JP2007196552A - Transparent laminate film, optical filter and plasma display - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To impart resistances to the components present in the environment and exhibit sufficient electromagnetic shielding function. <P>SOLUTION: The transparent laminate film has a laminated structure which makes at least a metal oxide layer and a metal layer overlie one surface or both surfaces of a transparent polymer film with the uppermost surface overlaid with a transparent resin layer. In the laminate film, of the film side end faces, at least the side end face of the above laminated structure is coated with an electrode layer for earth. The optical filter and the plasma display having this are also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

Translated fromJapanese

本発明は、透明積層フィルム、光学フィルターおよびプラズマディスプレイに関するものである。  The present invention relates to a transparent laminated film, an optical filter, and a plasma display.

近年、例えば、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel、以下「ＰＤＰ」という。）など、表示装置に関する分野などでは、電磁波遮蔽機能、近赤外線遮蔽機能などの諸機能を備えた透明積層フィルムが広く用いられている。  In recent years, transparent laminated films having various functions such as an electromagnetic wave shielding function and a near infrared shielding function have been widely used in fields related to display devices such as a plasma display panel (hereinafter referred to as “PDP”). ing.

上記透明積層フィルムとしては、例えば、特許文献１には、ＰＥＴフィルム上に、ＩＴＯ薄膜と銀薄膜とが交互に積層された積層構造を有する透明積層フィルムが開示されている。  As the transparent laminated film, for example, Patent Document 1 discloses a transparent laminated film having a laminated structure in which an ITO thin film and a silver thin film are alternately laminated on a PET film.

このような構造を有する透明積層フィルムをＰＤＰに用いる場合、通常、上記積層構造の最表面縁部に、額縁状の電極が形成される。そして、この電極と、アース接続されたＰＤＰの金属筐体とを、導電性テープや導電性ガスケットなどを介して電気的に接続することにより、透明積層フィルムが接地される。  When a transparent laminated film having such a structure is used for a PDP, a frame-like electrode is usually formed on the outermost surface edge portion of the laminated structure. Then, the transparent laminated film is grounded by electrically connecting the electrode and the metal casing of the PDP connected to the ground via a conductive tape, a conductive gasket, or the like.

例えば、上記特許文献１には、上記透明積層フィルムの最表面縁部に、銀ペーストをスクリーン印刷し、乾燥させて額縁状の電極を形成し、この額縁状の電極をＰＤＰの筐体に電気的に接続して接地する点が開示されている。  For example, in Patent Document 1, a silver paste is screen-printed on the outermost surface edge portion of the transparent laminated film and dried to form a frame-shaped electrode, and this frame-shaped electrode is electrically connected to a PDP casing. Connection and grounding is disclosed.

ところで、上記透明積層フィルムは、環境中に存在する成分により品質が低下することが知られている。とりわけ、積層構造中に銀を含んでいる場合には、銀原子と空気中の塩素イオンとが反応し、白色欠陥を生じることが知られている。  By the way, it is known that the quality of the transparent laminated film is deteriorated by components existing in the environment. In particular, when the laminated structure contains silver, it is known that silver atoms react with chlorine ions in the air to generate white defects.

そのため、最近では、環境中に存在する成分が積層構造中へ侵入するのを防止するため、様々な提案がなされている。  Therefore, recently, various proposals have been made to prevent components existing in the environment from entering the laminated structure.

例えば、特許文献２には、透明高分子フィルム上に、金属薄膜層と透明高屈折率薄膜層とを交互に積層し、その最表面上に透明樹脂層を形成することにより、環境中に存在する成分に対する耐性を持たせた透明積層フィルムが開示されている。  For example, Patent Document 2 discloses that in the environment, metal thin film layers and transparent high refractive index thin film layers are alternately laminated on a transparent polymer film, and a transparent resin layer is formed on the outermost surface thereof. A transparent laminated film having resistance to the components to be disclosed is disclosed.

特開２００１−９２３６３号公報（実施例１、図面）JP 2001-92363 A (Example 1, drawing)特開２００５−２７７２２８号公報JP 2005-277228 A

ところが、この種の透明樹脂層を有する透明積層フィルムは、以下の点で問題があった。  However, the transparent laminated film having this type of transparent resin layer has the following problems.

すなわち、上記透明樹脂層を有する透明積層フィルムをＰＤＰに用いようとした場合、上述したように、積層構造の最表面の縁部、つまり、透明樹脂層表面の縁部に、額縁状の電極を形成し、この額縁状の電極とＰＤＰの金属筐体とを電気的に接続することにより、透明積層フィルムを接地する必要がある。  That is, when the transparent laminated film having the transparent resin layer is to be used for PDP, as described above, a frame-shaped electrode is provided on the edge of the outermost surface of the laminated structure, that is, the edge of the surface of the transparent resin layer. The transparent laminated film needs to be grounded by forming and electrically connecting the frame-shaped electrode and the metal casing of the PDP.

しかしながら、本発明者らの研究によれば、このような接地を行うと、透明積層フィルムの重要な機能の一つである、電磁波遮蔽機能が低下することが判明した。  However, according to research by the present inventors, it has been found that when such grounding is performed, the electromagnetic wave shielding function, which is one of important functions of the transparent laminated film, is lowered.

そのため、せっかく、環境中に存在する成分に対して耐性を持たせるべく透明樹脂層を追加しても、ＰＤＰへの組み付け後に、十分に電磁波遮蔽機能を発揮することができないといった問題があった。  For this reason, there is a problem that even if a transparent resin layer is added to give resistance to components existing in the environment, the electromagnetic wave shielding function cannot be sufficiently exhibited after assembly to the PDP.

そこで、本発明が解決しようとする課題は、環境中に存在する成分に対する耐性を有し、さらに、十分な電磁波遮蔽機能を発現可能な透明積層フィルムを提供することにある。  Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a transparent laminated film having resistance to components existing in the environment and capable of expressing a sufficient electromagnetic wave shielding function.

また、他の課題は、上記透明積層フィルムを有する光学フィルター、上記透明積層フィルムまたは光学フィルターを有するプラズマディスプレイを提供することにある。  Another object is to provide an optical filter having the transparent laminated film, a plasma display having the transparent laminated film or the optical filter.

上記課題を解決するため、本発明に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの片面または両面に、少なくとも金属酸化物層と金属層とが積層されるとともに、最表面に透明樹脂層が積層された積層構造を有し、フィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面が、接地用電極層により被覆されていることを要旨とする。  In order to solve the above problems, the transparent laminated film according to the present invention has a transparent polymer film having at least a metal oxide layer and a metal layer laminated on one or both sides of the transparent polymer film, and a transparent resin layer laminated on the outermost surface. The gist of the present invention is that at least the side end face of the laminated structure of the film side end faces is covered with a ground electrode layer.

ここで、上記接地用電極層は、金、銀、白金属および銅から選択される少なくとも１種の金属成分を含んでいると良い。  Here, the ground electrode layer preferably contains at least one metal component selected from gold, silver, white metal and copper.

また、上記接地用電極層は、導電性ペーストを塗工することにより形成されていると良い。  The ground electrode layer is preferably formed by applying a conductive paste.

また、上記金属酸化物層は、チタンの酸化物を含む層であり、上記金属層は、銀を含む層であると良い。  The metal oxide layer may be a layer containing an oxide of titanium, and the metal layer may be a layer containing silver.

一方、本発明に係る光学フィルターは、上記透明積層フィルムを有することを要旨とする。  On the other hand, the gist of the optical filter according to the present invention is to have the transparent laminated film.

また、本発明に係るプラズマディスプレイは、上記透明積層フィルム、または、上記光学フィルターを有することを要旨とする。  In addition, the gist of the plasma display according to the present invention is to have the transparent laminated film or the optical filter.

上記透明積層フィルムは、積層構造の最表面に透明樹脂層が積層されているので、環境中に存在する成分が、透明樹脂層より下層に侵入するのを抑制することができる。そのため、環境中に存在する成分に対する耐性に優れる。  Since the transparent resin layer has the transparent resin layer laminated on the outermost surface of the laminated structure, the transparent laminate film can suppress components existing in the environment from entering the lower layer than the transparent resin layer. Therefore, it is excellent in resistance to components present in the environment.

さらに、フィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面が、接地用電極層により被覆されている。そのため、ＰＤＰに組み付ける際に、この接地用電極層と、アース接続されたＰＤＰの金属筐体などとを、導電性テープや導電性ガスケットなどの導電性部材を任意に介して電気的に接続すれば接地することができる。  Furthermore, at least the side end surface of the laminated structure of the film side end surfaces is covered with a ground electrode layer. Therefore, when assembling to the PDP, the grounding electrode layer and the metal casing of the PDP connected to the ground are electrically connected via a conductive member such as a conductive tape or a conductive gasket. Can be grounded.

それゆえ、上記透明積層フィルムは、十分に接地が考慮されているので、吸収した電磁波を電流として外部に流し出しやすく、積層構造の最表面に絶縁性の透明樹脂層があっても、十分な電磁波遮蔽機能を発現することができる。  Therefore, since the above-mentioned transparent laminated film is sufficiently grounded, it is easy to flow the absorbed electromagnetic waves to the outside as a current, and even if there is an insulating transparent resin layer on the outermost surface of the laminated structure, it is sufficient. An electromagnetic wave shielding function can be exhibited.

ここで、上記接地用電極層が、金、銀、白金属および銅から選択される少なくとも１種の金属成分を含んでいる場合には、接地用電極層が導電性に優れるので、透明積層フィルムを十分に接地させやすく、電磁波遮蔽機能に優れる。  Here, when the grounding electrode layer contains at least one metal component selected from gold, silver, white metal and copper, the grounding electrode layer is excellent in conductivity. Is sufficiently grounded and has an excellent electromagnetic shielding function.

また、上記接地用電極層が、導電性ペーストの塗工により形成されている場合には、比較的簡単に接地用電極層を形成することができる。  In addition, when the ground electrode layer is formed by applying a conductive paste, the ground electrode layer can be formed relatively easily.

また、上記金属酸化物層がチタンの酸化物を含む層であり、上記金属層が銀を含む層である場合には、可視光透過性、導電性、赤外線反射性などに優れる。  Further, when the metal oxide layer is a layer containing an oxide of titanium and the metal layer is a layer containing silver, the visible light transmittance, conductivity, infrared reflectivity, and the like are excellent.

また、本発明に係る光学フィルターは、上記透明積層フィルムを有しているので、環境因子に対する耐久性、電磁波遮蔽機能などに優れる。  Moreover, since the optical filter according to the present invention has the transparent laminated film, it is excellent in durability against environmental factors, electromagnetic wave shielding function, and the like.

また、本発明に係るプラズマディスプレイは、上記透明積層フィルムまたは上記光学フィルターを有しているので、信頼性などに優れる。  Moreover, since the plasma display according to the present invention has the transparent laminated film or the optical filter, it has excellent reliability.

