【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレームな
どの薄膜長尺物を走行させながら超音波により形成され
た定在波音場を利用して、この薄膜対象物に付着した液
体を除去する超音波乾燥装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for removing a liquid adhering to a thin film object by using a standing wave sound field formed by ultrasonic waves while running a thin film long object such as a lead frame. It relates to a sonic drying device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、リードフレームの表面に付着
したメッキ液などの付着液体を洗浄して除去する乾燥装
置が知られている。例えば、一対のスポンジローラ間に
リードフレームをくぐらせて、このリードフレームの表
面に付着したメッキ液などをバキューム吸引して回収す
るスポンジローラ・バキューム方式が知られている。ま
た、リードフレームの表面にエアブラシから高圧の洗浄
用エアを吹き付けて、このリードフレームの表面に付着
したメッキ液などを吹き飛ばし、このメッキ液などをバ
キューム式の回収ノズルで回収するエアブロー・バキュ
ーム方式が知れらている。2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a drying apparatus for cleaning and removing an adhering liquid such as a plating liquid adhering to the surface of a lead frame. For example, a sponge roller / vacuum system is known in which a lead frame is passed between a pair of sponge rollers, and a plating solution or the like attached to the surface of the lead frame is suctioned and collected. In addition, an air blow vacuum system is used in which high-pressure cleaning air is blown from the airbrush to the surface of the lead frame to blow off plating liquid and the like attached to the surface of the lead frame, and the plating liquid and the like are collected by a vacuum-type collection nozzle. Is known.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】図１２は、超音波乾燥
装置（比較例）の一部を省略して示す平面図である。図
１２に示す超音波乾燥装置１０２は、超音波によってリ
ードフレーム１０１に付着したメッキ液などを振り落と
して、このリードフレーム１０１を乾燥する。この超音
波乾燥装置１０２は、超音波振動ホーン１０９の先端面
１１０から放射された超音波が、超音波反射板１１４と
の間で反射を繰り返す。ここで、距離ｄ１は、先端面
１１０と超音波反射板１１４との距離であり、開口形状
によって、除液が有効となる位置に設定する必要があ
る。また、距離ｄ２は、先端面１１０とリードフレー
ム１０１との距離であり、これらをそれぞれ音圧が最も
大きくなる位置に設定する必要がある。距離ｄ１，ｄ
２をこのような関係に設定することによって、リード
フレーム１０１の両面を乾燥することができる。FIG. 12 is a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus (comparative example) omitted. An ultrasonic drying device 102 shown in FIG. 12 shakes off a plating solution or the like attached to the lead frame 101 by ultrasonic waves and dries the lead frame 101. In the ultrasonic drying device 102, the ultrasonic waves radiated from the distal end surface 110 of the ultrasonic vibration horn 109 are repeatedly reflected between the ultrasonic reflecting plate 114 and the ultrasonic waves. Here, the distance d1 is the distance between the tip surface 110 and the ultrasonic reflector 114, the opening shape, it is necessary to set the position where the removal solution is valid. The distance d2 is the distance between the tip surface 110 and the lead frame 101, it is necessary to set them to a position where sound pressure respectively is largest. Distances d1 and d
By setting2 in such a relationship, both surfaces of the lead frame 101 can be dried.
【０００４】しかし、この超音波乾燥装置１０２では、
図１２に示すように、距離ｄ１，ｄ２の距離調節が
微妙であり、特に、開口形状や厚みや凹凸のあるリード
フレーム１０１に対して、距離ｄ１，ｄ２を正確に
設定することが困難であった。このために、リードフレ
ーム１０１に対する除液効果が低下するおそれがあっ
た。However, in this ultrasonic drying apparatus 102,
As shown in FIG. 12, the distance adjustment of the distances d1 and d2 is delicate. In particular, the distances d1 and d2 are accurately set for the lead frame 101 having the opening shape, the thickness, and the unevenness. Was difficult. For this reason, there is a possibility that the liquid removing effect on the lead frame 101 may be reduced.
【０００５】また、超音波振動ホーン１０９が角材のホ
ーンであるために、リードフレーム１０１に超音波を照
射する面積が小さくなって、除液効果が低下してしまう
おそれがあった。さらに、リードフレーム１０１の形状
によっては、その片面若しくは両面を均一に乾燥するこ
とが困難であった。Further, since the ultrasonic vibration horn 109 is a rectangular horn, the area for irradiating the lead frame 101 with ultrasonic waves becomes small, and there is a possibility that the liquid removing effect may be reduced. Furthermore, depending on the shape of the lead frame 101, it has been difficult to dry one or both surfaces uniformly.
【０００６】本発明の課題は、薄膜長尺物に付着した液
体を簡単かつ確実に乾燥することができる超音波乾燥装
置を提供することである。An object of the present invention is to provide an ultrasonic drying apparatus which can easily and surely dry a liquid adhered to a long thin film object.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、以下のような
解決手段により、前記課題を解決する。すなわち、請求
項１の発明は、薄膜長尺物を走行させながら超音波を照
射して、この薄膜長尺物に付着した液体を除去する超音
波乾燥装置であって、超音波を放射する超音波振動ホー
ンの超音波放射面と、前記超音波放射面と略平行に設け
られ、前記超音波を反射して、前記超音波放射面との間
に定在波を形成する超音波反射板の超音波反射面との間
に、これらの面に対して垂直又は傾斜して前記薄膜長尺
物を走行させるように構成したことを特徴としている超
音波乾燥装置である。The present invention solves the above-mentioned problems by the following means. That is, the invention of claim 1 is an ultrasonic drying apparatus for irradiating ultrasonic waves while running a long thin film object to remove a liquid attached to the long thin film object. An ultrasonic radiation surface of an ultrasonic vibration horn, an ultrasonic reflection plate that is provided substantially parallel to the ultrasonic radiation surface, reflects the ultrasonic waves, and forms a standing wave between the ultrasonic radiation surface. An ultrasonic drying apparatus characterized in that the thin-film long object is configured to run between the ultrasonic reflecting surfaces perpendicularly or obliquely to the surfaces, and to run the thin film long object.
