【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくともその表
面の一部に、複数の多孔質領域が区画されて配置されて
いるか、あるいは複数の非多孔質領域が多孔質領域によ
って区画されて配置されている複合基板及びその製造方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device, comprising a plurality of porous regions defined at least on a part of a surface thereof or a plurality of non-porous regions defined by a porous region. And a method of manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】多孔質体は、従来から触媒、酵素、微生
物等の担体として広く使用されており、各種の反応の場
として活用されている。また吸着・分離等の機能性材
料、あるいは熱や電気の低伝導性を利用した材料として
も用いられている。多孔質体としては、多孔質ガラスま
たは多孔質セラミックが用いられており、孔径を制御し
たり官能基を付与したりするなどの方法により、それぞ
れの用途に応じた物性を与えるようにされている。2. Description of the Related Art Porous materials have been widely used as carriers for catalysts, enzymes, microorganisms, and the like, and are used as sites for various reactions. It is also used as a functional material such as adsorption and separation, or as a material utilizing low heat or electricity conductivity. As the porous body, porous glass or porous ceramic is used, and by giving a method such as controlling a pore diameter or adding a functional group, physical properties corresponding to each use are given. .
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】このように、多孔質体
は各種の応用用途を有するが、表面の全面にわたって連
続的に多孔質領域が存在する多孔質体では、同一基板上
には単一の機能しか発揮させられないという問題点があ
った。しかしながら、最近の科学技術の進歩によって、
機器の小型化が要求されるようになるにつれて、同一基
板上で複数の機能の異なる反応の場を提供できたり、基
板上の局所を熱的あるいは電気的に絶縁することができ
る、従来にない応用の可能な複合基板の出現が待たれる
ようになってきた。本発明は、このような従来の課題に
鑑みてなされたものであり、単一基板によって、複数の
異なる機能を発揮できる複合基板及びその製造方法を提
供することを目的とする。As described above, the porous body has various applications, but in the case of a porous body having a continuous porous region over the entire surface, a single body is formed on the same substrate. There is a problem that only the function of the above can be exhibited. However, with recent technological advances,
As the miniaturization of equipment is required, it is possible to provide a reaction field having a plurality of different functions on the same substrate, or to thermally or electrically insulate a portion on the substrate, which has not existed before. The emergence of composite substrates that can be applied has been awaited. The present invention has been made in view of such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide a composite substrate capable of exhibiting a plurality of different functions by a single substrate and a method of manufacturing the same.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記の課
題により、一つの基板上で複数の異なる機能を発揮でき
る基板について優れたものを得るため、その基板の材質
や形態について種々研究した。そして、従来粒状で用い
られていた多孔質体を、少なくともその表面の一部に、
複数の多孔質領域が非多孔質領域によって区画されて配
置されているか、あるいは複数の非多孔質領域によって
区画されて配置されている複合基板とすることにより、
同一基板上に複数の機能の異なる反応場を提供できた
り、基板上の特定領域を熱的或いは電気的に絶縁するこ
とができるなど、従来にない応用が可能になることに着
目して、本発明に到達した。SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have conducted various studies on the material and form of a substrate in order to obtain an excellent substrate capable of performing a plurality of different functions on one substrate. did. And the porous body conventionally used in the form of granules, at least a part of its surface,
A plurality of porous regions are arranged and partitioned by the non-porous region, or by forming a composite substrate that is partitioned and arranged by a plurality of non-porous regions,
Focusing on unprecedented applications, such as providing multiple reaction fields with different functions on the same substrate and thermally or electrically insulating specific areas on the substrate, The invention has been reached.