本実施形態に係る透明積層フィルム（以下、「本フィルム」という。）、光学フィルター（以下、「本フィルター」という。）およびプラズマディスプレイ（以下、「本ディスプレイ」という。）について詳細に説明する。  A transparent laminated film (hereinafter referred to as “the present film”), an optical filter (hereinafter referred to as “the present filter”) and a plasma display (hereinafter referred to as “the present display”) according to the present embodiment will be described in detail.

１．本フィルム
本フィルムは、透明高分子フィルムの表面に、複数の薄膜の層が積層された積層構造を有し、さらに、フィルム側端面に接地用電極層を有している。以下、各構成について詳細に説明する。1. This film has a laminated structure in which a plurality of thin film layers are laminated on the surface of a transparent polymer film, and further has a ground electrode layer on the film side end face. Hereinafter, each configuration will be described in detail.

１．１ 透明高分子フィルム
本フィルムにおいて、透明高分子フィルムは、上記積層構造を形成するためのベース基材となるものである。その材料としては、可視光領域において透明性を有し、その表面に薄膜の層を支障なく形成できるものであれば、何れのものであっても用いることができる。1.1 Transparent polymer film In this film, the transparent polymer film serves as a base substrate for forming the laminated structure. As the material, any material can be used as long as it has transparency in the visible light region and can form a thin film layer on the surface without hindrance.

透明高分子フィルムの材料としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロース、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマーなどの高分子材料を例示することができる。  Specific examples of the material for the transparent polymer film include polyethylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polystyrene, polyimide, polyamide, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate. Examples thereof include polymer materials such as phthalate, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, triacetyl cellulose, polyurethane, and cycloolefin polymer.

これらのうち、とりわけ、透明性、耐久性、加工性などの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンポリマーなどを好適なものとして例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。  Among these, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, cycloolefin polymer, and the like can be exemplified as preferable from the viewpoints of transparency, durability, workability, and the like. These may be contained alone or in combination of two or more.

また、透明高分子フィルムの厚みは、用いる材料などを考慮して種々調節することができる。その好ましい下限値として、具体的には、例えば、１０μｍ、２５μｍなどを例示することができる。また、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、５００μｍ、２５０μｍなどを例示することができる。  The thickness of the transparent polymer film can be variously adjusted in consideration of the material used. Specific examples of the preferable lower limit value include 10 μm and 25 μm. Specific examples of preferable upper limit values that can be combined with these preferable lower limit values include 500 μm and 250 μm.

１．２ 積層構造
本フィルムにおいて、上記積層構造は、透明高分子フィルムの何れか一方面に形成されていても良いし、透明高分子フィルムの両面に形成されていても良い。1.2 Laminated Structure In the present film, the above laminated structure may be formed on any one surface of the transparent polymer film, or may be formed on both surfaces of the transparent polymer film.

上記積層構造は、具体的には、金属酸化物層と金属層とが積層されるとともに、最表面に透明樹脂層が積層されて構成されている。したがって、積層構造における、透明高分子フィルムから最も遠い層には、透明樹脂層が位置していることになる。  Specifically, the laminated structure is configured by laminating a metal oxide layer and a metal layer and laminating a transparent resin layer on the outermost surface. Therefore, the transparent resin layer is located in the layer farthest from the transparent polymer film in the laminated structure.

上記積層構造のうち、金属酸化物層と金属層とが積層されている部分に含まれる基本単位としては、例えば、透明高分子フィルム側から、金属酸化物層│金属層、金属層│金属酸化物層などを例示することができる。これら基本単位は、単数または複数繰り返し積層されていても良い。  In the above laminated structure, the basic unit included in the portion where the metal oxide layer and the metal layer are laminated is, for example, from the transparent polymer film side, metal oxide layer | metal layer, metal layer | metal oxide A physical layer etc. can be illustrated. These basic units may be laminated one or more times.

この際、上記積層構造において、透明樹脂層のすぐ下の層は、金属層を劣化し難くする、透明性を確保しやすいなどの観点から、金属酸化物層であると良い。したがって、この場合に、上記金属酸化物層│金属層の基本単位を用いるときには、上記透明高分子フィルム側から、金属酸化物層│金属層の基本単位が、単数または複数繰り返された後、最上層の金属層の上に、さらに、金属酸化物層、透明樹脂層がこの順に積層されることになる。  At this time, in the above laminated structure, the layer immediately below the transparent resin layer is preferably a metal oxide layer from the viewpoint of making the metal layer difficult to deteriorate and ensuring transparency. Therefore, in this case, when the metal oxide layer | basic unit of the metal layer is used, the metal oxide layer | basic unit of the metal layer is repeated one or more times from the transparent polymer film side, and then the final unit. A metal oxide layer and a transparent resin layer are further laminated in this order on the upper metal layer.

また、金属酸化物層、金属層は、複数の分割層が積層されて一つの層として構成されていても良い。この場合、その分割数は、各層ごとに同じであっても良いし、異なっていても良い。  In addition, the metal oxide layer and the metal layer may be configured as a single layer by laminating a plurality of divided layers. In this case, the number of divisions may be the same for each layer, or may be different.

また、金属層の構成元素が金属酸化物層中へ拡散するのを抑制するなど観点から、金属層の少なくとも一方面に、金属酸化物よりなるバリア層が形成されていても良い。  In addition, a barrier layer made of a metal oxide may be formed on at least one surface of the metal layer from the viewpoint of suppressing the constituent elements of the metal layer from diffusing into the metal oxide layer.

金属酸化物層と金属層とが積層されている部分の積層数は、金属酸化物層、金属層などの材料や膜厚、要求される光学特性、電磁波遮蔽能などを考慮して適宜選択することができる。金属酸化物層、金属層を１層として数えれば、その積層数としては、具体的には、例えば３〜９層などを例示することができる。  The number of layers where the metal oxide layer and the metal layer are stacked is appropriately selected in consideration of the material and thickness of the metal oxide layer, metal layer, etc., required optical characteristics, electromagnetic wave shielding ability, etc. be able to. If the metal oxide layer and the metal layer are counted as one layer, specific examples of the number of stacked layers include 3 to 9 layers.

なお、金属酸化物層、金属層が、複数の分割層よりなる場合には、複数の分割層よりなる金属酸化物層、金属層をそれぞれ１層として数える。また、金属層に接してバリア層が形成されている場合には、バリア層を含めた金属層を１層として数える。  In addition, when a metal oxide layer and a metal layer consist of a some division | segmentation layer, the metal oxide layer and metal layer which consist of a some division | segmentation layer are counted as one layer, respectively. When a barrier layer is formed in contact with the metal layer, the metal layer including the barrier layer is counted as one layer.

上記積層構造において、金属酸化物層、金属層の組成または材料は、それぞれ同一の組成または材料から形成されていても良いし、異なる組成または材料から形成されていても良い。なお、金属酸化物層、金属層が複数の分割層を有する場合も同様である。  In the above stacked structure, the metal oxide layer and the metal layer may be formed of the same composition or material, or may be formed of different compositions or materials. The same applies to the case where the metal oxide layer and the metal layer have a plurality of divided layers.

また、上記積層構造において、金属酸化物層、金属層の厚みは、それぞれほぼ同一であっても良いし、各層ごとに異なっていても良い。  In the above laminated structure, the thicknesses of the metal oxide layer and the metal layer may be substantially the same, or may be different for each layer.

以下、上記積層構造を主に構成する金属酸化物層、金属層、透明樹脂層について詳細に説明する。  Hereinafter, the metal oxide layer, the metal layer, and the transparent resin layer that mainly constitute the laminated structure will be described in detail.

１．２．１ 金属酸化物層
本フィルムにおいて、金属酸化物層は、可視光領域において透明性を有し、高屈折率層として機能する。なお、本フィルムにおける屈折率とは、６３３ｎｍの光に対する屈折率をいう。1.2.1 Metal Oxide Layer In this film, the metal oxide layer has transparency in the visible light region and functions as a high refractive index layer. In addition, the refractive index in this film means the refractive index with respect to 633 nm light.

上記金属酸化物層中に主に含まれる金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物およびセリウムの酸化物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。また、金属酸化物は、２種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。  Specific examples of the metal oxide mainly contained in the metal oxide layer include, for example, titanium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, and oxidation of indium and tin. And oxides of magnesium, oxides of aluminum, oxides of zirconium, oxides of niobium, oxides of cerium and the like. These may be contained alone or in combination of two or more. The metal oxide may be a double oxide in which two or more metal oxides are combined.

上記金属酸化物層中に含まれる金属酸化物としては、とりわけ、可視光に対する屈折率が比較的大きいなどの観点から、酸化チタン（IV）（ＴｉＯ_２）、ＩＴＯ、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）などを好適なものとして例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。As the metal oxide contained in the metal oxide layer, titanium oxide (IV) (TiO₂ ), ITO, zinc oxide (ZnO), oxidation is particularly preferable from the viewpoint of relatively high refractive index with respect to visible light. tin can be illustrated as (SnO₂₎ a suitable like. These may be contained alone or in combination of two or more.

また、金属酸化物層は、必要な屈折率を確保でき、かつ、光学特性などに悪影響を及ぼさない範囲内であれば、金属酸化物以外にも、他の成分を含んでいても良い。  In addition, the metal oxide layer may contain other components in addition to the metal oxide as long as the necessary refractive index can be ensured and the optical properties are not adversely affected.

例えば、金属酸化物の合成時に使用した金属酸化物の前駆体、具体的には、金属アルコキシドや、金属アシレート、金属キレートなどの金属有機化合物や、金属の炭酸塩、水酸化物などの金属無機化合物などを１種または２種以上含んでいても良い。なお、金属アルコキシドなど、金属有機化合物を少量含んでいる場合には、透明積層フィルムの柔軟性が向上するなどの利点がある。  For example, metal oxide precursors used in the synthesis of metal oxides, specifically metal organic compounds such as metal alkoxides, metal acylates and metal chelates, and metal inorganics such as metal carbonates and hydroxides One or more compounds may be included. In addition, when a small amount of a metal organic compound such as a metal alkoxide is contained, there is an advantage that the flexibility of the transparent laminated film is improved.

また、金属酸化物の合成時に使用した各種の添加剤、不可避不純物などの物質を１種または２種以上含んでいても良い。上記添加剤としては、具体的には、例えば、アルコール可溶性ポリアミドなどを例示することができる。  Moreover, you may contain 1 type, or 2 or more types of substances, such as various additives used at the time of the synthesis | combination of a metal oxide, and an unavoidable impurity. Specific examples of the additive include alcohol-soluble polyamide.