【０００８】請求項２の発明は、薄膜長尺物を走行させ
ながら超音波を照射して、この薄膜長尺物に付着した液
体を除去する超音波乾燥装置であって、前記薄膜長尺物
の一方の面に超音波を放射する超音波放射面と、その放
射面と平行又は傾斜に、前記薄膜長尺物の面を対向さ
せ、走行させるように構成したことを特徴とする超音波
乾燥装置である。According to a second aspect of the present invention, there is provided an ultrasonic drying apparatus for irradiating an ultrasonic wave while running a long thin film object to remove a liquid adhered to the long thin film object. An ultrasonic radiation surface, which emits ultrasonic waves to one surface of the thin-film elongated object, is configured to be parallel to or inclined to the radiation surface, and to run. Device.
【０００９】請求項３の発明は、薄膜長尺物を走行させ
ながら超音波を照射して、この薄膜長尺物に付着した液
体を除去する超音波乾燥装置であって、前記薄膜長尺物
の一方の面に超音波を放射する第１の超音波振動ホーン
の超音波放射面と、前記超音波放射面と略平行に設けら
れ、前記薄膜長尺物の他方の面に超音波を放射する第２
の超音波振動ホーンの超音波放射面との間に、前記薄膜
長尺物を走行させるように構成したことを特徴とする超
音波乾燥装置である。A third aspect of the present invention is an ultrasonic drying apparatus for irradiating an ultrasonic wave while traveling a long thin film object to remove a liquid attached to the long thin film object. The first ultrasonic vibration horn that emits ultrasonic waves to one surface of the first ultrasonic vibration horn is provided substantially in parallel with the ultrasonic radiation surface, and emits ultrasonic waves to the other surface of the thin film long object. Second
An ultrasonic drying apparatus characterized in that the thin-film long object is caused to run between the ultrasonic vibrating horn and the ultrasonic wave emitting surface of the ultrasonic vibrating horn.
【００１０】請求項４の発明は、請求項１から請求項３
までのいずれか１項に記載の超音波乾燥装置において、
前記超音波放射面は、前記超音波振動ホーン又は前記第
１及び前記第２の超音波振動ホーンの先端に取り付けら
れ、前記薄膜長尺物に対する前記超音波の照射面積を拡
大する振動板の表面であることを特徴とする超音波乾燥
装置である。[0010] The invention of claim 4 is the first to third aspects of the present invention.
In the ultrasonic drying apparatus according to any one of up to,
The ultrasonic radiation surface is attached to a tip of the ultrasonic vibration horn or the first and second ultrasonic vibration horns, and a surface of a vibration plate for enlarging an irradiation area of the ultrasonic wave on the thin film long object. An ultrasonic drying apparatus characterized in that:
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】（第１実施形態）以下、本発明の
第１実施形態について図面を参照して説明する。図１
は、本発明の第１実施形態に係る超音波乾燥装置の一部
を切断して示す斜視図であり、図２は、本発明の第１実
施形態に係る超音波乾燥装置の一部を切断して示す平面
図である。(First Embodiment) A first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG.
FIG. 2 is a perspective view showing a part of the ultrasonic drying apparatus according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing a part of the ultrasonic drying apparatus according to the first embodiment. FIG.
【００１２】リードフレーム１は、乾燥対象物であるリ
ボン状の薄膜長尺物であり、ケース３の前面に形成され
た入口スリット４と、背面に形成された出口スリット５
との間に差し通され、図示しないフレーム送り機構によ
って矢印方向に一定速度で走行する。このリードフレー
ム１は、図２に示すように、超音波振動ホーン９の先端
面（超音波放射面）１０及び超音波反射板（超音波反射
面）１４に対して、角度θだけ傾斜した仮想平面内に配
置されており、リードフレーム１の長手方向に傾斜して
配置されている。なお、入口スリット４及び出口スリッ
ト５のスリット幅は、通過するリードフレーム１の幅に
合わせて調節可能である。The lead frame 1 is an elongated thin film in the form of a ribbon to be dried, and has an entrance slit 4 formed on the front surface of a case 3 and an exit slit 5 formed on the rear surface.
And travels at a constant speed in the direction of the arrow by a frame feed mechanism (not shown). This lead frame 1 is, as shown in FIG. 2, a virtual surface inclined at an angle θ with respect to a tip surface (ultrasonic radiation surface) 10 and an ultrasonic reflection plate (ultrasonic reflection surface) 14 of an ultrasonic vibration horn 9. The lead frame 1 is arranged in a plane and is inclined in the longitudinal direction of the lead frame 1. In addition, the slit width of the entrance slit 4 and the exit slit 5 can be adjusted according to the width of the lead frame 1 passing therethrough.
