JP2008129708A - Transparent touch panel and its manufacturing method - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent touch panel to prevent a transparent electrode from beeing seen from the outside and a method for manufacturing the same. <P>SOLUTION: At an upper electrode substrate side, a transparent electrode line d1 is arranged as a dummy electrode D1 in spaces S1 and S2 between a common electrode c1 and an X detection electrode x1 and an X detection electrode x2, and at a lower electrode substrate side, a transparent electrode line d2 is arranged as a dummy electrode D2 in a space S3 between adjacent Y detection electrodes yn. Thus, it is possible to reduce the difference of contrast between a section having the common electrode c1, the X detection electrode xb and the Y detection electrode yn and a section where only the dummy electrodes D1 and D2 are arranged. Therefore, an inside transparent electrode is hardly seen when a transparent touch panel is peeked from the outside. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

Translated fromJapanese

本発明は、複数の透明電極が配線された静電センサを備えた透明タッチパネルに係わり、特に透明電極が外部から見え難くした透明タッチパネル及びその製造方法に関する。  The present invention relates to a transparent touch panel including an electrostatic sensor in which a plurality of transparent electrodes are wired, and more particularly to a transparent touch panel in which a transparent electrode is hardly visible from the outside and a method for manufacturing the same.

特許文献１には、可動電極板と固定電極板の各表面に、全面にわたって均一で連続した格子網目状の金属膜を形成することにより、製造の容易化と透明性の確保を図った透明タッチパネルが開示されている。  Patent Document 1 discloses a transparent touch panel that facilitates manufacturing and secures transparency by forming a uniform and continuous lattice network metal film on each surface of a movable electrode plate and a fixed electrode plate. Is disclosed.

特許文献２には、透明抵抗膜に複数の微小な開口部を設けることにより、透過する光の干渉に差を生じさせてニュートンリングの発生を抑えることにより、画像の鮮明さを確保するようにした透明タブレット装置が記載されている。
特開２００４−１９２０９３号公報特開平１０−３０１７１６号公報InPatent Document 2, by providing a plurality of minute openings in the transparent resistance film, a difference is caused in the interference of transmitted light to suppress the generation of Newton rings, thereby ensuring the clearness of the image. A transparent tablet device is described.
JP 2004-192093 A JP-A-10-301716

透明タッチパネルは、一方の透明シートに形成された複数のＸ方向電極と、他方の透明シートに形成された複数のＹ方向電極とが対向配置される構成が一般的である。前記Ｘ方向電極およびＹ方向電極は、例えばＩＴＯ（Indium TinOxide；酸化インジウムスズ）など、可視光の透過率の高い電極（以下、適宜「透明電極」という）により形成される。  The transparent touch panel generally has a configuration in which a plurality of X-direction electrodes formed on one transparent sheet and a plurality of Y-direction electrodes formed on the other transparent sheet are arranged to face each other. The X direction electrode and the Y direction electrode are formed of an electrode having a high visible light transmittance (hereinafter, referred to as “transparent electrode” as appropriate) such as ITO (Indium Tin Oxide).

しかし、透明電極は、抵抗値が高い場合にはその膜厚が薄く、可視光の透過率が低いために外部から見え難いが、抵抗値が低くなると膜厚が厚くなって可視光の透過率も高くなるため外部から見え易くなるという性質を有する。  However, the transparent electrode has a thin film thickness when the resistance value is high, and it is difficult to see from the outside because the visible light transmittance is low, but when the resistance value is low, the film thickness becomes thick and the visible light transmittance is low. Therefore, it is easy to see from the outside.

したがって、このような性質を有する透明電極が透明シート上に配線されると、特に透明シートのみの部分と、高い抵抗値からなる透明電極が配線された部分との間の境界部分が鮮明となるため、これらの間におけるコントラストの差が大きくなり、外部から透明電極が視認されやすくなるという問題がある。特に、携帯電話機になどにおいては、透明タッチパネルは液晶表示装置の上部（表面側）に配置されるため、液晶表示装置に表示された画面の視認性が低下することになる。  Therefore, when the transparent electrode having such a property is wired on the transparent sheet, a boundary portion between the portion of the transparent sheet alone and the portion where the transparent electrode having a high resistance value is wired becomes clear. Therefore, there is a problem that the difference in contrast between them becomes large and the transparent electrode is easily visible from the outside. In particular, in a mobile phone or the like, since the transparent touch panel is disposed on the upper side (front side) of the liquid crystal display device, the visibility of the screen displayed on the liquid crystal display device is lowered.

本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、外部から内部に配線されている透明電極が見え難くした透明タッチパネル及びその製造方法を提供することを目的としている。  The present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and an object thereof is to provide a transparent touch panel in which it is difficult to see a transparent electrode wired from the outside to the inside, and a manufacturing method thereof.

本発明は、少なくとも、Ｙ方向に所定の隙間を有して並ぶ複数の第１の透明電極が配置された第１の基板と、前記Ｙ方向と直交するＸ方向に所定の隙間を有して並ぶ複数の第２の透明電極が配置された第２の基板と、が対向配置された透明タッチパネルにおいて、
少なくとも一方の基板の前記各電極間の隙間に、第３の透明電極が配置されていることを特徴とするものである。The present invention has at least a first substrate on which a plurality of first transparent electrodes arranged with a predetermined gap in the Y direction are arranged, and a predetermined gap in the X direction orthogonal to the Y direction. In the transparent touch panel in which the second substrate on which the plurality of second transparent electrodes arranged are arranged to face each other,
A third transparent electrode is disposed in a gap between the electrodes of at least one substrate.

本発明の透明タッチパネルでは、検出用の透明電極間に透明なダミー電極を配置したため、検出用の透明電極が形成された部分と透明なダミー電極が形成された部分と間のコントラスト差を小さくすることができる。よって、外部から検出用の透明電極を見え難くすることができる。  In the transparent touch panel of the present invention, since the transparent dummy electrode is disposed between the transparent electrodes for detection, the contrast difference between the portion where the transparent electrode for detection is formed and the portion where the transparent dummy electrode is formed is reduced. be able to. Therefore, it is possible to make it difficult to see the transparent electrode for detection from the outside.

例えば、前記隙間に共通電極が設けられており、前記第３の透明電極は、前記第１の透明電極と前記共通電極との間、または前記第２の透明電極と前記共通電極との間に設けられているものとして構成される。  For example, a common electrode is provided in the gap, and the third transparent electrode is between the first transparent electrode and the common electrode, or between the second transparent electrode and the common electrode. It is configured as provided.

上記手段では、外部から第１の透明電極および共通電極、あるいは第２の透明電極および共通電極を見え難くすることができる。  In the above means, it is possible to make the first transparent electrode and the common electrode or the second transparent electrode and the common electrode difficult to see from the outside.

上記において、前記第３の透明電極は、その長手方向が前記第１の透明電極または第２の透明電極が延びる方向と同じであるものが好ましい。  In the above, it is preferable that the third transparent electrode has the same longitudinal direction as the direction in which the first transparent electrode or the second transparent electrode extends.

このように、前記第１の透明電極または第２の透明電極と、第３の透明電極（ダミー電極を構成する電極線）とのｎ長さ方向を揃えておくと、各透明電極と前記ダミー電極との境界部分のコントラスト差をより小さくすることができ、各透明電極をより見え難くすることができる。  In this way, when the n length direction of the first transparent electrode or the second transparent electrode and the third transparent electrode (electrode line constituting the dummy electrode) are aligned, each transparent electrode and the dummy The difference in contrast at the boundary with the electrode can be made smaller, and each transparent electrode can be made more difficult to see.