ゾル−ゲル法と紫外線照射法とを組み合わせて金属酸化物層が形成される場合に、アルコール可溶性ポリアミドが出発組成物中に添加されていると、成膜時に亀裂の発生を抑制しやすい利点がある。また、アルコール可溶性ポリアミドは、上記積層構造中に含まれる金属酸化物層のうち、少なくとも１層以上に含まれておれば良い。なお、上記アルコール可溶性ポリアミドについて、詳しくは、「２．本フィルムの製造方法」の項にて後述する。  When a metal oxide layer is formed by combining a sol-gel method and an ultraviolet irradiation method, if an alcohol-soluble polyamide is added to the starting composition, there is an advantage that cracking can be easily suppressed during film formation. is there. Further, the alcohol-soluble polyamide may be contained in at least one layer among the metal oxide layers contained in the laminated structure. The alcohol-soluble polyamide will be described in detail later in the section “2. Production method of the film”.

また、上記金属酸化物層の厚みは、透明性や色調などを考慮して種々調節することができる。金属酸化物層の厚みとしては、具体的には、例えば、その好ましい下限値として、１０ｎｍ、２０ｎｍなどを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、１５０ｎｍ、１００ｎｍなどを例示することができる。  Further, the thickness of the metal oxide layer can be variously adjusted in consideration of transparency and color tone. Specifically as a thickness of a metal oxide layer, 10 nm, 20 nm, etc. can be illustrated as the preferable lower limit, for example. On the other hand, specific examples of preferable upper limit values that can be combined with these preferable lower limit values include 150 nm and 100 nm.

１．２．２ 金属層
本フィルムにおいて、金属層は、主として電磁波遮蔽層、近赤外線遮蔽層として機能するものである。1.2.2 Metal layer In this film, the metal layer mainly functions as an electromagnetic wave shielding layer and a near infrared shielding layer.

金属層中に主に含まれる金属（合金も含む）としては、具体的には、例えば、銀、金、白金、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル、コバルト、ニオブ、タンタル、タングステン、ジルコニウム、鉛、パラジウムおよびインジウムなどの金属や、これら金属を１種以上含む合金などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。  Specific examples of metals (including alloys) mainly contained in the metal layer include, for example, silver, gold, platinum, copper, aluminum, chromium, titanium, zinc, tin, nickel, cobalt, niobium, tantalum, Examples thereof include metals such as tungsten, zirconium, lead, palladium, and indium, and alloys containing one or more of these metals. These may be contained alone or in combination of two or more.

上記金属としては、導電性、赤外線反射性、積層時の可視光透過性などに優れるなどの観点から、とりわけ、銀を好適に用いることができる。また、熱、光、水蒸気などの環境に対する安定性を向上させるなどの観点から、必要に応じて、金、白金、パラジウム、銅などの金属を１種以上銀に加えた銀合金を用いても良い。この場合、銀合金中の銀以外の金属としては、金属層が耐久性に優れるなどの観点から、金、パラジウムなどを好適に用いることができる。  As the metal, silver can be particularly preferably used from the viewpoint of excellent conductivity, infrared reflectivity, visible light transmittance at the time of lamination, and the like. In addition, from the viewpoint of improving the stability to the environment such as heat, light, and water vapor, a silver alloy in which one or more metals such as gold, platinum, palladium, and copper are added to silver as required may be used. good. In this case, as a metal other than silver in the silver alloy, gold, palladium, or the like can be suitably used from the viewpoint that the metal layer has excellent durability.

また、銀合金を用いる場合、銀以外の金属の割合としては、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、０．１重量％、０．５重量％などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、２０重量％、１０重量％などを例示することができる。  Moreover, when using a silver alloy, as a ratio of metals other than silver, specifically, 0.1 weight%, 0.5 weight% etc. can be illustrated as a preferable lower limit, for example. On the other hand, specific examples of preferable upper limit values that can be combined with these preferable lower limit values include 20% by weight and 10% by weight.

また、上記金属層の厚みは、表面抵抗（電磁波遮蔽能と関係がある）と可視光透過率とのバランスなどを考慮して種々調節することができる。金属層の厚みとしては、具体的には、例えば、その好ましい下限値として、５ｎｍ、１０ｎｍなどを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、３０ｎｍ、２０ｎｍなどを例示することができる。  The thickness of the metal layer can be variously adjusted in consideration of the balance between surface resistance (related to electromagnetic wave shielding ability) and visible light transmittance. Specifically as a thickness of a metal layer, 5 nm, 10 nm etc. can be illustrated as the preferable lower limit, for example. On the other hand, specific examples of preferable upper limit values that can be combined with these preferable lower limit values include 30 nm, 20 nm, and the like.

１．２．３ 透明樹脂層
本フィルムにおいて、透明樹脂層は、塩素イオンなどのハロゲンイオン、水分、硫黄イオンなどの環境中に存在する成分が、下層（透明高分子フィルム側）へ侵入するのを抑制する役割を主として有している。1.2.3 Transparent resin layer In this film, the transparent resin layer is made up of components existing in the environment, such as halogen ions such as chlorine ions, moisture, and sulfur ions, that penetrate into the lower layer (transparent polymer film side). It mainly has a role of suppressing the above.

上記透明樹脂層中に主に含まれる透明樹脂としては、具体的には、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。  Specifically as a transparent resin mainly contained in the said transparent resin layer, an acrylic resin, a urethane resin, a silicone resin, a polyester resin etc. can be illustrated, for example. These may be contained alone or in combination of two or more.

上記透明樹脂としては、とりわけ、透明性、耐久性、加工性などの観点から、アクリル樹脂、ウレタン樹脂などを好適に用いることができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。  As the transparent resin, an acrylic resin, a urethane resin, or the like can be preferably used from the viewpoints of transparency, durability, workability, and the like. These may be contained alone or in combination of two or more.

また、透明樹脂層の厚みは、環境中に存在する成分に対する耐性、透明性、加工性などを考慮して種々調節することができる。その好ましい下限値として、具体的には、例えば、５ｎｍ、１０ｎｍなどを例示することができる。また、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、１０μｍ、５μｍなどを例示することができる。  The thickness of the transparent resin layer can be variously adjusted in consideration of resistance to components existing in the environment, transparency, workability, and the like. Specific examples of the preferable lower limit value include 5 nm and 10 nm. Specific examples of preferable upper limit values that can be combined with these preferable lower limit values include 10 μm, 5 μm, and the like.

１．３ 接地用電極層
本フィルムにおいて、接地用電極層は、本フィルムが吸収した電磁波を電流として外部に流し出すために必要な接地を行うためのコンタクト領域としての機能を主として有している。1.3 Grounding electrode layer In this film, the grounding electrode layer mainly has a function as a contact region for performing grounding necessary for flowing out the electromagnetic wave absorbed by the film as a current. .

ここで、上記接地用電極層は、フィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面の部分を覆うように形成されておれば良い。もっとも、上記積層構造は、薄膜の層が積層されたものであるので、非常に薄い。そのため、形成容易性などの観点から、上記接地用電極層は、積層構造の側端面のみならず、さらに、透明高分子フィルムの側端面の部分をも覆うように形成されていても良い。また、上記接地用電極層は、上記積層構造の最表面の縁部、つまり、透明樹脂層表面の縁部や、透明高分子フィルムの裏面の縁部などを覆うように形成されていても良い。  Here, the ground electrode layer may be formed so as to cover at least a portion of the side end surface of the laminated structure among the film side end surfaces. However, the laminated structure is very thin because thin film layers are laminated. Therefore, from the viewpoint of ease of formation and the like, the ground electrode layer may be formed so as to cover not only the side end surface of the laminated structure but also the side end surface portion of the transparent polymer film. The ground electrode layer may be formed so as to cover the outermost edge of the laminated structure, that is, the edge of the transparent resin layer surface, the edge of the back surface of the transparent polymer film, and the like. .

なお、上記接地用電極層は、上記の通り、接地を行うためのコンタクト領域として主に機能すれば良い。したがって、フィルム側端面を見た場合に、上記接地用電極層は、必ずしも連続性を有している必要はなく、部分的に被覆されていない部分があるなど、不連続な部分を有していても良い。  Note that the ground electrode layer may function mainly as a contact region for grounding as described above. Therefore, when the film side end surface is viewed, the ground electrode layer does not necessarily have continuity, and has a discontinuous part such as a part not partially covered. May be.

また、接地用電極層の材料としては、導電性材料であれば、特に限定されるものではない。具体的には、例えば、金、銀、白金属（白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、オスミウム）、銅などの金属、これら金属を１種または２種以上含む合金や、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２などの導電性を有する金属酸化物や、カーボンなどを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。The material for the ground electrode layer is not particularly limited as long as it is a conductive material. Specifically, for example, gold, silver, white metal (platinum, palladium, rhodium, ruthenium, iridium, osmium), copper and the like, alloys containing one or more of these metals, ITO, ZnO, SnO Examples thereof include metal oxides having conductivity such as₂ and carbon. These may be contained alone or in combination of two or more.

上記接地用電極層は、とりわけ、導電性に優れ、本フィルムを十分に接地させやすくするなどの観点から、金、銀、白金属および銅から選択される少なくとも１種の金属成分を含んでいると良い。  The ground electrode layer includes at least one metal component selected from gold, silver, white metal, and copper from the viewpoints of excellent electrical conductivity and making it easy to sufficiently ground the film. And good.

また、上記接地用電極層の厚みは、導通信頼性などを考慮して種々調節することができる。その好ましい下限値として、具体的には、例えば、１μｍ、５μｍ、１０μｍなどを例示することができる。また、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、２００μｍ、１５０μｍ、１００μｍなどを例示することができる。  Further, the thickness of the ground electrode layer can be variously adjusted in consideration of conduction reliability and the like. Specific examples of the preferable lower limit value include 1 μm, 5 μm, and 10 μm. Specific examples of preferable upper limit values that can be combined with these preferable lower limit values include 200 μm, 150 μm, and 100 μm.

また、上記接地用電極層は、比較的簡単に形成可能などの観点から、上述した導電材料などを含む導電性ペーストの塗工により形成されていると良い。  The ground electrode layer is preferably formed by applying a conductive paste containing the above-described conductive material from any viewpoint that can be formed relatively easily.

２．本フィルムの製造方法
次に、上記構成を有する本フィルムの製造方法（以下、「本製法」という。）について説明する。2. Next, a method for manufacturing the film having the above configuration (hereinafter referred to as “the present manufacturing method”) will be described.

本製法としては、例えば、透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、少なくとも金属酸化物層と金属層とが積層されるとともに、最表面に透明樹脂層が積層された積層構造を有するフィルム体を準備し、このフィルム体のフィルム側端面のうち、少なくとも前記積層構造の側端面を、接地用電極層により被覆する工程を有する方法などを例示することができる。  As this production method, for example, a film body having a laminated structure in which at least a metal oxide layer and a metal layer are laminated on at least one surface of a transparent polymer film and a transparent resin layer is laminated on the outermost surface is prepared. And the method etc. which have the process of coat | covering at least the side end surface of the said laminated structure with the electrode layer for grounding among the film side end surfaces of this film body can be illustrated.

