DE102017106160A1

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Info

Publication number: DE102017106160A1
Application number: DE102017106160.6A
Authority: DE
Inventors: Roland Lässig; Frank Hupka
Original assignee: Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Current assignee: Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Priority date: 2017-03-22
Filing date: 2017-03-22
Publication date: 2018-09-27
Anticipated expiration: 2037-03-23
Also published as: CN208690203U; DE102017106160B4

Abstract

Translated fromGerman

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substratträger (502, 100a bis 400) Folgendes aufweisen: einen Aufnahmebereich (113); eine Beschichtungsmaske (104), welche eingerichtet ist, mittels einer magnetischen Wechselwirkung an den Aufnahmebereich (113) angelegt zu werden; einen Maskenhalter (106), welcher zum Bewirken der magnetischen Wechselwirkung eingerichtet ist; und eine Klemmstruktur (108) zum Klemmen Substrats in dem Aufnahmebereich (113), so dass dieses beim Anlegen der Beschichtungsmaske (104) vorfixiert ist.

According to various embodiments, a substrate carrier (502, 100a to 400) may include: a receiving area (113); a coating mask (104) arranged to be applied to the receiving area (113) by means of a magnetic interaction; a mask holder (106) adapted to effect the magnetic interaction; and a clamping structure (108) for clamping substrate in the receiving area (113) so as to be pre-fixed upon application of the coating mask (104).

Description

Translated fromGerman

Die Erfindung betrifft einen Substratträger, eine Transportanordnung, eine Vakuumanordnung und ein Verfahren.The invention relates to a substrate carrier, a transport arrangement, a vacuum arrangement and a method.

Im Allgemeinen kann ein Substrat, beispielsweise ein Glassubstrat, ein Metallsubstrat und/oder ein Polymersubstrat, behandelt (prozessiert), beschichtet werden, so dass die chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften des Substrats verändert werden können. Zum Beschichten eines Substrats können verschiedene Beschichtungsprozesse durchgeführt werden. Beispielsweise kann eine Vakuumbeschichtungsanlage genutzt werden, um eine Schicht oder mehrere Schichten mittels unterschiedlicher Beschichtungsverfahren auf einem Substrat oder auf mehreren Substraten abzuscheiden und/oder zu strukturieren. Um ein großflächiges Abscheiden auf entsprechend großflächigen Substraten effizient zu realisieren, kann eine sogenannt In-Line-Anlage genutzt werden, bei der ein Substrat beispielsweise mittels Rollen durch die gesamte Anlage transportiert wird, wobei während des Transports des Substrats durch die In-Line-Anlage hindurch in einem oder mehreren Bereichen der In-Line-Anlage ein Beschichtungsprozess durchgeführt werden kann.In general, a substrate, such as a glass substrate, a metal substrate, and / or a polymer substrate may be treated (processed), coated so that the chemical and / or physical properties of the substrate may be altered. For coating a substrate, various coating processes can be performed. For example, a vacuum coating system can be used to deposit and / or to structure one or more layers by means of different coating methods on one or more substrates. In order to realize a large-scale deposition on correspondingly large-area substrates efficiently, a so-called in-line system can be used in which a substrate is transported, for example by means of rollers through the entire system, wherein during transport of the substrate by the in-line system through a coating process can be performed in one or more areas of the in-line system.

Im Allgemeinen kann ein Substrat oder können mehrere Substrate, z.B. Wafer oder andere plattenförmige Substrate, während des Beschichtungsprozesses (oder anderer Prozesse zum Behandeln von Substraten) mittels eines Substratträgers gehalten werden. Dabei kann der Substratträger beispielsweise dazu genutzt werden, das Substrat oder die Substrate an einer vordefinierten Position in einer Beschichtungskammer zu halten oder durch eine Beschichtungskammer hindurch zu transportieren und/oder in der Beschichtungskammer zu bewegen.In general, one or more substrates, e.g. Wafer or other plate-shaped substrates, during the coating process (or other processes for treating substrates) are held by means of a substrate support. In this case, the substrate carrier can be used, for example, to hold the substrate or the substrates at a predefined position in a coating chamber or to transport it through a coating chamber and / or to move it in the coating chamber.

Um eine strukturierte Schicht abzuscheiden, wird herkömmlicherweise eine Beschichtungsmaske in den Substratträger eingebaut, welche die Bereiche des Substrats, welche nicht beschichtet werden sollen, abschirmt. Mit anderen Worten wird die Struktur der Beschichtungsmaske auf die Beschichtung abgebildet. Dabei kann es erforderlich sein, das Substrat und die Maske möglichst genau relativ zueinander zu positionieren, so dass die zu beschichtenden Bereiche des Substrats nicht teilweise abgeschirmt werden.In order to deposit a patterned layer, a coating mask is conventionally incorporated in the substrate carrier, which shields the areas of the substrate which are not to be coated. In other words, the structure of the coating mask is imaged onto the coating. It may be necessary to position the substrate and the mask as accurately as possible relative to each other, so that the areas of the substrate to be coated are not partially shielded.

Herkömmlicherweise ist die Genauigkeit, mit der die strukturierte Schicht abgeschieden werden kann, begrenzt.Conventionally, the accuracy with which the patterned layer can be deposited is limited.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden einen Substratträger, eine Transportanordnung, eine Vakuumanordnung und ein Verfahren bereitgestellt, welche sowohl eine scharfe Abbildung als auch eine genaue Positionierung der Beschichtung ermöglichen.According to various embodiments, a substrate carrier, a transport assembly, a vacuum assembly, and a method are provided that allow both sharp imaging and accurate positioning of the coating.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wurde anschaulich erkannt, dass die Übertragung der Maskenstruktur auf die Struktur der Beschichtung umso schärfer (abbildungsechter) wird, je dichter die Beschichtungsmaske an dem Substrat anliegt, beispielsweise, wenn diese miteinander in Kontakt gebracht sind. Allerdings kann das Anlegen der Beschichtungsmaske an das Substrat zu einer Verschiebung des Substrats führen, was wiederum zu einer fehlpositionierten und/oder versetzen Beschichtung führt. Daher wird herkömmlicherweise entweder eine unscharfe Abbildung oder eine ungenaue Positionierung der Beschichtung in Kauf genommen.According to various embodiments, it has been clearly recognized that the denser the coating mask is applied to the substrate, for example, when these are brought into contact with each other, the transfer of the mask structure to the structure of the coating becomes sharper. However, the application of the coating mask to the substrate can lead to a displacement of the substrate, which in turn leads to a mispositioned and / or displaced coating. Therefore, conventionally either blurred imaging or inaccurate positioning of the coating is accepted.