例えば、前記第３の透明電極が、前記長手方向において所定の寸法で分断されているものとして構成される。  For example, the third transparent electrode is configured to be divided by a predetermined dimension in the longitudinal direction.

上記においては、前記第１の透明電極または前記第２の透明電極には、前記長手方向に所定の間隔で並ぶ凹凸が形成されているものが好ましい。  In the above, it is preferable that the first transparent electrode or the second transparent electrode has irregularities arranged at predetermined intervals in the longitudinal direction.

上記手段では、共通電極とＸ検出電極とに形成される静電容量、または共通電極とＹ検出電極とに形成される静電容量を一定とすることができるため、精度の高い検出が可能となる。  In the above means, the capacitance formed on the common electrode and the X detection electrode or the capacitance formed on the common electrode and the Y detection electrode can be made constant, so that highly accurate detection is possible. Become.

さらに、前記第３の透明電極が、他のいずれの電極からも絶縁されているものが好ましい。  Furthermore, it is preferable that the third transparent electrode is insulated from any other electrode.

上記手段では、第３の透明電極としてのダミー電極が形成された部分の静電容量を、第３の透明電極を有しない場合に比較して大きくすることができる。  According to the above means, the capacitance of the portion where the dummy electrode as the third transparent electrode is formed can be increased as compared with the case where the third transparent electrode is not provided.

さらには、前記第１の基板と前記第２の基板は、透明なシートまたは基板で形成され、さらには前記第１の基板と前記第２の基板とが静電容量式の入力手段として機能するものが好ましい。
上記手段では静電容量式の透明タッチパネルとすることができる。Furthermore, the first substrate and the second substrate are formed of a transparent sheet or substrate, and further, the first substrate and the second substrate function as a capacitance type input means. Those are preferred.
The above means can be a capacitive transparent touch panel.

また本発明は、上記いずれかに記載の透明タッチパネルの製造方法であって、
（ａ）透明基板上に透明抵抗層を形成する工程と、
（ｂ）前記透明抵抗層の表面にレジスト層を形成し、且つ前記レジスト層に所定のマスクを当てて露光することにより所定の配線パターンを焼き付ける工程と、
（ｃ）前記レジスト層に位置決め用のマークを形成する工程と、
（ｄ）前記レジスト層の前記マークを除く部分を現像し、且つエッチング処理を行うことにより、透明基板上に前記第１の透明電極または前記第２の透明電極を形成する工程と、
（ｅ）前記透明基板上の画像を位置決めマークとともに取り込むとともに、取り込んだ前記位置決めマークを基準として前記透明基板上に所定の引き出し線を印刷する工程と、
（ｆ）前記第２の透明電極が配置された第２の基板の上に、前記第１の透明電極が配置された第１の基板を重ねた状態で両基板を貼り合わせる工程と、
（ｇ）前記貼り合わされた両基板を個々の透明タッチパネルに切断し、このとき前記マークを一緒に切除する工程と、
を有することを特徴とするものである。Moreover, this invention is a manufacturing method of the transparent touchscreen in any one of the above,
(A) forming a transparent resistance layer on the transparent substrate;
(B) forming a resist layer on the surface of the transparent resistance layer and baking a predetermined wiring pattern by exposing the resist layer to a predetermined mask; and
(C) forming a positioning mark on the resist layer;
(D) forming the first transparent electrode or the second transparent electrode on a transparent substrate by developing a portion of the resist layer excluding the mark and performing an etching process;
(E) capturing an image on the transparent substrate together with a positioning mark, and printing a predetermined lead line on the transparent substrate based on the captured positioning mark;
(F) bonding the two substrates together in a state where the first substrate on which the first transparent electrode is disposed is overlaid on the second substrate on which the second transparent electrode is disposed;
(G) cutting the bonded substrates into individual transparent touch panels, and cutting the marks together at this time;
It is characterized by having.

本発明では、位置決めマークを基準として各電極を配置することができる。このため、Ｘ検出電極とＹ検出電極との間における位置ずれ量を小さくすることができ、結果として精度の高い透明タッチパネルとすることができる。  In the present invention, each electrode can be arranged based on the positioning mark. For this reason, the amount of positional deviation between the X detection electrode and the Y detection electrode can be reduced, and as a result, a highly accurate transparent touch panel can be obtained.

前記（ｂ）工程では、前記Ｘ検出電極、共通電極およびダミー電極が一度に焼き付けられ、または前記Ｙ検出電極とダミー電極とが一度に焼き付けられるものが好ましい。  In the step (b), it is preferable that the X detection electrode, the common electrode, and the dummy electrode are baked at a time, or the Y detection electrode and the dummy electrode are baked at a time.

上記手段では、一度の工程で、上部電極基板ではＸ検出電極、共通電極およびダミー電極を焼き付けることができ、下部電極基板ではＹ検出電極およびダミー電極を焼き付けることができる。よって、製造工程の一部を省略ないしは簡略化することが可能となる。  In the above means, the X detection electrode, the common electrode and the dummy electrode can be baked on the upper electrode substrate, and the Y detection electrode and the dummy electrode can be baked on the lower electrode substrate in one step. Therefore, part of the manufacturing process can be omitted or simplified.

本発明の透明タッチパネルでは、透明シート上のＸ検出電極またはＹ検出電極が形成された部分の光透過率と、ダミー電極が形成された部分の光透過率との差を小さし、全面において均一な透明度とすることができる。このため、外部から透明タッチパネルを覗いたときに、外部から透明電極を視認し難くすることができる。  In the transparent touch panel of the present invention, the difference between the light transmittance of the portion where the X detection electrode or the Y detection electrode is formed on the transparent sheet and the light transmittance of the portion where the dummy electrode is formed is small, and uniform over the entire surface. Transparency. For this reason, when a transparent touch panel is looked at from the outside, it can be made difficult to visually recognize a transparent electrode from the outside.

また本発明の製造方法では、Ｘ検出電極とＹ検出電極との間における位置ずれ量を小さくするとができるため、精度の高い透明タッチパネルを形成することが可能となる。  Moreover, in the manufacturing method of this invention, since the positional offset amount between X detection electrode and Y detection electrode can be made small, it becomes possible to form a highly accurate transparent touch panel.

以下、本発明の実施の形態について適宜図面を参照しつつ説明する。
図１は本発明の実施の形態に係る透明タッチパネルの概略構成として上層電極基板と下層電極基板とが対向する状態を示す斜視図、図２は透明タッチパネル一部を構成する上層電極基板の実施の形態を示す平面図、図３は同じく透明タッチパネルの一部を構成する下層電極基板の実施の形態を示す平面図、図４は上層電極基板と下層電極基板とが積層された状態の一部を拡大して示す平面図、図５は上部電極基板が設けられたダミー電極を拡大して示す平面図、図６は下部電極基板設けられたダミー電極を拡大して示す平面図である。なお、図４では上部電極基板１０側を実線で示し、下部電極基板２０側を点線で示している。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings as appropriate.
FIG. 1 is a perspective view showing a state where an upper electrode substrate and a lower electrode substrate face each other as a schematic configuration of a transparent touch panel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows an implementation of an upper electrode substrate constituting a part of the transparent touch panel. FIG. 3 is a plan view showing an embodiment of a lower electrode substrate that also constitutes a part of the transparent touch panel, and FIG. 4 is a part of a state in which the upper electrode substrate and the lower electrode substrate are laminated. FIG. 5 is an enlarged plan view showing the dummy electrode provided with the upper electrode substrate, and FIG. 6 is an enlarged plan view showing the dummy electrode provided with the lower electrode substrate. In FIG. 4, theupper electrode substrate 10 side is indicated by a solid line, and thelower electrode substrate 20 side is indicated by a dotted line.