以下、本製法について詳細に説明する。  Hereinafter, this production method will be described in detail.

本製法において、フィルム体を準備するにあたり、透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、金属酸化物層を形成する、金属層を形成するには、例えば、以下の通りに行えば良い。  In this production method, in preparing the film body, the metal oxide layer is formed on at least one surface of the transparent polymer film. For example, the metal layer may be formed as follows.

２．１ 金属酸化物層の形成
金属酸化物層の形成方法としては、後述する気相法または液相法のいずれを用いても良いが、気相法に比較して、真空引きしたり、大電力を使用したりする必要がなく、コスト的に有利であり、生産性に優れるなどの観点から、液相法によるのが好ましい。2.1 Formation of Metal Oxide Layer As a method for forming the metal oxide layer, either a vapor phase method or a liquid phase method, which will be described later, may be used. It is preferable to use the liquid phase method from the viewpoints that it is not necessary to use large power, is advantageous in terms of cost, and is excellent in productivity.

液相法としては、具体的には、例えば、電解めっき、無電解めっきなどのめっき法、陽極酸化法、ゾル−ゲル法などを例示することができる。上記積層構造中の各金属酸化物層は、これら液相法のうち何れか１つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の方法を用いて形成されていても良い。  Specific examples of the liquid phase method include plating methods such as electrolytic plating and electroless plating, an anodic oxidation method, and a sol-gel method. Each metal oxide layer in the laminated structure may be formed using any one of these liquid phase methods, or may be formed using two or more methods. .

金属酸化物層の形成方法としては、とりわけ、比較的簡単かつ低温で形成できるなどの観点から、ゾル−ゲル法を好適に用いることができる。  As a method for forming the metal oxide layer, in particular, a sol-gel method can be suitably used from the viewpoint that it can be formed relatively easily and at a low temperature.

ゾル−ゲル法による場合、出発組成物は、金属酸化物層中の金属酸化物を構成する金属の金属化合物を適当な溶媒に溶解して調製すれば良い。この際、金属化合物としては、例えば、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、シリコン、ハフニウム、鉛などの金属の有機化合物、無機化合物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。  In the case of the sol-gel method, the starting composition may be prepared by dissolving a metal compound of a metal constituting the metal oxide in the metal oxide layer in an appropriate solvent. In this case, examples of the metal compound include organic compounds and inorganic compounds of metals such as titanium, zinc, indium, tin, magnesium, aluminum, zirconium, niobium, cerium, silicon, hafnium, and lead. These may be contained alone or in combination of two or more.

上記金属有機化合物としては、例えば、上記金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどを例示することができる。一方、上記金属無機化合物としては、例えば、上記金属の炭酸塩、水酸化物、硝酸塩などを例示することができる。  Examples of the metal organic compound include metal alkoxides, metal acylates, and metal chelates of the above metals. On the other hand, examples of the metal inorganic compound include carbonates, hydroxides and nitrates of the above metals.

上記金属化合物としては、とりわけ、高屈折率を有する金属酸化物になり得る金属の金属化合物を好適に用いると良い。このような金属化合物としては、例えば、チタンの化合物などを例示することができる。  As the metal compound, in particular, a metal compound of a metal that can be a metal oxide having a high refractive index is preferably used. An example of such a metal compound is a titanium compound.

チタンの化合物としては、具体的には、例えば、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラメトキシチタンなどのＭ−Ｏ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンのアルコキシドや、イソプロポキシチタンステアレートなどのＭ−Ｏ−ＣＯ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンのアシレートや、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトネート、ジヒドロキシビスラクタトチタン、ジイソプロポキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセタトチタンなどのチタンのキレートなどといった有機チタン化合物を例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。  Specific examples of the titanium compound include M-O-R bonds such as tetra-n-butoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-i-propoxy titanium, tetramethoxy titanium (R represents an alkyl group, An alkoxide of titanium having M represents a titanium atom), an acylate of titanium having a MO-CO-R bond (R represents an alkyl group, and M represents a titanium atom) such as isopropoxy titanium stearate Examples thereof include organic titanium compounds such as titanium chelates such as diisopropoxy titanium bisacetyl acetonate, dihydroxy bis lactato titanium, diisopropoxy bis triethanolaminato titanium, diisopropoxy bis ethyl acetoacetate titanium, and the like. These may be used alone or in combination.

また、上記金属化合物を溶解させる溶媒としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチルなどの有機酸エステル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのシクロエーテル類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの酸アミド類、ヘキサンなどの炭化水素類、トルエンなどの芳香族類、水などを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。  Specific examples of the solvent for dissolving the metal compound include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, heptanol, and isopropyl alcohol, organic acid esters such as ethyl acetate, acetonitrile, acetone, and methyl ethyl ketone. Ketones, tetrahydrofurans such as tetrahydrofuran and dioxane, acid amides such as formamide and N, N-dimethylformamide, hydrocarbons such as hexane, aromatics such as toluene, water, and the like. These may be used alone or in combination.

上記出発組成物は、例えば、所定割合となるように秤量した金属化合物と、適当な量の溶媒と、必要に応じて添加される他の成分とを、攪拌機などの撹拌手段により所定時間撹拌・混合するなどの方法により調製することができる。この場合、各成分の混合は、１度に混合しても良いし、複数回に分けて混合しても良い。  For example, the starting composition is prepared by stirring a metal compound weighed so as to have a predetermined ratio, an appropriate amount of solvent, and other components to be added as necessary, by a stirring means such as a stirrer for a predetermined time. It can be prepared by a method such as mixing. In this case, the components may be mixed at a time or may be mixed in a plurality of times.

また、上記出発組成物を膜状に塗工する方法としては、グラビアコート法、ディップコート法、バーコート法、スピンコート法、ドクターブレード法、リバースロールコート法などの各種の塗工方法を例示することができる。  Examples of the method for coating the starting composition into a film include various coating methods such as a gravure coating method, a dip coating method, a bar coating method, a spin coating method, a doctor blade method, and a reverse roll coating method. can do.

また、上記溶液を塗工、乾燥させて形成した前駆体層を加水分解・縮合反応させる手段としては、加熱、電子線照射、紫外線照射など、各種の手段を適宜選択して用いれば良い。本フィルムは、熱劣化など、熱による負荷を受けやすい透明高分子フィルムを用いている。そのため、他の手段と比較して、比較的低温、短時間で金属酸化物を効率良く生成できるなどの観点から、紫外線照射を好適に用いることができる。  In addition, as a means for hydrolyzing / condensing the precursor layer formed by applying and drying the solution, various means such as heating, electron beam irradiation, and ultraviolet irradiation may be appropriately selected and used. This film uses a transparent polymer film that is susceptible to heat load such as thermal degradation. Therefore, compared with other means, ultraviolet irradiation can be suitably used from the standpoint that metal oxide can be efficiently generated at a relatively low temperature and in a short time.

この際、紫外線照射機としては、水銀ランプ、キセノンランプ、重水素ランプ、エキシマランプ、メタルハライドランプなどを例示することができる。  In this case, examples of the ultraviolet irradiator include a mercury lamp, a xenon lamp, a deuterium lamp, an excimer lamp, and a metal halide lamp.

また、照射する紫外線の光量は、前駆体層を主に形成している金属化合物の種類などを考慮して種々調節することができる。一般的に、照射する紫外線の光量が過度に小さすぎると、金属酸化物層の高屈折率化を図り難くなる。一方、照射する紫外線の光量が過度に大きすぎると、紫外線照射の際に生じる熱により透明高分子フィルムが変形したり、得られる金属酸化物層に亀裂が発生することがある。したがって、これらに留意すると良い。  In addition, the amount of ultraviolet light to be irradiated can be variously adjusted in consideration of the type of metal compound mainly forming the precursor layer. Generally, if the amount of ultraviolet light to be irradiated is too small, it is difficult to increase the refractive index of the metal oxide layer. On the other hand, if the amount of ultraviolet light to be irradiated is excessively large, the transparent polymer film may be deformed or cracks may be generated in the resulting metal oxide layer due to heat generated during ultraviolet irradiation. Therefore, these should be noted.

照射する紫外線の光量としては、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、３００ｍＪ／ｃｍ^２、５００ｍＪ／ｃｍ^２などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、８０００ｍＪ／ｃｍ^２、５０００ｍＪ／ｃｍ^２などを例示することができる。Specific examples of the preferable lower limit of the amount of ultraviolet light to be irradiated include 300 mJ / cm² and 500 mJ / cm² . On the other hand, these preferred lower limit can be combined with the preferred upper limit, specifically, for^example, and the like can be exemplified 8000mJ / cm 2, 5000mJ / cm 2.

また、前駆体層を加水分解・縮合反応させる手段として紫外線照射を用いる場合、上記出発組成物中に、紫外線吸収性の官能基を有する添加剤を添加すると良い。出発溶液に紫外線吸収性の官能基を導入しておけば、予め紫外線吸収性キレートが形成されたところに紫外線照射がなされるので、未反応成分がより少なくなり、高い屈折率を有し、かつ、安定性の高い金属酸化物層を得やすくなるからである。  Moreover, when using ultraviolet irradiation as a means for hydrolyzing and condensing the precursor layer, an additive having an ultraviolet absorbing functional group may be added to the starting composition. If a UV-absorbing functional group is introduced into the starting solution, UV irradiation is performed where an UV-absorbing chelate has been formed in advance, so there are fewer unreacted components, a high refractive index, and This is because it becomes easy to obtain a highly stable metal oxide layer.

紫外線吸収性の官能基を有する添加剤としては、βジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類などの添加剤を例示することができる。より具体的には、上記βジケトン類としては、例えば、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、マロン酸ジエチルなどを例示することができる。また、アルコキシアルコール類としては、例えば、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシ−２−プロパノールなどを例示することができる。また、アルカノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。  Examples of the additive having a UV-absorbing functional group include additives such as β diketones, alkoxy alcohols, and alkanolamines. More specifically, examples of the β diketones include acetylacetone, benzoylacetone, ethyl acetoacetate, methyl acetoacetate, diethyl malonate, and the like. Examples of alkoxy alcohols include 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-methoxy-2-propanol, and the like. Examples of alkanolamines include monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. These may be used alone or in combination.

上記紫外線吸収性の官能基を有する添加剤の配合割合としては、上記金属化合物１モルに対して、例えば、０．１〜２０倍モルの範囲などを例示することができる。  As a mixture ratio of the additive having an ultraviolet-absorbing functional group, for example, a range of 0.1 to 20 times mol can be exemplified with respect to 1 mol of the metal compound.

