【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、写真処理装置に関
し、詳しくは写真処理装置に具備された感光材料搬送用
のローラおよびオーバーラックの構造に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photographic processing apparatus, and more particularly to a structure of a roller for transporting a photosensitive material and an overrack provided in the photographic processing apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】フィルムから画像の焼き付けが行われた
感光材料（印画紙）については、通常、感光材料処理部
において現像処理および定着処理等が行われる。この感
光材料処理部は、現像処理液が収容された現像処理槽、
および定着処理液が収容された定着処理槽等を用いて構
成されている。また、感光材料処理部における感光材料
の搬送には、複数対のローラが用いられている。2. Description of the Related Art A photosensitive material (printing paper) on which an image is printed from a film is usually subjected to a developing process and a fixing process in a photosensitive material processing section. The photosensitive material processing section includes a developing processing tank containing a developing solution,
And a fixing processing tank containing a fixing processing liquid. A plurality of pairs of rollers are used to transport the photosensitive material in the photosensitive material processing section.
【０００３】図２は、従来技術に係る感光材料処理部の
概略図を示したものである。図２に示された感光材料処
理部は、現像液２１を収容した現像処理槽２０と、定着
液２３を収容した定着処理槽２２とを有している。そし
て、現像処理および定着処理が行われる感光材料Ｐは、
処理槽２０，２２に収容された処理液中においては、複
数のローラ対２４を用いて搬送され、また、各処理槽２
０，２２の処理液外においては、複数のスクイズローラ
対２５を用いてスクイズされながら搬送されている。FIG. 2 is a schematic view of a photosensitive material processing section according to the prior art. The photosensitive material processing section shown in FIG. 2 has a developing processing tank 20 containing a developing solution 21 and a fixing processing tank 22 containing a fixing solution 23. The photosensitive material P on which the developing process and the fixing process are performed is
In the processing liquid stored in the processing tanks 20 and 22, the processing liquid is transported using a plurality of roller pairs 24,
Outside the processing liquids 0 and 22, the paper is conveyed while being squeezed using a plurality of squeeze roller pairs 25.
【０００４】それぞれのスクイズローラ対２５は、一対
のスクイズローラ２５ａ，２５ａを用いて構成されてい
る。そして、上述したように、このスクイズローラ対２
５は、感光材料Ｐに付着した液体を絞り取る（スクイズ
する）機能と、感光材料Ｐを搬送する機能とを有してい
る。図２に示された感光材料処理部において、このよう
な機能を有するスクイズローラ対４０を設けているの
は、例えば、現像処理槽２０内の現像液２１等の他の液
体が、定着槽２２内の定着液２３に混入すると、定着処
理槽２２における定着処理能力が低下するからである。Each squeeze roller pair 25 is constituted by a pair of squeeze rollers 25a, 25a. Then, as described above, this squeeze roller pair 2
Reference numeral 5 has a function of squeezing (squeezing) liquid adhering to the photosensitive material P and a function of transporting the photosensitive material P. In the photosensitive material processing section shown in FIG. 2, the squeeze roller pair 40 having such a function is provided because, for example, another liquid such as the developing solution 21 in the developing tank 20 is supplied to the fixing tank 22. This is because, when mixed with the fixing solution 23 inside, the fixing processing capacity in the fixing processing tank 22 is reduced.
【０００５】ここで、スクイズローラ対２５を構成する
スクイズローラ２５ａは、感光材料Ｐに付着している現
像液等の液体を効果的に絞り取る（スクイズする）ため
に、親水性あるいは吸水性を有する材料を用いて形成さ
れている。したがって、このような材料で形成されたス
クイズローラ２５ａのスクイズ量（スクイズローラ２５
ａが液体を絞り取る量）には自ずと限界が生じ、一定量
の処理を行ったスクイズローラ対２５（スクイズローラ
２５ａ）については、スクイズローラ対２５に付着して
いる絞り取った液体等の汚れを洗い流すために、洗浄処
理を施す必要がある。図２の感光材料処理部には、スク
イズローラ２５ａを洗浄するために、洗浄液供給口等か
らなる洗浄部２６が設けられており、洗浄部２６から供
給される洗浄液２７を、直接スクイズローラ２５ａに当
てることにより、スクイズローラ２５ａの洗浄処理が行
われている。Here, the squeeze roller 25a constituting the squeeze roller pair 25 has a hydrophilicity or a water absorbency in order to effectively squeeze (squeeze) a liquid such as a developer adhering to the photosensitive material P. It is formed using the material which has. Therefore, the squeeze amount of the squeeze roller 25a (squeeze roller 25
(a is the amount by which the liquid is squeezed) naturally has a limit. With respect to the squeeze roller pair 25 (squeeze roller 25a) which has performed a certain amount of processing, the dirt such as the squeezed liquid adhered to the squeeze roller pair 25 It is necessary to perform a washing process in order to wash away. In the photosensitive material processing section of FIG. 2, a cleaning section 26 including a cleaning liquid supply port is provided for cleaning the squeeze roller 25a. The cleaning liquid 27 supplied from the cleaning section 26 is directly supplied to the squeeze roller 25a. As a result, the squeeze roller 25a is cleaned.
【０００６】図３および図４は、従来技術に係る洗浄部
近傍の部分拡大概略図を示したものである。FIGS. 3 and 4 are partial enlarged schematic views showing the vicinity of a cleaning section according to the prior art.
【０００７】図３は、第一の従来技術に係る洗浄部近傍
の部分拡大概略図を示したものである。図３において、
第一のスクイズローラ対４１および第二のスクイズロー
ラ対４２の上部には、各スクイズローラ対４１，４２間
を搬送される感光材料Ｐを適当に案内するガイド部３１
を有したオーバーラック３０が設けられている。そし
て、オーバーラック３０のさらに上部には、各スクイズ
ローラ対４１，４２を洗浄するための洗浄部として、第
一の洗浄パイプ４４および第二の洗浄パイプ４５が設け
られている。各洗浄パイプ４４，４５には、洗浄液を放
出するための孔部４４ａ，４５ａが穿孔されている。FIG. 3 is a partially enlarged schematic view showing the vicinity of a cleaning section according to the first conventional technique. In FIG.