本発明の透明タッチパネル１は、例えば携帯電話機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）などのモバイル機器をはじめとするさまざまな電子機器に搭載される。  Thetransparent touch panel 1 of the present invention is mounted on various electronic devices such as mobile devices such as mobile phones and PDAs (Personal Digital Assistants).

図１に示すように、本発明の透明タッチパネル１は上部電極基板１０と下部電極基板２０を有している。これら上部電極基板１０と下部電極基板２０とは板厚方向に積層された状態で貼り合わせられ、一枚の透明タッチパネル１が構成されている。  As shown in FIG. 1, thetransparent touch panel 1 of the present invention has anupper electrode substrate 10 and alower electrode substrate 20. Theupper electrode substrate 10 and thelower electrode substrate 20 are bonded together in a state of being laminated in the plate thickness direction, and onetransparent touch panel 1 is configured.

図２に示すように、上部電極基板１０は、ＰＥＴやアクリルなどからなる絶縁性および可撓性を有する薄手の透明シート（第１の基板）１１で形成されている。前記透明シート１１の表面には、Ｙ方向に延びる複数のＸ検出電極（第１の透明電極）ｘｎ（個別にｘ１,ｘ２,ｘ３,・・・,ｘ１３で示す）と複数の共通電極ｃｎ（個別にｃ１,ｃ２,ｃ３,・・・,ｃ１３で示す）がＸ方向に交互に配置されている。Ｘ検出電極ｘｎと共通電極ｃｎとは、ＩＴＯ（IndiumTin Oxide；酸化インジウムスズ）など可視光の透過率の高い電極（透明電極）により形成されている。  As shown in FIG. 2, theupper electrode substrate 10 is formed of a thin transparent sheet (first substrate) 11 having insulating properties and flexibility made of PET, acrylic, or the like. On the surface of thetransparent sheet 11, a plurality of X detection electrodes (first transparent electrodes) xn (indicated by x1, x2, x3,..., X13 individually) extending in the Y direction and a plurality of common electrodes cn ( (Indicated by c1, c2, c3,..., C13) are alternately arranged in the X direction. The X detection electrode xn and the common electrode cn are formed of an electrode (transparent electrode) having a high visible light transmittance such as ITO (Indium Tin Oxide).

前記Ｘ検出電極ｘ１,ｘ２,ｘ３,・・・,ｘ１３の前記共通電極ｃｎと対向するＸ方向の左右両辺には、複数の凹部と凸部とからなる凹凸がＹ方向に沿って交互に所定の間隔で配置されている。すなわち、隣り合うＸ検出電極ｘｎと共通電極ｃｎとは所定の距離を隔てＸ方向の左右にて対向しており、これらの間には小さなスペース（隙間）Ｓ１，Ｓ２が形成されている。共通電極ｃｎと前記Ｘ検出電極ｘｎの凸部との間に形成されるスペース（第１の隙間）Ｓ１は狭く、共通電極ｃｎと前記Ｘ検出電極ｘｎの凹部との間に形成されるスペース（第２の隙間）Ｓ２はそれよりも広い。そして、狭いスペースＳ１と広いスペースＳ２とは、各Ｘ検出電極ｘｎのＸ方向の両側位置にＹ方向に沿って交互に配置されている。  On the left and right sides of the X detection electrodes x1, x2, x3,..., X13 facing the common electrode cn, irregularities including a plurality of concave portions and convex portions are alternately specified along the Y direction. Are arranged at intervals. That is, the adjacent X detection electrode xn and the common electrode cn are opposed to each other in the X direction at a predetermined distance, and small spaces (gap) S1 and S2 are formed between them. A space (first gap) S1 formed between the common electrode cn and the convex portion of the X detection electrode xn is narrow, and a space formed between the common electrode cn and the concave portion of the X detection electrode xn ( The second gap S2 is wider than that. The narrow space S1 and the wide space S2 are alternately arranged along the Y direction at both side positions in the X direction of the X detection electrodes xn.

前記Ｘ検出電極ｘｎと前記共通電極ｃｎとの間に所定の電圧が印加されると、各電極間に静電容量が形成される。前記のように前記Ｘ検出電極ｘ１,ｘ２,ｘ３,・・・,ｘ１３の左右両辺に複数の凹凸を形成しておくと、例えば共通電極ｃ１については、前記共通電極ｃ１とＸ検出電極ｘ１との間に形成される静電容量と、前記共通電極ｃ１とＸ検出電極ｘ２との間に形成される静電容量との差（ばらつき）を小さく抑えることができる。このことは、他の共通電極ｃｎと、これにＸ方向の左右両側の位置にて隣接する他のＸ検出電極ｘｎとの間でも同様である。すなわち、複数の凹凸は、ある共通電極ｃｎとこれに隣接するＸ検出電極ｘｎとの間に形成される静電容量を、いずれの組み合わせにおいてもほぼ一定とすることができ、精度の高い検出を可能とする。なお、凹凸は前記Ｘ検出電極ｘｎの左右両辺に形成されるものに限られるものではなく、前記共通電極ｃｎの左右両辺に形成される構成であってもよいし、あるいは前記Ｘ検出電極ｘｎと前記共通電極ｃｎの双方に形成される構成であってもよい。  When a predetermined voltage is applied between the X detection electrode xn and the common electrode cn, a capacitance is formed between the electrodes. If a plurality of irregularities are formed on the left and right sides of the X detection electrodes x1, x2, x3,..., X13 as described above, for example, for the common electrode c1, the common electrode c1 and the X detection electrode x1 The difference (variation) between the capacitance formed between the capacitance and the capacitance formed between the common electrode c1 and the X detection electrode x2 can be reduced. This is the same between the other common electrode cn and the other X detection electrode xn adjacent to the common electrode cn at positions on the left and right sides in the X direction. That is, the plurality of irregularities can make the capacitance formed between a certain common electrode cn and the X detection electrode xn adjacent to the common electrode cn almost constant in any combination, and can detect with high accuracy. Make it possible. The irregularities are not limited to those formed on the left and right sides of the X detection electrode xn, but may be formed on both the left and right sides of the common electrode cn, or the X detection electrode xn The structure formed in both the said common electrodes cn may be sufficient.