【０００５】すなわち、本発明は、下記の手段により前
記の課題を解決した。 （１）少なくともその表面の一部に、複数の多孔質領域
が非多孔質領域によって区画されて配置されているか、
あるいは複数の非多孔質領域が多孔質領域によって区画
されて配置されていることを特徴とする複合基板。 （２）多孔質領域と非多孔質領域が共存する複合基板で
あって、その表面が研磨などの方法によって平坦化され
ていることを特徴とする前記（１）記載の複合基板。 （３）非多孔質基板上の所定領域に別途形成した多孔質
体を配置することによって前記（１）記載の複合基板を
形成することを特徴とする複合基板の製造方法。 （４）非多孔質基板上の所定領域に複数の多孔質体先駆
体を配置し、基板上で前記多孔質体先駆体を多孔質化す
ることによって形成することを特徴とする前記（３）に
記載の複合基板の製造方法。 （５）表面が全面的に多孔質体先駆体である基板につい
て、その多孔質体先駆体の複数の所定領域を多孔質化す
ることによって複数の多孔質領域を形成することを特徴
とする前記（３）記載の複合基板の製造方法。That is, the present invention has solved the above-mentioned problems by the following means. (1) whether at least a part of the surface has a plurality of porous regions partitioned by a non-porous region,
Alternatively, the composite substrate is characterized in that a plurality of non-porous regions are arranged by being partitioned by the porous regions. (2) The composite substrate according to (1), wherein the porous substrate and the non-porous region coexist, and the surface thereof is planarized by a method such as polishing. (3) A method for manufacturing a composite substrate, wherein the composite substrate according to (1) is formed by arranging a separately formed porous body in a predetermined region on the non-porous substrate. (4) The method according to (3), wherein a plurality of porous body precursors are arranged in a predetermined region on the non-porous substrate, and the porous body precursor is formed on the substrate by making the precursor porous. 3. The method for producing a composite substrate according to item 1. (5) A plurality of porous regions are formed by making a plurality of predetermined regions of the porous body precursor porous for a substrate whose surface is entirely a porous body precursor. (3) The method for producing a composite substrate according to (3).
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】本発明の複合基板は、具体的にい
うと、少なくともその表面の一部に複数の多孔質領域が
あり、それぞれが非多孔質領域によって周囲を囲まれる
ことにより区画されて配置されているものである。ま
た、それとは逆に、複数の非多孔質領域が多孔質領域に
よって周囲を囲まれることにより区画されて配置されて
いるものである。このようにすることで、前者の場合
は、例えば、特定の触媒反応や酵素反応などを区画され
た領域内でのみ生起させることができるようになり、そ
れらの領域の複数が互いに隔離されて配列されている基
板に、あるサンプルを供することにより、そのサンプル
の複数の反応に関する活性の有無を同時に試験すること
ができる。また、後者の場合には、例えば半導体製造工
程において、複数の配線（非多孔質領域）を絶縁体から
なる多孔質領域によって区画し、基板上に高度に絶縁さ
れた電気配線などを形成することができる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Specifically, the composite substrate of the present invention has a plurality of porous regions on at least a part of its surface, each of which is defined by being surrounded by a non-porous region. It is what is arranged. Conversely, a plurality of non-porous regions are partitioned and arranged by being surrounded by a porous region. By doing so, in the former case, for example, a specific catalytic reaction or enzymatic reaction can be caused only in the partitioned area, and a plurality of those areas are arranged in isolation from each other. By providing a certain sample to the substrate that has been subjected to the test, it is possible to simultaneously test the sample for the presence or absence of activity with respect to a plurality of reactions. In the latter case, for example, in a semiconductor manufacturing process, a plurality of wirings (non-porous regions) are partitioned by a porous region made of an insulator, and highly insulated electric wirings and the like are formed on a substrate. Can be.
【０００７】本発明に用いる多孔質体としては、孔径の
制御や官能基の付与が容易な、多孔質ガラスまたは多孔
質セラミックスが望ましい。なかでも、反応場として使
用する場合には、化学修飾を行いやすい表面水酸基の密
度が高い分相性多孔質ガラスが好適である。また、表面
を研磨などの方法によって平坦化されたものとすること
により、上記サンプルの均一な付与を可能とせしめるこ
とができる。なお、分相性多孔質ガラスは、熱処理の時
間と温度によって細孔径が容易に制御できる特性があ
り、その母体ガラス組成としてホウケイ酸ガラスが好ま
しい。[0007] As the porous body used in the present invention, porous glass or porous ceramics, which can easily control the pore diameter and impart a functional group, is desirable. Above all, when used as a reaction field, phase-separating porous glass having a high density of surface hydroxyl groups that are easily subjected to chemical modification is preferable. In addition, when the surface is flattened by a method such as polishing, the sample can be uniformly applied. The phase-separating porous glass has a property that the pore diameter can be easily controlled by the time and temperature of the heat treatment, and borosilicate glass is preferable as the base glass composition.