また、上記出発組成物中にアルコール類を含み、さらに、前駆体層を加水分解・縮合反応させる手段として紫外線照射を用いる場合、上記出発組成物中に、アルコール可溶性ポリアミドを添加しておくと良い。金属酸化物の生成量をできる限り多くし、高屈折率を得るなどの目的で、紫外線照射量を比較的多くしても、得られる金属酸化物層に亀裂が発生し難いからである。  In addition, when the starting composition contains alcohols and further uses ultraviolet irradiation as a means for hydrolyzing and condensing the precursor layer, it is preferable to add an alcohol-soluble polyamide to the starting composition. . This is because cracks are unlikely to occur in the resulting metal oxide layer even if the amount of ultraviolet irradiation is relatively large for the purpose of increasing the amount of metal oxide generated as much as possible and obtaining a high refractive index.

上記アルコール可溶性ポリアミドとしては、具体的には、例えば、Ｎ−メトキシメチル−ポリアミドなどのアミド基部位がアルコキシメチル化されたポリアミド、重合脂肪酸、ダイマー酸、カルボン酸とアミンとの重縮合により形成されうるポリアミドなどを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。  Specifically, the alcohol-soluble polyamide is formed, for example, by polycondensation of a polyamide in which an amide group site such as N-methoxymethyl-polyamide is alkoxymethylated, a polymerized fatty acid, a dimer acid, a carboxylic acid and an amine. Examples thereof include polyamides that can be obtained. These may be contained alone or in combination of two or more.

これらアルコール可溶性ポリアミドのうち、好ましくは、重合脂肪酸、ダイマー酸、カルボン酸とアミンとの重縮合により形成されうるポリアミドを好適に用いることができる。  Among these alcohol-soluble polyamides, preferably, polyamides that can be formed by polymerized fatty acid, dimer acid, or polycondensation of carboxylic acid and amine can be suitably used.

アルコール可溶性ポリアミドの含有量としては、亀裂抑制効果と屈折率とのバランスに優れるなどの観点から、出発組成物中の金属化合物中に含まれるチタン重量に対して、５〜５０重量％、より好ましくは、１０〜３０重量％の範囲内を例示することができる。  The content of the alcohol-soluble polyamide is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 5% by weight to the weight of titanium contained in the metal compound in the starting composition, from the viewpoint of excellent balance between crack suppression effect and refractive index. Can be exemplified within the range of 10 to 30% by weight.

２．２ 金属層の形成
金属酸化物層の形成方法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法（ＰＶＤ）、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤなどといった化学的気相成長法（ＣＶＤ）などの気相法、導電性ペーストを塗工し、焼結する方法などを例示することができる。上記積層構造中の各金属層は、これら形成方法のうち何れか１つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の方法を用いて形成されていても良い。2.2 Formation of Metal Layer Specifically, as a method for forming the metal oxide layer, for example, physical vapor deposition methods such as vacuum deposition, sputtering, ion plating, MBE, and laser ablation ( Examples thereof include a vapor phase method such as chemical vapor deposition (CVD) such as PVD), thermal CVD, and plasma CVD, and a method of applying and sintering a conductive paste. Each metal layer in the laminated structure may be formed using any one of these forming methods, or may be formed using two or more methods.

より具体的には、例えば、真空蒸着法を用いる場合には、蒸発源として所望の金属を用い、抵抗加熱、レーザ加熱、電子ビーム加熱などにより、金属を加熱蒸着させて金属層を形成すれば良い。  More specifically, for example, when a vacuum deposition method is used, a desired metal is used as an evaporation source, and a metal layer is formed by heating vapor deposition by resistance heating, laser heating, electron beam heating, or the like. good.

また、例えば、スパッタリング法を用いる場合には、ターゲットとして所望の金属を用いるとともに、スパッタリングガスとしてアルゴン、ネオンなどの不活性ガスを用い、ターゲットと透明基体との間に直流（ＤＣ）電圧（ＤＣスパッタリング法）または高周波（ＲＦ）電圧（ＲＦスパッタリング法）を印加し、金属層を形成すれば良い。成膜速度を速くする観点から、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネトロンスパッタリング法を用いても良い。  Further, for example, when using a sputtering method, a desired metal is used as a target, an inert gas such as argon or neon is used as a sputtering gas, and a direct current (DC) voltage (DC) is applied between the target and the transparent substrate. A metal layer may be formed by applying a sputtering method or a radio frequency (RF) voltage (RF sputtering method). From the viewpoint of increasing the deposition rate, a direct current magnetron sputtering method or a high frequency magnetron sputtering method may be used.

また、例えば、イオンプレーティング法を用いる場合には、蒸発源として所望の金属を用い、真空蒸着装置内に低圧ガスを導入し電界をかけてプラズマを発生させ、蒸発源からの蒸発粒子をイオン化しながら蒸着させ、金属層を形成すれば良い。  For example, when using the ion plating method, a desired metal is used as an evaporation source, a low-pressure gas is introduced into the vacuum deposition apparatus to generate a plasma by applying an electric field, and the evaporated particles from the evaporation source are ionized. The metal layer may be formed by vapor deposition.

なお、必要に応じて、例えば、スパッタリングガスとしてアルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、さらに反応性ガスとして酸素を含むガスを混合し、金属と酸素とを反応させる反応性スパッタリング法などの気相法を用いて、金属層の少なくとも一方面に、金属酸化物よりなるバリア層を形成しても良い。  If necessary, for example, a gas phase such as a reactive sputtering method in which an inert gas such as argon or neon as a sputtering gas is mixed with a gas containing oxygen as a reactive gas to react a metal with oxygen. A barrier layer made of a metal oxide may be formed on at least one surface of the metal layer using a method.

上記バリア層を主として形成する金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。好ましくは、チタンの酸化物を含んでいると良い。  Specific examples of the metal oxide that mainly forms the barrier layer include titanium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, indium and tin oxide, and magnesium oxide. Examples thereof include oxides, aluminum oxides, zirconium oxides, niobium oxides, and cerium oxides. These may be contained alone or in combination of two or more. Preferably, a titanium oxide is included.

２．３ 金属酸化物層と金属層との積層方法
本製法において、フィルム体を準備するにあたり、上記金属酸化物層の形成方法、金属層の形成方法とを組み合わせ、透明高分子フィルムの表面に、金属酸化物層と、金属層とを順次積層していく方法としては、具体的には、例えば、次のような方法を例示することができる。2.3 Method for Laminating Metal Oxide Layer and Metal Layer In preparing the film body in this production method, the method for forming the metal oxide layer and the method for forming the metal layer are combined to form the surface of the transparent polymer film. Specific examples of the method of sequentially laminating the metal oxide layer and the metal layer include the following methods.

すなわち、透明高分子フィルムの表面上に、例えば、上記調製した出発組成物を塗工し、乾燥させて前駆体層を形成し、これに必要光量の紫外線を照射して金属酸化物層を形成した後、これをロールに巻き取る。この際、金属酸化物層を複数の分割層より形成する場合には、上記操作を分割数だけ繰り返せば良い。  That is, on the surface of the transparent polymer film, for example, the above-prepared starting composition is applied and dried to form a precursor layer, and a metal oxide layer is formed by irradiating it with a necessary amount of ultraviolet rays. After that, it is wound on a roll. In this case, when the metal oxide layer is formed from a plurality of divided layers, the above operation may be repeated for the number of divisions.

次いで、このロールを、上述した気相法による薄膜形成装置の成膜室内に装着し、ロールを繰り出しながら、金属酸化物層の表面上に金属層を形成し、これを再びロールに巻き取る。  Next, this roll is mounted in the film forming chamber of the thin film forming apparatus using the vapor phase method described above, and while the roll is fed out, a metal layer is formed on the surface of the metal oxide layer, and this is wound around the roll again.

このような操作を所望回数繰り返し行えば、金属酸化物層と金属層とを順次積層することができる。なお、バリア層は、金属層を形成する前後などに、金属層の積層に準じて形成すれば良い。  If such an operation is repeated a desired number of times, the metal oxide layer and the metal layer can be sequentially laminated. In addition, what is necessary is just to form a barrier layer according to lamination | stacking of a metal layer before and after forming a metal layer.

２．４ 透明樹脂層の形成
本製法において、フィルム体を準備するにあたり、金属酸化物層と金属層とを積層した後に、さらに層最表面上に透明樹脂層を形成するには、例えば、以下の通りに行えば良い。2.4 Formation of Transparent Resin Layer In this production method, in preparing a film body, after laminating a metal oxide layer and a metal layer, a transparent resin layer is further formed on the outermost surface of the layer. Just go to the street.

すなわち、透明高分子フィルムの表面に金属酸化物層と金属層とを積層した後の層最表面上に、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類などの適当な溶媒に上記透明樹脂を溶解して調製した組成物を、上記した各種塗工法を用いて膜状に塗工し、乾燥させるなどすれば良い。  That is, on the surface of the layer after laminating the metal oxide layer and the metal layer on the surface of the transparent polymer film, for example, suitable alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, heptanol, isopropyl alcohol, etc. What is necessary is just to apply | coat the composition prepared by melt | dissolving the said transparent resin in a solvent to a film | membrane form using the above-mentioned various coating methods, and to make it dry.

また、上記透明樹脂が紫外線硬化型であれば、上記乾燥後に、紫外線照射を行えば良い。照射する紫外線の光量は、用いる透明樹脂の種類などによっても異なるが、一般には、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、１００ｍＪ／ｃｍ^２、２００ｍＪ／ｃｍ^２などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、２０００ｍＪ／ｃｍ^２、１０００ｍＪ／ｃｍ^２などを例示することができる。Moreover, if the said transparent resin is an ultraviolet curable type, what is necessary is just to perform ultraviolet irradiation after the said drying. The amount of ultraviolet light to be irradiated varies depending on the type of transparent resin to be used, but generally, preferred lower limit values are specifically exemplified by, for example, 100 mJ / cm² and 200 mJ / cm^2. . On the other hand, specific examples of preferable upper limit values that can be combined with these preferable lower limit values include 2000 mJ / cm² and 1000 mJ / cm² .

２．５ 接地用電極層の被覆
本製法において、準備したフィルム体のフィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面を、接地用電極層により被覆するには、例えば、以下の通りに行えば良い。2.5 Coating of Grounding Electrode Layer In this production method, at least the side end surface of the laminated structure among the film side end surfaces of the prepared film body is covered with the grounding electrode layer, for example, as follows. Just do it.

すなわち、所望の導電性材料を含む導電性ペーストを、スクリーン印刷法、ロールコート法、刷毛塗り法などの各種の塗工方法により、フィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面を含むように膜状に塗工し、乾燥させるなどすれば良い。  That is, the conductive paste containing a desired conductive material is made to include at least the side end surface of the above laminated structure among the film side end surfaces by various coating methods such as a screen printing method, a roll coating method, and a brush coating method. The film may be applied to the film and dried.