図５に拡大して示すように、上部電極基板１０側の透明シート１１の前記スペースＳ１，Ｓ２内にはダミー電極（第３の透明電極）Ｄ１を設けられている。前記ダミー電極Ｄ１は、前記Ｘ検出電極ｘ２または共通電極ｃ１，ｃ２が延びる長手方向（Ｙ方向）を長辺とする複数の細く透明な電極線ｄ１で形成されており、このような微細な電極線ｄ１が並び方向（Ｘ方向）に沿って一定の間隔で配置されている。個々の電極線ｄ１は、図５に示すように小片状に分断された状態で配置されていてもよいし、また前記Ｘ検出電極ｘｎに形成された個々の凹部や凸部の長さ寸法と同程度の長さ寸法で形成されていてもよい。あるいはＸ検出電極ｘｎ自体の長さ寸法と同程度の長さ寸法を有する状態で配置されていてもよい。ただし、個々の電極線ｄ１は、前記Ｘ検出電極ｘｎおよび前記共通電極ｃｎをはじめとする他のいずれの電極線ｄ１にも接触することなく、電気的に絶縁された状態で配置されていることが好ましい。  As shown in an enlarged view in FIG. 5, dummy electrodes (third transparent electrodes) D <b> 1 are provided in the spaces S <b> 1 and S <b> 2 of thetransparent sheet 11 on theupper electrode substrate 10 side. The dummy electrode D1 is formed of a plurality of thin and transparent electrode lines d1 having a long side in the longitudinal direction (Y direction) in which the X detection electrode x2 or the common electrodes c1 and c2 extend. The lines d1 are arranged at regular intervals along the arrangement direction (X direction). The individual electrode lines d1 may be arranged in a state of being divided into small pieces as shown in FIG. 5, and the length dimensions of the individual recesses and projections formed in the X detection electrode xn. It may be formed with the same length. Or you may arrange | position in the state which has a length dimension comparable as the length dimension of X detection electrode xn itself. However, each electrode line d1 is disposed in an electrically insulated state without contacting any other electrode line d1 including the X detection electrode xn and the common electrode cn. Is preferred.

このように電極線ｄ１を他のいずれの電極からも絶縁させた状態にしておくと、例えばＸ検出電極ｘｎと共通電極ｃｎとの間に複数のコンデンサを直列に配置した場合と等価にできる。あるいは複数の電極線ｄ１が有する幅寸法分だけ、Ｘ検出電極ｘｎと共通電極ｃｎとの対向距離が狭まった場合と等価となるため、この間の静電容量を大きくすることができる。  If the electrode line d1 is insulated from any other electrode in this way, it can be equivalent to, for example, a case where a plurality of capacitors are arranged in series between the X detection electrode xn and the common electrode cn. Alternatively, this is equivalent to the case where the opposing distance between the X detection electrode xn and the common electrode cn is reduced by the width dimension of the plurality of electrode lines d1, and thus the capacitance between them can be increased.

図１および図２に示すように、前記透明シート１１のＹ２方向の縁部には、前記透明シート１１から連続して延びる可撓性配線部１０Ａが形成されている。この可撓性配線部１０Ａには、前記Ｘ検出電極ｘ１,ｘ２,ｘ３,・・・,ｘ１３から延びる引き出し線１３が配線されている。各引き出し線１３は、例えば銀など導電性の金属でパターン形成したものであり、互いに接することなく可撓性配線部１０Ａを介して外部に引き出されている。  As shown in FIGS. 1 and 2, aflexible wiring portion 10 </ b> A that extends continuously from thetransparent sheet 11 is formed at the edge of thetransparent sheet 11 in the Y2 direction. Leadwires 13 extending from the X detection electrodes x1, x2, x3,..., X13 are wired to theflexible wiring portion 10A. Eachlead wire 13 is formed by patterning with a conductive metal such as silver, for example, and is led to the outside via theflexible wiring portion 10A without being in contact with each other.

またすべての共通電極ｃ１,ｃ２,ｃ３,・・・,ｃ１３は、図示Ｙ１側の位置にて図示Ｘ方向に沿うように形成された接続電極１４を介して導通接続されている。前記接続電極１４は、例えば銀などの導電性の金属によりパターン形成されている。そして、Ｘ方向の中央に位置する共通電極ｃ７のＹ２側の端部には、同じく銀などの導電性の金属で形成した引き出し線１５が接続されており、引き出し線１５は可撓性配線部１０Ａを介して外部に引き出されている。  Further, all the common electrodes c1, c2, c3,..., C13 are conductively connected through aconnection electrode 14 formed along the X direction in the drawing at a position on the Y1 side in the drawing. Theconnection electrode 14 is patterned with a conductive metal such as silver. Thelead wire 15 formed of a conductive metal such as silver is connected to the Y2 side end of the common electrode c7 located at the center in the X direction. Thelead wire 15 is a flexible wiring portion. It is pulled out through 10A.

図３に示すように、下部電極基板２０は、ガラス基板またはアクリルなど絶縁性を有する透明基板（第２の基板）２１で形成されている。前記透明基板２１の表面には、前記Ｘ検出電極Ｘｎおよび共通電極ｃｎと直交する図示Ｘ方向に延びる複数の複数のＹ検出電極（第２の透明電極））ｙｎ（個別にｙ１,ｙ２,・・・,ｙ１６で示す）が配線されている。なお、Ｙ検出電極ｙｎもＩＴＯ（IndiumTin Oxide；酸化インジウムスズ）などからなる透明電極で形成されている。  As shown in FIG. 3, thelower electrode substrate 20 is formed of an insulating transparent substrate (second substrate) 21 such as a glass substrate or acrylic. On the surface of thetransparent substrate 21, a plurality of Y detection electrodes (second transparent electrodes)) yn (individually y1, y2,... Extending in the X direction shown in the figure orthogonal to the X detection electrode Xn and the common electrode cn). .., indicated by y16). The Y detection electrode yn is also formed of a transparent electrode made of ITO (Indium Tin Oxide).

各Ｙ検出電極ｙ１,ｙ２,・・・,ｙ１６は互い平行であり、同一平面内の隣り合うＹ検出電極ｙｎ間にはほぼ一定の領域からなるスペース（第３の隙間）Ｓ３がそれぞれ設けられている。  Each of the Y detection electrodes y1, y2,..., Y16 is parallel to each other, and a space (third gap) S3 including a substantially constant area is provided between adjacent Y detection electrodes yn in the same plane. ing.

前記下部電極基板２０に縁部には複数の引き出し線２３Ａ，２３Ｂが設けられている。各引き出し線２３Ａは、Ｙ検出電極ｙ１ないしＹ検出電極ｙ８の図示Ｘ１側の端部に個別に接続されており、下部電極基板２０の図示Ｘ１側およびＹ２側の縁部に沿って引き回されている。同様に、各引き出し線２３Ｂは、Ｙ検出電極ｙ９ないしＹ検出電極ｙ１６の図示Ｘ２側の端部に個別に接続されており、下部電極基板２０の図示Ｘ２側およびＹ２側の縁部に沿って引き回されている。  Thelower electrode substrate 20 is provided with a plurality oflead lines 23A and 23B at the edge. Eachlead line 23A is individually connected to the end portion on the X1 side of the Y detection electrode y1 to the Y detection electrode y8, and is led along the X1 side and Y2 side edges of thelower electrode substrate 20. ing. Similarly, each lead-outline 23B is individually connected to the end of the Y detection electrode y9 to the Y detection electrode y16 on the X2 side in the drawing, and along the X2 side and the Y2 side edge of thelower electrode substrate 20 along the edge. Has been routed.

下部電極基板２０のＹ２側の縁部には、透明基板２１の端部から連続して凸状に延びる延出部２０Ａが一体に形成されている。前記引き出し線２３Ａ，２３Ｂは例えば銀など導電性の金属でパターン形成されており、互いに接することなく前記下部電極基板２０のＹ２側の縁部および前記延出部２０Ａを介して外部に引き出されている。  Anextended portion 20 </ b> A that extends continuously from the end portion of thetransparent substrate 21 in a convex shape is integrally formed at the edge portion of thelower electrode substrate 20 on the Y <b> 2 side. The lead lines 23A and 23B are patterned with a conductive metal such as silver, for example, and are led out to the outside through the Y2 side edge of thelower electrode substrate 20 and theextension part 20A without contacting each other. Yes.