【０００８】多孔質ガラスとしては、Ｎａ2Ｏ−Ｂ2Ｏ
3−ＳｉＯ2系で、ＳｉＯ2５５〜８０ｗｔ％の組成域
のものや、ＳｉＯ2３５〜５５ｗｔ％の組成域のものが
あり、その他ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＣａＯ−Ａｌ2Ｏ3
系ガラス、ＳｉＯ2−Ｐ2Ｏ5−Ｎａ2Ｏ系ガラス、Ｓ
ｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＣａＯ−ＭｇＯ−Ａｌ2Ｏ3−Ｔｉ
Ｏ2系ガラス、ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ｎａ2Ｏ−ＧｅＯ
2系ガラス、ＳｉＯ2−ＺｒＯ2系ガラス，ＧｅＯ2−
ＺｒＯ2−ＴｈＯ2系ガラスなどが知られている。多孔
質セラミックスとしては、アルミナ、マグネシヤなどを
挙げることがきる。[0008] As the porous glass, NaTwoOBTwoO
Three-SiOTwoSystem, SiOTwo55-80 wt% composition range
And SiOTwo35-55 wt% composition range
Yes, other SiOTwo-BTwoOThree-CaO-AlTwoOThree
Glass, SiOTwo-PTwoOFive-NaTwoO-based glass, S
iOTwo-BTwoOThree-CaO-MgO-AlTwoOThree−Ti
OTwoGlass, SiOTwo-BTwoOThree-NaTwoO-GeO
TwoGlass, SiOTwo-ZrOTwoGlass, GeOTwo−
ZrOTwo-ThOTwoSystem glass and the like are known. porous
Alumina, magnesium, etc. are used as porous ceramics.
I can list them.
【０００９】本発明の複合基板の製造方法としては、い
くつかの異なったやり方がある。ひとつには、非多孔質
基板上の所定領域に、別途形成した多孔質体を多数配置
することによって形成する方法がある。ここで使用する
多孔質体は、粒状のものであってもよいし、多孔質体の
板を破砕ないし切断した断片であってもよい。その際、
基板への配置以前に、予め多孔質体に必要な機能を与え
ておくこともできる。また、基板への配置にあたって
は、例えば、水ガラスなどの多孔質体の機能に影響を与
えない接着剤などを用いることが好ましい。さらには、
基板に凹部を形成し、そこに多孔質体を埋め込み、全体
を研磨することにより平坦な複合基板を製作することも
できる。There are several different methods for manufacturing the composite substrate of the present invention. One is a method in which a porous body is formed by arranging a large number of separately formed porous bodies in a predetermined area on a non-porous substrate. The porous material used here may be a granular material or a fragment obtained by crushing or cutting a plate of the porous material. that time,
Prior to the arrangement on the substrate, the porous body may be given a necessary function in advance. In addition, for disposition on the substrate, for example, it is preferable to use an adhesive or the like that does not affect the function of the porous body such as water glass. Moreover,
A flat composite substrate can also be manufactured by forming a recess in the substrate, embedding a porous body therein, and polishing the whole.
【００１０】また、非多孔質基板上の所定領域に多孔質
体先駆体（物質）を配置し、基板上で多孔質化処理する
ことによって形成する方法がある。先駆体の配置方法と
しては、固体のものを接着剤などによって取り付ける方
法と、液体状ないしスラリー状のものを滴下し、加熱処
理などによって該先駆体（例えば先駆物質層）を形成さ
せて基板に取り付ける方法などがある。この場合も、あ
らかじめ基板上の所定の位置に凹部を形成しておき、そ
こに多孔質体先駆体を供給して埋め込み、多孔質化処理
を行った後に研磨して、平坦な複合基板を得ることがで
きる。There is also a method in which a precursor of a porous body (substance) is disposed in a predetermined region on a non-porous substrate, and the precursor is formed by making the substrate porous. As a method of disposing the precursor, a method of attaching a solid substance with an adhesive or the like, a method of dropping a liquid or slurry substance, forming the precursor (for example, a precursor material layer) by a heat treatment or the like, and forming the precursor on a substrate There are mounting methods. Also in this case, a concave portion is formed in a predetermined position on the substrate in advance, and a porous precursor is supplied and embedded therein, and after performing the porous treatment, polishing is performed to obtain a flat composite substrate. be able to.
