol, and benzyl alcohol, acetone, and methyl ethyl ketone , Ketones such as cyclohexanone and cyclopentanone, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, cyclic or chain ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, Esters such as methyl acetate, ethyl acetate and n-butyl acetate, aliphatic halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, chloroethylene and trichloroethylene, and minerals such as ligroin , Benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, chlorobenzene, aromatic halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene and the like.

これらの電荷発生層２４Ｒ_３及び電荷発生層２６Ｃ_３各々の層厚としては、１０ｎｍ以上１μｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が挙げられる。１０ｎｍより薄いと光感度が不足し、かつ均一な膜の作製が難しくなり、また１μｍより厚くなると、光感度は飽和し、膜内応力によって、剥離が生じやすくなる。The layer thickness of each of thecharge generation layer 24R₃ and the charge generation layer 26C₃ is 10 nm to 1 μm, preferably 20 nm to 500 nm. If the thickness is less than 10 nm, the photosensitivity is insufficient and it is difficult to produce a uniform film. If the thickness is greater than 1 μm, the photosensitivity is saturated and peeling is likely to occur due to in-film stress.

電荷輸送層２４Ｒ_２は、電荷発生層２４Ｒ_３で発生した電荷が注入されて、注入した電荷を印加された電場方向に輸送する機能を有する層である。
同様に、電荷輸送層２６Ｃ_２は、電荷発生層２６Ｃ_３で発生した電荷が注入されて、注入した電荷を印加された電場方向に輸送する機能を有する層である。Thecharge transport layer 24R₂ is injected electric charge generated in thecharge generation layer 24R_3, is a layer having a function of transporting injected charges to the applied electric field direction.
Similarly, the charge transport layer 26C₂ is injected electric charge generated in the charge generation layer 26C_3, is a layer having a function of transporting injected charges to the applied electric field direction.

電荷輸送層２４Ｒ_２及び電荷輸送層２６Ｃ_２は、電荷輸送材料を含んで構成される。この電荷輸送材料としては、正孔を輸送する正孔輸送材料と電子を輸送する電子輸送材料が挙げられる。Thecharge transport layer 24R₂ and a charge transport layer 26C₂ is configured to include a charge transport material. Examples of the charge transport material include a hole transport material that transports holes and an electron transport material that transports electrons.

正孔輸送材料としては、カルバゾール系、トリアゾール系、オキサジアゾール系、イミダゾール系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、スチルベン系、トリフェニルアミン系、トリフェニルメタン系、ベンジジン系の化合物が挙げられ、電子輸送材料としては、キノン系、ジフェノキノン系、テトラシアノキノジメタン系、キサントン系、ベンゾフェノン系、及びニトロフルオレノン系の化合物が挙げられる。中でも、ベンジジン系化合物とスチルベン系化合物が安定性、正孔輸送能力が高いことから良い。なお、本実施の形態では、電荷輸送層２４Ｒ_２及び電荷輸送層２６Ｃ_２は、正孔輸送層であるとして説明するが、この形態に限られず、電子輸送層として機能する層を用いても良い。Examples of hole transport materials include carbazole, triazole, oxadiazole, imidazole, pyrazoline, hydrazone, stilbene, triphenylamine, triphenylmethane, and benzidine compounds. Examples of the material include quinone series, diphenoquinone series, tetracyanoquinodimethane series, xanthone series, benzophenone series, and nitrofluorenone series compounds. Among these, benzidine compounds and stilbene compounds are preferable because of their high stability and hole transport ability. In this embodiment, thecharge transport layer 24R₂ and a charge transport layer 26C₂ is described as a hole transport layer is not limited to this embodiment, may be used a layer that functions as an electron transport layer .

電荷輸送層２４Ｒ_２及び電荷輸送層２６Ｃ_２に含まれるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂等が適用される。特に、ポリカーボネート樹脂は、電荷輸送層２４Ｒ_２及び電荷輸送層２６Ｃ_２のバインダーとした場合、電荷輸送特性が良好である上に、強度や柔軟性、透明性のバランスに優れているため、よい。As the binder resin contained in thecharge transport layer 24R₂ and a charge transport layer 26C_2, a polycarbonate resin, a polyester resin, a methacrylic resin, an acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene - Butadiene copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene- Alkyd resin or the like is applied. In particular, polycarbonate resin, when thecharge transport layer 24R₂ and a charge transport layer 26C₂ binder, on the charge transport properties are good and excellent strength, flexibility, transparency of balance, good.

電荷輸送層２４Ｒ_２及び電荷輸送層２６Ｃ_２における電荷輸送材料とバインダー樹脂との質量混合比（電荷輸送材料／バインダー樹脂）としては、１／１０以上１０／１以下の範囲、好ましくは３／７以上７／３以下の範囲が挙げられる。The mass mixing ratio (charge transport material / binder resin) of the charge transport material and the binder resin in thecharge transport layer 24R₂ and the charge transport layer 26C_{2 is} in the range of 1/10 to 10/1, preferably 3/7. The range of 7/3 or less is mentioned.

電荷輸送層２４Ｒ_２及び電荷輸送層２６Ｃ_２の作製方法としては、真空蒸着法やスパッタ法などドライな膜形成法のほか、溶剤を用いるスピンコート法、ディップ法、ブレードコート法、ロールコート法などが適用される。溶剤塗布法の場合には、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いられる。また、この電荷輸送層形成時に用いる塗布液中の電荷輸送材料の濃度としては、２質量％以上５０質量％以下の範囲、好ましくは５質量％以上１５質量％以下の範囲が挙げられる。Thecharge transport layer 24R₂ and the charge transport layer 26C₂ are prepared by a dry film forming method such as a vacuum deposition method or a sputtering method, a spin coating method using a solvent, a dip method, a blade coating method, a roll coating method, or the like. Applies. In the case of the solvent coating method, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, ketones such as acetone, 2-butanone, cyclohexanone and cyclopentanone, and halongen such as methylene chloride, chloroform and ethylene chloride Ordinary organic solvents such as cyclic aliphatic hydrocarbons, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and ethyl ether, or straight chain ethers, or a mixture of two or more thereof may be used. Further, the concentration of the charge transport material in the coating solution used for forming the charge transport layer may be in the range of 2% by mass to 50% by mass, and preferably in the range of 5% by mass to 15% by mass.

この電荷輸送層２４Ｒ_２及び電荷輸送層２６Ｃ_２の層厚としては、１μｍ以上１００μｍ以下の範囲、好ましくは３μｍ以上２０μｍ以下の範囲が挙げられる。１μｍより薄いと耐電圧が低くなり信頼性確保が困難となり、１００μｍより厚くなると表示層とのインピーダンスマッチングが困難となり、設計が難しくなる。The layer thickness of thecharge transport layer 24R₂ and a charge transport layer 26C_2, 100 [mu] m or less in the range of 1 [mu] m, with preference given to 20μm or less the range of 3 [mu] m. If the thickness is less than 1 μm, the withstand voltage is low and it is difficult to ensure reliability. If the thickness is more than 100 μm, impedance matching with the display layer becomes difficult, and design becomes difficult.

なお、電荷輸送層２４Ｒ_２及び/または電荷輸送層２６Ｃ_２の上に第二電荷発生層を設け、所謂Ｄｕａｌ−ＣＧＬ構成の光導電層としてもよい。その場合の第二電荷発生層の材料としては、電荷発生層２４Ｒ_３及び電荷発生層２６Ｃ_３で用いたものと同じものが用いられる。Incidentally, the second charge generation layer disposed on thecharge transport layer 24R₂ and / or charge transport layer 26C_2, may be the photoconductive layer of the so-called Dual-CGL configuration. As the material of the second charge-generation layer in the case, the same thing is used as that used in thecharge generating layer 24R₃ and a charge generating layer 26C_3.

遮光層２２Ｃと２２Ｒは、顔料を分散した樹脂、染料を溶解した樹脂、染料で染色した樹脂などが利用される。For the light shielding layers 22C and 22R, a resin in which a pigment is dispersed, a resin in which a dye is dissolved, a resin dyed with a dye, or the like is used.

顔料としては、例えば、カドミウム系、クロム系、コバルト系、マンガン系、カーボン系などの無機顔料、アゾ系、アントラキノン系、インジゴ系、トリフェニルメタン系、ニトロ系、フタロシアニン系、ペリレン系、ピロロピロール系、キナクリドン系、多環キノン系、スクエアリウム系、アズレニウム系、シアニン系、シアニン系、ピリリウム系、アントロン系などの有機顔料が利用される。Examples of the pigment include inorganic pigments such as cadmium, chromium, cobalt, manganese, and carbon, azo, anthraquinone, indigo, triphenylmethane, nitro, phthalocyanine, perylene, and pyrrolopyrrole. Organic pigments such as quinacridone, polycyclic quinone, squalium, azurenium, cyanine, cyanine, pyrylium, and anthrone are used.

染料としては、ニトロソ染料、ニトロ染料、アゾ染料、スチルベンアゾ染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アクリジン染料、キノリン染料、ポリメチン染料、チアゾール染料、インドフェノール染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染料、硫化染料、アミノケトン染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料などが利用される。As the dye, nitroso dye, nitro dye, azo dye, stilbene azo dye, diphenylmethane dye, triphenylmethane dye, xanthene dye, acridine dye, quinoline dye, polymethine dye, thiazole dye, indophenol dye, azine dye, oxazine dye, Thiazine dyes, sulfur dyes, aminoketone dyes, anthraquinone dyes, indigoid dyes and the like are used.

遮光層２２Ｃは、液晶層２０Ｒと光導電層２６Ｃとの層間に設けられている。
遮光層２２Ｃは、光導電層２６Ｃが感度を有する赤色の波長領域の光のうちの、少なくとも上記第２の波長領域の光を遮光する。また、遮光層２２Ｃは、光導電層２４Ｒが感度を有する緑色及び青色の少なくとも一方の波長領域の光のうちの、少なくとも上記第１の波長領域の光を透過する。
なお、本実施の形態では、「遮光」とは、少なくとも対象の波長領域内の全領域の光に対する吸光度が少なくとも１以上であることを示し、２以上、３以上であってもよい。The light shielding layer 22C is provided between theliquid crystal layer 20R and the photoconductive layer 26C.
The light shielding layer 22C shields at least the light in the second wavelength region out of the light in the red wavelength region where the photoconductive layer 26C has sensitivity. The light shielding layer 22C transmits at least light in the first wavelength region out of light in at least one wavelength region of green and blue in which thephotoconductive layer 24R has sensitivity.
In the present embodiment, “light shielding” indicates that the absorbance to light in all regions within the target wavelength region is at least 1 or more, and may be 2 or more and 3 or more.