【００１３】一方、超音波乾燥装置２は、高周波電力を
機械振動に変換する超音波振動子７と、この超音波振動
子７に接続され、振動振幅を拡大する円錐状の１段目の
超音波振動ホーン８と、この超音波振動ホーンの先端に
接続された四角柱状の２段目の超音波振動ホーン９と、
超音波を放射する超音波放射面である先端面１０とから
なる超音波振動ユニット６を備えている。また、ユニッ
ト支持板１１は、リードフレーム１と間隔を空けて超音
波振動ユニット６を定位置に固定する部材である。さら
に、防水壁１３は、リードフレーム１の両面から振り落
とされたメッキ液などが、超音波振動子７側に浸入しな
いように保護する部材であり、超音波振動ホーン９の中
間位置に設けられている。なお、シーリング材１２は、
この防水壁１３と超音波振動ホーン９との隙間をシーリ
ングするゴムなどである。On the other hand, the ultrasonic drying apparatus 2 includes an ultrasonic vibrator 7 for converting high-frequency power into mechanical vibration, and a first conical ultrasonic vibrator connected to the ultrasonic vibrator 7 for expanding the vibration amplitude. An ultrasonic vibration horn 8, a quadrangular prism-shaped second ultrasonic vibration horn 9 connected to the tip of the ultrasonic vibration horn,
An ultrasonic vibration unit 6 including an end surface 10 which is an ultrasonic wave emitting surface for emitting ultrasonic waves is provided. The unit support plate 11 is a member that fixes the ultrasonic vibration unit 6 at a fixed position at an interval from the lead frame 1. Further, the waterproof wall 13 is a member that protects the plating solution and the like shaken off from both sides of the lead frame 1 from entering the ultrasonic vibrator 7 side, and is provided at an intermediate position of the ultrasonic vibrating horn 9. ing. In addition, the sealing material 12
Rubber or the like is used to seal the gap between the waterproof wall 13 and the ultrasonic vibration horn 9.
【００１４】超音波反射板１４は、先端面１０から放射
された超音波を反射して、この先端面１０との間に定在
波を形成するものであり、ジュラルミン、ステンレス
鋼、チタン合金などからなり、先端面１０と略平行にな
るように定位置に固定されている。また、液受け槽１５
は、リードフレーム１の両面から超音波によって振り落
とされたメッキ液などを回収するものであり、超音波反
射板１４と防水壁１３との間であって、リードフレーム
１の下方に配置されている。さらに、排液ホース１６
は、液受け槽１５によって回収されたメッキ液などを外
部に排出するものである。The ultrasonic reflecting plate 14 reflects ultrasonic waves radiated from the front end face 10 and forms a standing wave with the front end face 10, and is made of duralumin, stainless steel, titanium alloy, or the like. And is fixed at a fixed position so as to be substantially parallel to the distal end surface 10. Also, the liquid receiving tank 15
Is for recovering a plating solution or the like shaken off by ultrasonic waves from both sides of the lead frame 1, and is disposed between the ultrasonic reflecting plate 14 and the waterproof wall 13 and below the lead frame 1. I have. Further, the drain hose 16
Is for discharging the plating solution and the like collected by the solution receiving tank 15 to the outside.
【００１５】なお、冷却ファン１７は、超音波振動子７
を空冷するためのものであり、配線コード１８は、超音
波振動子７に超音波振動用の高周波電流を供給するもの
であり、コードホルダ１９，２０は、配線コード１８を
固定する部材であり、接続コネクタ２１は、図示しない
高周波発振器に配線コード１８を接続するためのもので
ある。The cooling fan 17 is connected to the ultrasonic vibrator 7.
The wiring cord 18 supplies a high-frequency current for ultrasonic vibration to the ultrasonic vibrator 7, and the code holders 19 and 20 are members for fixing the wiring cord 18. The connector 21 is for connecting the wiring cord 18 to a high-frequency oscillator (not shown).
【００１６】次に、本発明の第１実施形態に係る超音波
乾燥装置の動作を説明する。まず、入口スリット４から
出口スリット５にリードフレーム１が差し通されて、図
示しないフレーム送り機構によって、このリードフレー
ム１が所定の速度で矢印方向に走行する。同時に、接続
コネクタ２０及び配線コード１８を介して、図示しない
高周波発振器から超音波振動子７に、所定の高周波電流
が供給されて、超音波振動子７が振動を開始する。この
超音波振動子７の振動は、超音波振動ホーン８によって
振幅が拡大された後に、超音波振動ホーン９に伝達され
て、その先端面１０から超音波反射板１４に向けて超音
波が放射される。Next, the operation of the ultrasonic drying apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described. First, the lead frame 1 is inserted from the entrance slit 4 to the exit slit 5, and the lead frame 1 travels in a direction indicated by an arrow at a predetermined speed by a frame feeding mechanism (not shown). At the same time, a predetermined high-frequency current is supplied from a high-frequency oscillator (not shown) to the ultrasonic vibrator 7 via the connector 20 and the wiring cord 18, and the ultrasonic vibrator 7 starts vibrating. The vibration of the ultrasonic vibrator 7 is transmitted to the ultrasonic vibration horn 9 after its amplitude is expanded by the ultrasonic vibration horn 8, and the ultrasonic wave is radiated from the front end surface 10 toward the ultrasonic reflection plate 14. Is done.
【００１７】この超音波は、リードフレーム１の一方の
面に直接当たるとともに、このリードフレーム１を透過
して、他方の面側に設けられた超音波反射板１４で反射
される。リードフレーム１には、半導体チップを載せる
ための種々のパターンからなる抜き孔が開けられてお
り、この抜き孔を通過した超音波は、超音波反射板１４
で反射される。このために、超音波反射板１４と先端面
１０との間で、超音波が反射を繰り返して干渉し、これ
らの間に定在波が形成される。その結果、超音波反射板
１４と先端面１０との間に、音圧の節となる位置が所定
間隔毎に形成される。The ultrasonic wave directly strikes one surface of the lead frame 1, passes through the lead frame 1, and is reflected by an ultrasonic reflecting plate 14 provided on the other surface. The lead frame 1 has perforated holes made of various patterns for mounting a semiconductor chip, and the ultrasonic waves passing through the perforated holes are reflected by the ultrasonic reflecting plate 14.
Is reflected by For this reason, the ultrasonic wave repeatedly reflects and interferes between the ultrasonic reflecting plate 14 and the distal end face 10 to form a standing wave therebetween. As a result, positions serving as nodes of sound pressure are formed at predetermined intervals between the ultrasonic reflecting plate 14 and the distal end surface 10.