図６に示すように、前記スペースＳ３内にはダミー電極（第３の透明電極）Ｄ２が配置されている。ダミー電極Ｄ２は、前記Ｙ検出電極ｙｎに対して平行となるＸ方向を長手方向とする細い透明な電極線ｄ２で形成されており、このような電極線ｄ２が前記スペースＳ３内に並び方向（Ｙ方向）に一定の間隔で配置されている。前記細い電極線ｄ２は前記Ｙ検出電極ｙｎと同じ長さでもよいし、または上記のようにそれよりも短い寸法からなる複数の電極線ｄ２が長手方向に並ぶように配置されるものであってもよい。ただし、個々の電極線ｄ２は、前記Ｙ検出電極ｙｎや他のいずれの電極線ｄ２とも接触することなく、電気的に絶縁された状態で配置されている。このように電極線ｄ２を他のいずれの電極からも絶縁させた状態にしておくと、上記同様に静電容量を大きくすることができる。  As shown in FIG. 6, a dummy electrode (third transparent electrode) D2 is disposed in the space S3. The dummy electrode D2 is formed of a thin transparent electrode line d2 whose longitudinal direction is the X direction parallel to the Y detection electrode yn. Such an electrode line d2 is aligned in the space S3 ( (Y direction) are arranged at regular intervals. The thin electrode line d2 may have the same length as the Y detection electrode yn, or a plurality of electrode lines d2 having a shorter dimension as described above are arranged in the longitudinal direction. Also good. However, the individual electrode lines d2 are arranged in an electrically insulated state without contacting the Y detection electrode yn or any other electrode line d2. When the electrode line d2 is insulated from any other electrode as described above, the capacitance can be increased as described above.

上部電極基板１０は下部電極基板２０の上に重ねた状態で積層される。図４に示すように、上部電極基板１０側の第２のスペースＳ２の下に下部電極基板２０側に設けられた前記Ｙ検出電極ｙｎが配置される。そして、上部電極基板１０側の前記第１，第２のスペースＳ１，Ｓ２内にはダミー電極Ｄ１として電極線ｄ１が配置され、下部電極基板２０側の第３のスペースＳ３にはダミー電極Ｄ２として電極線ｄ２が配線される。  Theupper electrode substrate 10 is stacked on thelower electrode substrate 20 so as to be stacked. As shown in FIG. 4, the Y detection electrode yn provided on thelower electrode substrate 20 side is disposed below the second space S2 on theupper electrode substrate 10 side. An electrode line d1 is disposed as a dummy electrode D1 in the first and second spaces S1 and S2 on theupper electrode substrate 10 side, and a dummy electrode D2 is disposed on the third space S3 on thelower electrode substrate 20 side. The electrode line d2 is wired.

このように、本願発明では、上部電極基板１０においては第１，第２のスペースＳ１，Ｓ２内に多数のダミー電極Ｄ１を配置することができ、下部電極基板２０においては第３のスペースＳ３に多数のダミー電極Ｄ２を配置することができる。このため、上部電極基板１０においてはＸ検出電極ｘｎや共通電極ｃｎが形成された部分とダミー電極Ｄ１のみが形成された第１，第２のスペースＳ１，Ｓ２部分との間におけるコントラストの差を小さくできる。同様に、下部電極基板２０においてはＹ検出電極ｙｎが形成された部分とダミー電極Ｄ２のみが形成された第３のスペースＳ３部分との間におけるコントラストの差を小さくすることができる。よって、外部上方から透明タッチパネル１の表面を覗いたときに、内部に配線されているＸ検出電極ｘｎ、共通電極ｃｎおよびＹ検出電極ｙｎを見え難くすることができる。このため、このような透明タッチパネル１を携帯電話機などの液晶表示装置の上部に搭載したときであっても、前記液晶表示装置に表示された画面の視認性が低下することを避けることができる。  Thus, in the present invention, a large number of dummy electrodes D1 can be arranged in the first and second spaces S1, S2 in theupper electrode substrate 10, and in the third space S3 in thelower electrode substrate 20. A large number of dummy electrodes D2 can be arranged. Therefore, in theupper electrode substrate 10, the difference in contrast between the portion where the X detection electrode xn and the common electrode cn are formed and the first and second spaces S1 and S2 where only the dummy electrode D1 is formed. Can be small. Similarly, in thelower electrode substrate 20, the difference in contrast between the portion where the Y detection electrode yn is formed and the third space S3 portion where only the dummy electrode D2 is formed can be reduced. Therefore, when the surface of thetransparent touch panel 1 is looked at from the outside, it is possible to make the X detection electrode xn, the common electrode cn, and the Y detection electrode yn wired inside difficult to see. For this reason, even when such atransparent touch panel 1 is mounted on the upper part of a liquid crystal display device such as a mobile phone, it is possible to avoid a decrease in the visibility of the screen displayed on the liquid crystal display device.

透明タッチパネル１では、前記共通電極ｃｎを基準に、まず前記Ｘ検出電極ｘ１ないしｘｎに対し所定のタイミングで電圧が順次印加され、続いて前記Ｙ検出電極ｙ１ないしｙｎに対しに所定のタイミングで電圧が順次印加される。これにより、共通電極ｃｎと各前記Ｘ検出電極ｘ１ないしｘｎ間、および共通電極ｃｎと各前記Ｘ検出電極ｙ１ないしｙｎ間に所定の静電容量がそれぞれ所定のタイミングで順次形成される。操作者の指などが、図示しない表面パネルなどを介して透明タッチパネルの表面に接触すると、指の位置に近い部分の静電容量が変化する。このため、各静電容量の変化状態を電圧変化として検出することにより、前記指の座標位置を検出することができる。すなわち、この前記透明シート（第１の基板）１１と前記透明基板（第２の基板）２１とを有する透明タッチパネルは、静電容量式の座標入力手段として機能を有する。  In thetransparent touch panel 1, with reference to the common electrode cn, first, a voltage is sequentially applied to the X detection electrodes x1 to xn at a predetermined timing, and then a voltage is applied to the Y detection electrodes y1 to yn at a predetermined timing. Are sequentially applied. Accordingly, a predetermined capacitance is sequentially formed at a predetermined timing between the common electrode cn and each of the X detection electrodes x1 to xn, and between the common electrode cn and each of the X detection electrodes y1 to yn. When an operator's finger or the like comes into contact with the surface of the transparent touch panel via a surface panel (not shown) or the like, the capacitance of the portion close to the position of the finger changes. For this reason, the coordinate position of the finger can be detected by detecting the change state of each capacitance as a voltage change. That is, the transparent touch panel having the transparent sheet (first substrate) 11 and the transparent substrate (second substrate) 21 functions as a capacitive coordinate input unit.

上記実施の形態では、前記共通電極ｃｎがＸ検出電極ｘ１ないしｘｎ間に配置される構成を示したが、前記共通電極ｃｎはＹ検出電極ｙ１ないしｙｎ間に配置される構成であってもよい。なお、前記共通電極ｃｎは必須のものではないので、上部電極基板１０が下部電極基板２０と同様の構成、すなわちＸ検出電極ｘ１ないしｘｎのみを有する構成であってもよい。  In the above embodiment, the common electrode cn is arranged between the X detection electrodes x1 to xn. However, the common electrode cn may be arranged between the Y detection electrodes y1 to yn. . Since the common electrode cn is not essential, theupper electrode substrate 10 may have a configuration similar to that of thelower electrode substrate 20, that is, a configuration having only the X detection electrodes x1 to xn.