【００１１】さらには、多孔質体先駆体からなる基板を
準備するか、あるいは非多孔質基板上に全面的に多孔質
体先駆物質層或いは薄膜を形成し、その所定領域を多孔
質化することによって形成する方法を取ることができ
る。非多孔質基板への先駆体の形成方法としては、板状
のものを接着剤などによって取り付けるか、液体状ない
しスラリー状のものをピンコート法などの方法により均
一に塗布し、加熱処理などによって基板上に取り付ける
方法がある。多孔質化処理に際しては、所定の位置のみ
を多孔質化するため、レジストなどにより、それ以外の
部分を被覆するなとの処理を講じる。この場合は、多孔
質化前に基板表面が比較的平坦になっているが、必要が
あれば、さらに研磨などにより平坦化しても良い。Further, a substrate made of a porous precursor is prepared, or a porous precursor layer or a thin film is entirely formed on a non-porous substrate, and a predetermined region thereof is made porous. Can be formed by the method. As a method of forming a precursor on a non-porous substrate, a plate-like one is attached with an adhesive or the like, or a liquid or slurry-like one is uniformly applied by a pin coating method or the like, and the substrate is heated or the like. There is a way to attach on top. At the time of the porous treatment, in order to make only a predetermined position porous, a process of not covering other parts with a resist or the like is taken. In this case, the surface of the substrate is relatively flat before being made porous, but if necessary, it may be further flattened by polishing or the like.
【００１２】また、全面が多孔質されている基板を準備
し、その表面の所定領域を封孔処理することによってそ
の部分を非多孔質化し、その際所定領域として多孔質部
分が多数の区画に分割されるように境界となる場所を選
ぶように設定するすることにより、複数の多孔質領域が
非多孔質化した領域により区画された表面を形成するこ
ともできる。その際に採用する封孔法としては、レーザ
などの高ネルギービームを所定領域に照射する方法や、
多孔質のまま残すべき領域をレジストなどで被覆したの
ち、化学処理するなどの方法がある。レーザ加工の場
合、レーザが当たった箇所だけが溶融して他の箇所に影
響を与えることが少ないので好ましい。また、レーザ加
工においては、基板に対して間隔を開けて縦横に線を引
くようにレーザを移動するだけで、多数の区画された領
域を簡単に形成することができる。Further, a substrate having a porous surface is prepared, and a predetermined area on the surface is sealed to make the area non-porous. At this time, the porous area is divided into a large number of sections as the predetermined area. By setting so as to select a location serving as a boundary so as to be divided, it is also possible to form a surface in which a plurality of porous regions are partitioned by non-porous regions. As a sealing method adopted at that time, a method of irradiating a predetermined area with a high energy beam such as a laser,
There is a method in which a region that should remain porous is covered with a resist or the like, and then subjected to a chemical treatment. In the case of laser processing, it is preferable because only a portion irradiated with the laser is less likely to melt and affect other portions. Also, in laser processing, a large number of partitioned areas can be easily formed simply by moving the laser so as to draw lines vertically and horizontally at an interval with respect to the substrate.
【００１３】[0013]
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明す
る。ただし、本発明は、これらの実施例のみに限定され
るものではない。The present invention will be described in detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to only these examples.