On the upper part of the first squeeze roller pair 41 and the second squeeze roller pair 42, a guide portion 31 for appropriately guiding the photosensitive material P conveyed between the respective squeeze roller pairs 41, 42 is provided.
Is provided. Further, a first cleaning pipe 44 and a second cleaning pipe 45 are provided at a further upper portion of the over rack 30 as a cleaning section for cleaning the squeeze roller pairs 41 and 42. Holes 44a and 45a for discharging the cleaning liquid are perforated in the cleaning pipes 44 and 45, respectively.
【０００８】図４は、第二の従来技術に係る洗浄部近傍
の部分拡大概略図を示したものである。図４において
も、第一の従来技術と同様に、各スクイズローラ対４
１，４２の上部には、各スクイズローラ対４１，４２間
を搬送される感光材料を適当に案内するガイド部３１を
有したオーバーラック３０が設けられている。そして、
オーバーラック３０の内部には、各スクイズローラ対４
１，４２を洗浄するための洗浄部として、第一の洗浄パ
イプ４４および第二の洗浄パイプ４５が設けられてい
る。各洗浄パイプ４４，４５には、第一の従来技術の場
合と同様に、洗浄液を放出するための孔部４４ａ，４５
ａが穿孔されている。FIG. 4 is a partially enlarged schematic view showing the vicinity of a cleaning section according to a second conventional technique. In FIG. 4, as in the first prior art, each squeeze roller pair 4
An over rack 30 having a guide portion 31 for appropriately guiding the photosensitive material conveyed between the squeeze roller pairs 41, 42 is provided above the squeeze rollers 41, 42. And
Inside the over rack 30, each squeeze roller pair 4
A first cleaning pipe 44 and a second cleaning pipe 45 are provided as a cleaning unit for cleaning the first and second cleaning pipes 42. Each cleaning pipe 44, 45 has a hole 44a, 45 for discharging a cleaning liquid, as in the first prior art.
a is perforated.
【０００９】また、第一および第二の従来技術において
は、定期的あるいは各スクイズローラ対４１，４２の汚
染状態に応じて、各スクイズローラ対４１，４２を感光
材料処理部から取り外して、各スクイズローラ対４１，
４２に対して揉み洗い等を行い、こびり付いた析出物等
を取り除く必要がある。したがって、その際には、各ス
クイズローラ対４１，４２のみならず、オーバーラック
３０等をも取り外す必要がある。In the first and second prior arts, the squeeze roller pairs 41 and 42 are removed from the photosensitive material processing section at regular intervals or in accordance with the state of contamination of the squeeze roller pairs 41 and 42. Squeeze roller pair 41,
It is necessary to knead and wash 42 to remove the deposited precipitates and the like. Therefore, in this case, it is necessary to remove not only the squeeze roller pairs 41 and 42 but also the over rack 30 and the like.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記第
一の従来技術によれば、各洗浄パイプ４４，４５をオー
バーラック３０の上部に配設しているので、揉み洗いの
ために各スクイズローラ対４１，４２を取り外す際に
は、オーバーラック３０、および各洗浄パイプ４４，４
５をも取り外さなければならない。そうすると、揉み洗
い後に、各スクイズローラ対４１，４２、オーバーラッ
ク３０および各洗浄パイプ４４，４５を取り付ける場合
において、各スクイズローラ対４１，４２と各洗浄パイ
プ４４，４５（に穿孔された孔部４４ａ，４５ａ）との
間に位置ずれが発生することがあり、その後に各孔部４
４ａ，４５ａから放出される洗浄液が、洗浄に適した位
置に供給されないという問題が生じていた。また、第一
の従来技術においては、上記位置ずれが生じた場合にお
ける洗浄状態の悪化を回避するために、より多くの洗浄
液を各スクイズローラ対４１，４２に供給していた。However, according to the first prior art, since the cleaning pipes 44 and 45 are arranged above the over rack 30, each squeeze roller pair is used for rubbing and washing. When removing 41 and 42, the overrack 30 and the cleaning pipes 44 and 4 are removed.
5 must also be removed. Then, when each of the squeeze roller pairs 41, 42, the over rack 30, and each of the cleaning pipes 44, 45 are attached after the rubbing and washing, the holes formed in the respective squeeze roller pairs 41, 42 and the respective cleaning pipes 44, 45 ( 44a, 45a) may be misaligned with each other.
There has been a problem that the cleaning liquid discharged from the nozzles 4a and 45a is not supplied to a position suitable for cleaning. In the first prior art, more cleaning liquid is supplied to each of the squeeze roller pairs 41 and 42 in order to avoid deterioration of the cleaning state in the case where the above-mentioned displacement occurs.
【００１１】上記第二の従来技術によれば、各洗浄パイ
プ４４，４５がオーバーラック３０内に取り付けられて
いるために、上記第一の従来技術において発生していた
位置ずれ等の問題は生じにくい。しかしながら、オーバ
ーラック３０内に各洗浄パイプ４４，４５を取り付けた
ことによって、各スクイズローラ対４１，４２の取り付
け・取り外しを行う場合には、各洗浄パイプ４４，４５
に接続されている配管等と、オーバーラック３０とを合
わせて脱着させる必要がある。そうすると、オーバーラ
ック３０および各洗浄パイプ４４，４５の取り付け・取
り外しが困難であると共に、各洗浄パイプ４４，４５
と、これに接続する配管等との接続部分において洗浄液
の漏出が発生しやすいという問題が生じていた。According to the second prior art, since the cleaning pipes 44 and 45 are mounted in the overrack 30, problems such as misalignment occurring in the first prior art occur. Hateful. However, when the cleaning pipes 44 and 45 are mounted in the overrack 30 and the mounting and dismounting of the squeeze roller pairs 41 and 42 are performed, the cleaning pipes 44 and 45 are mounted.
It is necessary to attach and detach the piping and the like connected to the over rack 30 together. Then, it is difficult to attach / detach the overrack 30 and the cleaning pipes 44 and 45, and the cleaning pipes 44 and 45 are difficult.