【００１８】リードフレーム１は、先端面１０及び超音
波反射板１４に対して角度θだけ傾いて移動するため
に、リードフレーム１上の少なくとも一箇所に、音圧の
節となる位置を合わせることができる。その結果、リー
ドフレーム１の両面に付着しているメッキ液などが超音
波による音圧の節によって微粒化され飛ばされて、リー
ドフレーム１を乾燥することができる。吹き飛ばされた
メッキ液は、その自重によって速やかに落下して、液受
け槽１５によって回収され、排液ホース１６から排出さ
れる。In order to move the lead frame 1 at an angle θ with respect to the distal end surface 10 and the ultrasonic reflecting plate 14, the position of the node of the sound pressure is adjusted to at least one position on the lead frame 1. Can be. As a result, the plating solution or the like adhering to both surfaces of the lead frame 1 is atomized by the sound pressure nodes by the ultrasonic waves and is blown off, so that the lead frame 1 can be dried. The blown-up plating solution falls quickly by its own weight, is collected by the solution receiving tank 15, and is discharged from the drainage hose 16.
【００１９】本発明の第１実施形態に係る超音波乾燥装
置は、以下に記載するような効果を有する。本発明の第
１実施形態では、先端面１０及び超音波反射板１４に対
して、リードフレーム１が角度θだけ傾斜して配置され
ているために、リードフレーム１上の少なくとも一箇所
に、音圧の節となる位置を合わせることができる。その
結果、先端面１０及び超音波反射板１４に対してリード
フレーム１を平行に配置する場合に比べて、超音波反射
板１４と先端面１０との間の音圧の節となる位置に、リ
ードフレーム１を正確に位置決めする必要がなくなる。
また、例えば、リードフレーム１の表面に凹凸があった
り、コネクタなどのリードフレームや、トランジスタな
どの足のついた折り返しのあるリードフレームであって
も、これらのリードフレーム１を確実に乾燥することが
できる。The ultrasonic drying apparatus according to the first embodiment of the present invention has the following effects. In the first embodiment of the present invention, since the lead frame 1 is disposed at an angle θ with respect to the distal end face 10 and the ultrasonic reflecting plate 14, at least one position on the lead frame 1 The position of the pressure node can be adjusted. As a result, as compared with the case where the lead frame 1 is arranged in parallel to the distal end surface 10 and the ultrasonic reflecting plate 14, a position where a sound pressure node between the ultrasonic reflecting plate 14 and the distal end surface 10 becomes a node. There is no need to accurately position the lead frame 1.
Also, for example, even if the surface of the lead frame 1 has irregularities, a lead frame such as a connector, or a folded lead frame with legs such as a transistor, these lead frames 1 must be reliably dried. Can be.
【００２０】（第２実施形態）図３は、本発明の第２実
施形態に係る超音波乾燥装置の一部を切断して示す平面
図である。以下では、本発明の第１実施形態と同一の部
材については、同一の番号を付して、その詳細な説明を
省略する。(Second Embodiment) FIG. 3 is a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a second embodiment of the present invention, cut away. In the following, the same members as those of the first embodiment of the present invention are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
【００２１】本発明の第２実施形態は、図１及び図２に
示す超音波反射板１４を省略した実施形態である。この
超音波は、リードフレーム１の一方の面に直接当たり反
射される。このために、リードフレーム１の一面と先端
面１０との間で、超音波が反射を繰り返して干渉し、こ
れらの間に定在波が形成される。その結果、リードフレ
ーム１の一面と先端面１０との間に、音圧の節となる位
置が所定間隔毎に形成される。The second embodiment of the present invention is an embodiment in which the ultrasonic reflector 14 shown in FIGS. 1 and 2 is omitted. This ultrasonic wave directly hits one surface of the lead frame 1 and is reflected. For this reason, the ultrasonic wave repeatedly reflects and interferes between one surface of the lead frame 1 and the distal end surface 10, and a standing wave is formed therebetween. As a result, between the one surface of the lead frame 1 and the distal end surface 10, positions serving as nodes of sound pressure are formed at predetermined intervals.
【００２２】リードフレーム１は、先端面１０及び超音
波反射板１４に対して角度θだけ傾いて移動するため
に、リードフレーム１上の少なくとも一箇所に、音圧の
節となる位置を合わせることができる。その結果、リー
ドフレーム１の片面に付着しているメッキ液などが超音
波による大きな音圧によって音圧の節に引き離されて、
リードフレーム１を乾燥することができる。引き離され
たメッキ液は、その自重によって速やかに落下して、液
受け槽１５によって回収され、排液ホース１６から排出
される。In order to move the lead frame 1 at an angle θ with respect to the distal end surface 10 and the ultrasonic reflecting plate 14, a position that becomes a node of sound pressure is adjusted to at least one position on the lead frame 1. Can be. As a result, the plating solution or the like adhering to one side of the lead frame 1 is separated by the large sound pressure by the ultrasonic waves into the nodes of the sound pressure,
The lead frame 1 can be dried. The separated plating solution quickly falls due to its own weight, is collected by the solution receiving tank 15, and is discharged from the drainage hose 16.
【００２３】本発明の第２実施形態に係る超音波乾燥装
置は、以下に記載するような効果を有する。本発明の第
２実施形態では、先端面１０に対して、リードフレーム
１が角度θだけ傾斜して配置されているために、リード
フレーム１上の少なくとも一箇所に、音圧の節となる位
置を合わせることができる。その結果、先端面１０に対
してリードフレーム１を平行に配置する場合に比べて、
リードフレーム１の一面と先端面１０との間の音圧の節
となる位置に、リードフレーム１を正確に位置決めする
必要がなくなる。また、例えば、リードフレーム１の表
面に凹凸があったり、コネクタなどのリードフレーム
や、トランジスタなどの足のついた折り返しのあるリー
ドフレームであっても、これらのリードフレーム１を確
実に乾燥することができる。The ultrasonic drying apparatus according to the second embodiment of the present invention has the following effects. In the second embodiment of the present invention, since the lead frame 1 is arranged to be inclined by the angle θ with respect to the distal end surface 10, at least one position on the lead frame 1 becomes a node of the sound pressure. Can be combined. As a result, compared to the case where the lead frame 1 is arranged in parallel with the tip end face 10,
There is no need to accurately position the lead frame 1 at a position where a sound pressure node is formed between one surface of the lead frame 1 and the front end surface 10. Also, for example, even if the surface of the lead frame 1 has irregularities, a lead frame such as a connector, or a folded lead frame with legs such as a transistor, these lead frames 1 must be reliably dried. Can be.