次に、上記透明タッチパネルの製造方法について説明する。
図７Ａないし図７Ｈは本発明における透明タッチパネルの製造方法を示す工程図である。Next, the manufacturing method of the said transparent touch panel is demonstrated.
7A to 7H are process diagrams showing a method for manufacturing a transparent touch panel according to the present invention.

以下においては、１枚の透明基板４１上に複数の上部電極基板１０または下部電極基板２０を形成し、一度に複数の透明タッチパネルを製造する方法について説明する。なお、以下の第１工程から第８の工程までは上部電極基板１０と下部電極基板２０との間で共通である。  Hereinafter, a method of forming a plurality of transparent touch panels at a time by forming a plurality ofupper electrode substrates 10 orlower electrode substrates 20 on onetransparent substrate 41 will be described. The following first to eighth steps are common between theupper electrode substrate 10 and thelower electrode substrate 20.

図７Ａに示すように、第１の工程では、透明基板４１の上に透明抵抗層４２を形成する。前記透明基板４１は、上記の透明シート１１および透明基板２１に相当する。透明抵抗層４２は、ＩＴＯ（Indium TinOxide；酸化インジウムスズ）であり、例えばスパッタ法や真空蒸着法などを用いて成膜され、後述するように透明電極を形成する。  As shown in FIG. 7A, in the first step, thetransparent resistance layer 42 is formed on thetransparent substrate 41. Thetransparent substrate 41 corresponds to thetransparent sheet 11 and thetransparent substrate 21 described above. Thetransparent resistance layer 42 is made of ITO (Indium Tin Oxide) and is formed by using, for example, a sputtering method or a vacuum deposition method, and forms a transparent electrode as described later.

図７Ｂに示すように、第２の工程では、透明抵抗層４２の表面にレジスト層４３が印刷等の手段により形成される。このとき使用されるレジスト層４３は、例えば緑色のような有色のレジスト材が使用される。  As shown in FIG. 7B, in the second step, a resistlayer 43 is formed on the surface of thetransparent resistance layer 42 by means such as printing. The resistlayer 43 used at this time is a colored resist material such as green.

図７Ｃに示すように、第３の工程では、前記レジスト層４３に配線パターンが形成されたマスク５０を対向配置した状態で露光することにより、前記所定の配線パターンが前記レジスト層４３に焼き付けられる。なお、上部電極基板１０用のマスク５０にはＸ検出電極ｘｎ、共通電極ｃｎおよびダミー電極Ｄ１を形成するための孔が形成されており、下部電極基板２０用のマスク５０にはＹ検出電極ｙｎおよびダミー電極Ｄ２を形成するための孔が形成されている。  As shown in FIG. 7C, in the third step, the predetermined wiring pattern is baked on the resistlayer 43 by exposing the resistlayer 43 with amask 50 on which the wiring pattern is formed facing each other. . Note that holes for forming the X detection electrode xn, the common electrode cn, and the dummy electrode D1 are formed in themask 50 for theupper electrode substrate 10, and the Y detection electrode yn is formed in themask 50 for thelower electrode substrate 20. And the hole for forming dummy electrode D2 is formed.

図７Ｄに示すように、第４の工程では、前記レジスト層４３上の所定の位置に位置決め用の第２のレジストからなるマーク４４が部分的に印刷される。前記マーク４４を形成する第２のレジストは、前記レジスト層４３と見分けが付く程度に異なる色であることが好ましい。あるいは、マーク４４の下層側に位置するレジスト層４３の色が透けて見えるように、第２のレジストを透明な色のレジスト材で形成した構成であってもよい。  As shown in FIG. 7D, in the fourth step, amark 44 made of a positioning second resist is partially printed at a predetermined position on the resistlayer 43. The second resist forming themark 44 preferably has a color different from that of the resistlayer 43. Or the structure which formed the 2nd resist with the resist material of the transparent color so that the color of the resistlayer 43 located in the lower layer side of themark 44 can be seen through may be sufficient.

前記マーク４４が印刷される位置は、例えば前記Ｘ検出電極ｘｎ、共通電極ｃｎおよびダミー電極Ｄ１が形成される領域の外側の縁（欄外の位置）が好ましい。前記マーク４４を形成する第２のレジストは、透明タッチパネル１の組立て時における位置決め用のマーク４４であり、組立て完成後は不要となる。このため、前記のようにマーク４４を前記欄外の位置に形成しておくと、透明タッチパネル１の組立て完成後に容易に切除することが可能となる。  The position where themark 44 is printed is preferably, for example, the outer edge (outside position) of the region where the X detection electrode xn, the common electrode cn, and the dummy electrode D1 are formed. The second resist forming themark 44 is apositioning mark 44 when thetransparent touch panel 1 is assembled, and is not required after the assembly is completed. For this reason, if themark 44 is formed at a position outside the margin as described above, it can be easily removed after the assembly of thetransparent touch panel 1 is completed.

なお、前記第２のレジストを、前記レジスト層４３上の少なくとも２箇所以上の位置に形成する構成とすれば、第８の工程以下に説明する位置決めのためのマーク４４として用いることが可能である。  If the second resist is formed at at least two positions on the resistlayer 43, it can be used as apositioning mark 44 described below in the eighth step. .

前記第３の工程と第４の工程の順番は逆の関係であってもよい。すなわち。前記レジスト層４３上の所定の位置に位置決め用の第２のレジスト（マーク４４）が部分的に印刷され、その後にマスクを用いての露光を行うものであってもよい。この場合、マスク５０の位置決めが、前記マーク４４を基準に高精度に行うことが可能となる。  The order of the third step and the fourth step may be reversed. That is. The positioning second resist (mark 44) may be partially printed at a predetermined position on the resistlayer 43, and then exposed using a mask. In this case, themask 50 can be positioned with high accuracy based on themark 44.

図７Ｅに示すように、第５の工程では前記レジスト層４３の現像を行う。このとき、透明基板４１の上には必要なレジスト層４３だけが残り、不要なレジスト層４３が除去される。また第２のレジストからなるマーク４４は除去されず、その下に位置するレジスト層４３とともに残される。  As shown in FIG. 7E, in the fifth step, the resistlayer 43 is developed. At this time, only the necessary resistlayer 43 remains on thetransparent substrate 41, and the unnecessary resistlayer 43 is removed. Further, themark 44 made of the second resist is not removed but remains with the resistlayer 43 located therebelow.

図７Ｆに示すように、第６の工程では、透明抵抗層４２に対しエッチング処理を行うことにより、前記透明基板４１の上に所定の形状からなる透明電極が形成される。すなわち、上部電極基板１０であればＸ検出電極ｘｎ、共通電極ｃｎおよびダミー電極Ｄ１が形成され、下部電極基板２０であればＹ検出電極ｙｎおよびダミー電極Ｄ２が形成される。なお、このときには、前記透明基板４１上に第２のレジスト（マーク４４）が残されている。  As shown in FIG. 7F, in the sixth step, a transparent electrode having a predetermined shape is formed on thetransparent substrate 41 by performing an etching process on thetransparent resistance layer 42. That is, the X detection electrode xn, the common electrode cn, and the dummy electrode D1 are formed in theupper electrode substrate 10, and the Y detection electrode yn and the dummy electrode D2 are formed in thelower electrode substrate 20. At this time, the second resist (mark 44) is left on thetransparent substrate 41.