In addition, there is a problem that the leakage of the cleaning liquid easily occurs at a connection portion with a pipe or the like connected thereto.
【００１２】そこで、本発明は上記従来技術の問題を解
決するためになされたものであり、洗浄パイプに位置ず
れが生じた場合であっても、適当な量の洗浄液を供給す
ることによってスクイズローラを確実に洗浄することが
可能であると共に、オーバーラックおよび各洗浄パイプ
の取り付け・取り外しが容易であり、各洗浄パイプと、
これに接続する配管等との接続部分において洗浄液が漏
出しにくい構造である写真処理装置を提供することを課
題とする。Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art. Even if the cleaning pipe is displaced, a squeeze roller is supplied by supplying an appropriate amount of cleaning liquid. Can be reliably washed, and it is easy to attach and remove the over-rack and each washing pipe.
It is an object of the present invention to provide a photographic processing apparatus having a structure in which a cleaning liquid hardly leaks at a connection portion with a pipe or the like connected thereto.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】すなわち、上記課題を解
決するための本発明は、感光材料を搬送するローラ対
と、前記ローラ対の上部に設けられたオーバーラックと
を具備した写真処理装置において、前記オーバーラック
が、前記ローラ対を洗浄するための洗浄液を貯留する洗
浄液貯留部を有することを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a photographic processing apparatus comprising a pair of rollers for transporting a photosensitive material and an overrack provided above the pair of rollers. The overrack has a cleaning liquid storing section for storing a cleaning liquid for cleaning the roller pair.
【００１４】本発明に係る写真処理装置においては、前
記各ローラ対（スクイズローラ対）との位置がずれにく
い（前記各ローラ対（スクイズローラ対）との位置合わ
せを容易に行うことができる）前記オーバーラックに前
記洗浄液貯留部が設けられている。したがって、前記各
ローラ対（スクイズローラ対）を洗浄する際において
も、洗浄液の供給源たる洗浄パイプ等の位置合わせを厳
密に行うことなく、前記洗浄液貯留部に対して洗浄液を
貯留できる程度に前記洗浄パイプの位置をラフに設定し
ても、前記洗浄液貯留部から、前記各ローラ対（スクイ
ズローラ対）に対して確実に洗浄液が供給されるので、
前記各ローラ対（スクイズローラ対）を効果的に洗浄す
ることが可能となる。また、本発明によれば、前記洗浄
パイプを前記オーバーラック内に設ける必要がないの
で、前記オーバーラックおよび前記洗浄パイプの取り付
け・取り外しが容易となり、前記洗浄パイプと、これに
接続する配管等との接続部分において洗浄液が漏出しに
くい構造である写真処理装置を得ることができる。In the photographic processing apparatus according to the present invention, the positions of the respective roller pairs (squeeze roller pairs) are less likely to be shifted (the positions of the respective roller pairs (squeeze roller pairs) can be easily adjusted). The cleaning liquid storage section is provided on the overrack. Therefore, even when cleaning each of the roller pairs (squeeze roller pairs), the cleaning liquid is stored in the cleaning liquid storage unit to such an extent that the cleaning liquid can be stored in the cleaning liquid storage unit without strictly positioning the cleaning pipe or the like which is a supply source of the cleaning liquid. Even if the position of the cleaning pipe is roughly set, the cleaning liquid is reliably supplied from the cleaning liquid storage section to each of the roller pairs (squeeze roller pairs).
Each roller pair (squeeze roller pair) can be effectively cleaned. Further, according to the present invention, since it is not necessary to provide the cleaning pipe in the overrack, attachment / detachment of the overrack and the cleaning pipe is facilitated, and the cleaning pipe, a pipe connected thereto, and the like are provided. It is possible to obtain a photographic processing apparatus having a structure in which the cleaning liquid hardly leaks at the connection part of the above.
【００１５】また、本発明に係る写真処理装置において
は、前記洗浄液貯留部に、前記洗浄液を前記ローラ対に
滴下させるための孔部が形成された構成であることが好
ましい。Further, in the photographic processing apparatus according to the present invention, it is preferable that the cleaning liquid storage section has a structure in which a hole for dropping the cleaning liquid to the roller pair is formed.
【００１６】この好ましい例によれば、前記各ローラ対
（スクイズローラ対）との位置がずれにくい（前記各ロ
ーラ対（スクイズローラ対）との位置合わせを容易に行
うことができる）前記オーバーラックに設けられた前記
洗浄液貯留部に前記孔部が形成されているので、戦記洗
浄パイプに位置ずれが生じた場合であっても、前記孔部
から前記前記各ローラ対（スクイズローラ対）に対し
て、洗浄液を適当に供給・放出することができる。すな
わち、この好ましい例において、前記孔部は、前記ロー
ラ対（スクイズローラ対）を構成するローラ間、および
前記ローラ対（スクイズローラ対）を構成するローラ間
に、洗浄液が的確に滴下する位置に設けられている。According to this preferred embodiment, the position of each roller pair (squeeze roller pair) is hard to be shifted (the position of each roller pair (squeeze roller pair) can be easily adjusted). Since the holes are formed in the cleaning liquid storing portion provided in the tank, even if a position shift occurs in the record cleaning pipe, the holes can be used for the respective roller pairs (squeeze roller pairs). Thus, the cleaning liquid can be appropriately supplied and discharged. That is, in this preferred example, the hole is located at a position where the cleaning liquid is accurately dropped between the rollers constituting the roller pair (squeeze roller pair) and between the rollers constituting the roller pair (squeeze roller pair). Is provided.
【００１７】また、本発明に係る写真処理装置において
は、複数個の前記孔部が形成された構成であることが好
ましい。In the photographic processing apparatus according to the present invention, it is preferable that the photographic processing apparatus has a structure in which a plurality of the holes are formed.