【００２４】（第３実施形態）図４は、本発明の第３実
施形態に係る超音波乾燥装置の一部を切断して示す斜視
図であり、図５は、本発明の第３実施形態に係る超音波
乾燥装置の一部を切断して示す平面図である。(Third Embodiment) FIG. 4 is a cutaway perspective view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a third embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view of a part of the ultrasonic drying apparatus according to the first embodiment.
【００２５】本発明の第３実施形態は、先端面１０及び
超音波反射板１４に対して垂直な仮想平面内に、先端面
１０及び超音波反射板１４に対して角度θだけ傾斜させ
てリードフレーム１を配置した実施形態である。According to the third embodiment of the present invention, a lead is tilted at an angle θ with respect to the distal end face 10 and the ultrasonic reflecting plate 14 in a virtual plane perpendicular to the distal end face 10 and the ultrasonic reflecting plate 14. This is an embodiment in which a frame 1 is arranged.
【００２６】本発明の第３実施形態に係る超音波乾燥装
置は、第１実施形態の効果に加えて、以下に記載するよ
うな効果を有する。本発明の第３実施形態では、先端面
１０及び超音波反射板１４に対して垂直な仮想平面内
に、リードフレーム１が配置されている。その結果、先
端面１０と超音波反射板１４との間に形成される定在波
をリードフレーム１が遮らないために、このリードフレ
ーム１によって定在波が崩されるのを防止することがで
きる。また、先端面１０と超音波反射板１４との間で
は、音圧の節の位置が一定であるために、先端面１０及
び超音波反射板１４に対してリードフレーム１を角度θ
だけ傾斜させることで、このリードフレーム１上に音圧
の節となる位置を複数合わせることができる。その結
果、第１実施形態に比べて、リードフレーム１をより一
層簡単に乾燥させることができる。The ultrasonic drying apparatus according to the third embodiment of the present invention has the following effects in addition to the effects of the first embodiment. In the third embodiment of the present invention, the lead frame 1 is arranged in an imaginary plane perpendicular to the distal end face 10 and the ultrasonic reflector 14. As a result, since the lead frame 1 does not block the standing wave formed between the distal end surface 10 and the ultrasonic reflecting plate 14, the standing wave can be prevented from being broken by the lead frame 1. . In addition, since the position of the node of the sound pressure is constant between the distal end surface 10 and the ultrasonic reflecting plate 14, the lead frame 1 is angled with respect to the distal end surface 10 and the ultrasonic reflecting plate 14.
By inclining only this, a plurality of positions serving as nodes of sound pressure can be matched on the lead frame 1. As a result, the lead frame 1 can be dried more easily than in the first embodiment.
【００２７】（第４実施形態）図６は、本発明の第４実
施形態に係る超音波乾燥装置の一部を省略して示す平面
図である。本発明の第４実施形態は、リードフレーム１
に対する超音波の照射面積を拡大する振動板２２を超音
波振動ホーン９の先端部に取り付けた実施形態である。(Fourth Embodiment) FIG. 6 is a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a fourth embodiment of the present invention, with parts omitted. The fourth embodiment of the present invention relates to a lead frame 1
This is an embodiment in which a vibration plate 22 for enlarging an irradiation area of ultrasonic waves with respect to the ultrasonic vibration horn 9 is attached to a tip end of the ultrasonic vibration horn 9.
【００２８】本発明の第４実施形態では、第１実施形態
〜第３実施形態の効果に加えて、リードフレーム１に照
射する超音波の照射面積を大きくすることができ、疑似
定在波を形成し、平均音圧を上げることができるためリ
ードフレーム１をより一層乾燥させることができる。In the fourth embodiment of the present invention, in addition to the effects of the first to third embodiments, the irradiation area of the ultrasonic wave applied to the lead frame 1 can be increased, and the pseudo standing wave can be reduced. The lead frame 1 can be further dried since it can be formed and the average sound pressure can be increased.
【００２９】（第５実施形態）図７は、本発明の第５実
施形態に係る超音波乾燥装置の一部を省略して示す平面
図である。本発明の第５実施形態は、超音波反射板１４
に代えて、超音波を照射する先端面２３を、先端面１０
と略平行に配置した実施形態である。(Fifth Embodiment) FIG. 7 is a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a fifth embodiment of the present invention, with parts omitted. In the fifth embodiment of the present invention, the ultrasonic reflection plate 14 is used.
Instead of the distal end surface 23 for irradiating the ultrasonic wave,
This is an embodiment arranged substantially in parallel with FIG.
【００３０】本発明の第５実施形態では、先端面１０と
先端面２３との間にリードフレーム１を配置するため
に、この空間の平均音圧を上げる効果と、リードフレー
ム１の開口形状やリードフレーム１の凹凸などにかかわ
らず、このリードフレーム１の両面をより一層均一に乾
燥することができる。In the fifth embodiment of the present invention, since the lead frame 1 is disposed between the front end face 10 and the front end face 23, the effect of increasing the average sound pressure in this space, the shape of the opening of the lead frame 1, Irrespective of the unevenness of the lead frame 1, both surfaces of the lead frame 1 can be dried more uniformly.