Anschaulich wird das Substrat gemäß verschiedenen Ausführungsformen in der zu beschichtenden Position geklemmt, so dass dieses beim Anlegen der Beschichtungsmaske ortsfest verbleibt. Damit kann erreicht werden, dass die Beschichtungsmaske an das Substrat angelegt werden kann, ohne dass dieses verschoben wird, so dass sowohl eine scharfe Abbildung als auch eine genaue Positionierung der Beschichtung auf dem Substrat bereitgestellt werden.Illustratively, according to various embodiments, the substrate is clamped in the position to be coated so that it remains stationary when the coating mask is applied. It can thus be achieved that the coating mask can be applied to the substrate without being displaced, so that both a sharp image and an exact positioning of the coating on the substrate are provided.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substratträger Folgendes aufweisen: einen Aufnahmebereich; eine Beschichtungsmaske, welche eingerichtet ist, mittels einer magnetischen Wechselwirkung an den Aufnahmebereich angelegt zu werden; einen Maskenhalter, welcher zum Bewirken der magnetischen Wechselwirkung eingerichtet ist; und eine Klemmstruktur zum Klemmen Substrats in dem Aufnahmebereich, so dass dieses beim Anlegen der Beschichtungsmaske vorfixiert ist.According to various embodiments, a substrate carrier may include: a receiving area; a coating mask configured to be applied to the receiving area by means of a magnetic interaction; a mask holder adapted to effect the magnetic interaction; and a clamping structure for clamping substrate in the receiving area so that it is pre-fixed when the coating mask is applied.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Beschichtungsmaske ein magnetisierbares oder magnetisiertes (z.B. ferromagnetisches) Material aufweisen oder daraus gebildet sein.According to various embodiments, the coating mask may include or be formed from a magnetizable or magnetized (e.g., ferromagnetic) material.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Maskenhalter ein magnetisierbares oder magnetisiertes (z.B. ferromagnetisches) Material aufweisen oder daraus gebildet sein.According to various embodiments, the mask holder may include or be formed from a magnetizable or magnetized (e.g., ferromagnetic) material.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Material des Maskenhalters (und/oder der Beschichtungsmaske) hartmagnetisch und/oder keramisch sein (z.B. einen oder mehrere Dauermagneten aufweisend). Ein hartmagnetisches Material kann anschaulich eine große Koerzitivfeldstärke aufweisen. Beispielsweise kann das hartmagnetische Material ein Magnetmaterial aufweisen oder daraus gebildet sein. According to various embodiments, the material of the mask holder (and / or the coating mask) may be hard magnetic and / or ceramic (eg having one or more permanent magnets). A hard magnetic material may illustratively have a large coercive force. For example, the hard magnetic material may include or be formed from a magnetic material.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Material der Beschichtungsmaske (oder des Maskenhalters) weichmagnetisch und/oder metallisch sein (z.B. ein eisenbasiertes Material aufweisend). Ein weichmagnetisches Material kann anschaulich eine kleine Koerzitivfeldstärke aufweisen.According to various embodiments, the material of the coating mask (or mask holder) may be soft magnetic and / or metallic (e.g., having an iron based material). A soft magnetic material may illustratively have a small coercivity.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann sich das Material des Maskenhalters und der Beschichtungsmaske voneinander unterscheiden, z.B. in deren Koerzitivfeldstärke. Beispielsweise kann das Material der Beschichtungsmaske eine kleinere Koerzitivfeldstärke aufweisen als das Material des Maskenhalters (oder andersherum).According to various embodiments, the material of the mask holder and the coating mask may differ from each other, e.g. in their coercive field strength. For example, the material of the coating mask may have a smaller coercive force than the material of the mask holder (or vice versa).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können der Maskenhalter und die Beschichtungsmaske derart zueinander eingerichtet sein, dass diese auf einander gegenüberliegenden Seiten des Aufnahmebereichs (bzw. des Substrats darin) angeordnet sich mittels der magnetischen Wechselwirkung gegenseitig halten. Mit anderen Worten können beispielsweise der Maskenhalter und die Beschichtungsmaske auf gegenüberliegenden Seiten des Aufnahmebereichs (bzw. des Substrats darin) angeordnet sein oder werden. Beispielsweise können diese auf oder in Richtung des Substrats pressen.According to various embodiments, the mask holder and the coating mask may be arranged to each other such that they are mutually held on opposite sides of the receiving area (or the substrate therein) arranged by the magnetic interaction. In other words, for example, the mask holder and the coating mask may be disposed on opposite sides of the receiving area (or the substrate therein). For example, they can press on or in the direction of the substrate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können der Maskenhalter und die Beschichtungsmaske derart zueinander eingerichtet sein, dass diese auf einander gegenüberliegenden Seiten der Klemmstruktur angeordnet sich mittels der magnetischen Wechselwirkung gegenseitig halten.According to various embodiments, the mask holder and the coating mask may be arranged to each other such that they are mutually held on opposite sides of the clamping structure arranged by means of the magnetic interaction.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können der Maskenhalter und die Beschichtungsmaske derart zueinander eingerichtet sein, dass eine mittels der magnetischen Wechselwirkung auf die Beschichtungsmaske bewirkte Kraft die Gewichtskraft der Beschichtungsmaske (und optional die Abhebekraft der Beschichtungsmaske aus auftretender Wärmedehnung) übersteigt (d.h. größer ist als die Gewichtskraft der Beschichtungsmaske und optional der Abhebekraft aus Wärmedehnung).According to various embodiments, the mask holder and the coating mask may be arranged to each other such that a force caused by the magnetic interaction on the coating mask exceeds the weight of the coating mask (and optionally the withdrawal force of the coating mask from occurring thermal expansion) (ie, greater than the weight of the coating mask and optionally the lift-off force from thermal expansion).