【００１８】この好ましい例によれば、必要な洗浄液の
多少に応じて、前記孔部の数を適宜調整することによ
り、前記ローラ対（スクイズローラ対）に放出する洗浄
液の流量を制御することが可能となるので、必要最低限
の洗浄液量で前記ローラ対（スクイズローラ対）を効果
的に洗浄することができる。なお、複数個の前記孔部の
それぞれの大きさを適宜調整することによっても、洗浄
液の流量を制御することが可能である。According to this preferred embodiment, the flow rate of the cleaning liquid discharged to the roller pair (squeeze roller pair) can be controlled by appropriately adjusting the number of the holes according to the required amount of the cleaning liquid. As a result, the roller pair (squeeze roller pair) can be effectively cleaned with the minimum necessary amount of cleaning liquid. It is also possible to control the flow rate of the cleaning liquid by appropriately adjusting the size of each of the plurality of holes.
【００１９】また、本発明に係る写真処理装置において
は、前記孔部に前記洗浄液が流れ込むように、前記洗浄
液貯留部の底面を傾斜させた構成であることが好まし
い。Further, in the photographic processing apparatus according to the present invention, it is preferable that a bottom surface of the cleaning liquid storing section is inclined so that the cleaning liquid flows into the hole.
【００２０】この好ましい例によれば、前記孔部に向か
って洗浄液が流れ込むように、前記孔部が穿孔されてい
る前記洗浄液貯留部の底面に、傾斜が設けられているの
で、すべての洗浄液を前記ローラ対（スクイズローラ
対）に対して効果的に放出することが可能となり、前記
洗浄液貯留部内に洗浄液は残留せず、洗浄液を効率よく
使用することができる。すなわち、この好ましい例にお
いては、前記洗浄液貯留部の底面が、前記孔部に向かっ
て下がり方向で傾斜するように構成されている。[0020] According to this preferred embodiment, since the bottom surface of the cleaning liquid storing portion in which the hole is perforated is provided with an inclination so that the cleaning liquid flows toward the hole, all the cleaning liquid is supplied. The cleaning liquid can be effectively discharged to the roller pair (squeeze roller pair), and the cleaning liquid does not remain in the cleaning liquid storage section, and the cleaning liquid can be used efficiently. That is, in this preferred example, the bottom surface of the cleaning liquid storage section is configured to be inclined in the downward direction toward the hole.
【００２１】また、本発明に係る写真処理装置において
は、前記ローラ対が、接続手段を介して前記オーバーラ
ックと接続されていることが好ましい。Further, in the photographic processing apparatus according to the present invention, it is preferable that the roller pair is connected to the overrack via connecting means.
【００２２】この好ましい例によれば、前記ローラ対
（スクイズローラ対）と前記オーバーラックとが、何ら
かの接続手段によって接続されて一体構造となってお
り、前記ローラ対（スクイズローラ対）と前記オーバー
ラックとの間で位置ずれが生ずることはないので、前記
オーバーラック（および前記ローラ対）の取り外し前後
における前記ローラ対（スクイズローラ対）に対する洗
浄液の供給状態を所定状態に維持することが容易とな
り、効果的に前記ローラ対（スクイズローラ対）を洗浄
することができる。なお、前記ローラ対（スクイズロー
ラ対）と前記オーバーラックとの接続には、例えば、前
記ローラ対（スクイズローラ対）の回転軸の両端部近傍
において、前記オーバーラックの任意の箇所に接続口を
形成し、前記接続口に前記ローラ対（スクイズローラ
対）の端部を挿入して、前記ローラ対（スクイズローラ
対）と前記オーバーラックとをベアリング等を介して接
続する場合がある。According to this preferred embodiment, the roller pair (squeeze roller pair) and the overrack are connected to each other by some connection means to form an integral structure, and the roller pair (squeeze roller pair) and the overrack are connected. Since there is no displacement between the rack and the rack, the supply state of the cleaning liquid to the roller pair (squeeze roller pair) before and after removal of the overrack (and the roller pair) can be easily maintained in a predetermined state. Thus, the roller pair (squeeze roller pair) can be effectively cleaned. The connection between the roller pair (squeeze roller pair) and the overrack may be performed, for example, by connecting a connection port at an arbitrary position of the overrack near both ends of the rotating shaft of the roller pair (squeeze roller pair). In some cases, the end of the roller pair (squeeze roller pair) is inserted into the connection port to connect the roller pair (squeeze roller pair) to the overrack via a bearing or the like.
【００２３】[0023]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００２４】図１は、本発明の実施形態に係る感光材料
処理部における洗浄部近傍の部分拡大概略図を示したも
のである。本実施形態においては、感光材料Ｐを搬送し
つつ、感光材料Ｐに付着した液体を絞り取る（スクイズ
する）ために、第一のスクイズローラ対１と第二のスク
イズローラ対２とが、現像液等の処理液外に設けられて
いる。これらのスクイズローラ対１，２の上部には、第
一のスクイズローラ対１と第二のスクイズローラ対２と
の間を搬送される感光材料Ｐを適当に案内するガイド部
３ａを有するオーバーラック３が設けられている。オー
バーラック３の上部には、各スクイズローラ対１，２の
洗浄を行うための洗浄液を供給する機能を有する、洗浄
部としての洗浄パイプ４が設けられている。FIG. 1 is a partially enlarged schematic view of the vicinity of a cleaning section in a photosensitive material processing section according to an embodiment of the present invention. In the present embodiment, in order to squeeze (squeeze) the liquid attached to the photosensitive material P while transporting the photosensitive material P, the first squeeze roller pair 1 and the second squeeze roller pair 2 It is provided outside the processing liquid such as a liquid. An over rack having a guide portion 3a for appropriately guiding the photosensitive material P conveyed between the first squeeze roller pair 1 and the second squeeze roller pair 2 is provided above the squeeze roller pairs 1 and 2. 3 are provided. A cleaning pipe 4 as a cleaning unit having a function of supplying a cleaning liquid for cleaning the squeeze roller pairs 1 and 2 is provided at an upper portion of the over rack 3.