この遮光層２２Ｃの第２の波長領域の光に対する遮光性能としては、例えば、光源３５Ｒから照射される第２の波長領域の光に対して、吸光度が１以上の遮光性能がよく、吸光度２以上の遮光性能を示すことがさらによい。  As the light shielding performance of the light shielding layer 22C with respect to the light in the second wavelength region, for example, the light shielding performance for the light in the second wavelength region irradiated from thelight source 35R is good with an absorbance of 1 or more, and the absorbance of 2 or more. It is even better to show the light shielding performance.

この遮光層２２Ｃには、例えば、顔料を分散した樹脂が利用され、水溶性の樹脂液に顔料を分散した塗液を塗布乾燥して形成される。
この遮光層２２Ｃに用いられる顔料としては、上記遮光層２２Ｃとして要求される性能を満たすものであればよく、例えば、青色顔料であるフタロシアニン系顔料等が挙げられる。この遮光層２２Ｃに用いる顔料としては、単一の顔料であっても２種以上の顔料を混合して用いても構わない。For example, a resin in which a pigment is dispersed is used for the light shielding layer 22C, and a coating liquid in which a pigment is dispersed in a water-soluble resin liquid is applied and dried.
The pigment used for the light shielding layer 22C may be any pigment that satisfies the performance required for the light shielding layer 22C, and examples thereof include phthalocyanine pigments that are blue pigments. The pigment used for the light shielding layer 22C may be a single pigment or a mixture of two or more pigments.

この遮光層２２Ｃに用いられる樹脂としては、水溶性樹脂または非水溶性樹脂が利用されるが、駆動電圧低減などの点で水溶性樹脂が好ましい。この水溶性樹脂としては、例えば完全けん化、または部分けん化ポリビニルアルコール、水溶性ポリビニルアセタール、水溶性ポリビニルホルマール、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリル酸、水溶性ポリ（メタ）アクリル酸共重合体、ポリアルキレンオキサイド、水溶性ポリエステル、ポリエチレングリコール、および水溶性マレイン酸樹脂などが挙げられるが、製造性や他の層との密着性が良好なことからから、ポリビニルアルコールや、水溶性ポリビニルアセタール、水溶性ポリビニルホルマールなどのポリビニルアルコール誘導体が特に望ましい。  As the resin used for the light shielding layer 22C, a water-soluble resin or a water-insoluble resin is used, but a water-soluble resin is preferable in terms of driving voltage reduction. Examples of the water-soluble resin include completely saponified or partially saponified polyvinyl alcohol, water-soluble polyvinyl acetal, water-soluble polyvinyl formal, polyacrylamide, polyvinyl pyrrolidone, poly (meth) acrylic acid, and water-soluble poly (meth) acrylic acid copolymer. Examples include coalesced polyalkylene oxide, water-soluble polyester, polyethylene glycol, and water-soluble maleic acid resin, but because of good manufacturability and adhesion to other layers, polyvinyl alcohol and water-soluble polyvinyl acetal Polyvinyl alcohol derivatives such as water-soluble polyvinyl formal are particularly desirable.

この遮光層２２Ｃの形成方法としてはスクリーン印刷、凸版印刷、凹版印刷、平板印刷、フレクソ印刷などの印刷法や、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコート法などの塗布法が用いられる。塗布法においては、上記顔料を上記樹脂とともに適当な溶剤に分散ないし溶解させて調整した塗布液を用いればよい。  The light shielding layer 22C can be formed by printing methods such as screen printing, letterpress printing, intaglio printing, flat plate printing, flexographic printing, spin coating, bar coating, dip coating, roll coating, knife coating, and die coating. A coating method such as a method is used. In the coating method, a coating solution prepared by dispersing or dissolving the pigment together with the resin in an appropriate solvent may be used.

この遮光層２２Ｃの層厚は、所定の遮光性能を有していれば特に限定されないが、表示媒体１１の携帯性や可撓性を損なわない範囲であればよく、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下が挙げられる。  The thickness of the light shielding layer 22C is not particularly limited as long as it has a predetermined light shielding performance, but may be in a range that does not impair the portability and flexibility of thedisplay medium 11, for example, 1 μm or more and 10 μm or less. Can be mentioned.

遮光層２２Ｒは、表示素子３２より表示面側に配置された表示素子３０に設けられている。この遮光層２２Ｒは、表示素子３０において、液晶層２０Ｂと液晶層２０Ｇとの積層体２１と、光導電層２４Ｒと、の層間に設けられている。  The light shielding layer 22 </ b> R is provided on the display element 30 disposed on the display surface side from the display element 32. In the display element 30, thelight shielding layer 22R is provided between thelayered body 21 of theliquid crystal layer 20B and theliquid crystal layer 20G and thephotoconductive layer 24R.

遮光層２２Ｒは、光導電層２４Ｒが感度を有する緑色及び青色の少なくとも一方の波長領域の光のうちの、少なくとも上記第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度を１以上とされている。  Thelight shielding layer 22R is for at least the light of the first wavelength region and the light of all the wavelength regions of 340 nm to 430 nm out of at least one of the green and blue wavelength regions that thephotoconductive layer 24R has sensitivity. Absorbance is 1 or more.

この遮光層２２Ｒの、上記第１の波長領域の光に対する遮光性能としては、第１の波長領域の光に対して、吸光度が１以上の遮光性能であることが必須であり、吸光度２以上や、吸光度３以上であってもよい。  As the light shielding performance of thelight shielding layer 22R with respect to the light in the first wavelength region, it is essential that the light shielding performance of the light in the first wavelength region is a light shielding performance of 1 or more. The absorbance may be 3 or more.

そして、この遮光層２２Ｒの、上記３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度については、この全波長領域について、吸光度が１以上であることが必須であるが、吸光度２以上や、吸光度３以上であってもよい。  The absorbance of thelight shielding layer 22R with respect to the light in the entire wavelength region of 340 nm to 430 nm is indispensable to have an absorbance of 1 or more in the entire wavelength region. It may be the above.

この遮光層２２Ｒの遮光性能としては、上記特性を満たせば良く、さらに、３４０ｎｍ未満の波長領域の光に対する吸光度が１以上であってもよい。  As the light shielding performance of thelight shielding layer 22R, it is sufficient if the above characteristics are satisfied, and the absorbance with respect to light in a wavelength region of less than 340 nm may be 1 or more.

この遮光層２２Ｒには、例えば顔料を分散した樹脂が利用され、水溶性、または非水溶性の樹脂液に顔料を分散した塗液を塗布乾燥して形成される。
この遮光層２２Ｒに用いられる顔料としては、遮光層２２Ｒとして要求される上記の遮光性能を満たすものであればよく、例えば、赤色顔料としてピロロピロール系顔料やキナクリドン系顔料、黄色顔料としてインドリン系顔料や水酸化鉄系顔料を、単一または２種以上の混合して用いればよい。For example, a resin in which a pigment is dispersed is used for thelight shielding layer 22R, and a coating liquid in which a pigment is dispersed in a water-soluble or water-insoluble resin liquid is applied and dried.
The pigment used for thelight shielding layer 22R may be any pigment that satisfies the light shielding performance required for thelight shielding layer 22R. For example, a pyrrolopyrrole pigment or quinacridone pigment as a red pigment, or an indoline pigment as a yellow pigment. Or iron hydroxide pigments may be used singly or in combination of two or more.

この遮光層２２Ｒに用いられる樹脂としては、水溶性樹脂としては、前述の樹脂と同様のものが使用できる。非水溶性樹脂としては、例えば、アルキド（フタル酸）樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、セルロース、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂などの樹脂が用いられる。なお、これらの樹脂には、ポリイソシアネートなどの硬化剤や増粘剤など添加物を含んでいてもよい。  As the resin used for thelight shielding layer 22R, the same water-soluble resin as that described above can be used. Examples of water-insoluble resins include alkyd (phthalic acid) resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, unsaturated polyester resins, melamine resins, urea resins, phenol resins, acrylic resins, polyurethane resins, vinyl acetate resins, epoxy resins. Resins such as cellulose, silicone resin, butyral resin are used. These resins may contain additives such as curing agents such as polyisocyanates and thickeners.

この遮光層２２Ｒの形成方法としてはスクリーン印刷、凸版印刷、凹版印刷、平板印刷、フレクソ印刷などの印刷法や、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ナイフコート法、ダイコート法などの塗布法が用いられる。塗布法においては、上記顔料を上記樹脂とともに適当な溶剤に分散または溶解させて調整した塗布液を用いればよい。  Thelight shielding layer 22R can be formed by printing methods such as screen printing, letterpress printing, intaglio printing, flat plate printing, flexographic printing, spin coating, bar coating, dip coating, roll coating, knife coating, and die coating. A coating method such as a method is used. In the coating method, a coating solution prepared by dispersing or dissolving the pigment in an appropriate solvent together with the resin may be used.

この遮光層２２Ｒの層厚は、所定の遮光性能を有していれば特に限定されないが、表示媒体１１の携帯性や可撓性を損なわない範囲であればよく、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下が挙げられる。  The thickness of thelight shielding layer 22R is not particularly limited as long as it has a predetermined light shielding performance, but may be in a range that does not impair the portability and flexibility of thedisplay medium 11, for example, 1 μm or more and 10 μm or less. Can be mentioned.

遮光層２２Ｒは、画像解像度の低下を抑制する観点から、絶縁性（体積抵抗率で１０^１２Ωｃｍ以上）であることがよく、遮光層２２Ｒの体積抵抗率は、体積抵抗率で１０^１３Ωｃｍ以上であることがさらによい。Thelight shielding layer 22R is preferably insulative (volume resistivity is 10¹² Ωcm or more) from the viewpoint of suppressing a reduction in image resolution, and the volume resistivity of thelight shielding layer 22R is 10¹³ Ωcm or more in volume resistivity. Even better.