Die Abhebekraft kann anschaulich eine aus der Wärmedehnung der Beschichtungsmaske resultierende Kraft sein, welche (wie beispielsweise die Gewichtskraft der Beschichtungsmaske auch) von dem Aufnahmebereich weg gerichtete Kraft ist, z.B. indem diese die Beschichtungsmaske krümmt und/oder faltet. Mit anderen Worten kann die magnetische Wechselwirkung die Abhebekraft kompensieren und/oder übersteigen und/oder die daraus resultierende Krümmung der Beschichtungsmaske reduzieren.The lift-off force may illustratively be a force resulting from the thermal expansion of the coating mask, which force (such as, for example, the weight of the coating mask also) is directed away from the receiving area, e.g. by bending and / or folding the coating mask. In other words, the magnetic interaction can compensate for and / or exceed the lift-off force and / or reduce the resulting curvature of the coating mask.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Klemmstruktur eine kleinere magnetische Permeabilität als die Beschichtungsmaske aufweisen. Beispielsweise kann die Klemmstruktur im Wesentlichen unmagnetisch sein. Damit kann deren Einflussnahme auf die magnetische Wechselwirkung verringert werden.According to various embodiments, the clamping structure may have a smaller magnetic permeability than the coating mask. For example, the clamping structure may be substantially non-magnetic. Thus their influence on the magnetic interaction can be reduced.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Klemmstruktur Aluminium aufweisen oder daraus gebildet sein.According to various embodiments, the clamping structure may comprise or be formed from aluminum.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Material des Maskenhalters oder der Beschichtungsmaske zumindest Eisen aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine Legierung (z.B. Stahl), welche Eisen aufweist.According to various embodiments, the material of the mask holder or coating mask may comprise or be formed of at least iron, e.g. an alloy (e.g., steel) having iron.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Klemmstruktur eine Substrat-Auflagefläche aufweisen, welche den Aufnahmebereich in Richtung der Beschichtungsmaske begrenzt.According to various embodiments, the clamping structure may have a substrate support surface which delimits the receiving region in the direction of the coating mask.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Substrat-Auflagefläche einen größeren Reibungskoeffizienten gegenüber dem Substrat aufweisen als die Beschichtungsmaske und/oder als das Beschwerungselement (z.B. die Gewichtsplatte). Mit anderen Worten kann die Substrat-Auflagefläche einen größeren Reibungskoeffizienten gegenüber dem Material des Substrats aufweisen als die Beschichtungsmaske und/oder das Beschwerungselement (z.B. die Gewichtsplatte), beispielsweise gegenüber dem Substrat, z.B. gegenüber einer Keramik (wie beispielsweise Silizium oder Glas) oder einem Metall. Der Reibungskoeffizienten kann auch auf ein anderes Referenzmaterial bezogen sein.According to various embodiments, the substrate support surface may have a greater coefficient of friction with the substrate than the coating mask and / or as the weighting element (e.g., the weight plate). In other words, the substrate support surface may have a greater coefficient of friction with respect to the material of the substrate than the coating mask and / or the weighting element (e.g., the weight plate), for example, to the substrate, e.g. to a ceramic (such as silicon or glass) or a metal. The coefficient of friction may also be related to another reference material.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Substrat-Auflagefläche mittels eines Polymers (z.B. eines Elastomers) bereitgestellt sein oder werden. Beispielsweise kann die Substrat-Auflagefläche mittels der Oberfläche einer Polymerauflage der Klemmstruktur bereitgestellt sein oder werden.According to various embodiments, the substrate support surface may be or may be provided by means of a polymer (e.g., an elastomer). For example, the substrate support surface may be provided by means of the surface of a polymer support of the clamping structure.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Klemmstruktur ein Beschwerungselement (wenn dieses eine Platte aufweist oder daraus gebildet ist, auch als Gewichtsplatte bezeichnet) aufweisen, welches eingerichtet ist, zum Klemmen eine Kraft zu bewirken, welche im Wesentlichen die Gewichtskraft des Beschwerungselements sein kann.According to various embodiments, the clamping structure may comprise a weighting member (if it has a plate or formed therefrom, also referred to as a weight plate) which is adapted to effect a force for clamping, which may be substantially the weight of the weighting member.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Beschwerungselement eine Platte aufweisen oder daraus gebildet sein. Beispielsweise kann das Beschwerungselement plattenförmig sein.According to various embodiments, the weighting element may comprise or be formed from a plate. For example, the weighting element can be plate-shaped.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträger ferner Folgendes aufweisen: eine Verbindungsstruktur, welche das Beschwerungselement mit dem Maskenhalter derart verbindet, dass deren Abstand voneinander mittels der Verbindungsstruktur begrenzt ist. Mit anderen Worten können das Beschwerungselement und der Maskenhalter miteinander gekuppelt sein mittels der Verbindungsstruktur.According to various embodiments, the substrate carrier may further comprise: a connection structure connecting the weighting member to the mask holder such that their distance from each other by means of the Connection structure is limited. In other words, the weighting member and the mask holder may be coupled together by means of the connection structure.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Verbindungsstruktur ein Schubgelenk aufweisen, welches das Beschwerungselement verschiebbar mit dem Maskenhalter verbindet.According to various embodiments, the connection structure may comprise a sliding joint which slidably connects the weighting element to the mask holder.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Schubgelenk einen Begrenzer aufweisen, welcher eine mittels des Schubgelenks verschiebbare Strecke auf den Abstand begrenzt.According to various embodiments, the sliding joint may have a limiter which limits a distance displaceable by means of the sliding joint to the distance.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträger ferner Folgendes aufweisen: eine Kupplungsstruktur zum Ankuppeln des Maskenhalters in einer ortsfesten Position relativ zu dem Aufnahmebereich. Mit anderen Worten kann die Kupplungsstruktur dem Maskenhalter eine ortsfeste Position relativ zu dem Aufnahmebereich bereitstellen, an welche dieser angekuppelt oder von welcher dieser abgekuppelt werden kann.According to various embodiments, the substrate carrier may further comprise: a coupling structure for coupling the mask holder in a fixed position relative to the receiving area. In other words, the coupling structure may provide the mask holder with a fixed position relative to the receiving area to which it can be coupled or uncoupled.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Kupplungsstruktur eine Führungsstruktur aufweisen, welche dem Maskenhalter genau einen Translationsfreiheitsgrad bereitstellt, gemäß dem das Ankuppeln und/oder Abkuppeln des Maskenhalters relativ zu dem Aufnahmebereich geführt wird.According to various embodiments, the coupling structure may have a guide structure which provides the mask holder with precisely one translational degree of freedom, according to which the coupling and / or uncoupling of the mask holder is guided relative to the receiving area.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträger ferner Folgendes aufweisen: eine Spannstruktur, mittels welcher die Beschichtungsmaske vorgespant gelagert ist.According to various embodiments, the substrate carrier may further comprise: a tensioning structure, by means of which the coating mask is mounted in a pre-tensioned manner.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Beschichtungsmaske einen oder mehrere Beschichtungsbereiche aufweisen, in denen die Beschichtungsmaske geöffnet (z.B. mittels jeweiliger Durchgangsöffnungen) ist. Der oder jeder Beschichtungsbereich kann beispielsweise zumindest (d.h. genau oder mehr als) eine Durchgangsöffnung aufweisen oder daraus gebildet sein.According to various embodiments, the coating mask may have one or more coating areas in which the coating mask is opened (e.g., by respective passage openings). The or each coating region may, for example, comprise or be formed from at least (i.e., exactly or more than) a through-hole.