【００２５】第一のスクイズローラ対１は、第一のロー
ラ１ａと第二のローラ１ｂとを用いて構成されており、
第二のスクイズローラ対２は、第三のローラ２ａと第四
のローラ２ｂとを用いて構成されている。各スクイズロ
ーラ対１，２を構成している第一〜第四のローラ１ａ，
１ｂ，２ａ，２ｂは、感光材料Ｐを搬送し、感光材料Ｐ
に付着している現像液等の液体を効果的に絞り取る（ス
クイズする）ために、例えば、親水性あるいは吸水性を
有する材料を用いて形成されている。これらのローラ１
ａ，１ｂ，２ａ，２ｂの形成材料としては、発砲ウレタ
ン等が用いられる。なお、場合によっては、親水性ある
いは吸水性を有さない、エラストマ、ＰＰ（ポリプロピ
レン）等の材料を用いて各スクイズローラ対１，２を形
成する場合もある。The first squeeze roller pair 1 is constituted by using a first roller 1a and a second roller 1b.
The second squeeze roller pair 2 includes a third roller 2a and a fourth roller 2b. First to fourth rollers 1a, 1a,
1b, 2a and 2b transport the photosensitive material P,
In order to effectively squeeze (squeeze) a liquid such as a developer adhering to the surface, it is formed using, for example, a material having hydrophilicity or water absorbency. These rollers 1
Urethane foam or the like is used as a material for forming a, 1b, 2a, and 2b. In some cases, the squeeze roller pairs 1 and 2 may be formed using a material having no hydrophilicity or water absorption, such as an elastomer or PP (polypropylene).
【００２６】オーバーラック３は、ガイド部３ａ、第一
の洗浄液貯留部３ｂ、第二の洗浄液貯留部３ｃとを有
し、第一の洗浄液貯留部３ｂには洗浄液を第一のスクイ
ズローラ対１に放出するための第一の孔部３ｄが穿孔さ
れており、第二の洗浄液貯留部３ｃには洗浄液を第二の
スクイズローラ対２に放出するための第二の孔部３ｅが
穿孔されている。また、各洗浄液貯留部３ｂ，３ｃにお
いては、各孔部３ｄ，３ｅに向かって洗浄液が流れ込む
ように、各孔部３ｄ，３ｅが穿孔されている各洗浄液貯
留部３ｂ，３ｃの底面に、傾斜が設けられている。この
ように底面に傾斜を設けることにより、すべての洗浄液
を各スクイズローラ対１，２に対して放出することが可
能となるので、各洗浄液貯留部３ｂ，３ｃ内に洗浄液は
残留せず、洗浄液を効率よく使用することができる。The overrack 3 has a guide portion 3a, a first cleaning liquid storage portion 3b, and a second cleaning liquid storage portion 3c. The first cleaning liquid storage portion 3b stores the cleaning liquid in the first squeeze roller pair 1a. A first hole 3d for discharging the cleaning liquid to the second squeeze roller pair 2 is perforated in the second cleaning liquid storage section 3c. I have. In addition, in each of the cleaning liquid storage portions 3b and 3c, the bottom surface of each of the cleaning liquid storage portions 3b and 3c having the holes 3d and 3e is inclined so that the cleaning liquid flows toward each of the holes 3d and 3e. Is provided. By providing the inclination on the bottom surface in this manner, all the cleaning liquid can be discharged to each of the squeeze roller pairs 1 and 2, so that the cleaning liquid does not remain in each of the cleaning liquid reservoirs 3b and 3c. Can be used efficiently.
【００２７】洗浄パイプ４は、オーバーラック３に設け
られた各洗浄液貯留部３ｂ，３ｃに対して洗浄液を供給
する機能を有するものであり、この洗浄パイプ４には、
洗浄液を第一の洗浄液貯留部３ｂに供給するための第一
の供給口４ａと、洗浄液を第二の洗浄液貯留部３ｃに供
給するための第二の供給口４ｂとが形成されている。The cleaning pipe 4 has a function of supplying a cleaning liquid to each of the cleaning liquid storage sections 3b and 3c provided in the over rack 3.
A first supply port 4a for supplying the cleaning liquid to the first cleaning liquid storage section 3b and a second supply port 4b for supplying the cleaning liquid to the second cleaning liquid storage section 3c are formed.
【００２８】本実施形態においても、従来技術と同様
に、各スクイズローラ対１，２の上部にオーバーラック
３が設けられている。この際、ガイド部３ａが、第一の
スクイズローラ対１と第二のスクイズローラ対２との間
において感光材料Ｐを確実に案内するように、各スクイ
ズローラ対１，２とオーバーラック３とは、適当に位置
合わせが行われている。また、洗浄パイプ４は、オーバ
ーラック３の上部に設けられており、各供給口４ａ，４
ｂが各洗浄液貯留部３ｂ，３ｃの上部開口部に対して洗
浄液を供給できる位置であれば、洗浄パイプ４の位置は
特に制限されるものではない。In this embodiment, as in the prior art, an overrack 3 is provided above each of the squeeze roller pairs 1 and 2. At this time, the squeeze roller pairs 1 and 2 and the overrack 3 are connected to each other so that the guide portion 3a reliably guides the photosensitive material P between the first squeeze roller pair 1 and the second squeeze roller pair 2. Are properly aligned. Further, the cleaning pipe 4 is provided on the upper part of the over rack 3, and the supply ports 4a, 4
The position of the cleaning pipe 4 is not particularly limited as long as b is a position where the cleaning liquid can be supplied to the upper openings of the cleaning liquid storage sections 3b and 3c.
【００２９】本実施形態においては、以上のように、ス
クイズローラ対１，２を洗浄するための洗浄液を貯留す
る洗浄液貯留部３ｂ，３ｃをオーバーラック３に設け、
各スクイズローラ対１，２の所望の位置に洗浄液を放出
することが可能であるように、各洗浄液貯留部３ｂ，３
ｃの適当な位置に第一および第二の孔部３ｄ，３ｅが穿
孔されている。したがって、本実施形態によれば、各ス
クイズローラ対１，２との位置合わせが行われているオ
ーバーラック３に各孔部３ｄ，３ｅを穿孔することによ
って、洗浄パイプ４の位置合わせ等を厳密に行うことな
く（洗浄パイプ４の位置をラフに設定しても）、スクイ
ズローラ対１，２に対して洗浄液を確実に導いて放出す
ることが可能となるので、各スクイズローラ１ａ，１
ｂ，２ａ，２ｂに付着した結晶等の汚れを効果的に洗い
流すことができる。In the present embodiment, as described above, the cleaning liquid storage sections 3b and 3c for storing the cleaning liquid for cleaning the squeeze roller pairs 1 and 2 are provided on the overrack 3.