【００３１】（第６実施形態）図８は、本発明の第６実
施形態に係る超音波乾燥装置の一部を省略して示す平面
図である。本発明の第６実施形態は、リードフレーム１
に対する超音波の照射面積を拡大する振動板２２，２４
を，それぞれ超音波振動ホーン９，２５に取り付けた実
施形態である。(Sixth Embodiment) FIG. 8 is a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a sixth embodiment of the present invention, with parts omitted. The sixth embodiment of the present invention relates to a lead frame 1
Diaphragms 22 and 24 for enlarging ultrasonic irradiation area
Are mounted on the ultrasonic vibration horns 9 and 25, respectively.
【００３２】本発明の第６実施形態では、第５実施形態
の効果に加えて、リードフレーム１に照射する超音波の
照射面積を大きくすることができるために、このリード
フレーム１をより一層乾燥させることができる。According to the sixth embodiment of the present invention, in addition to the effect of the fifth embodiment, the lead frame 1 can be irradiated with ultrasonic waves with a larger area, so that the lead frame 1 can be further dried. Can be done.
【００３３】（第７実施形態）図９は、本発明の第７実
施形態に係る超音波乾燥装置の一部を省略して示す側面
図及び平面図であり、図９（Ａ）は、超音波反射板１４
及び振動板２２の短辺側を示す側面図であり、図９
（Ｂ）は、超音波反射板１４及び振動板２２の長辺側を
示す平面図である。本発明の第７実施形態は、超音波反
射板１４と振動板２２との間に、リードフレーム１を角
度θだけ傾斜させて、斜め上下方向に走行させた実施形
態である。図９（Ａ）に示すように、リードフレーム１
は、斜め上方から斜め下方に向かって走行し、図９
（Ｂ）に示すように、リードフレーム１の厚さ方向は、
超音波反射板１４及び振動板２２の長手方向（長辺）と
一致している。本発明の第７実施形態は、第１実施形態
〜第６実施形態と同様の効果を奏する。(Seventh Embodiment) FIG. 9 is a side view and a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a seventh embodiment of the present invention with a part omitted, and FIG. Sound wave reflector 14
FIG. 9 is a side view showing the short side of the vibration plate 22 and FIG.
(B) is a plan view showing the long sides of the ultrasonic reflection plate 14 and the vibration plate 22. The seventh embodiment of the present invention is an embodiment in which the lead frame 1 is inclined at an angle θ between the ultrasonic reflection plate 14 and the vibration plate 22 and runs obliquely up and down. As shown in FIG.
Travels from diagonally upward to diagonally downward, as shown in FIG.
As shown in (B), the thickness direction of the lead frame 1 is
It matches the longitudinal direction (long side) of the ultrasonic reflection plate 14 and the vibration plate 22. The seventh embodiment of the present invention has the same effects as the first to sixth embodiments.
【００３４】[0034]
【実施例】図１０は、本発明の実施形態に係る超音波乾
燥装置の乾燥効果を確認するための実験装置の構成図で
あり、図１１は、本発明の実施形態に係る超音波乾燥装
置による実験結果を示す図であり、図１１（Ａ）は、反
射面における音圧と水滴の重量との関係を示す図であ
り、図１１（Ｂ）は、実験前と実験後におけるリードフ
レームに付着した水の重量を示す図である。FIG. 10 is a block diagram of an experimental apparatus for confirming the drying effect of the ultrasonic drying apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 11 is an ultrasonic drying apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 11A is a diagram showing the relationship between the sound pressure on the reflecting surface and the weight of water droplets, and FIG. 11B is a diagram showing the lead frame before and after the experiment. It is a figure which shows the weight of the attached water.
【００３５】図１０に示す実験装置は、図９に示す超音
波乾燥装置において、リードフレーム１を図中矢印方向
に走行させたときの乾燥効果を確認するための装置であ
る。リードフレーム１に水滴を１滴付着して、図１０に
示す振動モードにより振動板２２を振動させながら、こ
の振動板２２を矢印方向に移動させた。そして、超音波
反射板１４と振動板２２との距離ｄを変化させながら、
超音波反射板１４の音圧を変化させた。その結果、図１
１（Ａ）に示すように、音圧を上げることによって、よ
り小さな水滴であっても除去することができた。また、
水槽中からリードフレーム１を取り出して、この実験装
置を通過する前（実験前）と通過した後（実験後）にお
けるリードフレーム１に付着した水滴の重量を比較し
た。その結果、図１２に示すように、除液率が９０％近
くであった。The experimental device shown in FIG. 10 is a device for confirming the drying effect when the lead frame 1 is run in the direction of the arrow in the drawing in the ultrasonic drying device shown in FIG. One drop of water was attached to the lead frame 1 and the diaphragm 22 was moved in the direction of the arrow while vibrating the diaphragm 22 in the vibration mode shown in FIG. Then, while changing the distance d between the ultrasonic reflecting plate 14 and the diaphragm 22,
The sound pressure of the ultrasonic reflector 14 was changed. As a result, FIG.
As shown in FIG. 1 (A), by increasing the sound pressure, even smaller water droplets could be removed. Also,
The lead frame 1 was taken out of the water tank, and the weight of water droplets attached to the lead frame 1 before passing (before the experiment) and after passing (after the experiment) through this experimental device was compared. As a result, as shown in FIG. 12, the liquid removal rate was close to 90%.
【００３６】（他の実施形態）本発明は、以上説明した
実施形態に限定するものではなく、以下に記載するよう
に、種々の変形又は変更が可能であって、これらも本発
明の範囲内である。 （１） 本発明の実施形態では、乾燥対象物としてリー
ドフレーム１を例に挙げて説明したが、これに限定する
ものではなく、表面積の広い液晶基板ガラスやウェハな
どのようなものにも適用可能である。(Other Embodiments) The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications or changes are possible as described below, and these are also within the scope of the present invention. It is. (1) In the embodiment of the present invention, the lead frame 1 has been described as an example of an object to be dried. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to a liquid crystal substrate glass or a wafer having a large surface area. It is possible.