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträger ferner Folgendes aufweisen: eine Abschirmstruktur, wobei die Beschichtungsmaske zwischen dem Aufnahmebereich und der Abschirmstruktur angeordnet ist, so dass zumindest ein Teil der Beschichtungsmaske mittels der Abschirmstruktur abgeschirmt wird.According to various embodiments, the substrate carrier may further comprise: a shielding structure, wherein the coating mask is disposed between the receiving area and the shielding structure, so that at least a part of the coating mask is shielded by the shielding structure.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Abschirmstruktur ein Wärmeschild und/oder mit den Beschichtungsbereichen der Beschichtungsmaske fluchtende Durchgangsöffnungen aufweisen.According to various embodiments, the shielding structure may comprise a heat shield and / or through-openings aligned with the coating regions of the coating mask.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Wärmeschild mehrlagig sein. Beispielsweise können die Lagen des Wärmeschilds einen Abstand voneinander aufweisen. Bei mehreren Lagen kann optional die der Beschichtungsmaske jeweils nächste (z.B. direkt benachbarte) Lage des Wärmeschildes größere Durchgangsöffnungen aufweisen (anschaulich ein Hinterschnitt zur Vermeidung von Partikelabrieb bei Bewegung der einzelnen Lagen) als eine andere (z.B. die entsprechend gegenüberliegende) Lage des Wärmeschildes.According to various embodiments, the heat shield may be multi-layered. For example, the layers of the heat shield may be spaced apart. In the case of multiple layers, optionally the next (for example directly adjacent) layer of the heat shield may have larger through openings (illustratively an undercut to avoid particle abrasion upon movement of the individual layers) than another (e.g., the corresponding opposite) layer of the heat shield.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträger ferner Folgendes aufweisen: einen Rahmen, welcher den Aufnahmebereich umgibt und mittels dessen zumindest ein Teil der Klemmstruktur (z.B. dessen Auflagefläche) und/oder die Beschichtungsmaske getragen (z.B. daran befestigt) wird.According to various embodiments, the substrate carrier may further comprise: a frame which surrounds the receiving area and by means of which at least part of the clamping structure (for example its support surface) and / or the coating mask is carried (e.g.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Kupplungsstruktur Teil des Rahmens sein oder an diesem befestigt sein oder werden.According to various embodiments, the coupling structure may be part of or attached to the frame.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Spannstruktur Teil des Rahmens sein oder an diesem befestigt sein oder werden.According to various embodiments, the tensioning structure may be part of or attached to the frame.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Transportanordnung Folgendes aufweisen: einen Substratträger gemäß verschiedenen Ausführungsformen, und eine Transportvorrichtung zum Transportieren des Substratträgers entlang eines Transportpfades.According to various embodiments, a transport arrangement may comprise a substrate carrier according to various embodiments, and a transport device for transporting the substrate carrier along a transport path.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportvorrichtung mehrere Transportrollen aufweisen.According to various embodiments, the transport device may have a plurality of transport rollers.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportvorrichtung zumindest ein Transportband aufweisen, welches mittels der mehreren Transportrollen geführt wird.According to various embodiments, the transport device may comprise at least one conveyor belt, which is guided by means of the plurality of transport rollers.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportvorrichtung eine Gurtförderer-Transportvorrichtung aufweisen oder daraus gebildet sein.According to various embodiments, the transport device may include or be formed from a belt conveyor transport device.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportanordnung ferner aufweisen: eine Manipulatorvorrichtung, welche eingerichtet ist, das Substrat aus dem Aufnahmebereich herauszubringen oder in diesen hineinzubringen.According to various embodiments, the transport arrangement may further comprise: a manipulator device which is set up to bring the substrate out of the receiving area or into it.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Manipulatorvorrichtung eingerichtet sein, die magnetische Wechselwirkung aufzuheben und/oder herzustellen (z.B. wiederherzustellen). According to various embodiments, a manipulator device may be configured to cancel and / or establish (eg, restore) the magnetic interaction.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Manipulatorvorrichtung eingerichtet sein, einen Abstand zwischen dem Maskenhalter und der Beschichtungsmaske zum Aufheben und/oder Herstellen (z.B. Wiederherstellen) einer mittels der magnetischen Wechselwirkung bewirkten Kupplung zwischen der Beschichtungsmaske und dem Maskenhalter zu verändern.According to various embodiments, a manipulator device may be configured to vary a distance between the mask holder and the plating mask for canceling and / or establishing (e.g., restoring) a magnetic interaction-induced coupling between the plating mask and the mask holder.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Manipulatorvorrichtung eingerichtet sein, den Maskenhalter zum Aufheben der Kupplung von dem Aufnahmebereich weg zu verlagern (d.h. von diesem wegzubewegen, z.B. zu entfernen) und/oder zum Herstellen (z.B. Wiederherstellen) der Kupplung an diesen anzunähern (d.h. zu diesem hinzubewegen, z.B. auf diesen aufzulegen).According to various embodiments, the manipulator device may be configured to displace (ie, move away from, eg, remove) the mask holder to release the clutch and / or to approach (ie, move toward) the clutch therefrom to hang on it, for example).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumanordnung Folgendes aufweisen: eine Transportanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen; und eine Vakuumkammer, in welcher der Transportpfad angeordnet ist.According to various embodiments, a vacuum assembly may include: a transport assembly according to various embodiments; and a vacuum chamber in which the transport path is arranged.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Vakuumanordnung ferner Folgendes aufweisen: eine Beschichtungsmaterialquelle, welche eingerichtet ist, ein Beschichtungsmaterial in Richtung des Transportpfades zu emittieren.According to various embodiments, the vacuum assembly may further include: a source of coating material configured to emit a coating material in the direction of the transport path.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Beschichtungsmaterialquelle einen thermischen Verdampfer aufweisen oder daraus gebildet sein.According to various embodiments, the coating material source may include or be formed from a thermal evaporator.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren Folgendes aufweisen: Klemmen eines Substrats in einem Aufnahmebereich eines Substratträgers, so dass das Substrat vorfixiert ist; und Anlegen einer Beschichtungsmaske an das eingeklemmte Substrat mittels einer magnetischen Wechselwirkung, welche auf die Beschichtungsmaske wirkt.According to various embodiments, a method may include: clamping a substrate in a receiving area of a substrate carrier so that the substrate is pre-fixed; and applying a coating mask to the clamped substrate by means of a magnetic interaction acting on the coating mask.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Verfahren ferner aufweisen: Vor- und/oder Nachspannen der Beschichtungsmaske. Das Vor- und/oder Nachspannen Beschichtungsmaske kann beispielsweise aufweisen, die Beschichtungsmaske mittels einer federelastischen Rückstellkraft zu spannen und/oder die Beschichtungsmaske mittels der federelastischen Rückstellkraft zu dehnen.According to various embodiments, the method may further include: pre and / or post-tensioning of the coating mask. The pre-and / or post-tensioning coating mask may, for example, have to tension the coating mask by means of a resilient restoring force and / or to stretch the coating mask by means of the resilient restoring force.