Each of the cleaning liquid storage sections 3b, 3 is so arranged that the cleaning liquid can be discharged to a desired position of each of the squeeze roller pairs 1, 2.
First and second holes 3d and 3e are perforated at appropriate positions in c. Therefore, according to the present embodiment, by piercing the holes 3d and 3e in the overrack 3 in which the positioning with the squeeze roller pairs 1 and 2 has been performed, the positioning of the cleaning pipe 4 and the like are strictly performed. (Even if the position of the cleaning pipe 4 is roughly set), the cleaning liquid can be reliably guided to and discharged from the squeeze rollers 1 and 2.
Dirt such as crystals attached to b, 2a, 2b can be effectively washed away.
【００３０】また、本実施形態によれば、洗浄液を確実
に各スクイズローラ対１，２の所望の位置に供給するこ
とが可能となるので、必要最低限の洗浄液の供給によっ
て、各スクイズローラ１ａ，１ｂ，２ａ，２ｂを効果的
に洗浄することができる。さらに、各孔部３ｄ，３ｅに
向かって洗浄液が流れ込むように、各孔部３ｄ，３ｅが
穿孔されている各洗浄液貯留部３ｂ，３ｃの底面に傾斜
が設けられているので、すべての洗浄液を各スクイズロ
ーラ対１，２に対して効果的に放出することが可能とな
るので、各洗浄液貯留部３ｂ，３ｃ内に洗浄液は残留せ
ず、洗浄液を効率よく使用することができる。Further, according to the present embodiment, it is possible to reliably supply the cleaning liquid to a desired position of each of the squeezing roller pairs 1 and 2. , 1b, 2a, 2b can be effectively cleaned. Furthermore, since the bottoms of the cleaning liquid storage portions 3b and 3c in which the holes 3d and 3e are perforated are inclined so that the cleaning liquid flows toward the holes 3d and 3e, all the cleaning liquids are removed. Since the cleaning liquid can be effectively discharged to each of the squeeze roller pairs 1 and 2, the cleaning liquid does not remain in the cleaning liquid storage sections 3b and 3c, and the cleaning liquid can be used efficiently.
【００３１】また、本実施形態においては、オーバーラ
ック３に各孔部３ｄ，３ｅを穿孔することによって、各
スクイズローラ対１，２に対して的確に洗浄液を供給す
ることが可能となるので、洗浄パイプ４をオーバーラッ
ク３内に設ける必要がない。したがって、本実施形態に
よれば、従来技術においてオーバーラック内に洗浄パイ
プを設けた際に問題となっていた、洗浄パイプと他の配
管等との接続部分における洗浄液の漏出、およびオーバ
ーラック着脱時の困難性を解消することができる。Further, in the present embodiment, by piercing the holes 3d and 3e in the overrack 3, it becomes possible to supply the cleaning liquid to the squeeze roller pairs 1 and 2 accurately. There is no need to provide the cleaning pipe 4 in the over rack 3. Therefore, according to the present embodiment, the leakage of the cleaning liquid at the connection between the cleaning pipe and other pipes, which has been a problem when the cleaning pipe is provided in the overrack in the related art, and when the overrack is attached / detached. Can be solved.
【００３２】さらに、本各実施形態においては、スクイ
ズローラ対１，２と洗浄パイプ４との間に配設されてい
るオーバーラック３に洗浄液貯留部３ｂ，３ｃが設けら
れ、この洗浄液貯留部３ｂ，３ｃの底面に洗浄液放出用
の孔部３ｄ，３ｅが形成されている。したがって、本実
施形態によれば、スクイズローラ対１，２の下側に位置
している各処理槽５，６の上部がオーバーラックで覆わ
れ、洗浄液貯留部３ｂ，３ｃの底面に面積の小さい孔部
３ｄ，３ｅのみが形成されているので、各処理槽５，６
を密閉に近い状態に維持することが可能となり、各処理
液槽５，６内の現像液、定着液等の各処理液５ａ，６ａ
の蒸発を効果的に防止することができる。Further, in each of the embodiments, the cleaning liquid storage sections 3b and 3c are provided on the overrack 3 provided between the squeeze roller pairs 1 and 2 and the cleaning pipe 4, and the cleaning liquid storage sections 3b and 3c are provided. , 3c are provided with holes 3d, 3e for discharging the cleaning liquid. Therefore, according to the present embodiment, the upper portions of the processing tanks 5 and 6 located below the squeeze roller pairs 1 and 2 are covered with the overrack, and the bottom surfaces of the cleaning liquid storage sections 3b and 3c have a small area. Since only the holes 3d and 3e are formed, the processing tanks 5, 6
Can be maintained in a state close to hermetic, and each processing solution 5a, 6a such as a developer and a fixing solution in each processing solution tank 5, 6 can be maintained.
Evaporation can be effectively prevented.
【００３３】なお、本実施形態においては、洗浄パイプ
４の数、設置位置等については特に説明を行わなかった
が、本発明は、何らかの構成に限定されるものではな
く、洗浄パイプ４に設けられた供給口４ａ，４ｂから各
洗浄液貯留部３ｂ，３ｃに対して洗浄液が供給可能であ
れば、いかなる構成であってもよい。In the present embodiment, the number, the installation position, and the like of the cleaning pipes 4 are not particularly described. However, the present invention is not limited to any configuration, and is provided in the cleaning pipes 4. Any configuration is possible as long as the cleaning liquid can be supplied from the supply ports 4a, 4b to the respective cleaning liquid storage sections 3b, 3c.