３．本フィルター
本フィルターは、本フィルムを用いている。すなわち、本フィルターは、透明支持基体の少なくとも一方面に、粘着剤層を介して本フィルムを積層した構成を有している。3. This filter uses this film. That is, the present filter has a configuration in which the present film is laminated on at least one surface of the transparent support base via the pressure-sensitive adhesive layer.

ここで、透明支持基体の材料は、透明性に優れ、十分な機械的強度を有するものであれば、特に限定されることなく使用することができる。具体的には、例えば、半強化ガラス、強化ガラスなどのガラスや、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂などの高分子材料などを例示することができる。  Here, the material of the transparent support substrate can be used without particular limitation as long as it is excellent in transparency and has sufficient mechanical strength. Specifically, for example, glass such as semi-tempered glass and tempered glass, and polymer materials such as acrylic resin and polycarbonate resin can be exemplified.

また、透明支持基体の厚みは、機械的強度や剛性などを考慮して、種々調節することができる。一般的には、１．０〜５．０ｍｍの範囲などを例示することができる。  Further, the thickness of the transparent support substrate can be variously adjusted in consideration of mechanical strength, rigidity, and the like. Generally, the range of 1.0-5.0 mm etc. can be illustrated.

また、粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤などを例示することができる。このうち、透明性および耐熱性に優れるなどの観点から、アクリル系粘着剤などを好適に用いることができる。また、粘着剤の形態としては、シート状、液状などを例示することができる。  Moreover, as an adhesive which forms an adhesive layer, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a polyvinyl butyral adhesive, an ethylene-vinyl acetate adhesive etc. can be illustrated, for example. . Among these, from the viewpoint of excellent transparency and heat resistance, an acrylic pressure-sensitive adhesive can be suitably used. Moreover, as a form of an adhesive, a sheet form, a liquid form, etc. can be illustrated.

また、粘着剤の厚みは、特に限定されるものではなく、一般的には、５〜１００μｍの範囲などを例示することができる。  Moreover, the thickness of an adhesive is not specifically limited, Generally, the range of 5-100 micrometers etc. can be illustrated.

そして、例えば、シート状の粘着剤を用いて本フィルターを製造する場合には、透明支持基板および／または本フィルムにシート状の粘着剤を貼り付けた後、両者をラミネートするなどして貼り合わせれば良い。また、液状の粘着剤を用いて本フィルターを製造する場合には、例えば、透明支持基板および／または本フィルムに粘着剤を塗布して両者を貼り合わせた後、室温に放置したり、加熱したりするなどして粘着剤を硬化させれば良い。  For example, when manufacturing this filter using a sheet-like pressure-sensitive adhesive, the sheet-like pressure-sensitive adhesive is applied to the transparent support substrate and / or the film, and then laminated together. It ’s fine. In addition, when the present filter is produced using a liquid pressure-sensitive adhesive, for example, the pressure-sensitive adhesive is applied to the transparent support substrate and / or the film and bonded together, and then left at room temperature or heated. Or the like to cure the adhesive.

なお、液状の粘着剤を塗布する塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法などの塗布方法が挙げられ、粘着剤の種類、粘度、塗布量などを考慮して適宜選択すれば良い。  Examples of the application method for applying the liquid adhesive include a bar coating method, a reverse coating method, and a gravure coating method, which are appropriately selected in consideration of the type of adhesive, viscosity, coating amount, and the like. It ’s fine.

また、光学特性を著しく損なわない限度内で、必要に応じて、反射防止機能、防眩機能、衝撃吸収機能、耐環境機能、調色機能などの各種の機能を有する機能性フィルムを、本フィルターの片面または両面に、上述した粘着剤層を介して１つまたは２つ以上さらに貼り合わせても良い。  In addition, as long as the optical properties are not significantly impaired, a functional film having various functions such as an anti-reflection function, an anti-glare function, an impact absorption function, an environmental resistance function, and a toning function can be used as necessary. One or two or more of them may be further bonded to one side or both sides via the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer.

４．本ディスプレイ
本ディスプレイは、上記本フィルムまたは上記本フィルターを有している。4). This display This display has the said film or the said filter.

上記本ディスプレイは、例えば、次のようにして得ることができる。すなわち、前者のディスプレイの場合、具体的には、例えば、本フィルムの表面に、上記した粘着剤層を形成したり、必要に応じて、反射防止機能などを有する機能性フィルムを粘着剤層を介して貼り付けたりした後、これをＰＤＰの前面表示部に直接貼り付ける。一方、後者のディスプレイの場合、具体的には、例えば、本フィルターを、空気層を介してプラズマディスプレイ本体の前面側に配設する。  The display can be obtained as follows, for example. That is, in the case of the former display, specifically, for example, the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer is formed on the surface of this film, or if necessary, a functional film having an antireflection function or the like is attached to the pressure-sensitive adhesive layer. And pasting it directly on the front display part of the PDP. On the other hand, in the case of the latter display, specifically, for example, the present filter is disposed on the front side of the plasma display main body through an air layer.

そして、両ディスプレイの場合とも、本フィルムの接地用電極と、アース接続されたＰＤＰの裏面金属筐体や本体外装、接地端子などとを、導電性テープや
導電性ガスケットなどの導電性部材を任意に介して、電気的に接続すれば、本ディスプレイを得ることができる。In both displays, the grounding electrode of this film and the backside metal casing of the PDP connected to the ground, the exterior of the main body, the grounding terminal, etc., and any conductive member such as conductive tape or conductive gasket can be used. If the display is electrically connected to the display, this display can be obtained.

本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。  The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

例えば、本フィルムは、表示装置用途以外にも、例えば、熱線カットガラス、融雪ガラス、車両用ガラス、冷却ショーケース用ガラス、暖房用パネルヒーター、調理用パネルヒータなどの電熱性用途や、計測機器用ガラス窓、インテリジェントビルガラス、車両用ガラスなどの電磁波遮蔽用途など、導電機能および／または近赤外線遮蔽機能、可視光透過性が要求される各種の用途に使用することができる。  For example, this film can be used for display devices, for example, heat ray cut glass, snow melting glass, vehicle glass, cooling showcase glass, heating panel heaters, cooking panel heaters, etc. It can be used for various applications that require a conductive function and / or a near-infrared shielding function and a visible light transmission property, such as an electromagnetic wave shielding application for glass windows, intelligent building glass, and vehicle glass.

以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。  Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples.

（実施例１）
初めに、以下の手順により、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績（株）製、「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」）（以下、「ＰＥＴフィルム」という。）の片面に、チタン酸化物層とＡｇ層とが積層されるとともに、最表面にアクリル樹脂層が積層された積層構造を有するフィルム体を準備した。なお、上記チタン酸化物層は、ゾル−ゲル法により形成した。上記Ａｇ層は、直流マグネトロンスパッタリング法により形成した。Example 1
First, a titanium oxide layer and an Ag layer are formed on one side of a polyethylene terephthalate film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., “Cosmo Shine (registered trademark) A4100”) (hereinafter referred to as “PET film”) by the following procedure. And a film body having a laminated structure in which an acrylic resin layer is laminated on the outermost surface. The titanium oxide layer was formed by a sol-gel method. The Ag layer was formed by a direct current magnetron sputtering method.

１．フィルム体の準備
１．１ 出発組成物の調製
先ず、チタン酸化物層の形成に用いる出発組成物を調製した。すなわち、チタンの有機化合物であるテトラブトキシチタン４量体（日本曹達（株）製、「Ｂ４」）６ｇに対し、紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤として、アセチルアセトン３ｇを添加し、攪拌機にて１分間撹拌した。その後、これをｎ−ブタノール６１ｇとイソプロパノール３０ｇとの混合溶媒により希釈し、さらに１０分間撹拌して第１出発組成物を調製した。1. Preparation of Film Body 1.1 Preparation of Starting Composition First, a starting composition used for forming a titanium oxide layer was prepared. That is, 3 g of acetylacetone was added as an additive for forming an ultraviolet-absorbing chelate to 6 g of tetrabutoxytitanium tetramer (Nippon Soda Co., Ltd., “B4”), which is an organic compound of titanium. And stirred for 1 minute. Thereafter, this was diluted with a mixed solvent of 61 g of n-butanol and 30 g of isopropanol, and further stirred for 10 minutes to prepare a first starting composition.

次いで、上記テトラブトキシチタン４量体５．６２ｇに対し、アセチルアセトン２．８１ｇを添加し、攪拌機にて１分間撹拌した。その後、これをｎ−ブタノール６１．５７ｇと混合して希釈し、さらに１０分間撹拌して溶液Ａを調製した。また、アルコール可溶性ポリアミドとして、Ｃ３８ダイマー酸とジアミンとの重縮合により形成されたポリアミド（ハリマ化成（株）製、「ニューマイド８２５」）０．３４ｇを、イソプロパノール３０ｇに添加後、攪拌機にて３０分間撹拌し、溶液Ｂを調製した。  Next, 2.81 g of acetylacetone was added to 5.62 g of the tetrabutoxytitanium tetramer, and the mixture was stirred with a stirrer for 1 minute. Thereafter, this was mixed with 61.57 g of n-butanol and diluted, and further stirred for 10 minutes to prepare a solution A. Further, as an alcohol-soluble polyamide, 0.34 g of polyamide formed by polycondensation of C38 dimer acid and diamine (manufactured by Harima Kasei Co., Ltd., “Newmide 825”) was added to 30 g of isopropanol, and then 30 with a stirrer. Stir for minutes to prepare Solution B.

その後、これら溶液Ａ、Ｂを混合し、攪拌機にて１０分間撹拌することにより、第２出発組成物を調製した。  Then, these solutions A and B were mixed, and the 2nd starting composition was prepared by stirring for 10 minutes with a stirrer.

１．２ フィルム体の作製
次に、表１に示す積層構造を有するフィルム体を作製した。1.2 Production of Film Body Next, a film body having a laminated structure shown in Table 1 was produced.

ここで、この表１における「ＴｉＯ_２」の表記は、その層が、第１出発組成物を用いて作製されており、チタン酸化物（ＴｉＯ_２）を主に含み、かつ、アルコール可溶性ポリアミドを含有していないことを表している。また、「ＴｉＯ_２＋ＰＡ」の表記は、その層が、第２出発組成物を用いて作製されており、チタン酸化物（ＴｉＯ_２）を主に含み、かつ、アルコール可溶性ポリアミドも含有していることを表している。また、「Ａｇ」の表記は、その層が銀を主に含んでいることを表している。Here, the notation “TiO₂ ” in Table 1 indicates that the layer is made using the first starting composition, mainly contains titanium oxide (TiO₂ ), and contains alcohol-soluble polyamide. It indicates that it does not contain. In addition, the notation “TiO₂ + PA” indicates that the layer is made using the second starting composition, mainly contains titanium oxide (TiO₂ ), and also contains alcohol-soluble polyamide. Represents that. The notation “Ag” represents that the layer mainly contains silver.