遮光層２２Ｒの体積抵抗率の調整は、遮光層２２Ｒの塗布液に含まれるイオン成分をイオン交換樹脂を用いて削減することによって調整される。  The volume resistivity of thelight shielding layer 22R is adjusted by reducing the ion component contained in the coating solution for thelight shielding layer 22R using an ion exchange resin.

なお、上述した遮光層２２Ｃについても、画像解像度の低下を抑制する観点から、絶縁性（体積抵抗率で１０^１２Ωｃｍ以上）であることがよく、遮光層２２Ｃの体積抵抗率は、体積抵抗率で１０^１３Ωｃｍ以上であることがさらによい。遮光層２２Ｃの体積抵抗率の調整についても、遮光層２２Ｒの体積抵抗率の調整方法と同じ方法を用いればよい。The light shielding layer 22C described above is also preferably insulative (volume resistivity of 10¹² Ωcm or more) from the viewpoint of suppressing a decrease in image resolution, and the volume resistivity of the light shielding layer 22C is the volume resistivity. And more preferably 10¹³ Ωcm or more. Regarding the adjustment of the volume resistivity of the light shielding layer 22C, the same method as that for adjusting the volume resistivity of thelight shielding layer 22R may be used.

遮光層２２Ｒの塗布液のイオン伝導度は、１５０μＳ／ｃｍ以下とされていることがよい。遮光層２２Ｒの塗布液のイオン伝導度が１５０μＳ／ｃｍ以下に調整されていることで、遮光層２２Ｒから液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇ側へ、あるいは遮光層２２Ｒの成膜時に、イオン成分が液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇへ拡散してこれらの液晶層が汚染されることが抑制される、と考えられる。なお、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇがイオン成分によって汚染された状態で、電極１６及び電極１７に電圧が印加されると、イオン伝導によって液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇにかかる電圧が低下してしまい、イオン汚染されていない状態とは異なる特性を示すようになり、画質劣化が生じる場合があると考えられる。しかし、遮光層２２Ｒのイオン伝導度が、１５０μＳ／ｃｍ以下に調整されることで、遮光層２２Ｒから液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇへのイオン成分の拡散が抑制されると考えられる。  The ion conductivity of the coating solution for thelight shielding layer 22R is preferably 150 μS / cm or less. By adjusting the ionic conductivity of the coating solution for thelight shielding layer 22R to 150 μS / cm or less, the ionic component is liquid crystal when thelight shielding layer 22R is formed from thelight shielding layer 22R to theliquid crystal layer 20B and theliquid crystal layer 20G side. It is considered that the liquid crystal layer is suppressed from being diffused by being diffused into thelayer 20B and theliquid crystal layer 20G. In addition, when a voltage is applied to theelectrode 16 and theelectrode 17 in a state where theliquid crystal layer 20B and theliquid crystal layer 20G are contaminated by an ionic component, the voltage applied to theliquid crystal layer 20B and theliquid crystal layer 20G is reduced due to ionic conduction. Therefore, it is considered that the image quality may be deteriorated due to a different characteristic from the state in which no ion contamination occurs. However, it is considered that the diffusion of ion components from thelight shielding layer 22R to theliquid crystal layer 20B and theliquid crystal layer 20G is suppressed by adjusting the ionic conductivity of thelight shielding layer 22R to 150 μS / cm or less.

なお、この遮光層２２Ｒの塗布液のイオン伝導度は、電気伝導率計（ＤＳ―１５：ＨＯＲＩＢＡ製）を用いて、２５．０℃の環境で遮光層塗布液を測定した値である。  The ion conductivity of the coating solution for thelight shielding layer 22R is a value obtained by measuring the coating solution for the light shielding layer in an environment of 25.0 ° C. using an electric conductivity meter (DS-15: manufactured by HORIBA).

遮光層２２Ｒの塗布液のイオン伝導度を、１５０μＳ/ｃｍ以下に調整するためには、遮光層２２Ｒの塗布液中に含まれるイオン成分をイオン交換樹脂を用いて削減すればよい。  In order to adjust the ionic conductivity of the coating solution for thelight shielding layer 22R to 150 μS / cm or less, the ion component contained in the coating solution for thelight shielding layer 22R may be reduced using an ion exchange resin.

なお、上述した遮光層２２Ｃについても、遮光層２２Ｃから液晶層２０Ｒ側へ、あるいは遮光層２２Ｃの成膜時に、イオン成分が液晶層２０Ｒへ拡散して液晶層２０Ｒが汚染されることを抑制する観点から、その塗布液のイオン伝導度は、１５０μＳ／ｃｍ以下とされていることがよい。遮光層２２Ｃの塗布液のイオン伝導度の調整方法についても、遮光層２２Ｒの塗布液のイオン伝導度の調整方法と同じ方法を用いればよい。  Note that the light shielding layer 22C described above also prevents theliquid crystal layer 20R from being contaminated by diffusion of ionic components into theliquid crystal layer 20R from the light shielding layer 22C to theliquid crystal layer 20R side or when the light shielding layer 22C is formed. From the viewpoint, the ion conductivity of the coating solution is preferably 150 μS / cm or less. The method for adjusting the ionic conductivity of the coating solution for the light shielding layer 22C may be the same as the method for adjusting the ionic conductivity of the coating solution for thelight shielding layer 22R.

なお、本実施の形態の表示媒体１１では、遮光層２２Ｒが１層で構成されているものとして説明するが、図２に示すように、遮光層２２Ｒを多層構成とした構成であってもよい。なお、図２に示す表示媒体１１Ａは、図１に示す表示媒体１１の、遮光層２２Ｒを、２層の遮光層２２Ｒ_１及び遮光層２２Ｒ_２の積層体として構成した表示媒体１１Ａとした以外は、表示媒体１１と同じ構成であるため、同じ機能を示す部材及び層には同じ符号を付与して詳細な説明を省略する。なお、図２に示す表示装置１０Ａについても、図１に示す表示装置１０の表示媒体１１にかえて、表示媒体１１Ａを用いた以外は同じ構成であるため詳細な説明を省略する。In thedisplay medium 11 according to the present embodiment, thelight shielding layer 22R is described as a single layer. However, as illustrated in FIG. 2, thelight shielding layer 22R may have a multilayer structure. . Thedisplay medium 11A shown in FIG. 2, thedisplay medium 11 shown in FIG. 1, a light-shielding layer 22R, except for usingdisplay media 11A constructed as a laminate of the light-shielding layer 22R₁ and thelight shielding layer 22R₂ of the two-layer Since the configuration is the same as that of thedisplay medium 11, the same reference numerals are given to members and layers having the same functions, and detailed description thereof is omitted. Thedisplay device 10A shown in FIG. 2 has the same configuration except that thedisplay medium 11A is used instead of thedisplay medium 11 of thedisplay device 10 shown in FIG.

図２に示す表示媒体１１Ａは、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板１５、電極１８、液晶層２０Ｒ、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４を、この順に設けた構成とされている。そして、この遮光層２２Ｒが、遮光層２２Ｒ_１及び遮光層２２Ｒ_２の２層構成とされている。なお、本実施の形態では、遮光層２２Ｒを多層構成とする場合には、図２に示すように２層構成である場合を説明するが、多層構成であればよく、３層以上であってもよい。Adisplay medium 11A shown in FIG. 2 includes asubstrate 12, anelectrode 16, alaminate 21 of aliquid crystal layer 20B and aliquid crystal layer 20G, alight shielding layer 22R, aphotoconductive layer 24R, anelectrode 17, asubstrate 15, anelectrode 18, aliquid crystal layer 20R, a light Theconductive layer 20R, the light shielding layer 22C, the photoconductive layer 26C, theelectrode 19, and thesubstrate 14 are provided in this order. Then, the light-shielding layer 22R is, there is a two-layer structure of the light-shielding layer 22R₁ and thelight shielding layer 22R_2. In the present embodiment, when thelight shielding layer 22R has a multilayer structure, a case of a two-layer structure as shown in FIG. 2 will be described. However, a multilayer structure is sufficient, and there are three or more layers. Also good.

遮光層２２Ｒ_１及び遮光層Ｒ_２は、遮光層２２Ｒ_１及び遮光性Ｒ_２の積層体として構成されたときに、上記遮光層２２Ｒの遮光性能を実現する構成とされていればよい。Shielding layer 22R₁ and the light shielding layer R_2, when configured as a laminate of the light-shielding layer 22R₁ and light-shielding R_2, need only be configured to realize the shielding performance of thelight shielding layer 22R.

このように、遮光層２２Ｒを複数層として構成することによって、遮光層２２Ｒを単層構成とする場合に比べて、各層の層厚がおさえられ、成膜性に優れ、遮光層２２Ｒを構成する各層の塗布溶液のゲル化や凝集化が進行するまでの猶予時間（所謂、ポットライフ）が、遮光層２２Ｒを単層構成とする場合に比べて長くなる、と考えられる。
なお、多層構成とされた遮光層２２Ｒの各層（遮光層２２Ｒ_１及び遮光層Ｒ_２）の各々層厚は、遮光層２２Ｒを何層構成とするか等によっても異なるが、例えば、０．５μｍ以上５．０μｍ以下が挙げられる。In this way, by configuring thelight shielding layer 22R as a plurality of layers, the thickness of each layer is suppressed and the film forming property is excellent and thelight shielding layer 22R is configured as compared with the case where thelight shielding layer 22R has a single layer configuration. It is considered that the grace time (so-called pot life) until the gelation or aggregation of the coating solution of each layer proceeds is longer than that in the case where thelight shielding layer 22R has a single layer configuration.
Incidentally, each layer thickness of each layer of the light-shielding layer 22R, which is a multi-layer structure (light-shielding layer 22R₁ and the light shielding layer_{R 2)} varies depending on whether such a number of layers constituting the light-shielding layer 22R, for example, 0.5 [mu] m For example, the thickness is 5.0 μm or less.