【００３７】（２） 本発明の第３実施形態では、先端
面１０及び超音波反射板１４に対して垂直な仮想平面内
に、これらの面に対して角度θだけ傾斜させてリードフ
レーム１を配置した場合を例に挙げて説明したが、傾斜
角度を設けなくてもよい。(2) In the third embodiment of the present invention, the lead frame 1 is tilted by an angle θ with respect to these planes in an imaginary plane perpendicular to the end face 10 and the ultrasonic reflecting plate 14. Although the case of the arrangement has been described as an example, the inclination angle may not be provided.
【００３８】（３） 本発明の第４実施形態〜第６実施
形態では、先端面１０，２３、超音波反射板１４及び振
動板２２，２４に対して、リードフレーム１を傾斜させ
た場合を例に挙げて説明したが、これらの面に対してリ
ードフレーム１を平行又は垂直にしてもよい。(3) In the fourth to sixth embodiments of the present invention, the case where the lead frame 1 is inclined with respect to the end surfaces 10, 23, the ultrasonic reflecting plate 14, and the vibrating plates 22, 24 is described. Although described as an example, the lead frame 1 may be parallel or perpendicular to these surfaces.
【００３９】（４） 本発明の第７実施形態では、振動
板２２と超音波反射板１４との間をリードフレーム１が
通過する場合を例に挙げて説明したが、図１〜図８に示
す場合にも、リードフレーム１の長手方向と直交する方
向に、このリードフレーム１を傾斜させてもよい。(4) In the seventh embodiment of the present invention, the case where the lead frame 1 passes between the vibration plate 22 and the ultrasonic reflecting plate 14 has been described as an example. Also in the case shown, the lead frame 1 may be inclined in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the lead frame 1.
【００４０】[0040]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
超音波振動ホーンの超音波放射面と超音波反射板の超音
波反射面との間に、これらの面に対して垂直又は傾斜し
て薄膜長尺物を走行させるように構成したので、これら
の面の間に薄膜長尺物を正確に位置合わせしなくても、
この薄膜長尺物に付着した液体を簡単に除去することが
できる。また、本発明によれば、薄膜長尺物の一方の面
に超音波を放射する超音波放射面と、その放射面と平行
又は傾斜に、この薄膜長尺物の面を対向させ、走行させ
るように構成したので、これらの面の間に薄膜長尺物を
正確に位置合わせしなくても、この薄膜長尺物に付着し
た液体を簡単に除去することができる。さらに、本発明
によれば、第１の超音波振動ホーンの超音波放射面と第
２の超音波振動ホーンの超音波放射面との間に薄膜長尺
物を走行させるように構成したので、この薄膜長尺物の
両面を均一に乾燥することができる。As described above, according to the present invention,
Since the ultrasonic vibration horn and the ultrasonic reflecting surface of the ultrasonic reflecting plate between the ultrasonic emitting surface and the ultrasonic reflecting surface are configured to run the thin film long object vertically or inclined with respect to these surfaces. Even if you do not accurately align the long thin film between the surfaces,
The liquid adhering to the long thin film can be easily removed. Further, according to the present invention, an ultrasonic wave radiating surface that radiates ultrasonic waves to one surface of the thin film long object, and the surface of the thin film long object is opposed to or parallel to or inclined to the radiating surface, and is run. With this configuration, it is possible to easily remove the liquid adhering to the long thin film object without accurately positioning the long thin film object between these surfaces. Furthermore, according to the present invention, since the thin film long object is configured to run between the ultrasonic wave emitting surface of the first ultrasonic vibration horn and the ultrasonic wave emitting surface of the second ultrasonic vibration horn, Both sides of the long thin film can be dried uniformly.
【図１】本発明の第１実施形態に係る超音波乾燥装置の
一部を切断して示す斜視図である。FIG. 1 is a cutaway perspective view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第１実施形態に係る超音波乾燥装置の
一部を切断して示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a part of the ultrasonic drying apparatus according to the first embodiment of the present invention, cut away;
【図３】本発明の第２実施形態に係る超音波乾燥装置の
一部を切断して示す平面図である。FIG. 3 is a plan view of a part of an ultrasonic drying apparatus according to a second embodiment of the present invention, which is cut away.
【図４】本発明の第３実施形態に係る超音波乾燥装置の
一部を切断して示す斜視図である。FIG. 4 is a cutaway perspective view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a third embodiment of the present invention.
【図５】本発明の第３実施形態に係る超音波乾燥装置の
一部を省略して示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a third embodiment of the present invention, with parts omitted;
【図６】本発明の第４実施形態に係る超音波乾燥装置の
一部を省略して示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a fourth embodiment of the present invention, with parts omitted;
【図７】本発明の第５実施形態に係る超音波乾燥装置の
一部を省略して示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a fifth embodiment of the present invention, with parts omitted;
【図８】本発明の第６実施形態に係る超音波乾燥装置の
一部を省略して示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a sixth embodiment of the present invention, with parts omitted;
【図９】本発明の第７実施形態に係る超音波乾燥装置の
一部を省略して示す側面図及び平面図である。FIG. 9 is a side view and a plan view showing a part of an ultrasonic drying apparatus according to a seventh embodiment of the present invention, with parts omitted;
【図１０】本発明の実施形態に係る超音波乾燥装置の乾
燥効果を確認するための実験装置の構成図である。FIG. 10 is a configuration diagram of an experimental device for confirming a drying effect of the ultrasonic drying device according to the embodiment of the present invention.
【図１１】本発明の実施形態に係る超音波乾燥装置によ
る実験結果を示す図である。FIG. 11 is a view showing an experimental result by the ultrasonic drying apparatus according to the embodiment of the present invention.