【００１４】実施例１ 図１に示すように、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、厚さ
１ｍｍのアルミナ基板１上にシリカゾルを塗布し、シリ
カゾル層２を形成した上に平均粒径５０μｍのビーズ状
多孔質アルミナ３を散布後、乾燥し固定化する。ビーズ
状多孔質アルミナ３は、空孔率４０％、表面積２５０ｍ
2／ｇのものであり、個々の粒子が、別々の機能を有す
る薬剤の担体となることができる。Example 1 As shown in FIG. 1, a silica sol was applied on an alumina substrate 1 having a length of 100 mm × 100 mm and a thickness of 1 mm to form a silica sol layer 2 and a bead-like porous material having an average particle diameter of 50 μm. After spraying the alumina 3, it is dried and fixed. The beaded porous alumina 3 has a porosity of 40% and a surface area of 250 m.
2 / g, and each individual particle can be a carrier for a drug having a different function.
【００１５】実施例２ 図２に示すように、縦７５ｍｍ×横２５ｍｍ、厚さ１．
５ｍｍのガラス基板４の表面の所定位置にウエットエッ
チングにより縦３ｍｍ×横３ｍｍ、深さ０．１ｍｍの凹
部５を多数設ける。前記凹部５内にポリアクリルアミド
６を入れる。厚さ０．２ｍｍの多孔質ガラス板７を前記
凹部５に入る大きさに切断し、その多孔質ガラス片８を
各凹部５の中のポリアクリルアミド６の上に乗せ、貼付
ける。その際、ポリアクリルアミド６の量によってその
一部が凹部５の縁から溢れ、あるいは多孔質ガラス片８
の上面がガラス基板４の表面より上に来る状態となる。
そして、その貼付けた基板を必要により平坦化加工をす
る。この方法により、多数の凹部５にポリアクリルアミ
ド６が入り、そのポリアクリルアミド６によって多孔質
ガラス板片８が固定されたガラス基板４が得られる。前
記多孔質ガラス板片８の部分にマイクロピペットを用い
て機能を与える試薬液を滴下することにより、機能を有
するガラス基板を製造することができる。多孔質ガラス
板片８に担持させる機能を与える物質の性質によって
は、前記のポリアクリルアミドがその機能を与える物質
に何らかの影響がある場合には、ポリアクリルアミドを
他の接着性のポリマーに変更することができる。Embodiment 2 As shown in FIG. 2, a 75 mm long × 25 mm wide, thickness 1.
A large number of concave portions 5 having a length of 3 mm × a width of 3 mm and a depth of 0.1 mm are provided at predetermined positions on the surface of the glass substrate 4 of 5 mm by wet etching. A polyacrylamide 6 is put in the recess 5. A porous glass plate 7 having a thickness of 0.2 mm is cut into a size that fits into the recess 5, and the porous glass piece 8 is placed on the polyacrylamide 6 in each recess 5 and attached. At this time, a part of the polyacrylamide 6 overflows from the edge of the concave portion 5 or the porous glass piece 8
Is located above the surface of the glass substrate 4.
Then, the attached substrate is flattened if necessary. According to this method, the polyacrylamide 6 enters the many concave portions 5 and the glass substrate 4 on which the porous glass plate piece 8 is fixed by the polyacrylamide 6 is obtained. A glass substrate having a function can be manufactured by dropping a reagent solution that gives a function to the portion of the porous glass plate piece 8 using a micropipette. Depending on the nature of the substance giving the function to be carried on the porous glass plate piece 8, if the above-mentioned polyacrylamide has some influence on the substance giving the function, the polyacrylamide should be changed to another adhesive polymer. Can be.
【００１６】実施例３ 図３に示すように、縦７５ｍｍ×横２５ｍｍ、厚さ１．
５ｍｍのガラス基板４の表面の所定位置にウエットエッ
チングにより縦３ｍｍ×横３ｍｍ、深さ０．２ｍｍの凹
部５を多数設ける。別の攪拌槽９内にケイ酸テトラエチ
ル２ｍｌをエチルアルコール２ｍｌに溶解した溶液に、
水２ｍｌ、ホルムアミド４ｍｌ及び１２Ｎ塩酸０．２ｍ
ｌを添加してケイ酸テトラエチルを加水分解し、それを
室温にて５時間熟成させた後、多孔質ガラス前駆体の粘
度の高いゲル状体１０を形成させる。これを前記ガラス
基板４の表面にスピンコートし（厚さ０．３ｍｍ）、熟
成させ、乾燥させることにより、多孔質ガラス前駆体層
１１を形成させる。次いで、多孔質ガラス前駆体層１１
の部分を研磨してガラス基板４の表面より上の部分を除
くことにより、凹部５の部分のみに多孔質ガラス前駆体
１２を有するガラス基板を得ることができた。最後に、
多孔質ガラス前駆体１２を処理して多孔質ガラス１３に
変えることにより、非多孔質ガラス領域内に多数の多孔
質ガラスの領域を有する複合ガラス基板１４を得ること
が出来た。Embodiment 3 As shown in FIG. 3, the height is 75 mm × the width 25 mm, and the thickness is 1.