Das Anlegen der Beschichtungsmaske und/oder das Vor- und/oder Nachspannen der Beschichtungsmaske kann eine Krümmung der Beschichtungsmaske verringern.The application of the coating mask and / or the pre-and / or post-tensioning of the coating mask can reduce a curvature of the coating mask.

Das Verfahren kann ferner aufweisen: Beschichten des Substrats durch die Beschichtungsmaske (z.B. deren Durchgangsöffnungen) hindurch. Beispielsweise kann ein Beschichtungsmaterial durch Beschichtungsmaske (z.B. deren Durchgangsöffnungen) hindurch emittiert werden.The method may further comprise: coating the substrate through the coating mask (e.g., through-openings thereof). For example, a coating material may be emitted through coating masks (e.g., their through-holes).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Anlegen der Beschichtungsmaske aufweisen, ein magnetisiertes und/oder magnetisierbares Material, z.B. eine Magnetfeldquelle (z.B. einen Maskenhalter) aufweisend, an die Beschichtungsmaske anzunähern.According to various embodiments, the application of the coating mask may comprise a magnetized and / or magnetizable material, e.g. a magnetic field source (e.g., a mask holder), to approach the coating mask.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Anlegen der Beschichtungsmaske aufweisen, die Beschichtungsmaske mittels einer magnetischen Wechselwirkung mit dem Maskenhalter zu kuppeln.According to various embodiments, the application of the coating mask may comprise coupling the coating mask to the mask holder by means of a magnetic interaction.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Klemmen aufweisen, ein Beschwerungselement (z.B. eine Gewichtsplatte) auf das Substrat aufzulegen.According to various embodiments, the clamping may include placing a weighting member (e.g., a weight plate) on the substrate.

Mittels der magnetischen Wechselwirkung kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen zwischen dem Maskenhalter und der Beschichtungsmaske eine Kraft (auch als Anziehungskraft bezeichnet) vermittelt werden, so dass sich diese gegenseitig anziehen. Übersteigt die Anziehungskraft eine die Beschichtungsmaske und Maskenhalters voneinander trennende Kraft (auch als Trennkraft bezeichnet), sind diese mittels der magnetischen Wechselwirkung miteinander gekuppelt (z.B. verbunden) ansonsten voneinander entkuppelt (z.B. gelöst).By means of the magnetic interaction, according to various embodiments, a force (also referred to as attractive force) between the mask holder and the coating mask can be imparted, so that they attract each other. If the force of attraction exceeds a force separating the coating mask and mask holder (also referred to as a separation force), they are coupled together (e.g., connected) by the magnetic interaction, otherwise decoupled (e.g., released) from each other.

Die Trennkraft kann der Anziehungskraft entgegen gerichtet sein (z.B. antiparallel) und von der Lage und/oder Ausrichtung des Maskenhalters und der Beschichtungsmaske definiert sein. Im Allgemeinen kann der Substrathalter in einer beliebigen Ausrichtung transportiert werden, z.B. vertikal stehend oder hängend, horizontal liegend und/oder in einer schrägen Ausrichtung dazwischen.The release force may be opposed to the attractive force (e.g., antiparallel) and defined by the location and / or orientation of the mask holder and the coating mask. In general, the substrate holder can be transported in any orientation, e.g. standing vertically or hanging, lying horizontally and / or in an oblique orientation in between.

Die Anziehungskraft kann beispielsweise von dem Abstand zwischen dem Maskenhalter und Beschichtungsmaske definiert sein und beispielsweise kleiner werden, je größer deren Abstand voneinander ist. Beispielsweise können der Maskenhalter und die Beschichtungsmaske miteinander gekuppelt werden, indem diese aneinander angenähert werden. Alternativ oder zusätzlich können der Maskenhalter und die Beschichtungsmaske voneinander gelöst werden, indem diese voneinander weg verlagern (z.B. entfernt) werden.For example, the attractive force may be defined by the distance between the mask holder and the coating mask, and may be smaller, for example, the greater their distance from each other. For example, the mask holder and the coating mask can be coupled together by approximating them to each other. Alternatively or additionally, the mask holder and the coating mask may be detached from one another by displacing them away from one another (e.g., removed).

Beispielsweise kann die Trennkraft zumindest teilweise von der Gravitation verursacht werden. Die Trennkraft kann beispielsweise eine Richtungskomponente der Gewichtskraft oder eines Teils der Gewichtskraft, welche antiparallel zur Anziehungskraft ist, sein.For example, the separation force may be at least partially caused by gravity. The separation force may, for example, a directional component of the weight or a part of the Weight, which is anti-parallel to the attraction, be.