なお、遮光層２２Ｒを構成する遮光層２２Ｒ_１と遮光層Ｒ_２との層間に、透光性を有する隔離層（図示省略）を設けた構成としてもよい。この隔離層としては、多層構成の遮光層２２Ｒとして形成されたときに、上記遮光層２２Ｒとしての特性を阻害しない材料で構成すればよい。このような隔離層を、多層構成とされた遮光層２２Ｒを構成する各層の層間（遮光層２２Ｒ_１と遮光層Ｒ_２との層間）に設けることで、隔離層を設けない場合に比べて、多層構成とされた遮光層２２Ｒを構成する各層の密着性や膜質が向上する場合がある。Incidentally, between the layers of the light-shielding layer 22R₁ constituting the light-shielding layer 22R and the light shielding layer R_2, it may be configured to provided an isolation layer (not shown) having a light-transmitting property. The isolation layer may be made of a material that does not impair the characteristics of thelight shielding layer 22R when formed as thelight shielding layer 22R having a multilayer structure. Such isolation layer, by providing the layers of each layer constituting the light-shielding layer 22R, which is a multi-layer structure (layers of the light-shielding layer 22R₁ and the light shielding layer R_2), as compared with the case without the isolation layer, In some cases, the adhesion and film quality of each layer constituting thelight shielding layer 22R having a multilayer structure may be improved.

なお、遮光層２２Ｒを多層構成とした場合には、遮光層２２Ｒを構成する各遮光層（遮光層２２Ｒ_１及び遮光層Ｒ_２）の塗布液の各々イオン伝導度は、単層構成の遮光層２２Ｒと同じ範囲に調整すればよい。In the case where the light-shielding layer 22R has a multilayer structure, each ion conductivity of the coating solution of each light-shielding layer constituting the light-shielding layer 22R (light-shielding layer 22R₁ and the light shielding layer R₂₎ is the light-shielding layer having a single layer structure What is necessary is just to adjust to the same range as 22R.

以下、本実施の形態の表示媒体１１を備えた表示装置１０、及び表示媒体１１に画像を書き込む書込装置について、詳細に説明する。  Hereinafter, thedisplay device 10 including thedisplay medium 11 of the present embodiment and the writing device that writes an image on thedisplay medium 11 will be described in detail.

図１に示すように、表示装置１０に設けられた書込装置１３は、光照射部３４、制御部３８、電圧印加部４０、及び光学模様表示部４２を含んで構成されている。
光照射部３４、電圧印加部４０、及び光学模様表示部４２は、制御部３８に電気的に接続されている。As shown in FIG. 1, thewriting device 13 provided in thedisplay device 10 includes alight irradiation unit 34, acontrol unit 38, avoltage application unit 40, and an opticalpattern display unit 42.
Thelight irradiation unit 34, thevoltage application unit 40, and the opticalpattern display unit 42 are electrically connected to thecontrol unit 38.

制御部３８は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、及びＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）を含むマイクロコンピュータとして構成されており、書込装置１３内の装置各部を制御する。  Thecontrol unit 38 is configured as a microcomputer including a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), and a RAM (Random Access Memory), and controls each unit in thewriting device 13.

電圧印加部４０は、電圧印加部４１及び電圧印加部４３を含んで構成されている。電圧印加部４１は、表示媒体１１の電極１６及び電極１７に電気的に接続されており、電極１６及び電極１７に電圧を印加する。電圧印加部４３は、表示媒体１１の電極１８及び電極１９に電気的に接続されており、電極１８及び電極１９に電圧を印加する。  Thevoltage application unit 40 includes avoltage application unit 41 and avoltage application unit 43. Thevoltage application unit 41 is electrically connected to theelectrode 16 and theelectrode 17 of thedisplay medium 11 and applies a voltage to theelectrode 16 and theelectrode 17. Thevoltage application unit 43 is electrically connected to theelectrode 18 and theelectrode 19 of thedisplay medium 11 and applies a voltage to theelectrode 18 and theelectrode 19.

書込装置１３には、表示媒体１１を装着するためのスロット（図示省略）が設けられており、このスロット（図示省略）に表示媒体１１が装着されることで、スロット（図示省略）に設けられたコネクタ（図示省略）等を介して表示媒体１１の電極１６及び電極１７が電圧印加部４１に電気的に接続され、表示媒体１１の電極１８及び電極１９が電圧印加部４３に電気的に接続される。
また、表示媒体１１が書込装置１３の図示を省略するスロットに装着されると、表示媒体１１は、基板１４側から基板１２側へ向かって光照射部３４から光（第１の波長領域の光及び第２の波長領域の光）を照射される状態となる。Thewriting device 13 is provided with a slot (not shown) for mounting thedisplay medium 11, and is provided in the slot (not shown) by mounting thedisplay medium 11 in this slot (not shown). Theelectrode 16 and theelectrode 17 of thedisplay medium 11 are electrically connected to thevoltage application unit 41 via a connector (not shown) or the like, and theelectrode 18 and theelectrode 19 of thedisplay medium 11 are electrically connected to thevoltage application unit 43. Connected.
Further, when thedisplay medium 11 is installed in a slot (not shown) of thewriting device 13, thedisplay medium 11 receives light from the light irradiation unit 34 (from the first wavelength region) from thesubstrate 14 side toward thesubstrate 12 side. Light and light in the second wavelength region).

電圧印加部４０は、制御部３８から入力された信号に基づいた電圧を、表示媒体１１の電極１６及び電極１７、及び電極１８及び電極１９に印加する構成とされていればよい。電圧印加部４０としては、例えば、バイポーラ高電圧アンプなどが用いられる。  Thevoltage application unit 40 may be configured to apply a voltage based on a signal input from thecontrol unit 38 to theelectrode 16 and theelectrode 17, and theelectrode 18 and theelectrode 19 of thedisplay medium 11. For example, a bipolar high voltage amplifier is used as thevoltage application unit 40.

光照射部３４は、複数の光源３５を含んで構成されている。これらの複数の光源３５は、表示媒体１１に表示される各画素に対応する位置に光を照射する位置に設けられている。各光源３５は、光源３５Ｒと光源３５Ｂとを含んで構成されている。光源３５Ｂは、光導電層２４Ｒが感度を有する波長領域の光として、上記第１の波長領域の光を表示媒体１１に向かって照射する。光源３５Ｒは、光導電層２６Ｃが感度を有する波長領域の光として、上記第２の波長領域の光を表示媒体１１に向かって照射する。  Thelight irradiation unit 34 includes a plurality oflight sources 35. The plurality oflight sources 35 are provided at positions for irradiating light to positions corresponding to the respective pixels displayed on thedisplay medium 11. Eachlight source 35 includes alight source 35R and alight source 35B. Thelight source 35B irradiates thedisplay medium 11 with light in the first wavelength region as light in a wavelength region in which thephotoconductive layer 24R has sensitivity. Thelight source 35R irradiates thedisplay medium 11 with light in the second wavelength region as light in a wavelength region in which the photoconductive layer 26C has sensitivity.

上記光源３５Ｂ及び光源３５Ｒとしては、例えば、ＬＥＤ、無機ＥＬ、有機ＥＬ、レーザー等が用いられる。  As thelight source 35B and thelight source 35R, for example, an LED, an inorganic EL, an organic EL, a laser, or the like is used.

なお、本実施の形態では、光源３５は、表示媒体１１に画像が表示されたときの該画像の各画素に対応して設けられているものとして説明するが、このような構成に限られない。例えば、光源３５Ｂ及び光源３５Ｒを含んだ構成の１つの光源３５を、基板１４の面方向に沿って走査露光させる構成としてもよい。  In the present embodiment, thelight source 35 is described as being provided corresponding to each pixel of the image when the image is displayed on thedisplay medium 11, but is not limited to such a configuration. . For example, onelight source 35 having a configuration including thelight source 35 </ b> B and thelight source 35 </ b> R may be configured to be scanned and exposed along the surface direction of thesubstrate 14.

光学模様表示部４２は、光照射部３４の光源３５Ｒ及び光源３５Ｂから出射されて表示媒体１１に照射される光の一部または全てを遮光する。この光学模様表示部４２による遮光は、制御部３８の制御によって行われる。光学模様表示部４２は、光源３５Ｒ及び光源３５Ｂから表示媒体１１に照射される光の光路を遮光する構成であればよく、一例として、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）等の表示媒体が挙げられる。  The opticalpattern display unit 42 shields part or all of the light emitted from thelight source 35R and thelight source 35B of thelight irradiation unit 34 and applied to thedisplay medium 11. The light shielding by the opticalpattern display unit 42 is performed under the control of thecontrol unit 38. The opticalpattern display unit 42 only needs to be configured to block the optical path of light emitted from thelight source 35R and thelight source 35B to thedisplay medium 11, and examples thereof include a display medium such as an LCD (Liquid Crystal Display).

光学模様表示部４２は、例えば、画素毎に設けられた光源３５から出射された光を画素毎、または各画素に対応する光源３５Ｒ及び光源３５Ｂ毎に遮光するために、制御部３８の制御によって、遮光対象の光源３５（光源３５Ｒ、光源３５Ｂ）の光路を遮断するように、光学模様表示部４２の対応する領域に黒色画像等を表示する。  The opticalpattern display unit 42 is controlled by thecontrol unit 38 in order to block the light emitted from thelight source 35 provided for each pixel, for each pixel, or for eachlight source 35R andlight source 35B corresponding to each pixel. A black image or the like is displayed in a corresponding region of the opticalpattern display unit 42 so as to block the optical path of the light source 35 (light source 35R,light source 35B) to be shielded.

本実施の形態の表示装置１０及び書込装置１３では、制御部３８の制御によって、電圧印加部４１から電極１６及び電極１７へ、電圧印加部４３から電極１８及び電極１９へ電圧を印加しつつ、第１の波長領域の光（すなわち、青色及び緑色の少なくとも一方の光）、及び第２の波長領域の光（すなわち赤色の光）を、光照射部３４から光学模様表示部４２を介して表示媒体１１の基板１４側から基板１２側へ向かって照射する。  Indisplay device 10 andwriting device 13 of the present embodiment, voltage is applied fromvoltage application unit 41 toelectrode 16 andelectrode 17 and fromvoltage application unit 43 toelectrode 18 andelectrode 19 under the control ofcontrol unit 38. The light in the first wavelength region (that is, at least one of blue and green light) and the light in the second wavelength region (that is, red light) are transmitted from thelight irradiation unit 34 via the opticalpattern display unit 42. Irradiation is performed from thesubstrate 14 side of thedisplay medium 11 toward thesubstrate 12 side.