表１中、１、３、５、７層目については、以下の手順に従って成膜した。すなわち、上記調製した第１出発組成物あるいは第２出発組成物を、ダイレクトグラビアコータを用いて、成膜速度３ｍ／分で塗工した後、この塗工膜を１００℃で８０秒間乾燥し、前駆体層を形成した。  In Table 1, the first, third, fifth and seventh layers were formed according to the following procedure. That is, after coating the first starting composition or the second starting composition prepared above using a direct gravure coater at a film forming rate of 3 m / min, the coated film was dried at 100 ° C. for 80 seconds, A precursor layer was formed.

次いで、ＰＥＴフィルムを７８℃に加温した状態で、ＵＶランプ〔高圧水銀ランプ（２４０Ｗ／ｃｍ）、出力１００％〕を用いて、上記前駆体層に対して紫外線を１回照射し、チタン酸化物層を形成した。  Next, with the PET film heated to 78 ° C., a UV lamp (high pressure mercury lamp (240 W / cm), output 100%) was used to irradiate the precursor layer once with ultraviolet rays to oxidize titanium. A physical layer was formed.

この際、３、５層目については、チタン酸化物層を２分割して形成した。また、３層目上層、５層目上層、７層目については、紫外線照射速度を３ｍ／分とした。一方、１層目、３層目下層、５層目下層については、紫外線照射速度を２ｍ／分とした。  At this time, the third and fifth layers were formed by dividing the titanium oxide layer into two parts. In addition, for the third upper layer, the fifth upper layer, and the seventh layer, the ultraviolet irradiation rate was 3 m / min. On the other hand, the ultraviolet irradiation rate was set to 2 m / min for the first layer, the third layer lower layer, and the fifth layer lower layer.

また、表１中、２、４、６層目については、以下の手順に従って成膜した。すなわち、ターゲットに純銀（純度：４Ｎ）、スパッタガスにアルゴンガスを用い、直流マグネトロンスパッタリング法を用いてＡｇ層を形成した。  In Table 1, the second, fourth, and sixth layers were formed according to the following procedure. That is, pure silver (purity: 4N) was used as a target, argon gas was used as a sputtering gas, and an Ag layer was formed using a direct current magnetron sputtering method.

この際、スパッタ条件は、２、６層目については、投入電力１．７Ｗ／ｃｍ^２、真空到達圧５×１０^−６ｔｏｒｒ、ガス圧２．５×１０^−３ｔｏｒｒとした。また、４層目については、投入電力２．２Ｗ／ｃｍ^２ とした以外は、２、６層目と同条件とした。At this time, the sputtering conditions for the second and sixth layers were an input power of 1.7 W / cm² , a vacuum ultimate pressure of 5 × 10⁻⁶ torr, and a gas pressure of 2.5 × 10⁻³ torr. For the fourth layer, the conditions were the same as those for the second and sixth layers except that the input power was 2.2 W / cm² .

また、表１中、８層目については、以下の手順に従って成膜した。すなわち、紫外線硬化型アクリル樹脂（サイデン化学（株）製、「サイビノールＸ１０５−１３０Ｖ」）５０ｇと、１−ブタノール２５ｇと、１−ヘキサノール２５ｇとを、攪拌機にて１０分間撹拌し、第３組成物を調製した。  In Table 1, the eighth layer was formed according to the following procedure. That is, 50 g of ultraviolet curable acrylic resin (manufactured by Seiden Chemical Co., Ltd., “Cybinol X105-130V”), 25 g of 1-butanol, and 25 g of 1-hexanol were stirred with a stirrer for 10 minutes, and the third composition Was prepared.

次いで、上記調製した第３組成物を、ダイレクトグラビアコータを用いて、成膜速度３ｍ／分で７層目の上に塗工した後、この塗工膜を１００℃で８０秒間乾燥し、前駆体層を形成した。  Next, after coating the third composition prepared above on the seventh layer using a direct gravure coater at a film forming rate of 3 m / min, this coated film was dried at 100 ° C. for 80 seconds to obtain a precursor. A body layer was formed.

次いで、ＰＥＴフィルムを２４℃に加温した状態で、ＵＶランプ〔高圧水銀ランプ（２４０Ｗ／ｃｍ）、出力５０％〕を用いて、上記前駆体層に対して紫外線を、紫外線照射速度３ｍ／分で１回照射し、アクリル樹脂層を形成した。  Next, with the PET film heated to 24 ° C., using a UV lamp (high pressure mercury lamp (240 W / cm), output 50%), the precursor layer was irradiated with ultraviolet rays and an ultraviolet irradiation rate of 3 m / min. Was irradiated once to form an acrylic resin layer.

以上により、フィルム体（幅１３００ｍｍ）を準備した。  Thus, a film body (width 1300 mm) was prepared.

２．接地用電極層の被覆
次に、ガラス基板（縦５６５ｍｍ×横９７５ｍｍ×厚み２．５ｍｍ）の一方面に、粘着剤層（日東電工（株）製、「ＣＳ９６２１」）を介して、準備したフィルム体のＰＥＴフィルム側を貼り合わせ、フィルム体の側端面がガラス基板の側端面から１ｍｍ内側になるようにカットした。2. Coating of grounding electrode layer Next, a film prepared on one side of a glass substrate (length 565 mm × width 975 mm × thickness 2.5 mm) via an adhesive layer (“CS9621” manufactured by Nitto Denko Corporation) The PET film side of the body was bonded and cut so that the side end surface of the film body was 1 mm inside from the side end surface of the glass substrate.

次いで、上記フィルム側端面のうち、積層構造の側端面を含むように、ナイロンメッシュを用いたスクリーン印刷により、Ａｇペースト（太陽インキ（株）製、「ＡＦ４８１０」）を塗布した。この際、Ａｇペーストは、積層構造の側端面の他、ＰＥＴフィルムの側端面、アクリル樹脂層の層表面縁部の一部にも塗布された。  Next, an Ag paste (manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd., “AF4810”) was applied by screen printing using a nylon mesh so as to include the side end surface of the laminated structure among the film side end surfaces. At this time, the Ag paste was applied not only to the side end surface of the laminated structure, but also to the side end surface of the PET film and a part of the layer surface edge of the acrylic resin layer.

その後、この塗布層を９０℃で３０分間乾燥させた。これにより、フィルム体のフィルム側端面のうち、少なくとも積層構造の側端面が、接地用電極層（２５μｍ）により被覆された、実施例１に係る透明積層フィルムおよびこれを用いた光学フィルターを作製した。  Thereafter, the coating layer was dried at 90 ° C. for 30 minutes. As a result, a transparent laminated film according to Example 1 in which at least a side end face of the laminated structure was covered with the ground electrode layer (25 μm) among the film side end faces of the film body and an optical filter using the same were produced. .

（比較例１）
上記実施例１に係る透明積層フィルムおよび光学フィルターの作製において、上記Ａｇペーストによるスクリーン印刷により、アクリル樹脂層の層表面縁部に、幅約５ｍｍ、厚み７５μｍの額縁状電極を形成し、フィルム側端面に接地用電極層を形成しなかった以外は同様にして、比較例１に係る透明積層フィルムおよびこれを用いた光学フィルターを作製した。(Comparative Example 1)
In the production of the transparent laminated film and optical filter according to Example 1, a frame-like electrode having a width of about 5 mm and a thickness of 75 μm was formed on the surface edge of the acrylic resin layer by screen printing with the Ag paste, and the film side A transparent laminated film according to Comparative Example 1 and an optical filter using the same were produced in the same manner except that the ground electrode layer was not formed on the end face.

（比較例２）
上記比較例１に係る透明積層フィルムおよび光学フィルターの作製において、８層目のアクリル樹脂層を形成しなかった以外は同様にして、比較例２に係る透明積層フィルムおよびこれを用いた光学フィルターを作製した。(Comparative Example 2)
In the production of the transparent laminated film and the optical filter according to Comparative Example 1, the transparent laminated film according to Comparative Example 2 and the optical filter using the same were obtained except that the eighth acrylic resin layer was not formed. Produced.

３．評価
３．１ 電磁波遮蔽性能
上記作製した実施例１、比較例１および比較例２に係る光学フィルターを用いて、電磁波遮蔽性能の評価を行った。3. Evaluation 3.1 Electromagnetic Wave Shielding Performance Using the optical filters according to Example 1, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 prepared above, electromagnetic wave shielding performance was evaluated.

すなわち、先ず、図１に示すように、実施例１に係る光学フィルターについては、透明積層フィルム１０の積層構造１２の最表面縁部から、光学フィルター１４の側端面を通って、ガラス基板１６の裏面に至るまで、導電性アルミテープ１８（厚み１２５μｍ、テラオカ（株）製、「テラオカ８３０」）を貼り付けた。これにより、接地用電極層２０は、導電性アルミテープ１８と接触している。  That is, first, as shown in FIG. 1, for the optical filter according to Example 1, from the outermost surface edge portion of thelaminated structure 12 of the transparentlaminated film 10 through the side end face of theoptical filter 14, A conductive aluminum tape 18 (thickness 125 μm, manufactured by Terraoka Co., Ltd., “Teraoka 830”) was pasted up to the back surface. As a result, theground electrode layer 20 is in contact with theconductive aluminum tape 18.

一方、図２に示すように、比較例１、２に係る光学フィルターについては、透明積層フィルム３０の積層構造３２の最表面縁部に形成された額縁状電極３４から、光学フィルター３６の側端面を通って、ガラス基板１６の裏面に至るまで、導電性アルミテープ１８を貼り付けた。これにより、額縁状電極３４は、導電性アルミテープ１８と接触している。  On the other hand, as shown in FIG. 2, for the optical filters according to Comparative Examples 1 and 2, from the frame-like electrode 34 formed on the outermost surface edge of thelaminated structure 32 of the transparentlaminated film 30, the side end face of theoptical filter 36. Theconductive aluminum tape 18 was pasted up to the back surface of theglass substrate 16. Thereby, the frame-shapedelectrode 34 is in contact with theconductive aluminum tape 18.

なお、図１および図２は、ＰＥＴフィルム２２とガラス基板１６との間の粘着剤層は、省略されている。  In FIG. 1 and FIG. 2, the adhesive layer between thePET film 22 and theglass substrate 16 is omitted.

次いで、市販のプラズマディスプレイテレビ（松下電産（株）製、「ＴＨ−４２ＰＨＤ６」）の既設の光学フィルターを取り外し、代わりに、上記導電性アルミテープを貼り付けた実施例および比較例に係る光学フィルターをそれぞれ取り付けた。  Next, the optical filters according to Examples and Comparative Examples in which the existing optical filter of the commercially available plasma display television (manufactured by Matsushita Densan Co., Ltd., “TH-42PHD6”) was removed and the conductive aluminum tape was attached instead. Each filter was attached.