Übersteigt die Anziehungskraft beispielsweise die Gewichtskraft der Beschichtungsmaske (wenn diese z.B. unterhalb des Maskenhalters angeordnet ist) und/oder des Maskenhalters (wenn dieser z.B. unterhalb der Beschichtungsmaske angeordnet ist), welche z.B. antiparallel zur Anziehungskraft sein kann, sind diese mittels der magnetischen Wechselwirkung miteinander gekuppelt. Optional kann auch ein Teil der Gewichtskraft der Beschichtungsmaske und/oder des Maskenhalters anderweitig aufgenommen werden, z.B. mittels eines Lagers. Beispielsweise kann mittels des Lagers die Beschichtungsmaske derart gelagert sein oder werden, z.B. vorgespannt, dass die Anziehungskraft kleiner sein kann als die Gewichtskraft der Beschichtungsmaske (oder zumindest eine Richtungskomponente der Gewichtskraft, welche parallel zur Anziehungskraft ist), um die Kupplung zu bewirken. Beispielsweise kann es ausreichen, einen verbleibenden Teil der Gewichtskraft der Beschichtungsmaske und/oder des Maskenhalters (oder zumindest eine Richtungskomponente des verbleibenden Teils, welche parallel zur Anziehungskraft ist) mittels der Anziehungskraft zu überwinden.For example, if the force of attraction exceeds the weight of the coating mask (if, for example, it is located below the mask holder) and / or the mask holder (if it is below the coating mask, for example), e.g. can be anti-parallel to the attraction, these are coupled together by means of the magnetic interaction. Optionally, some of the weight of the coating mask and / or the mask holder may also be otherwise absorbed, e.g. by means of a warehouse. For example, by means of the bearing, the coating mask may be or be stored in such a way, e.g. biased that the attraction force can be smaller than the weight of the coating mask (or at least a direction component of the weight, which is parallel to the attraction force), to effect the coupling. For example, it may be sufficient to overcome a remaining part of the weight of the coating mask and / or the mask holder (or at least a directional component of the remaining part, which is parallel to the attraction force) by means of the attraction force.

Beispielsweise kann die Trennkraft gleich der Gewichtskraft oder kleiner als diese (z.B. ungefähr 50%, 25% oder 10% der Gewichtskraft) sein.For example, the separation force may be equal to or less than the weight force (e.g., about 50%, 25%, or 10% of the weight force).

Das Aufheben der Kupplung zwischen Maskenhalter und Beschichtungsmaske kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen verstanden werden, als dass die magnetische Wechselwirkung (z.B. die Anziehungskraft) zwischen dem Maskenhalter und der Beschichtungsmaske soweit geschwächt (d.h. verringert) wird, dass diese sich voneinander lösen, beispielsweise wenn die von der magnetischen Wechselwirkung vermittelte Anziehungskraft zwischen dem Maskenhalter und der Beschichtungsmaske kleiner ist als die Trennkraft.Canceling the coupling between the mask holder and the coating mask may be understood in accordance with various embodiments as weakening (ie, decreasing) the magnetic interaction (eg, the attraction force) between the mask holder and the coating mask so that they separate from one another, for example, when that of the magnetic interaction mediated attraction between the mask holder and the coating mask is smaller than the separation force.

Das Herstellen der Kupplung zwischen Maskenhalter und Beschichtungsmaske kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen verstanden werden, als dass die magnetische Wechselwirkung (z.B. die Anziehungskraft) zwischen dem Maskenhalter und der Beschichtungsmaske soweit vergrößert wird, dass diese miteinander kuppeln, beispielsweise wenn die von der magnetischen Wechselwirkung vermittelte Anziehungskraft zwischen dem Maskenhalter und der Beschichtungsmaske der Beschichtungsmaske größer ist als die Trennkraft.Forming the coupling between the mask holder and the coating mask may be understood according to various embodiments as increasing the magnetic interaction (eg, the attraction force) between the mask holder and the plating mask to couple with each other, for example, when the magnetic force mediated by the magnetic interaction between the mask holder and the coating mask of the coating mask is greater than the separation force.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.Embodiments of the invention are illustrated in the figures and are explained in more detail below.

Es zeigen

1A einen Substratträger in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
1B eine Beschichtungsmaske-Haltestruktur in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
1C eine Beschichtungsmaske in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
2A eine Beschichtungsmaske-Haltestruktur in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
2B eine Klemmstruktur in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
2C,3A,3B,3C und4 jeweils einen Substratträger in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
5A,5B,5C,6A und6B jeweils eine Transportanordnung in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
7 eine Vakuumanordnung in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
8A und8B einen Substratträger in einer schematischen Perspektivansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
9 und10 einen Substratträger in verschiedenen schematischen Perspektivansichten gemäß verschiedenen Ausführungsformen; und
11,12,13 und14 einen Substratträger in einem Verfahren gemäß verschiedenen Ausführungsformen.

Show it

1A a substrate carrier in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments;
1B a coating mask holding structure in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments;
1C a coating mask in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments;
2A a coating mask holding structure in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments;
2 B a clamping structure in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments;
2C . 3A . 3B . 3C and 4 each a substrate carrier in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments;
5A . 5B . 5C . 6A and 6B each a transport arrangement in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments;
7 a vacuum arrangement in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments;
8A and 8B a substrate carrier in a schematic perspective view according to various embodiments;
9 and 10 a substrate carrier in various schematic perspective views according to various embodiments; and
11 . 12 . 13 and 14 a substrate carrier in a method according to various embodiments.

In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which is shown by way of illustration specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "rear", etc. is used with reference to the orientation of the described figure (s). Because components of embodiments can be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is illustrative and is in no way limiting. It is understood that other embodiments are used and structural or logical Changes may be made without departing from the scope of the present invention. It should be understood that the features of the various exemplary embodiments described herein may be combined with each other unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.

Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe „verbunden“, „angeschlossen“ sowie „gekoppelt“ verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung (z.B. ohmsch und/oder elektrisch leitfähig, z.B. einer elektrisch leitfähigen Verbindung), eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.In the context of this description, the terms "connected", "connected" and "coupled" are used to describe both a direct and an indirect connection (eg ohmic and / or electrically conductive, eg an electrically conductive connection), a direct or indirect connection and a direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference numerals, as appropriate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Begriff „gekoppelt“ oder „Kopplung“ im Sinne einer (z.B. mechanischen, hydrostatischen, thermischen und/oder elektrischen), z.B. direkten oder indirekten, Verbindung und/oder Wechselwirkung verstanden werden. Mehrere Elemente können beispielsweise entlang einer Wechselwirkungskette miteinander gekoppelt sein (z.B. ein Antrieb, wie ein Hubkolben, und die Ventilklappe). Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann „gekuppelt“ im Sinne einer magnetischen und/oder mechanischen (z.B. körperlichen bzw. physikalischen) Kopplung verstanden werden, z.B. mittels eines direkten körperlichen Kontakts und/oder mittels einer magnetischen Wechselwirkung. Eine Kupplung kann beispielsweise eingerichtet sein, eine mechanische Wechselwirkung (z.B. Kraft, Drehmoment, etc.) zu übertragen, z.B. mittels der magnetischen Wechselwirkung.According to various embodiments, the term "coupled" or "coupling" may be used in the sense of (e.g., mechanical, hydrostatic, thermal and / or electrical), e.g. direct or indirect, connection and / or interaction. For example, multiple elements may be coupled together along an interaction chain (e.g., a drive such as a reciprocating piston and the valve flap). According to various embodiments, "coupled" may be understood to mean magnetic and / or mechanical (e.g., physical) coupling, e.g. by means of direct physical contact and / or by means of a magnetic interaction. For example, a clutch may be configured to transmit a mechanical interaction (e.g., force, torque, etc.), e.g. by means of magnetic interaction.