光源３５Ｒから出射されて、光学模様表示部４２を透過した第２の波長領域の光が光導電層２６Ｃへ照射されることで、光導電層２６Ｃの該光の照射領域の抵抗値が変化する。この光導電層２６Ｃの抵抗値の変化によって、電極１８及び電極１９間に印加された電圧における表示層２０Ｒの分圧が変化し、表示層２０Ｒの液晶が透過状態から反射状態、または反射状態から透過状態へと変化する。これによって、表示層２０Ｒに画像が表示される。  By irradiating the photoconductive layer 26C with the light of the second wavelength region emitted from thelight source 35R and transmitted through the opticalpattern display unit 42, the resistance value of the light irradiation region of the photoconductive layer 26C changes. . Due to the change in the resistance value of the photoconductive layer 26C, the partial pressure of thedisplay layer 20R at the voltage applied between theelectrodes 18 and 19 changes, and the liquid crystal of thedisplay layer 20R changes from the transmission state to the reflection state or from the reflection state. It changes to a transparent state. Thereby, an image is displayed on thedisplay layer 20R.

一方、光源３５Ｂから出射されて、光学模様表示部４２を透過した第１の波長領域の光が光導電層２４Ｒへ照射されることで、光導電層２４Ｒの該光の照射領域の抵抗値が変化する。この光導電層２４Ｒの抵抗値の変化によって、電極１６及び電極１７間に印加された電圧における表示層２０Ｂ及び表示層２０Ｇの分圧が変化し、表示層２０Ｂ及び表示層２０Ｇの何れか一方または双方の液晶が透過状態から反射状態、または反射状態から透過状態へと変化する。これによって、表示層２０Ｂ及び表示層２０Ｇの何れか一方または双方に画像が表示される。  On the other hand, the light of the first wavelength region emitted from thelight source 35B and transmitted through the opticalpattern display unit 42 is irradiated onto thephotoconductive layer 24R, so that the resistance value of the light irradiation region of thephotoconductive layer 24R is reduced. Change. Due to the change in the resistance value of thephotoconductive layer 24R, the partial pressure of thedisplay layer 20B and thedisplay layer 20G at the voltage applied between theelectrode 16 and theelectrode 17 changes, and either thedisplay layer 20B or thedisplay layer 20G or Both liquid crystals change from the transmissive state to the reflective state, or from the reflective state to the transmissive state. Thereby, an image is displayed on one or both of thedisplay layer 20B and thedisplay layer 20G.

これによって、表示媒体１１に画像が書き込まれる。As a result, an image is written on thedisplay medium 11.

表示装置１０に設けられ、書込装置１３によって画像を書き込まれる表示媒体１１は、基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ及び液晶層２０Ｇの積層体２１、遮光層２２Ｒ、光導電層２４Ｒ、電極１７、基板、電極１８、光導電層２０Ｒ、遮光層２２Ｃ、光導電層２６Ｃ、電極１９、及び基板１４を、この順に設けた構成において、この遮光層２２Ｒが、第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上とされている。
このため、表示装置１０及び書込装置１３では、液晶層２０Ｂ、液晶層２０Ｇ、及び液晶層２０Ｒの各液晶層について、液晶層の液晶が反射状態とされたときの反射率と、液晶層の液晶が透過状態とされたときの反射率と、の差の減少が抑制されると考えられる。Adisplay medium 11 provided in thedisplay device 10 and on which an image is written by thewriting device 13 includes asubstrate 12, anelectrode 16, aliquid crystal layer 20B and alaminate 21 of aliquid crystal layer 20G, alight shielding layer 22R, aphotoconductive layer 24R, and anelectrode 17. In the configuration in which the substrate, theelectrode 18, thephotoconductive layer 20R, the light shielding layer 22C, the photoconductive layer 26C, theelectrode 19, and thesubstrate 14 are provided in this order, thelight shielding layer 22R includes the light in the first wavelength region, and Absorbance with respect to light in the entire wavelength region of 340 nm or more and 430 nm or less is set to 1 or more.
For this reason, in thedisplay device 10 and thewriting device 13, for theliquid crystal layer 20B, theliquid crystal layer 20G, and theliquid crystal layer 20R, the reflectance when the liquid crystal of the liquid crystal layer is in a reflective state, It is considered that a decrease in the difference between the reflectance when the liquid crystal is in a transmissive state is suppressed.

以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、これら各実施例は、本発明を制限するものではない。なお、実施例中「部」および「％」は、特に断らない限りそれぞれ「質量部」および「質量％」を表す。  Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, these examples do not limit the present invention. In the examples, “parts” and “%” represent “parts by mass” and “mass%”, respectively, unless otherwise specified.

（実施例１）
―積層体１の作製―
――基板１４、電極１９、シアンの光導電層２６Ｃ、及び遮光層２２Ｃの積層体１−Ａの作製――
まず、電極１９としてＩＴＯ膜（厚さ８００Å）の形成された１２５μｍ厚のポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム（ハイビーム：東レ製）１４のＩＴＯ膜上に、電荷発生層２６Ｃ_３を形成した。
具体的には、電荷発生材料としてクロロガリウムフタロシアニン、バインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂（エスレックＢＸ−５：積水化学工業社製）を用い、その質量比が１：１となるようブタノールに混合した後ダイノーミルで分散し、４質量％のブタノール分散液（塗布液Ａ）を調製した。
上記ＩＴＯ膜１９上に、塗布液Ａをスピンコート法により、塗布後、１００℃で１５分間乾燥させ、膜厚０．２μｍの電荷発生層２６Ｃ_３を形成した。(Example 1)
-Fabrication of laminate 1-
—Preparation of laminate 1-A ofsubstrate 14,electrode 19, cyan photoconductive layer 26C, and light shielding layer 22C—
First, polyethylene terephthalate (PET) film of 125μm thick was formed an ITO film (thickness 800 Å) as the electrode 19: the (high beam manufactured by Toray Industries, Inc.) 14 of the ITO film was formed on the charge generating layer 26C_3.
Specifically, chlorogallium phthalocyanine as a charge generating material, polyvinyl acetal resin (ESREC BX-5: manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) as a binder resin, mixed with butanol so that the mass ratio becomes 1: 1, and then dynomill To prepare a 4% by weight butanol dispersion (coating liquid A).
On theITO film 19 by a coating liquid A spin coating method, after coating, dried for 15 minutes at 100 ° C., to form a charge generating layer 26C₃ having a thickness of 0.2 [mu] m.

次に、この電荷発生層２６Ｃ_３上に電荷輸送層２６Ｃ_２を形成した。
具体的には、まず、電荷輸送材料として、Ｎ，Ｎ´−ビス（４−エチルフェニル）−１，１´―ビフェニル−４，４´−ジアミン、バインダー樹脂としてポリカーボネート樹脂（ＰＣＺ３００：三菱瓦斯化学社製）を用い、その質量比が３：２となるよう、モノクロロベンゼンに溶解し、２０質量％溶液（塗布液Ｂ）を調製した。
この塗布液Ｂを電荷発生層２６Ｃ_３上にスピンコート法を用いて塗布後、１００℃で４５分間乾燥し、膜厚６．５μｍの電荷輸送層２６Ｃ_２を形成した。
以上のようにして光導電層２６Ｃを形成した。Next, to form a charge transport layer 26C₂ on the charge generating layer 26C_3.
Specifically, first, N, N′-bis (4-ethylphenyl) -1,1′-biphenyl-4,4′-diamine is used as a charge transport material, and polycarbonate resin (PCZ300: Mitsubishi Gas Chemical) is used as a binder resin. And 20% by mass solution (coating solution B) was prepared by dissolving in monochlorobenzene so that the mass ratio was 3: 2.
After coating the coating liquid B by spin coating on the charge generation layer 26C_3, dried for 45 minutes at 100 ° C., to form a charge transport layer 26C₂ having a thickness of 6.5 [mu] m.
The photoconductive layer 26C was formed as described above.

この光導電層２６Ｃ上に、ポリビニルアルコール（ＥＧ−３０：日本合成化学社製）を、溶媒としての水／エタノール混合溶媒（質量混合比＝７０／３０）に溶解した塗布液（固形分濃度４質量％）を、スピンコート法により塗布後、１００℃で１５分間乾燥して０．５μｍ厚の第一隔離層を形成した。On this photoconductive layer 26C, a coating solution (solid content concentration 4) in which polyvinyl alcohol (EG-30: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) was dissolved in a water / ethanol mixed solvent (mass mixing ratio = 70/30) as a solvent. Mass%) was applied by a spin coating method and then dried at 100 ° C. for 15 minutes to form a first isolation layer having a thickness of 0.5 μm.

次に、この第一隔離層上に、ポリビニルアセタール樹脂（エスレックＢＸ−５：積水化学工業社製）を、溶媒としてのブタノール溶液に溶解した塗布液（固形分濃度２質量％）を、スピンコート法により塗布後、１００℃で１５分間乾燥して０．１μｍ厚の第二隔離層を形成した。Next, on this first isolation layer, a coating solution (solid concentration 2% by mass) in which a polyvinyl acetal resin (ESREC BX-5: manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) is dissolved in a butanol solution as a solvent is spin-coated. After coating by the method, it was dried at 100 ° C. for 15 minutes to form a second isolation layer having a thickness of 0.1 μm.

さらに、この第二隔離層上に、遮光層２２Ｃを形成した。
具体的には、フタロシアニン系青色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：６の水分散液と、バインダー樹脂としてポリビニルアルコール（ＥＧ−３０：日本合成化学社製）をあらかじめ溶解した水溶液を、顔料とバインダー樹脂の質量比が１：１となるように混合し、水分散液（塗布液Ｃ、固形分濃度８質量％）を調製した。
この塗布液Ｃを、スピンコート法を用いて塗布後、１００℃で６０分間乾燥し、膜厚１．０μｍの遮光層２２Ｃを形成した。Further, a light shielding layer 22C was formed on the second isolation layer.
Specifically, an aqueous dispersion of phthalocyanine-based blue pigment Pigment Blue 15: 6 and an aqueous solution in which polyvinyl alcohol (EG-30: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is dissolved in advance as a binder resin, and the mass ratio of the pigment and the binder resin is It mixed so that it might become 1: 1, and the aqueous dispersion (coating liquid C, solid content concentration 8 mass%) was prepared.
The coating liquid C was applied by using a spin coating method and then dried at 100 ° C. for 60 minutes to form a light shielding layer 22C having a thickness of 1.0 μm.