At a predetermined position on the surface of the glass substrate 4 having a size of 5 mm, a large number of concave portions 5 having a size of 3 mm long × 3 mm wide and 0.2 mm deep are provided by wet etching. In another stirring tank 9, a solution of 2 ml of tetraethyl silicate dissolved in 2 ml of ethyl alcohol was added.
2 ml of water, 4 ml of formamide and 0.2 m of 12N hydrochloric acid
After adding l to hydrolyze the tetraethyl silicate and aging it at room temperature for 5 hours, the porous glass precursor 10 having a high viscosity is formed. This is spin-coated on the surface of the glass substrate 4 (thickness: 0.3 mm), aged, and dried to form the porous glass precursor layer 11. Next, the porous glass precursor layer 11
By polishing the portion to remove the portion above the surface of the glass substrate 4, a glass substrate having the porous glass precursor 12 only in the concave portion 5 was obtained. Finally,
By processing the porous glass precursor 12 to convert it to porous glass 13, a composite glass substrate 14 having a large number of porous glass regions in the non-porous glass region could be obtained.
【００１７】実施例４ 図４に示すように、縦７５ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ１．
５ｍｍの石英基板１５の表面の所定位置に切削加工によ
り縦３ｍｍ×横１ｍｍ、深さ０．１５ｍｍの凹部５を多
数設ける。攪拌槽１６内に平均粒径１０μｍのホウケイ
酸ガラス粒子と油（パラフィンワックス）を入れて攪拌
して塗布液を形成し、この塗布液を前記石英基板１５の
表面にスクリーン印刷により塗布し、塗布層１７を形成
する。塗布量は４００ｇ／ｍ2とした。それを乾燥し、
加熱処理して油分を除き、８５０℃で３０分間加熱する
ことによりホウケイ酸ガラス粒子相互を融着させ、その
後６００℃で１５時間熱処理して分相処理させる。その
後、ホウケイ酸ガラス部分１８を研磨してガラス基板１
０の表面より上の部分を除くことにより、凹部５の部分
のみにホウケイ酸ガラス１８を有する石英ガラス基板１
９を得ることができた。この石英ガラス基板１９を約９
０℃で硫酸（濃度１Ｎ）を用い０．５時間酸処理して多
孔質化させる処理を行って、石英ガラス基板内に多数の
多孔質ホウケイ酸ガラス領域２０を有する複合石英ガラ
ス基板２１を得ることが出来た。Embodiment 4 As shown in FIG. 4, the height is 75 mm.times.30 mm.
A large number of concave portions 5 having a length of 3 mm × 1 mm and a depth of 0.15 mm are provided at predetermined positions on the surface of the 5 mm quartz substrate 15 by cutting. Borosilicate glass particles having an average particle diameter of 10 μm and oil (paraffin wax) are put into a stirring tank 16 and stirred to form a coating liquid. The coating liquid is coated on the surface of the quartz substrate 15 by screen printing, and coated. The layer 17 is formed. The coating amount was 400 g / m2 . Dry it,
The borosilicate glass particles are fused by heating at 850 ° C. for 30 minutes to remove oil, and then subjected to a heat treatment at 600 ° C. for 15 hours for phase separation. Thereafter, the borosilicate glass portion 18 is polished and the glass substrate 1 is polished.