Ein Magnetmaterial (auch als Magnetwerkstoff bezeichnet) kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen ein magnetisiertes Material (d.h. eine Magnetisierung aufweisend) aufweisen und beispielsweise als zumindest ein Magnet (z.B. Dauermagnet und/oder Hartmagnet) eingerichtet sein. Das Magnetmaterial (bzw. der oder jeder Magnet) kann ein beispielsweise hartmagnetisches (z.B. ferromagnetisches) Material aufweisen, z.B. eine chemische Verbindung (z.B. eine Legierung) oder einen Ferrit. Alternativ oder zusätzlich kann das Magnetmaterial (bzw. der oder jeder Magnet) beispielsweise eine Koerzitivfeldstärke größer als ungefähr 500 Kiloampere pro Meter (kA/m) aufweisen, z.B. größer als ungefähr 1000 kA/m.A magnetic material (also referred to as a magnetic material) may, according to various embodiments, comprise a magnetized material (i.e., having magnetization) and be configured, for example, as at least one magnet (e.g., permanent magnet and / or hard magnet). The magnetic material (or the or each magnet) may comprise, for example, hard magnetic (e.g., ferromagnetic) material, e.g. a chemical compound (e.g., an alloy) or a ferrite. Alternatively or additionally, the magnetic material (or the or each magnet) may, for example, have a coercive force greater than about 500 kiloamperes per meter (kA / m), e.g. greater than about 1000 kA / m.

Die chemische Verbindung des Magnetmaterials kann ein Seltenerdmetall (wie z.B. Neodym, Samarium, Praseodym, Dysprosium, Terbium und/oder Gadolinium), Eisen, Kobalt und/oder Nickel aufweisen oder daraus gebildet sein. Beispielsweise kann das Magnetmaterial (bzw. der oder jeder Magnet) zumindest Neodym, Eisen und/oder Bor aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine chemische Verbindung daraus. Alternativ oder zusätzlich kann das Magnetmaterial (bzw. der oder jeder Magnet) zumindest Aluminium, Nickel und/oder Kobalt aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine chemische Verbindung daraus. Alternativ oder zusätzlich kann das Magnetmaterial (bzw. der oder jeder Magnet) zumindest Samarium und/oder Kobalt aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine chemische Verbindung daraus.The chemical compound of the magnetic material may include or may be formed of a rare earth metal (such as neodymium, samarium, praseodymium, dysprosium, terbium and / or gadolinium), iron, cobalt and / or nickel. For example, the magnetic material (or the or each magnet) may comprise or be formed of at least neodymium, iron and / or boron, e.g. a chemical compound of it. Alternatively or additionally, the magnetic material (or the or each magnet) may comprise or be formed from at least aluminum, nickel and / or cobalt, e.g. a chemical compound of it. Alternatively or additionally, the magnetic material (or the or each magnet) may comprise or be formed from at least samarium and / or cobalt, e.g. a chemical compound of it.

Beispielsweise kann das Magnetmaterial ein Seltenerdmagnetmaterial (wie Neodym-Eisen-Bor (NdFeB) oder Samarium-Kobalt (SmCo)), ein Ferrit-Magnetmaterial (z.B. ein Hartferrit-Magnetmaterial), ein Bismanol-Magnetmaterial und/oder ein Aluminium-Nickel-Kobalt-Magnetmaterial aufweisen oder daraus gebildet sein. Beispielsweise kann ein oder jeder Magnet einen Seltenerdmagnet (wie Neodym-Eisen-Bor (NdFeB)) oder Samarium-Kobalt (SmCo)), einen Ferrit-Magnet (z.B. Hartferrit-Magnet), einen Bismanol-Magnet und/oder einen Aluminium-Nickel-Kobalt-Magnet aufweisen oder daraus gebildet sein.For example, the magnetic material may be a rare earth magnetic material (such as neodymium-iron-boron (NdFeB) or samarium-cobalt (SmCo)), a ferrite magnetic material (eg, a hard ferrite magnetic material), a bismanol magnetic material and / or an aluminum-nickel-cobalt -Magnetic material or be formed therefrom. For example, one or each magnet may be a rare earth magnet (such as neodymium-iron-boron (NdFeB)) or samarium-cobalt (SmCo), a ferrite magnet (eg, hard ferrite magnet), a bismanol magnet, and / or an aluminum-nickel Cobalt magnet have or be formed from it.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Substrat (z.B. ein plattenförmiges Substrat) zumindest eines von Folgendem aufweisen oder daraus gebildet sein: eine Keramik, ein Glas, einen Halbleiter (z.B. einen amorphen, polykristallinen oder einkristallinen Halbleiter, z.B. Silizium), ein (z.B. unmagnetisches) Metall (z.B. Aluminium, Kupfer, Platin, Gold, etc.), ein Polymer (z.B. Kunststoff) und/oder eine Mischung verschiedener Materialien, wie z.B. ein Verbundwerkstoff (z.B. Kohlenstofffaser-verstärkter-Kohlenstoff, oder Kohlenstofffaser-verstärkter-Kunststoff). Alternativ oder zusätzlich kann das Substrat ein unmagnetisches Material aufweisen oder daraus gebildet sein.According to various embodiments, the substrate (eg a plate-shaped substrate) may comprise or be formed from at least one of a ceramic, a glass, a semiconductor (eg an amorphous, polycrystalline or monocrystalline semiconductor, eg silicon), a (eg non-magnetic) metal (Eg aluminum, copper, platinum, gold, etc.), a polymer (eg plastic) and / or a mixture of different materials, such as a composite material (e.g., carbon fiber reinforced carbon, or carbon fiber reinforced plastic). Alternatively or additionally, the substrate may comprise or be formed from a non-magnetic material.