この際、これら光学フィルターは、ガラス基板裏面の導電性アルミテープが、プラズマディスプレイテレビの導電性ガスケットに接触されている。そして、この導電性ガスケットは、光学フィルター固定用の金属板、裏面金属筐体などを介してアースに電気的に接続されている。  At this time, in these optical filters, the conductive aluminum tape on the back surface of the glass substrate is in contact with the conductive gasket of the plasma display television. The conductive gasket is electrically connected to the ground via a metal plate for fixing the optical filter, a back metal casing, and the like.

次いで、実施例および比較例に係るプラズマディスプレイテレビにつき、ＶＣＣＩ試験標準に準拠して、電磁波遮蔽機能の調査した。  Next, for the plasma display televisions according to Examples and Comparative Examples, the electromagnetic wave shielding function was investigated according to the VCCI test standard.

この際、既設の光学フィルター取り付け時のプラズマディスプレイテレビの妨害波電界強度の測定値を基準値とした。そして、実施例および比較例に係る光学フィルター取り付けた、実施例および比較例に係るプラズマディスプレイテレビの妨害波電界強度の測定値と、上記基準値との差が、測定周波数４０ＭＨｚ、６０ＭＨｚ、１３０ＭＨｚにおいて、１ｄＢ以上大きくなった場合を不合格と判定し、一方、１ｄＢより小さかった場合を、十分な電磁波遮蔽機能を発現できているとして合格と判定した。  At this time, the measured value of the electric field intensity of the plasma display television when the existing optical filter was attached was used as a reference value. The difference between the measured value of the interference wave electric field intensity of the plasma display television according to the example and the comparative example with the optical filter according to the example and the comparative example and the reference value is measured at 40 MHz, 60 MHz, and 130 MHz. The case where it became larger than 1 dB was determined as unacceptable, while the case where it was smaller than 1 dB was determined as acceptable because it exhibited a sufficient electromagnetic wave shielding function.

３．２ 耐性
次に、実施例および比較例に係る透明積層フィルムにつき、塩素イオンに対する耐性を有するか否か試験を行った。3.2 Resistance Next, the transparent laminated films according to Examples and Comparative Examples were tested for resistance to chloride ions.

すなわち、先ず、ＮａＣｌを１０００ｐｐｍ含有するイオンクロマトグラフ用試薬（和光純薬工業（株）製）を純水で希釈し、ＮａＣｌを１０ｐｐｍ含有する溶液を調製した。  That is, first, a reagent for ion chromatography containing 1000 ppm of NaCl (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was diluted with pure water to prepare a solution containing 10 ppm of NaCl.

次いで、実施例および比較例に係る透明積層フィルムの各積層構造の最表面上へ、上記溶液を５μｌ滴下した。  Next, 5 μl of the above solution was dropped on the outermost surface of each laminated structure of the transparent laminated film according to the example and the comparative example.

次いで、各透明積層フィルムを、３０℃に設定されたオーブンで乾燥した後、さらに、湿度９０％ＲＨ、温度６０℃に設定された湿熱槽で２４時間保持した。  Next, each transparent laminated film was dried in an oven set at 30 ° C., and further held for 24 hours in a wet heat bath set at a humidity of 90% RH and a temperature of 60 ° C.

次いで、上記溶液の滴下箇所を、マイクロスコープ（（株）キーエンス製、「ＶＨＸ−１００ｆ」）（倍率×５０）にて確認した。  Subsequently, the dripping location of the said solution was confirmed with the microscope (the Keyence Corporation make, "VHX-100f") (magnification x50).

その結果、直径０．３ｍｍ以上の白点が発生した場合を、耐性がないとして不合格とし、直径０．３ｍｍ未満の白点または白点がなかった場合を、耐性があるとして合格とした。  As a result, a case where a white spot having a diameter of 0.3 mm or more occurred was rejected as having no resistance, and a case where there was no white spot or white spot having a diameter of less than 0.3 mm was determined to be acceptable.

３．３ その他
なお、参考データとして、各光学フィルターについて、非接触抵抗率計（コペル電子（株）製、「ＳＮ２０３０８１」）を用いて表面抵抗値の測定を行った。また、各透明積層フィルムの作製において、７層目を形成後、上記マイクロスコープ（倍率×４５０）を用いて、表面を確認することにより、亀裂の有無を確認した。3.3 Others As reference data, the surface resistance value of each optical filter was measured using a non-contact resistivity meter (manufactured by Coper Electronics Co., Ltd., “SN203081”). Moreover, in preparation of each transparent laminated film, after forming the 7th layer, the presence or absence of a crack was confirmed by confirming the surface using the said microscope (magnification x450).

以上の評価結果を、表２に示す。  The above evaluation results are shown in Table 2.

４．考察
以上の結果から次のことが分かる。すなわち、比較例２は、透明積層フィルムにおける積層構造の最表面にアクリル樹脂層がない。そのため、積層構造の最表面縁部に形成されている額縁状電極を介して接地しても、十分な電磁波遮蔽性能を有している。しかしながら、積層構造の最表面からの塩素イオンの侵入を抑制することができず、環境中に存在する成分に対する耐性を有していないことが分かる。4). Discussion From the above results, the following can be understood. That is, Comparative Example 2 does not have an acrylic resin layer on the outermost surface of the laminated structure in the transparent laminated film. Therefore, even when grounded via the frame-like electrode formed on the outermost surface edge portion of the laminated structure, it has sufficient electromagnetic wave shielding performance. However, it can be seen that the penetration of chlorine ions from the outermost surface of the laminated structure cannot be suppressed, and it does not have resistance to components present in the environment.

また、比較例１は、透明積層フィルムにおける積層構造の最表面にアクリル樹脂層を有している。そのため、塩素イオンの侵入を抑制でき、環境中に存在する成分に対する耐性を有している。しかしながら、絶縁性のアクリル樹脂層の表面縁部に形成された額縁状電極を介して接地しているので、吸収した電磁波を電流として外部に流し難く、十分な電磁波遮蔽機能を発現できないことが分かる。  Moreover, the comparative example 1 has an acrylic resin layer in the outermost surface of the laminated structure in a transparent laminated film. Therefore, the penetration | invasion of a chlorine ion can be suppressed and it has the tolerance with respect to the component which exists in an environment. However, since it is grounded via the frame-like electrode formed on the surface edge of the insulating acrylic resin layer, it is difficult to flow the absorbed electromagnetic wave to the outside as a current, and it is understood that a sufficient electromagnetic wave shielding function cannot be exhibited. .

これらに対し、実施例１は、積層構造の最表面にアクリル樹脂層が積層されているので、環境中に存在する成分が、アクリル樹脂層より下層に侵入するのを抑制することができる。そのため、環境中に存在する成分に対する耐性に優れる。  On the other hand, since the acrylic resin layer is laminated | stacked on the outermost surface of laminated structure, Example 1 can suppress that the component which exists in an environment penetrate | invades into a lower layer from an acrylic resin layer. Therefore, it is excellent in resistance to components present in the environment.

さらに、積層構造の側端面が接地用電極層により被覆されている。それゆえ、十分に接地が考慮されており、吸収した電磁波を電流として外部に流し出しやすく、積層構造の最表面に絶縁性のアクリル脂層があっても、十分な電磁波遮蔽機能を発現できていることが分かる。  Further, the side end surface of the laminated structure is covered with a ground electrode layer. Therefore, grounding is considered sufficiently, it is easy to flow the absorbed electromagnetic waves to the outside as a current, and even if there is an insulating acrylic oil layer on the outermost surface of the laminated structure, a sufficient electromagnetic shielding function can be exhibited. I understand that.

したがって、実施例１に係る透明積層フィルムによれば、環境中に存在する成分に対する耐性を有し、さらに、十分な電磁波遮蔽機能を発現可能なことが確認できた。また、実施例１に係る透明積層フィルムを有する光学フィルター、プラズマディスプレイも得ることができた。  Therefore, according to the transparent laminated film which concerns on Example 1, it has confirmed the tolerance with respect to the component which exists in an environment, and also can express sufficient electromagnetic wave shielding function. Moreover, the optical filter and plasma display which have the transparent laminated film concerning Example 1 were also able to be obtained.

市販のプラズマディスプレイテレビに組み込む前の、実施例１に係る透明積層フィルムを有する光学フィルターの一端部付近を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the one end part vicinity of the optical filter which has the transparent laminated film which concerns on Example 1 before incorporating in a commercially available plasma display television.市販のプラズマディスプレイテレビに組み込む前の、比較例１および比較例２に係る透明積層フィルムを有する光学フィルターの一端部付近を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the one end part vicinity of the optical filter which has the transparent laminated film which concerns on the comparative example 1 and the comparative example 2 before integrating in a commercially available plasma display television.

符号の説明Explanation of symbols

１０ 透明積層フィルム
１２ 積層構造
１４ 光学フィルター
１６ ガラス基板
１８ 導電性アルミテープ１８
２０ 接地用電極層２０
２２ ＰＥＴフィルムDESCRIPTION OFSYMBOLS 10 Transparentlaminated film 12 Laminatedstructure 14Optical filter 16Glass substrate 18Conductive aluminum tape 18
20Grounding electrode layer 20
22 PET film

Claims (6)

Translated fromJapanese

透明高分子フィルムの片面または両面に、少なくとも金属酸化物層と金属層とが積層されるとともに、最表面に透明樹脂層が積層された積層構造を有し、
フィルム側端面のうち、少なくとも前記積層構造の側端面が、接地用電極層により被覆されていることを特徴とする透明積層フィルム。At least one metal oxide layer and a metal layer are laminated on one side or both sides of the transparent polymer film, and a laminated structure in which a transparent resin layer is laminated on the outermost surface,
A transparent laminated film, wherein at least a side end face of the laminated structure of the film side end faces is covered with a ground electrode layer. 前記接地用電極層は、金、銀、白金属および銅から選択される少なくとも１種の金属成分を含むことを特徴とする請求項１に記載の透明積層フィルム。  2. The transparent laminated film according to claim 1, wherein the ground electrode layer includes at least one metal component selected from gold, silver, white metal, and copper. 前記接地用電極層は、導電性ペーストを塗工することにより形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の透明積層フィルム。  3. The transparent laminated film according to claim 1, wherein the ground electrode layer is formed by applying a conductive paste. 前記金属酸化物層は、チタンの酸化物を含む層であり、前記金属層は、銀を含む層であることを特徴とする請求項１から３の何れかに記載の透明積層フィルム。  4. The transparent laminated film according to claim 1, wherein the metal oxide layer is a layer containing an oxide of titanium, and the metal layer is a layer containing silver. 5. 請求項１から４の何れかに記載の透明積層フィルムを有することを特徴とする光学フィルター。  An optical filter comprising the transparent laminated film according to claim 1. 請求項１から４の何れかに記載の透明積層フィルム、または、請求項５に記載の光学フィルターを有することを特徴とするプラズマディスプレイ。  A plasma display comprising the transparent laminated film according to claim 1 or the optical filter according to claim 5.

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