図７Ｇに示すように、第７の工程では、マーク４４を形成する第２のレジストの部分を除くすべてのレジスト層４３が前記透明基板４１上から除去される。  As shown in FIG. 7G, in the seventh step, all of the resistlayer 43 except the second resist portion that forms themark 44 is removed from thetransparent substrate 41.

上部電極基板１０および下部電極基板２０は、上記第１の工程ないし第７の工程が行われることによりそれぞれ形成される。  Theupper electrode substrate 10 and thelower electrode substrate 20 are respectively formed by performing the first to seventh steps.

第８の工程では、上記第１の工程ないし第７の工程を経て形成された上部電極基板１０と下部電極基板２０の表面が、カメラを有する画像認識装置（図示せず）を用いて撮影され、その画像データがそれぞれ別々に読み込まれる。前記画像認識装置では、上部電極基板１０および下部電極基板２０の表面の２箇所以上の箇所に設けられているマーク４４の位置をパターン認識し、前記マーク４４を基準とする座標データを作成する。そして、前記マーク４４を基準とした上で、前記透明基板４１の表面に各種の導線が銀などの導電性材料を用いて印刷される。すなわち、上部電極基板１０の場合には、透明シート１１の縁部に前記マーク４４を基準として引き出し線１３，１５および接続電極１４が印刷される。同様に、上部電極基板１０の場合には、透明基板２１の縁部に前記マーク４４を基準として引き出し線２３Ａ，２３Ｂが印刷される。このため、上部電極基板１０に形成された引き出し線１３，１５および接続電極１４、下部電極基板２０に形成された引き出し線２３Ａ，２３Ｂなどを高精度に配線することができる。よって、下部電極基板２０の上に上部電極基板１０を積層したときに、上部電極基板１０側のＸ検出電極ｘｎと下部電極基板２０側のＹ検出電極ｙｎとの間での、水平面に平行な方向における位置ずれ量を小さくするとができるため、精度の高い透明タッチパネルを形成することができる。  In the eighth step, the surfaces of theupper electrode substrate 10 and thelower electrode substrate 20 formed through the first to seventh steps are photographed using an image recognition device (not shown) having a camera. The image data is read separately. In the image recognition apparatus, the positions of themarks 44 provided at two or more places on the surface of theupper electrode substrate 10 and thelower electrode substrate 20 are pattern-recognized, and coordinate data based on themarks 44 is created. Then, on the basis of themark 44, various conductive wires are printed on the surface of thetransparent substrate 41 using a conductive material such as silver. That is, in the case of theupper electrode substrate 10, the lead lines 13 and 15 and theconnection electrode 14 are printed on the edge of thetransparent sheet 11 with themark 44 as a reference. Similarly, in the case of theupper electrode substrate 10, lead lines 23 </ b> A and 23 </ b> B are printed on the edge of thetransparent substrate 21 with themark 44 as a reference. Therefore, the lead lines 13 and 15 and theconnection electrode 14 formed on theupper electrode substrate 10 and thelead lines 23A and 23B formed on thelower electrode substrate 20 can be wired with high accuracy. Therefore, when theupper electrode substrate 10 is stacked on thelower electrode substrate 20, the X detection electrode xn on theupper electrode substrate 10 side and the Y detection electrode yn on thelower electrode substrate 20 side are parallel to the horizontal plane. Since the amount of positional deviation in the direction can be reduced, a highly accurate transparent touch panel can be formed.

図７Ｈに示すように、第９の工程では、前記マーク４４を基準として、下部電極基板２０と、その上に積層された上部電極基板１０とが張り合わされる。これにより、複数の透明タッチパネル１を有するシート状の透明タッチパネルが一体的に製造される。この一体化されたシート状の透明タッチパネル１では、各下部電極基板２０の上に各上部電極基板１０が高精度に位置決めされている。  As shown in FIG. 7H, in the ninth step, thelower electrode substrate 20 and theupper electrode substrate 10 laminated thereon are bonded together with themark 44 as a reference. Thereby, the sheet-like transparent touch panel which has the sometransparent touch panel 1 is manufactured integrally. In the integrated sheet-liketransparent touch panel 1, eachupper electrode substrate 10 is positioned with high accuracy on eachlower electrode substrate 20.

続く第１０の工程では、前記シート状の透明タッチパネルが、個々の透明タッチパネルに切り分けられ分離される。この際、前記欄外の位置に設けられたマーク４４を形成する第２のレジストおよびその下部のレジスト層４３が、前記透明タッチパネルから同時に切除される。これにより、透明タッチパネル１が完成する。  In the subsequent tenth step, the sheet-like transparent touch panel is cut and separated into individual transparent touch panels. At this time, the second resist forming themark 44 provided at the outside position and the resistlayer 43 under the mark are simultaneously cut off from the transparent touch panel. Thereby, thetransparent touch panel 1 is completed.

上記実施の形態では、第９ないし第１０の工程において、シート状の透明タッチパネルを一体的に形成した後に、切り分けて個々の透明タッチパネルを完成させる工程をしたが本発明はこれに限られるものはない。すなわち、第８の工程の次に、前記透明基板２１に形成された下部電極基板２０とを個々の下部電極基板２０に切り分け、さらに前記透明シート１１に形成された上部電極基板１０とを個々の上部電極基板１０に切り分け、その後に前記分離後の下部電極基板２０の上に前記分離後の上部電極基板１０を重ねることにより、透明タッチパネルを完成させる構成であってもよい。  In the above embodiment, after the sheet-like transparent touch panel is integrally formed in the ninth to tenth steps, the process of cutting and completing each transparent touch panel is performed, but the present invention is not limited to this. Absent. That is, after the eighth step, thelower electrode substrate 20 formed on thetransparent substrate 21 is cut into individuallower electrode substrates 20, and theupper electrode substrate 10 formed on thetransparent sheet 11 is further divided into individual electrodes. The transparent touch panel may be completed by cutting theupper electrode substrate 10 and then overlapping the separatedupper electrode substrate 10 on the separatedlower electrode substrate 20.

本発明の実施の形態に係る透明タッチパネルの概略構成として上層電極基板と下層電極基板とが対向する状態を示す斜視図、The perspective view which shows the state which an upper layer electrode substrate and a lower layer electrode substrate oppose as schematic structure of the transparent touch panel which concerns on embodiment of this invention,透明タッチパネル一部を構成する上層電極基板の実施の形態を示す平面図、The top view which shows embodiment of the upper layer electrode substrate which comprises a transparent touch panel part,透明タッチパネルの一部を構成する下層電極基板の実施の形態を示す平面図、The top view which shows embodiment of the lower layer electrode substrate which comprises a part of transparent touch panel,上層電極基板と下層電極基板とが積層された状態の一部を拡大して示す平面図、The top view which expands and shows a part of the state where the upper layer electrode substrate and the lower layer electrode substrate were laminated,上部電極基板が設けられたダミー電極を拡大して示す平面図、An enlarged plan view showing a dummy electrode provided with an upper electrode substrate,図６は下部電極基板に設けられたダミー電極を拡大して示す平面図、FIG. 6 is an enlarged plan view showing a dummy electrode provided on the lower electrode substrate,本発明における透明タッチパネルの製造方法を示す一工程図、1 process figure which shows the manufacturing method of the transparent touch panel in this invention,図７Ａに続く一工程図、One process diagram following FIG. 7A,図７Ｂに続く一工程図、One process diagram following FIG. 7B,図７Ｃに続く一工程図、One process diagram following FIG. 7C,図７Ｄに続く一工程図、One process diagram following FIG.図７Ｅに続く一工程図、One process diagram following FIG.図７Ｆに続く一工程図、One process diagram following FIG.下部電極基板に上部電極基板を重ねた状態を示す一工程図、One process diagram showing a state where the upper electrode substrate is stacked on the lower electrode substrate,