また、この塗布液Ｃを用いて、透明なＰＥＴフィルム上に、膜厚１．０μｍの遮光層を形成し、３７０ｎｍ以上７００ｎｍの波長の光に対する吸収スペクトルを分光光度計Ｕ―４１００（日立製作所製）を用いて測定したところ、図３の線図５０に示す結果が得られた。Further, using this coating liquid C, a light shielding layer having a film thickness of 1.0 μm is formed on a transparent PET film, and an absorption spectrum for light having a wavelength of 370 nm to 700 nm is measured with a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi, Ltd.). ), The result shown in the diagram 50 of FIG. 3 was obtained.

次に、この遮光層２２Ｃ上に、接着層として、酢酸ブチルで希釈した二液性ウレタンラミネート剤（タケラックＡ３１５／タケネートＡ５０：三井化学社製）をスピンコート法を用いて塗布、１００℃で１０分間乾燥し１．２μｍの接着層を形成した。Next, a two-component urethane laminating agent (Takelac A315 / Takenate A50: manufactured by Mitsui Chemicals) diluted with butyl acetate is applied as an adhesive layer on the light-shielding layer 22C using a spin coating method. It was dried for minutes to form a 1.2 μm adhesive layer.

このようにして、積層体１―Ａを形成した。In this way, the laminate 1-A was formed.

――基板１５、電極１８、及び液晶層２０Ｒの積層体１−Ｂの作製――
一方、別のＰＥＴ（厚さ１２５μｍ）上に電極として形成されたＩＴＯ膜（厚さ８００Å）１８上に、表示層２０Ｒを形成した。
具体的には、ネマチック液晶（Ｅ７：メルク社製）、カイラル剤１（ＣＢ１５：メルク社製）、カイラル剤２（Ｒ１０１１：メルク社製）を適量混合し、赤の色光を選択反射するコレステリック液晶を調製した。
このコレステリック液晶を４．２μｍ径のセラミック多孔質膜をセットした膜乳化装置（マイクロキット：ＳＰＧテクノ社製）を用いて０．２５％のドデシルベンゼン酸ナトリウム水溶液中で乳化を実施した。得られたエマルジョンのコレステリック液晶ドロップの平均粒径を、レーザー粒度分布計を用いて測定したところ、約１５μｍと見積もられた。—Preparation of laminate 1-B ofsubstrate 15,electrode 18 andliquid crystal layer 20R—
On the other hand, thedisplay layer 20R was formed on the ITO film (thickness 800 mm) 18 formed as an electrode on another PET (thickness 125 μm).
Specifically, a nematic liquid crystal (E7: manufactured by Merck), chiral agent 1 (CB15: manufactured by Merck), chiral agent 2 (R1011: manufactured by Merck) are mixed in appropriate amounts, and cholesteric liquid crystal that selectively reflects red color light. Was prepared.
This cholesteric liquid crystal was emulsified in a 0.25% aqueous sodium dodecylbenzeneate solution using a membrane emulsifier (Micro Kit: manufactured by SPG Techno Co., Ltd.) in which a 4.2 μm-diameter ceramic porous membrane was set. When the average particle size of the cholesteric liquid crystal drop of the obtained emulsion was measured using a laser particle size distribution meter, it was estimated to be about 15 μm.

上記のようにして得られたエマルジョンを一昼夜放置し、液晶ドロップの沈降後、上澄みを取り除くことにより、液晶ドロップの体積率が約６０％の濃縮エマルジョンを得た。このエマルジョンに、液晶とゼラチンの重量比が７：３となるように、あらかじめ調製しておいた１０％ゼラチン水溶液を加えることによりＲ表示層塗布液（塗布液Ｄ）を作製した。
この塗布液Ｄを、アプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚２０μｍの表示層２０Ｒを形成した。The emulsion obtained as described above was allowed to stand overnight, and after the liquid crystal drop settled, the supernatant was removed to obtain a concentrated emulsion having a liquid crystal drop volume ratio of about 60%. An R display layer coating solution (coating solution D) was prepared by adding a 10% gelatin aqueous solution prepared in advance so that the weight ratio of liquid crystal to gelatin was 7: 3.
The coating liquid D was applied using an applicator and then dried to form adisplay layer 20R having a thickness of 20 μm.

このようにして、積層体１―Ｂを形成した。In this way, the laminated body 1-B was formed.

前記形成した１―Ａと１―Ｂとを接着層と表示層２０Ｒが接するようにして密着させ、７０℃でラミネートを行い、積層体１を作製した。The formed 1-A and 1-B were brought into close contact with each other so that the adhesive layer and thedisplay layer 20R were in contact with each other, and laminated at 70 ° C. to produce a laminate 1.

―積層体２の作製―
――基板１５、電極１７、光導電層２４Ｒの積層体１−Ｂの作製――
まず、電極１７としてＩＴＯ膜（厚さ８００Å）の形成された１２５μｍ厚のＰＥＴフィルム（基板１５に相当）のＩＴＯ膜（電極１７に相当）上に、電荷発生層２４Ｒ_３を形成した。
具体的には、電荷発生材料としてジブロモアンスアンスロン、バインダー樹脂としてポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ：積水化学工業社製）を用い、その質量比が１：３となるようにブタノールに混合、ダイノーミルで分散し、４質量％のブタノール分散液（塗布液Ｅ）を調製した。-Production of laminate 2-
—Preparation of laminate 1-B ofsubstrate 15,electrode 17, andphotoconductive layer 24R—
First, on the ITO film of the PET film 125μm thick formed of an ITO film (thickness 800 Å) (corresponding to the substrate 15) (corresponding to the electrode 17) as anelectrode 17, to form acharge generation layer 24R_3.
Specifically, dibromoanthanthrone is used as the charge generation material, polyvinyl butyral resin (ESREC BM-S: manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) is used as the binder resin, and mixed with butanol so that the mass ratio is 1: 3. To prepare a 4% by weight butanol dispersion (coating solution E).

上記電極１７としてのＩＴＯ膜上に、塗布液Ｅをスピンコート法により塗布後、１００℃で１５分間乾燥させ、膜厚０．２μｍの電荷発生層２４Ｒ_３を形成した。
次に、この電荷発生層２４Ｒ_３上に電荷輸送層２４Ｒ_２を形成した。
具体的には、前記調製した荷輸送材料を含む塗布液Ｂを電荷発生層２４Ｒ_３上にスピンコート法を用いて塗布後、１００℃で４５分間乾燥し、膜厚６．５μｍの電荷輸送層２４Ｒ_２を形成した。以上のようにして光導電層２４Ｒを形成した。A coating solution E was applied on the ITO film as theelectrode 17 by a spin coating method and then dried at 100 ° C. for 15 minutes to form acharge generation layer 24R₃ having a thickness of 0.2 μm.
Next, to form acharge transport layer 24R₂ on thecharge generating layer 24R_3.
Specifically, after coating by spin coating a coating solution B containing charge transport material prepared above on thecharge generation layer 24R_3, dried for 45 minutes at 100 ° C., a charge transport layer having a thickness of 6.5μm to form a 24R_2. Thephotoconductive layer 24R was formed as described above.

さらに、前記と同様にして、第一隔離層と第二隔離層を形成した。さらに、形成した第二隔離層の上に、遮光層２２Ｒを形成した。
具体的には赤色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ２５４と黄色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３９の水分散液と、バインダー樹脂としてポリビニルアルコール（ＥＧ−３０：日本合成化学社製）をあらかじめ溶解した水溶液を、顔料Ｐ．Ｒ．２５４とＰ．Ｙ．１３９とバインダー樹脂の質量比が０．８：０．２：１となるように混合し、水分散液（塗布液Ｆ）を調製した。
この塗布液Ｆをスピンコート法を用いて塗布後、乾燥し、膜厚１．５μｍの遮光層２２Ｒを形成した。Further, a first isolation layer and a second isolation layer were formed in the same manner as described above. Further, alight shielding layer 22R was formed on the formed second isolation layer.
Specifically, an aqueous dispersion of a red pigment Pigment Red254 and a yellow pigment Pigment Yellow 139 and an aqueous solution in which polyvinyl alcohol (EG-30: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) as a binder resin is dissolved in advance is used. R. 254 and P.I. Y. 139 and the binder resin were mixed so that the mass ratio was 0.8: 0.2: 1 to prepare an aqueous dispersion (coating solution F).
This coating solution F was applied using a spin coat method and then dried to form alight shielding layer 22R having a thickness of 1.5 μm.

さらに、この遮光層２２Ｒ上に、接着層として、酢酸ブチルで希釈した二液性ウレタンラミネート剤（タケラックＡ３１５／タケネートＡ５０：三井化学社製）をスピンコート法を用いて塗布、１００℃で１０分間乾燥し１．２μｍの接着層を形成した。
このようにして、積層体２―Ａを作製した。Further, a two-component urethane laminating agent (Takelac A315 / Takenate A50: manufactured by Mitsui Chemicals) diluted with butyl acetate is applied as an adhesive layer on thelight shielding layer 22R using a spin coating method, and the coating is performed at 100 ° C. for 10 minutes. Dried to form a 1.2 μm adhesive layer.
In this way, the laminate 2-A was produced.

――基板１２、電極１６、液晶層２０Ｂ、及び液晶層２０Ｇの積層体２−Ｂの作製――
一方、別のＰＥＴ基板（厚さ１２５μｍ）（基板１２に相当）上に電極１６として形成されたＩＴＯ膜（厚さ８００Å）上に、表示層２０Ｂおよび表示層２０Ｇを形成した。なお、基板１２としてはＩＴＯが形成された側とは反対側の表面に３４０ｎｍ以下の紫外光をカットする紫外光遮光層が形成されたものを用いた。—Preparation of laminate 2-B ofsubstrate 12,electrode 16,liquid crystal layer 20B, andliquid crystal layer 20G—
On the other hand, thedisplay layer 20B and thedisplay layer 20G were formed on an ITO film (thickness: 800 mm) formed as theelectrode 16 on another PET substrate (thickness 125 μm) (corresponding to the substrate 12). In addition, the board |substrate 12 used what the ultraviolet light shielding layer which cuts ultraviolet light below 340 nm was formed in the surface on the opposite side to the side in which ITO was formed.