【００３４】また、本実施形態においては、洗浄パイプ
に２つの供給口４ａ，４ｂを設け、一つの供給口から一
つの洗浄液貯留部に対して洗浄液を供給する場合につい
て説明したが、本発明はこの構成に限定されるものでは
なく、例えば、一つの洗浄液貯留部に対して二つ以上の
供給口から洗浄液を供給するように構成してもよい。Further, in the present embodiment, the case where two supply ports 4a and 4b are provided in the cleaning pipe and the cleaning liquid is supplied from one supply port to one cleaning liquid storage section has been described. The present invention is not limited to this configuration. For example, the cleaning liquid may be supplied to one cleaning liquid storage unit from two or more supply ports.
【００３５】また、本実施形態においては、オーバーラ
ック３に洗浄液貯留部３ｂ，３ｃを設けたことにより、
洗浄パイプ４の取り付け位置にこだわる必要がないの
で、洗浄パイプ４を写真処理装置の上部カバー（図示省
略）の内側に取り付けることも可能である。このような
構成とすれば、オーバーラック３の取り付け・取り外し
を行う際において、上部カバーを開けるだけで、上部カ
バーと共に洗浄パイプ４がオーバーラック３の上から待
避するので、オーバーラック３の着脱を非常に容易に行
うことが可能となる。Further, in the present embodiment, the cleaning liquid reservoirs 3b and 3c are provided in the over rack 3 so that
Since there is no need to stick to the position where the washing pipe 4 is attached, the washing pipe 4 can be attached inside the upper cover (not shown) of the photoprocessing device. With such a configuration, when mounting and removing the overrack 3, the cleaning pipe 4 is retracted from above the overrack 3 together with the upper cover just by opening the upper cover. It can be done very easily.
【００３６】また、本実施形態においては、洗浄液貯留
部３ｂ，３ｃの底面に各孔部３ｄ，３ｅを穿孔した場合
について説明したが、本発明はこの構成に限定されるも
のではなく、例えば、洗浄液貯留部３ｂ，３ｃの側面に
スクイズローラ対１，２に洗浄液を放出する孔部を形成
し、その孔部に対して洗浄液が流れ込むように、洗浄液
貯留部３ｂ，３ｃの側面および底面の少なくとも一方を
傾斜させて構成してもよい。In this embodiment, the case where the holes 3d and 3e are perforated in the bottom surfaces of the cleaning liquid reservoirs 3b and 3c has been described. However, the present invention is not limited to this structure. At least one of the side surfaces and the bottom surface of the cleaning liquid reservoirs 3b and 3c is formed with a hole for discharging the cleaning liquid to the squeeze roller pairs 1 and 2 on the side surfaces of the cleaning liquid reservoirs 3b and 3c. One may be inclined.
【００３７】また、本実施形態においては、スクイズロ
ーラ対１，２とオーバーラック３とが、何らの接続手段
によって接続された一体構造であってもよい。このよう
な構造であれば、スクイズローラ対１，２とオーバーラ
ック３との間で位置ずれが生ずることはないので、オー
バーラック３（およびスクイズローラ対１，２）の取り
外し前後におけるスクイズローラ対１，２に対する洗浄
液の供給状態を所定状態に維持することが容易となり、
効果的にスクイズローラ対１，２を洗浄することができ
る。In the present embodiment, the squeeze roller pairs 1 and 2 and the overrack 3 may have an integral structure connected by any connecting means. With such a structure, there is no displacement between the squeeze roller pairs 1 and 2 and the overrack 3, so the squeeze roller pair before and after the overrack 3 (and the squeeze roller pairs 1 and 2) is removed. It becomes easy to maintain the supply state of the cleaning liquid for 1 and 2 in a predetermined state,
The squeeze roller pairs 1 and 2 can be effectively cleaned.
【００３８】また、本実施形態においては、オーバーラ
ック３に穿孔されている孔部および洗浄パイプ４に形成
されている供給口の数および大きさ等は特に何らかの設
定に制限されるものではなく、例えば、その数あるいは
直径等の大きさを調整して、それぞれの孔部あるいは供
給口から供給される洗浄液の流量等を制御することも可
能である。Further, in the present embodiment, the number and size of the holes formed in the overrack 3 and the supply ports formed in the cleaning pipe 4 are not particularly limited to any settings. For example, it is also possible to control the flow rate and the like of the cleaning liquid supplied from each hole or supply port by adjusting the number or the size of the diameter or the like.
【００３９】また、本実施形態においては、オーバーラ
ック３に穿孔される孔部の位置についても何らかの設定
に制限されるものではなく、例えば、感光材料を２列に
振り分けて搬送する場合においては、各感光材料が通る
部分の略中央部の２箇所、および各感光材料間（感光材
料が通らない部分）の略中央部に洗浄液が供給されるよ
うに孔部を設けてもよい。なお、スクイズローラ対上に
おける各感光材料間および他の感光材料が通らない部分
については、処理液が析出しやすいので、その部分をよ
り的確に洗浄するようにスクイズローラ対に対して洗浄
液を供給するように、適宜孔部の位置、大きさ、数等を
設定してもよい。Further, in the present embodiment, the position of the hole formed in the over rack 3 is not limited to any setting. For example, when the photosensitive material is sorted and transported in two rows, Holes may be provided so that the cleaning liquid is supplied at approximately two central portions of the portions through which the respective photosensitive materials pass, and at approximately the central portions between the respective photosensitive materials (portions through which the photosensitive materials do not pass). In addition, since the processing liquid easily precipitates between the photosensitive materials on the squeeze roller pair and a portion through which other photosensitive material does not pass, the cleaning liquid is supplied to the squeeze roller pair so as to more accurately clean the portion. Thus, the position, size, number, etc. of the holes may be appropriately set.