符号の説明Explanation of symbols

１ 透明タッチパネル
１０ 上部電極基板
１１ 透明シート
１３，１５ 引き出し線
１４ 接続電極
２０ 下部電極基板
２１ 透明基板
２３Ａ，２３Ｂ 引き出し線
ｘ１〜ｘｎ Ｘ検出電極（第１の透明電極）
ｙ１〜ｙｎ Ｘ検出電極（第２の透明電極）
Ｄ１，Ｄ２ ダミー電極（第３の透明電極）
ｄ１，ｄ２ 電極線
Ｓ１ 第１のスペース（第１の隙間）
Ｓ２ 第２のスペース（第２の隙間）
Ｓ３ 第３のスペース（第３の隙間）DESCRIPTION OFSYMBOLS 1Transparent touch panel 10 Upper electrode board |substrate 11 Transparent sheet | seats 13 and 15 Lead-out line 14Connection electrode 20 Lower electrode board |substrate 21 Transparent board |substrate 23A, 23B Lead-out line x1-xn X detection electrode (1st transparent electrode)
y1 to yn X detection electrodes (second transparent electrodes)
D1, D2 dummy electrode (third transparent electrode)
d1, d2 electrode line S1 first space (first gap)
S2 Second space (second gap)
S3 Third space (third gap)

Claims (10)

Translated fromJapanese

少なくとも、Ｙ方向に所定の隙間を有して並ぶ複数の第１の透明電極が配置された第１の基板と、前記Ｙ方向と直交するＸ方向に所定の隙間を有して並ぶ複数の第２の透明電極が配置された第２の基板と、が対向配置された透明タッチパネルにおいて、少なくとも一方の基板の前記各電極間の隙間に、第３の透明電極が配置されていることを特徴とする透明タッチパネル。  At least a first substrate on which a plurality of first transparent electrodes arranged with a predetermined gap in the Y direction are arranged, and a plurality of first electrodes arranged with a predetermined gap in the X direction orthogonal to the Y direction. A transparent touch panel in which a second substrate on which two transparent electrodes are arranged is opposed to the second substrate, wherein a third transparent electrode is arranged in a gap between the electrodes on at least one of the substrates. Transparent touch panel. 前記隙間に共通電極が設けられており、前記第３の透明電極は、前記第１の透明電極と前記共通電極との間、または前記第２の透明電極と前記共通電極との間に設けられている請求項１記載の透明タッチパネル。  A common electrode is provided in the gap, and the third transparent electrode is provided between the first transparent electrode and the common electrode, or between the second transparent electrode and the common electrode. The transparent touch panel according to claim 1. 前記第３の透明電極は、その長手方向が前記第１の透明電極または第２の透明電極が延びる方向と同じである請求項１または２記載の透明タッチパネル。  The transparent touch panel according to claim 1 or 2, wherein the third transparent electrode has the same longitudinal direction as the direction in which the first transparent electrode or the second transparent electrode extends. 前記第３の透明電極が、前記長手方向において所定の寸法で分断されている請求項１ないし３のいずれか記載の透明タッチパネル。  The transparent touch panel according to claim 1, wherein the third transparent electrode is divided by a predetermined dimension in the longitudinal direction. 前記第１の透明電極または前記第２の透明電極には、前記長手方向に所定の間隔で並ぶ凹凸が形成されている請求項１ないし４のいずれか記載の透明タッチパネル。  The transparent touch panel according to any one of claims 1 to 4, wherein the first transparent electrode or the second transparent electrode is provided with irregularities arranged at predetermined intervals in the longitudinal direction. 前記第３の透明電極が、他のいずれの電極からも絶縁されている請求項１ないし５のいずれかに記載の透明タッチパネル。  The transparent touch panel according to claim 1, wherein the third transparent electrode is insulated from any other electrode. 前記第１の基板と前記第２の基板は、透明なシートまたは基板で形成される請求項１ないし６のいずれかに記載の透明タッチパネル。  The transparent touch panel according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate are formed of a transparent sheet or substrate. 前記第１の基板と前記第２の基板とが静電容量式の入力手段として機能する請求項１ないし７のいずれかに記載の透明タッチパネル。  The transparent touch panel according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate function as a capacitance type input unit. 請求項１ないし８のいずれかに記載の透明タッチパネルの製造方法であって、
（ａ）透明基板上に透明抵抗層を形成する工程と、
（ｂ）前記透明抵抗層の表面にレジスト層を形成し、且つ前記レジスト層に所定のマスクを当てて露光することにより所定の配線パターンを焼き付ける工程と、
（ｃ）前記レジスト層に位置決め用のマークを形成する工程と、
（ｄ）前記レジスト層の前記マークを除く部分を現像し、且つエッチング処理を行うことにより、透明基板上に前記第１の透明電極または前記第２の透明電極を形成する工程と、
（ｅ）前記透明基板上の画像を位置決めマークとともに取り込むとともに、取り込んだ前記位置決めマークを基準として前記透明基板上に所定の引き出し線を印刷する工程と、
（ｆ）前記第２の透明電極が配置された第２の基板の上に、前記第１の透明電極が配置された第１の基板を重ねた状態で両基板を貼り合わせる工程と、
（ｇ）前記貼り合わされた両基板を個々の透明タッチパネルに切断し、このとき前記マークを一緒に切除する工程と、
を有することを特徴とする透明タッチパネルの製造方法。A method for manufacturing a transparent touch panel according to any one of claims 1 to 8,
(A) forming a transparent resistance layer on the transparent substrate;
(B) forming a resist layer on the surface of the transparent resistance layer and baking a predetermined wiring pattern by exposing the resist layer to a predetermined mask; and
(C) forming a positioning mark on the resist layer;
(D) forming the first transparent electrode or the second transparent electrode on a transparent substrate by developing a portion of the resist layer excluding the mark and performing an etching process;
(E) capturing an image on the transparent substrate together with a positioning mark, and printing a predetermined lead line on the transparent substrate based on the captured positioning mark;
(F) bonding the two substrates together in a state where the first substrate on which the first transparent electrode is disposed is overlaid on the second substrate on which the second transparent electrode is disposed;
(G) cutting the bonded substrates into individual transparent touch panels, and cutting the marks together at this time;
A method for producing a transparent touch panel, comprising: 前記（ｂ）工程では、前記Ｘ検出電極、共通電極およびダミー電極が一度に焼き付けられ、または前記Ｙ検出電極とダミー電極とが一度に焼き付けられる請求項９記載の透明タッチパネルの製造方法。  The method for manufacturing a transparent touch panel according to claim 9, wherein in the step (b), the X detection electrode, the common electrode, and the dummy electrode are baked at a time, or the Y detection electrode and the dummy electrode are baked at a time.

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