具体的には、ネマチック液晶（Ｅ７：メルク社製）、カイラル剤１（ＣＢ１５：メルク社製）、カイラル剤２（Ｒ１０１１：メルク社製）を適量混合し、青色の色光を選択反射するコレステリック液晶を調製した。
このコレステリック液晶を４．２μｍ径のセラミック多孔質膜をセットした膜乳化装置（マイクロキット：ＳＰＧテクノ社製）を用いて０．２５％のドデシルベンゼン酸ナトリウム水溶液中で乳化を実施した。得られたエマルジョンのコレステリック液晶ドロップの平均粒径を、レーザー粒度分布計を用いて測定したところ、約１５μｍと見積もられた。
上記のようにして得られたエマルジョンを一昼夜放置し、液晶ドロップの沈降後、上澄みを取り除くことにより、液晶ドロップの体積率が約６０％の濃縮エマルジョンを得た。このエマルジョンに、液晶とゼラチンの重量比が７：３となるように、あらかじめ調製しておいた１０％ゼラチン水溶液を加え、さらにゼラチンを架橋する架橋剤として３０％のグリオキサール水溶液を塗布液中固形分の５％になるよう添加し、Ｂ表示層塗布液（塗布液Ｇ）を作製した。この塗布液Ｇをアプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚１５μｍの表示層２０Ｂを形成した。Specifically, a nematic liquid crystal (E7: manufactured by Merck), a chiral agent 1 (CB15: manufactured by Merck), and a chiral agent 2 (R1011: manufactured by Merck) are mixed in appropriate amounts to selectively reflect blue color light. Was prepared.
This cholesteric liquid crystal was emulsified in a 0.25% aqueous sodium dodecylbenzeneate solution using a membrane emulsifier (Micro Kit: manufactured by SPG Techno Co., Ltd.) in which a 4.2 μm-diameter ceramic porous membrane was set. When the average particle size of the cholesteric liquid crystal drop of the obtained emulsion was measured using a laser particle size distribution meter, it was estimated to be about 15 μm.
The emulsion obtained as described above was allowed to stand overnight, and after the liquid crystal drop settled, the supernatant was removed to obtain a concentrated emulsion having a liquid crystal drop volume ratio of about 60%. A 10% gelatin aqueous solution prepared in advance so that the weight ratio of liquid crystal to gelatin is 7: 3 is added to this emulsion, and 30% glyoxal aqueous solution as a crosslinking agent for crosslinking gelatin is solidified in the coating solution. B display layer coating solution (coating solution G) was prepared. The coating liquid G was applied using an applicator and then dried to form adisplay layer 20B having a thickness of 15 μm.

同様にして、ネマチック液晶（Ｅ７：メルク社製）、カイラル剤１（ＣＢ１５：メルク社製）、カイラル剤２（Ｒ１０１１：メルク社製）を適量混合し、緑色の色光を選択反射するコレステリック液晶を調製した。このコレステリック液晶を前記と同様に乳化、調液を行い、Ｇ表示層塗布液（塗布液Ｈ）を作製した。この塗布液Ｈを、アプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、膜厚１５μｍの表示層２０Ｇを形成した。Similarly, nematic liquid crystal (E7: manufactured by Merck), chiral agent 1 (CB15: manufactured by Merck), chiral agent 2 (R1011: manufactured by Merck) are mixed in appropriate amounts, and cholesteric liquid crystal that selectively reflects green color light Prepared. This cholesteric liquid crystal was emulsified and prepared in the same manner as described above to prepare a G display layer coating liquid (coating liquid H). The coating liquid H was applied using an applicator and then dried to form adisplay layer 20G having a thickness of 15 μm.

このようにして、積層体２―Ｂを作製した。In this way, a laminate 2-B was produced.

前記形成した２―Ａと２―Ｂを接着層と表示層２０Ｇが接するようにして密着させ、７０℃でラミネートを行い、積層体２を形成した。The formed 2-A and 2-B were brought into close contact so that the adhesive layer and thedisplay layer 20G were in contact with each other, and laminated at 70 ° C. to form a laminate 2.

―表示媒体Ａ１の作製―
次に、積層体１と積層体２を貼り合わせて一体化し、表示媒体Ａ１を作製した。-Production of display medium A1-
Next, the laminated body 1 and the laminated body 2 were bonded and integrated to produce a display medium A1.

具体的には、積層体１の液晶層塗布基板１５の液晶塗布面とは逆側に、接着層として、酢酸ブチルで希釈した二液性ウレタンラミネート剤（タケラックＡ３１５／タケネートＡ５０：三井化学社製）をスピンコート法を用いて塗布、３０℃で６０分間乾燥し１．２μｍの接着層を形成した。
この接着層と、積層体２の光導電層塗布基板１５の光導電層塗布面と逆側面が接するようにして、密着させ、５０℃でラミネートを行い、表示媒体Ａ１を作製した。Specifically, a two-component urethane laminating agent diluted with butyl acetate as an adhesive layer (Takelac A315 / Takenate A50: manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) on the side opposite to the liquid crystal application surface of the liquid crystallayer application substrate 15 of the laminate 1 ) Was applied using a spin coating method and dried at 30 ° C. for 60 minutes to form a 1.2 μm adhesive layer.
The adhesive layer and the photoconductive layer coatedsubstrate 15 of the laminate 2 were in close contact with each other so that the side opposite to the photoconductive layer coated surface was in contact, and laminated at 50 ° C. to produce a display medium A1.

（実施例２）
実施例１で作製した表示媒体Ａ１において、遮光層２２Ｒを、下記の遮光層２２Ｒ_１及び遮光層２２Ｒ_２の２層の積層体とした以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で表示媒体Ａ２を作製した。(Example 2)
In the display medium A1 prepared in Example 1, the light-shielding layer 22R, except that a laminate of two layers of the light-shielding layer 22R₁ and thelight shielding layer 22R₂ below, the same method as in Example 1, materials, and conditions Display medium A2 was produced.

遮光層２２Ｒ₂の形成は、具体的には、赤色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ２５４の水分散液と、バインダー樹脂としてポリビニルアルコール（ＥＧ−３０：日本合成化学社製）をあらかじめ溶解した水溶液を、顔料とバインダー樹脂の質量比が１：１となるように混合し、水分散液（塗布液）を調製した。この塗布液をスピンコート法を用いて塗布後、１００℃で１５分間乾燥し、遮光層２２Ｒ_２を形成した。上記成膜した遮光層２２Ｒ₂の厚みは１．０μｍであった。Specifically, thelight shielding layer 22R₂ is formed by using an aqueous dispersion of a red pigment Pigment Red254 and an aqueous solution in which polyvinyl alcohol (EG-30: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is dissolved in advance as a binder resin. Were mixed so that the mass ratio was 1: 1 to prepare an aqueous dispersion (coating solution). After coating the coating liquid by spin coating, and dried for 15 minutes at 100 ° C., to form a light-shielding layer 22R_2. The depositedlight shielding layer 22R₂ had a thickness of 1.0 μm.

次に、この遮光層２２Ｒ₂上に、下記方法で遮光層２２Ｒ₁を形成した。この遮光層２２Ｒ_２の形成は、具体的には、黄色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３９と、バインダー樹脂としてポリメチルメタクリレート樹脂（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を、顔料とバインダー樹脂の質量比が１：２となるように酢酸ｎプロピルに混合し、酢酸ｎプロピル分散液（塗布液）を調製した。この塗布液をスピンコート法を用いて塗布後、１００℃で１５分間乾燥し、遮光層２２Ｒ₁を形成した。
上記成膜した遮光層２２Ｒ₁の厚みは１．０μｍであった。Next, thelight shielding layer 22R₁ was formed on thelight shielding layer 22R₂ by the following method. Specifically, thelight shielding layer 22R₂ is formed by using yellow pigment Pigment Yellow 139 and polymethyl methacrylate resin (manufactured by Aldrich) as a binder resin and acetic acid so that the mass ratio of the pigment and the binder resin is 1: 2. The mixture was mixed with n-propyl to prepare an n-propyl acetate dispersion (coating solution). This coating solution was applied using a spin coating method and then dried at 100 ° C. for 15 minutes to form alight shielding layer 22R₁ .
The thickness of the depositedlight shielding layer 22R₁ was 1.0 μm.

また、上記遮光層２２Ｒ_１及び遮光層２２Ｒ_２の２層構成の遮光層２２Ｒを透明なＰＥＴフィルム上に同じ厚み（１．０μｍ）に成膜し、３７０ｎｍ以上７００ｎｍの波長の光に対する吸収スペクトルを分光光度計Ｕ―４１００（日立製作所製）を使用して測定したところ、図３の線図５０に示すように、実施例１と同じ結果が得られた。Further, formed on thelight shielding layer 22R₁ and thelight shielding layer 22R₂ of a two-layer structure of the light-shielding layer 22R a transparent PET film on the same thickness (1.0 .mu.m), the absorption spectrum for light having a wavelength of 700nm or more 370nm When measured using a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi, Ltd.), the same result as in Example 1 was obtained as shown in the diagram 50 of FIG.

（比較例１）
実施例１で作製した表示媒体Ａ１において、遮光層２２Ｒを、下記の比較遮光層１とした以外は、実施例１と同じ方法、材料、及び条件で比較表示媒体Ｂ１を作製した。(Comparative Example 1)
Comparative display medium B1 was produced by the same method, material, and conditions as Example 1 except that thelight shielding layer 22R was changed to the following comparative light shielding layer 1 in the display medium A1 produced in Example 1.

比較遮光層１の形成は、具体的には、赤色顔料Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ２５４水分散液と、バインダー樹脂としてポリビニルアルコール（ＥＧ−３０：日本合成化学社製）をあらかじめ溶解した水溶液を、顔料とバインダー樹脂の質量比が１：１となるように混合し、水分散液（塗布液）を調製した。この塗布液をスピンコート法を用いて塗布後、１００℃で１５分間乾燥し、遮光層２２Ｒを形成した
この比較遮光層１の厚みは１．０μｍであった。Specifically, the formation of the comparative light-shielding layer 1 is performed by using a red pigment Pigment Red254 aqueous dispersion and an aqueous solution in which polyvinyl alcohol (EG-30: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is dissolved in advance as a binder resin. The mixture was mixed so that the mass ratio was 1: 1 to prepare an aqueous dispersion (coating solution). This coating solution was applied using a spin coating method and then dried at 100 ° C. for 15 minutes to form alight shielding layer 22R. The thickness of this comparative light shielding layer 1 was 1.0 μm.