The quartz glass substrate 1 having the borosilicate glass 18 only in the concave portion 5 by removing the portion above the surface
9 was obtained. This quartz glass substrate 19 is about 9
By performing an acid treatment using sulfuric acid (concentration: 1N) at 0 ° C. for 0.5 hour to form a porous body, a composite quartz glass substrate 21 having many porous borosilicate glass regions 20 in the quartz glass substrate is obtained. I was able to do it.
【００１８】[0018]
【発明の効果】本発明によれば、少なくともその表面の
一部に、複数の多孔質領域が区画されて配置されている
複合基板が提供されるので、同一基板上で複数の異なる
機能や性能を発揮することができ、従来にない応用を可
能にするものである。また、その複合基板の製造に際し
ては、基板の上に接着層を介して多孔質ガラス部片を所
定間隔で固定したり、あるいは基板の上に凹部のような
固定できる部位を所定間隔で設けてそれに多孔質ガラス
部片を固定するなどの簡単な手段で複数の多孔質領域が
区画されて配置されたものとすることができる。According to the present invention, a composite substrate is provided in which a plurality of porous regions are divided and arranged on at least a part of the surface thereof, so that a plurality of different functions and performances are provided on the same substrate. , And enable unprecedented applications. When manufacturing the composite substrate, the porous glass pieces are fixed at predetermined intervals on the substrate via an adhesive layer, or fixed portions such as recesses are provided at predetermined intervals on the substrate. A plurality of porous regions can be divided and arranged by simple means such as fixing a porous glass piece.
【図１】表面に多数のビーズ状多孔質アルミナ領域を有
するアルミナ基板の製造工程を表す説明図を示す。FIG. 1 is an explanatory diagram showing a manufacturing process of an alumina substrate having a large number of bead-like porous alumina regions on a surface.
【図２】表面に多数の多孔質ガラス領域を有するガラス
基板の製造工程を表す説明図を示す。FIG. 2 is an explanatory view showing a manufacturing process of a glass substrate having a large number of porous glass regions on the surface.
【図３】表面に多孔質ガラス前駆体を塗布して多数の多
孔質ガラス領域を有するガラス基板を製造する工程を表
す説明図を示す。FIG. 3 is an explanatory view showing a step of manufacturing a glass substrate having a large number of porous glass regions by applying a porous glass precursor to the surface.
【図４】表面にホウケイ酸ガラス粒子を塗布して分相法
で多数の多孔質ガラス領域を有する石英基板を製造する
工程を表す説明図を示す。FIG. 4 is an explanatory view showing a step of applying borosilicate glass particles to the surface and manufacturing a quartz substrate having a large number of porous glass regions by a phase separation method.
１ アルミナ基板 ２ シリカゾル層 ３ ビーズ状多孔質アルミナ粒子 ４ ガラス基板 ５ 凹部 ６ ポリアクリルアミド ７ 多孔質ガラス板 ８ 多孔質ガラス片 ９ 攪拌槽 １０ ゲル状体 １１ 多孔質ガラス前駆体層 １２ 多孔質ガラス前駆体 １３ 多孔質ガラス １４ 複合ガラス基板 １５ 石英基板 １６ 攪拌槽 １７ 塗布層 １８ ホウケイ酸ガラス １９ 石英ガラス基板 ２０ 多孔質ホウケイ酸ガラス ２１ 複合石英ガラス基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Alumina substrate 2 Silica sol layer 3 Bead-shaped porous alumina particles 4 Glass substrate 5 Depression 6 Polyacrylamide 7 Porous glass plate 8 Porous glass piece 9 Stirring tank 10 Gel body 11 Porous glass precursor layer 12 Porous glass precursor Body 13 Porous glass 14 Composite glass substrate 15 Quartz substrate 16 Stirring tank 17 Coating layer 18 Borosilicate glass 19 Quartz glass substrate 20 Porous borosilicate glass 21 Composite quartz glass substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長澤 浩 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 Ｆターム(参考） 5E338 AA18 BB63 EE60 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on front page (72) Inventor Hiroshi Nagasawa 11-1 Haneda Asahimachi, Ota-ku, Tokyo F-term in Ebara Corporation (reference) 5E338 AA18 BB63 EE60
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