【００４０】また、本実施形態においては、各スクイズ
ローラ対１，２のぞれぞれに対応して個々の洗浄液貯留
部３ｂ，３ｃを設けた場合について説明したが、本発明
はこの構成に限定されるものではない。したがって、例
えば、２つ以上のスクイズローラ対に対して１つの洗浄
液貯留部から洗浄液を供給できるように、洗浄液貯留部
を共通化した構成としてもよい。この際、洗浄液貯留部
には２つ以上のスクイズローラ対に対応する複数の孔部
を穿孔して、この複数の孔部から各スクイズローラ対に
対して適当に洗浄液を供給し、各スクイズローラ対の洗
浄が可能であるようにオーバーラックを構成すればよ
い。Further, in the present embodiment, the case has been described in which the individual washing liquid reservoirs 3b and 3c are provided for each of the squeeze roller pairs 1 and 2, respectively. It is not limited. Therefore, for example, a configuration may be adopted in which the cleaning liquid storage unit is shared so that the cleaning liquid can be supplied from one cleaning liquid storage unit to two or more squeeze roller pairs. At this time, a plurality of holes corresponding to two or more pairs of squeeze rollers are perforated in the cleaning liquid reservoir, and the cleaning liquid is appropriately supplied from the plurality of holes to each of the pairs of squeeze rollers. What is necessary is just to comprise an over rack so that washing of a pair is possible.
【００４１】また、本実施形態においては、オーバーラ
ック３の下側に２つのスクイズローラ対１，２を設けた
場合について説明したが、本発明はこの構成に限定され
るものではなく、例えば、各オーバーラックの下側に３
つ以上のスクイズローラ対を設けた構成であってもよ
い。この際、オーバーラックには、３つ以上のスクイズ
ローラ対のそれぞれに対応した洗浄液貯留部を設けて
も、また、全ての（あるいはいくつかの）スクイズロー
ラ対に対応した、いわゆる共通化した洗浄液貯留部を設
けてもよい。なお、いずれの構成であっても、オーバー
ラックには各スクイズローラ対に対応した複数の孔部が
穿孔されており、この複数の孔部から各スクイズローラ
対に対して適当に洗浄液が供給され、各スクイズローラ
対の洗浄が適当に行われる構成であることは言うまでも
ない。Further, in this embodiment, the case where two squeeze roller pairs 1 and 2 are provided below the over rack 3 has been described. However, the present invention is not limited to this configuration. 3 under each overrack
A configuration in which one or more squeeze roller pairs are provided may be employed. At this time, the overrack is provided with a cleaning liquid storage section corresponding to each of three or more squeeze roller pairs, or a so-called common cleaning liquid corresponding to all (or some) squeeze roller pairs. A storage unit may be provided. Regardless of the configuration, a plurality of holes corresponding to each squeeze roller pair are formed in the overrack, and the cleaning liquid is appropriately supplied to each squeeze roller pair from the plurality of holes. Needless to say, each squeeze roller pair is appropriately cleaned.
【００４２】[0042]
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、オーバーラックに、スクイズローラ対を洗浄するた
めの洗浄液を貯留する洗浄液貯留部を設け、この洗浄液
貯留部に、洗浄液をスクイズローラ対に滴下させるため
の孔部が穿孔されている。したがって、本発明によれ
ば、洗浄パイプに位置ずれが生じた場合であっても、適
当な量の洗浄液をスクイズローラ対に供給してスクイズ
ローラ対を効果的に洗浄することが可能であると共に、
オーバーラックおよび洗浄パイプの取り付け・取り外し
が容易であり、洗浄パイプと、これに接続する配管等と
の接続部分において洗浄液が漏出しにくい構造である写
真処理装置を得ることができる。As described above, in the present invention, a cleaning liquid storage section for storing a cleaning liquid for cleaning the squeeze roller pair is provided on the over rack, and the cleaning liquid is supplied to the cleaning liquid storage section in the squeeze roller pair. A hole for dropping is perforated. Therefore, according to the present invention, it is possible to effectively clean the squeeze roller pair by supplying an appropriate amount of the cleaning liquid to the squeeze roller pair even when the cleaning pipe is displaced. ,
It is easy to attach and remove the overrack and the cleaning pipe, and it is possible to obtain a photographic processing apparatus having a structure in which the cleaning liquid is hardly leaked at a connection portion between the cleaning pipe and a pipe connected thereto.
【図１】本発明の実施形態に係る感光材料処理部におけ
る洗浄部近傍の部分拡大概略図FIG. 1 is a partially enlarged schematic view of the vicinity of a cleaning unit in a photosensitive material processing unit according to an embodiment of the present invention.
【図２】従来技術に係る感光材料処理部の概略図FIG. 2 is a schematic view of a photosensitive material processing section according to the related art.
【図３】第一の従来技術に係る洗浄部近傍の部分拡大概
略図FIG. 3 is a partially enlarged schematic view of the vicinity of a cleaning unit according to the first conventional technique.
【図４】第二の従来技術に係る洗浄部近傍の部分拡大概
略図FIG. 4 is a partially enlarged schematic view of the vicinity of a cleaning unit according to a second conventional technique.
１ 第一のスクイズローラ対 １ａ 第一のローラ １ｂ 第二のローラ ２ 第二のスクイズローラ対 ２ａ 第三のローラ ２ｂ 第四のローラ ３ オーバーラック ３ａ ガイド部 ３ｂ 第一の洗浄液貯留部 ３ｃ 第二の洗浄液貯留部 ３ｄ 第一の孔部 ３ｅ 第二の孔部 ４ 洗浄パイプ ４ａ 第一の供給口 ４ｂ 第二の供給口 ５，６ 処理槽 ５ａ，６ａ 処理液 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st squeeze roller pair 1a 1st roller 1b 2nd roller 2 2nd squeeze roller pair 2a 3rd roller 2b 4th roller 3 Over rack 3a Guide part 3b 1st washing liquid storage part 3c 2nd 3d first hole 3e second hole 4 cleaning pipe 4a first supply port 4b second supply port 5,6 treatment tank 5a, 6a treatment liquid
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16532398AJP2000002983A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Photo processing equipment |
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16532398AJP2000002983A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Photo processing equipment |
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000002983Atrue JP2000002983A (en) | 2000-01-07 |
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16532398APendingJP2000002983A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Photo processing equipment |
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2000002983A (en) |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7818581B2 (en) | 2001-11-16 | 2010-10-19 | International Business Machines Corporation | Data management system |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7818581B2 (en) | 2001-11-16 | 2010-10-19 | International Business Machines Corporation | Data management system |
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