【図１２】超音波乾燥装置（比較例）の一部を省略して
示す平面図である。FIG. 12 is a plan view in which a part of an ultrasonic drying apparatus (comparative example) is omitted.
１ リードフレーム ２ 超音波乾燥装置 ６ 超音波振動ユニット ８，９，２５ 超音波振動ホーン １０，２３ 先端面 １４ 超音波反射板 ２２，２４ 振動板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lead frame 2 Ultrasonic drying device 6 Ultrasonic vibration unit 8, 9, 25 Ultrasonic vibration horn 10, 23 Tip surface 14 Ultrasonic reflection plate 22, 24 Vibration plate
フロントページの続き Ｆターム(参考） 3L113 AA02 AB10 AC07 AC19 AC21 AC45 AC46 AC48 AC49 AC52 AC54 AC63 AC65 AC77 BA26 CA05 DA04 DA10 DA11 5D107 AA12 BB02 BB20 CC04 FF03 FF05 FF09 5F067 DC00 DC01 5H680 AA00 BB02 BC00 CC06 DD23 DD27 DD37 DD44 DD53 DD83 DD89 DD95 EE07 EE10 FF32 GG26 GG27Continued on front page F term (reference) 3L113 AA02 AB10 AC07 AC19 AC21 AC45 AC46 AC48 AC49 AC52 AC54 AC63 AC65 AC77 BA26 CA05 DA04 DA10 DA11 5D107 AA12 BB02 BB20 CC04 FF03 FF05 FF09 5F067 DC00 DC01 5H680 AA00 BB02 DD00 DD06 DD06 DD DD83 DD89 DD95 EE07 EE10 FF32 GG26 GG27
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|---|---|
| JP (1) | JP2000258055A (en) |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004049415A1 (en)* | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Arccure Technologies Gmbh | Drying method for the recording layer of optical storage media |
| WO2010090690A1 (en) | 2009-02-09 | 2010-08-12 | Heat Technologies, Inc. | Ultrasonic drying system and method |
| JP2011211235A (en)* | 2004-11-12 | 2011-10-20 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method for manufacturing the device |
| RU2548696C1 (en)* | 2013-11-28 | 2015-04-20 | Общество с ограниченной ответственностью "Акустические технологии сушки" | Method of highly intensive acoustic drying of capillary and porous materials and device for method implementation |
| US9671166B2 (en) | 2014-07-24 | 2017-06-06 | Heat Technologies, Inc. | Acoustic-assisted heat and mass transfer device |
| US10488108B2 (en) | 2014-07-01 | 2019-11-26 | Heat Technologies, Inc. | Indirect acoustic drying system and method |
| CN111604249A (en)* | 2020-04-15 | 2020-09-01 | 南京航空航天大学 | A large-amplitude ultrasonic vibration platform and its operation process |
| KR102220767B1 (en)* | 2020-05-12 | 2021-02-26 | 신동혁 | Moisture removal device using ultrasound and hand dryer having the same |
| JP2021150217A (en)* | 2020-03-23 | 2021-09-27 | トヨタ自動車株式会社 | Manufacturing method of catalyst layer for fuel cell |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004049415A1 (en)* | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Arccure Technologies Gmbh | Drying method for the recording layer of optical storage media |
| JP2011211235A (en)* | 2004-11-12 | 2011-10-20 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method for manufacturing the device |
| EP3543633A1 (en)* | 2009-02-09 | 2019-09-25 | Heat Technologies, Inc. | Ultrasonic drying system and method |
| EP2394121A4 (en)* | 2009-02-09 | 2016-11-23 | Heat Technologies Inc | SYSTEM AND METHOD FOR ULTRASONIC DRYING |
| US11353263B2 (en) | 2009-02-09 | 2022-06-07 | Heat Technologies, Inc. | Ultrasonic drying system and method |
| US10006704B2 (en) | 2009-02-09 | 2018-06-26 | Heat Technologies, Inc. | Ultrasonic drying system and method |
| US10775104B2 (en) | 2009-02-09 | 2020-09-15 | Heat Technologies, Inc. | Ultrasonic drying system and method |
| WO2010090690A1 (en) | 2009-02-09 | 2010-08-12 | Heat Technologies, Inc. | Ultrasonic drying system and method |
| RU2548696C1 (en)* | 2013-11-28 | 2015-04-20 | Общество с ограниченной ответственностью "Акустические технологии сушки" | Method of highly intensive acoustic drying of capillary and porous materials and device for method implementation |
| US10488108B2 (en) | 2014-07-01 | 2019-11-26 | Heat Technologies, Inc. | Indirect acoustic drying system and method |
| US10139162B2 (en) | 2014-07-24 | 2018-11-27 | Heat Technologies, Inc. | Acoustic-assisted heat and mass transfer device |
| US9671166B2 (en) | 2014-07-24 | 2017-06-06 | Heat Technologies, Inc. | Acoustic-assisted heat and mass transfer device |
| JP2021150217A (en)* | 2020-03-23 | 2021-09-27 | トヨタ自動車株式会社 | Manufacturing method of catalyst layer for fuel cell |
| JP7156328B2 (en) | 2020-03-23 | 2022-10-19 | トヨタ自動車株式会社 | METHOD FOR MANUFACTURING CATALYST LAYER FOR FUEL CELL |
| CN111604249A (en)* | 2020-04-15 | 2020-09-01 | 南京航空航天大学 | A large-amplitude ultrasonic vibration platform and its operation process |
| KR102220767B1 (en)* | 2020-05-12 | 2021-02-26 | 신동혁 | Moisture removal device using ultrasound and hand dryer having the same |
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
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| KR20050010491A (en) | Cleaning apparatus and cleaning method | |
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| WO2006040993A1 (en) | Ultrasonic cleaner | |
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