また、上記比較遮光層１を透明なＰＥＴフィルム上に同じ厚み（１．０μｍ）に成膜し、３７０ｎｍ以上７００ｎｍの波長の光に対する吸収スペクトルを分光光度計Ｕ−４１００（日立製作所製）を使用して測定したところ、図３の線図５２に示す結果が得られた。  Further, the comparative light shielding layer 1 is formed on a transparent PET film with the same thickness (1.0 μm), and an absorption spectrum for light having a wavelength of 370 nm to 700 nm is used with a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi, Ltd.). As a result, the result shown in the diagram 52 of FIG. 3 was obtained.

―反射率評価―
上記実施例１〜実施例２及び比較例１で作製した、表示媒体Ａ１〜表示媒体Ａ２及び比較表示媒体Ｂ１の各々について、２５℃５０％ＲＨの環境下で、電極間（電極１８及び電極１９に相当するＩＴＯ間）に５０Ｈｚの矩形交流電圧を印加するとともに６００μＷ/cm²の露光量の光（波長６６０ｎｍ）を０．２秒間照射した後に、該電圧印加と露光を解除することによって、書き込みを行ない、シアン表示したときの反射率を積分球型分光測色計ＣＭ−２０２２（ミノルタ製）を用いて測定した。つづいて、上記の明書込において、書込光である６００μＷ／ｃｍ^２の光を照射しないこと以外は全く同様の操作を行なった。この状態は書込光を照射しない暗書込に相当する。この状態の反射率を同様にして測定した。―Reflectance evaluation―
For each of the display medium A1 to display medium A2 and comparative display medium B1 prepared in Examples 1 to 2 and Comparative Example 1, the electrodes (electrodes 18 and 19) were used in an environment of 25 ° C. and 50% RH. By applying a rectangular AC voltage of 50 Hz between the ITO (corresponding to ITO) and irradiating light (wavelength 660 nm) with an exposure amount of 600 μW / cm² for 0.2 seconds, and then releasing the voltage application and exposure to write The reflectance when cyan display was performed was measured using an integrating sphere type spectrocolorimeter CM-2022 (manufactured by Minolta). Subsequently, in the above-described bright writing, exactly the same operation was performed except that the writing light of 600 μW / cm² was not irradiated. This state corresponds to dark writing without irradiation of writing light. The reflectance in this state was measured in the same manner.

次に、実施例１〜実施例２及び比較例１で作製した、表示媒体Ａ１〜表示媒体Ａ２及び比較表示媒体Ｂ１の各々について、屋外での実使用を想定した耐久試験として、２５℃５０％ＲＨの環境下において、擬似太陽光（装置：サンテストＣＰＳ＋（東洋精機）、照射光：キセノンランプ／約１０万ルクス）を、基板１２側から３時間照射した。  Next, for each of the display medium A1 to display medium A2 and comparative display medium B1 produced in Examples 1 to 2 and Comparative Example 1, 25 ° C. and 50% as an endurance test assuming actual use outdoors. In an RH environment, simulated sunlight (apparatus: Suntest CPS + (Toyo Seiki), irradiation light: xenon lamp / approximately 100,000 lux) was irradiated from thesubstrate 12 side for 3 hours.

そして、擬似太陽光露光に伴う明暗反射率の変化を調べたところ、表１に示す結果が得られた。  And when the change of the light-dark reflectance accompanying pseudo sunlight exposure was investigated, the result shown in Table 1 was obtained.

表１に示されるように、実施例１〜実施例２で作製した表示媒体Ａ１〜表示媒体Ａ２は、比較例１で作製した比較表示媒体Ｂ１に比べて、擬似太陽光に長時間暴露されても明反射率の低下はみられなかった。
詳細には、比較例１で作製した比較表示媒体Ｂ１は、擬似太陽光による暴露（３時間）で明反射率が著しく低下した。一方実施例１〜２で作製した表示媒体Ａ１〜表示媒体Ａ２は、疑似太陽光による暴露時間が３時間を経過してもなお、明反射率の低下はみられなかった。As shown in Table 1, the display media A1 to A2 produced in Examples 1 and 2 were exposed to simulated sunlight for a long time compared to the comparative display media B1 produced in Comparative Example 1. However, no decrease in bright reflectance was observed.
Specifically, the bright reflectance of the comparative display medium B1 produced in Comparative Example 1 was significantly reduced by exposure to simulated sunlight (3 hours). On the other hand, the display media A1 to display media A2 produced in Examples 1 and 2 did not show a decrease in the bright reflectance even when the exposure time by pseudo sunlight passed 3 hours.

１０ 表示装置
１１ 表示媒体
１３ 書込装置
１６、１７、１８、１９ 電極
２０Ｂ、２０Ｇ、２０Ｒ 表示層
２２Ｒ、２２Ｃ 遮光層
２４Ｒ、２６Ｃ 光導電層
４０ 電圧印加部DESCRIPTION OFSYMBOLS 10Display apparatus 11Display medium 13Writing apparatus 16, 17, 18, 19Electrode 20B, 20G,20R Display layer 22R, 22CLight shielding layer 24R,26C Photoconductive layer 40 Voltage application part

Claims (4)

Translated fromJapanese

第１の電極と、
反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、
青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光、に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、
前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、
第２の電極と、
第３の電極と、
反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、
前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、
前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、
第４の電極と、
をこの順に備えた表示媒体。A first electrode;
A laminate having a first liquid crystal layer that reflects blue light when in the reflective state, and a second liquid crystal layer that reflects green light when in the reflective state;
A first light-absorbing layer having an absorbance of 1 or more with respect to light in a predetermined first wavelength region of light in the blue and green wavelength regions and light in all wavelength regions of 340 nm to 430 nm;
A first photoconductive layer that exhibits an electrical property distribution according to an intensity distribution of the light by absorbing light in the first wavelength region;
A second electrode;
A third electrode;
A third liquid crystal layer that reflects red light when in a reflective state;
A second light-absorbing layer that transmits light in the first wavelength region and has an absorbance of 1 or more for light in a predetermined second wavelength region out of light in the red wavelength region;
A second photoconductive layer exhibiting an electrical characteristic distribution according to an intensity distribution of the light by absorbing light in the second wavelength region;
A fourth electrode;
A display medium with the above in this order. 前記第１の光吸収層が、複数の層からなる積層体である請求項１に記載の表示媒体。  The display medium according to claim 1, wherein the first light absorption layer is a laminate including a plurality of layers.第１の電極と、反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、第２の電極と、第３の電極と、反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、第４の電極と、をこの順に備えた表示媒体について、
前記第１の電極と前記第２の電極の間、及び前記第３の電極と前記第４の電極の間に電圧を印加する電圧印加装置と、
前記表示媒体の前記第４の電極側から、前記第１の波長領域の光及び前記第２の波長領域の光の少なくとも一方を照射する照射装置と、
を備えた書込装置。A laminate having a first electrode, a first liquid crystal layer that reflects blue light when in a reflective state, and a second liquid crystal layer that reflects green light when in a reflective state; A first light-absorbing layer having an absorbance of 1 or more with respect to light in a predetermined first wavelength region of light in a blue and green wavelength region and light in all wavelength regions of 340 nm to 430 nm; By absorbing light in the first wavelength region, the first photoconductive layer showing the electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the light, the second electrode, the third electrode, and the reflection state are obtained. A third liquid crystal layer that reflects red light when transmitted, and transmits light in the first wavelength region, and the light in the second wavelength region determined in advance in light in the red wavelength region A second light absorption layer having an absorbance of 1 or more and absorbing light in the second wavelength region; A second photoconductive layer showing a more electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the light, the display medium comprising: a fourth electrode, in this order,
A voltage applying device for applying a voltage between the first electrode and the second electrode, and between the third electrode and the fourth electrode;
An irradiation device for irradiating at least one of the light in the first wavelength region and the light in the second wavelength region from the fourth electrode side of the display medium;
A writing device comprising:第１の電極と、反射状態とされたときに青色の光を反射する第１の液晶層、及び反射状態とされたときに緑色の光を反射する第２の液晶層を有する積層体と、青色及び緑色の波長領域の光のうちの予め定められた第１の波長領域の光、及び３４０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の全波長領域の光に対する吸光度が１以上である第１の光吸収層と、前記第１の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第１の光導電層と、第２の電極と、第３の電極と、反射状態とされたときに赤色の光を反射する第３の液晶層と、前記第１の波長領域の光を透過し、且つ赤色の波長領域の光のうちの予め定められた第２の波長領域の光に対する吸光度が１以上である第２の光吸収層と、前記第２の波長領域の光を吸収することにより該光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す第２の光導電層と、第４の電極と、をこの順に備えた表示媒体と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間、及び前記第３の電極と前記第４の電極の間に電圧を印加する電圧印加装置と、
前記表示媒体の前記第４の電極側から、前記第１の波長領域の光及び前記第２の波長領域の光の少なくとも一方を照射する照射装置と、
を備えた表示装置。A laminate having a first electrode, a first liquid crystal layer that reflects blue light when in a reflective state, and a second liquid crystal layer that reflects green light when in a reflective state; A first light-absorbing layer having an absorbance of 1 or more with respect to light in a predetermined first wavelength region of light in a blue and green wavelength region and light in all wavelength regions of 340 nm to 430 nm; By absorbing light in the first wavelength region, the first photoconductive layer showing the electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the light, the second electrode, the third electrode, and the reflection state are obtained. A third liquid crystal layer that reflects red light when transmitted, and transmits light in the first wavelength region, and the light in the second wavelength region determined in advance in light in the red wavelength region A second light absorption layer having an absorbance of 1 or more and absorbing light in the second wavelength region; A second photoconductive layer showing a more electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the light, a display medium comprising the fourth electrode, in this order,
A voltage applying device that applies a voltage between the first electrode and the second electrode and between the third electrode and the fourth electrode;
An irradiation device for irradiating at least one of the light in the first wavelength region and the light in the second wavelength region from the fourth electrode side of the display medium;
A display device comprising:

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