Im Rahmen dieser Beschreibung kann ein Metall (auch als metallischer Werkstoff bezeichnet) zumindest ein metallisches Element (d.h. ein oder mehrere metallische Elemente) aufweisen (oder daraus gebildet sein), z.B. zumindest ein Element aus der Folgenden Gruppe von Elementen: Kupfer (Cu), Eisen (Fe), Titan (Ti), Nickel (Ni), Silber (Ag), Chrom (Cr), Platin (Pt), Gold (Au), Magnesium (Mg), Aluminium (Al), Zirkonium (Zr), Tantal (Ta), Molybdän (Mo), Wolfram (W), Vanadium (V), Barium (Ba), Indium (In), Calcium (Ca), Hafnium (Hf), Samarium (Sm), Silber (Ag), und/oder Lithium (Li). Ferner kann ein Metall eine metallische Verbindung (z.B. eine intermetallische Verbindung oder eine Legierung) aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine Verbindung aus zumindest zwei metallischen Elementen (z.B. aus der Gruppe von Elementen), wie z.B. Bronze oder Messing, oder z.B. eine Verbindung aus zumindest einem metallischen Element (z.B. aus der Gruppe von Elementen) und mindestens einem nichtmetallischen Element (z.B. Kohlenstoff), wie z.B. Stahl.In the context of this description, a metal (also referred to as a metallic material) may comprise (or be formed from) at least one metallic element (ie one or more metallic elements), eg at least one element from the following group of elements: copper (Cu), Iron (Fe), titanium (Ti), nickel (Ni), silver (Ag), chromium (Cr), platinum (Pt), gold (Au), magnesium (Mg), aluminum (Al), zirconium (Zr), Tantalum (Ta), molybdenum (Mo), tungsten (W), vanadium (V), barium (Ba), indium (In), calcium (Ca), hafnium (Hf), samarium (Sm), silver (Ag), and / or lithium (Li). Furthermore, a metal may comprise or be formed from a metallic compound (eg an intermetallic compound or an alloy), eg a compound of at least two metallic elements (eg from the group of elements), such as bronze or brass, or eg a compound of at least one metallic element (eg from the group of elements) and at least one non-metallic element (eg carbon), such as steel.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird ein vereinfachter Austausch der Maske bei Verschleiß bereitgestellt.According to various embodiments, a simplified replacement of the mask upon wear is provided.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine nachspannbare magnetische Beschichtungsmaske bereitgestellt zur spaltfreien Anlage an die zu beschichtende Seite (auch als Beschichtungsfläche bezeichnet) des Substrats.According to various embodiments, a post-strainable magnetic coating mask is provided for nip-free abutment against the side to be coated (also referred to as a coating surface) of the substrate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine mechanische Ausrichtung des Substrats an einer Ausrichtungsstruktur (z.B. deren Anlageflächen) bereitgestellt.According to various embodiments, mechanical alignment of the substrate to an alignment structure (e.g., its abutment surfaces) is provided.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird ein Verrückungsschutz des Substrats beim Ausrichten und Aufsetzen des Beschwerungselements (z.B. der Gewichtsplatte) bereitgestellt.According to various embodiments, anti-rotation protection of the substrate is provided in aligning and seating the weighting member (e.g., the weight plate).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird ein Substratträger (auch als Carrier bezeichnet) bereitgestellt, welcher die exakte Beschichtung von Substraten über eine vorgesetzte Maske (auch als Beschichtungsmaske bezeichnet) ermöglicht. Mehrere solcher Carrier können mittels eines geschlossenen Carrier-Returnsystem transportiert sein oder werden, welches die Beschichtung des Substrats im Hochvakuum und eine Rückführung der Carrier unter Schutzgas bereitstellt.According to various embodiments, a substrate carrier (also referred to as carrier) is provided which enables the exact coating of substrates via a pre-set mask (also referred to as a coating mask). Several such carriers may or may be transported by means of a closed-carrier return system, which provides the coating of the substrate in a high vacuum and a return of the carrier under inert gas.

Der Substratwechsel kann beispielsweise im Hochvakuum und/oder unter Schutzgas erfolgen.The substrate change can be carried out, for example, under high vacuum and / or under protective gas.

Der Carrier kann zumindest zwei Baugruppen aufweisen, von denen eine erste Baugruppe einem Rahmen mit der Maske aufweist und eine zweite Baugruppe einen Maskenhalter (z.B. eine Magnetplatte aufweisend oder daraus gebildet, d.h. eine Platte mit mehreren Magneten) mit einem schwimmend (auch als fliegend bezeichnet) darunter gehangenen Beschwerungselement (z.B. einer Gewichtsplatte) aufweist.The carrier may have at least two subassemblies, one of which has a frame with the mask and a second subassembly has a mask holder (eg a magnetic disk comprising or formed therefrom, ie a disk with multiple magnets) with a floating (also referred to as flying) underneath hung weighting element (eg a weight plate).

Der Rahmen kann die, z.B. über zwei Seiten, nachspannbare Maske tragen.The frame may be the one, e.g. wear on two sides, retensionable mask.

Der Maskenhalter (z.B. die Magnetplatte) kann zum Substratwechsel in einer Pin-Führung vom Rahmen (mit der Maske) abgehoben sein oder werden.The mask holder (e.g., the magnetic disk) may be lifted from the frame (with the mask) for substrate change in a pin guide.

Bei der Trennung kann zuerst ein Anheben des Maskenhalters (z.B. der Magnetplatte) von dem Beschwerungselement erfolgen und danach das fliegend daran hängende (anschaulich aufgehangen) Beschwerungselement (z.B. die Gewichtsplatte) mittels des Maskenhalters angehoben (anschaulich nachgezogen) sein oder werden. Das Beschwerungselement kann so lange auf dem Substrat liegen bleiben, bis die Anziehungskraft (auch als Magnetkraft bezeichnet) zwischen Maske und Maskenhalter aufgehoben ist.Upon separation, the mask holder (e.g., the magnetic disk) may first be lifted from the weighting member and thereafter the flying weight (e.g., weight plate) hanging thereon suspended (illustratively suspended) by the mask holder. The weighting element may remain on the substrate until the attractive force (also referred to as magnetic force) between the mask and the mask holder is removed.

Damit kann verhindert werden, dass sich die Maske nach oben durchbiegt und dabei das Substrat verschiebt.This can be prevented that the mask bends upwards and thereby shifts the substrate.

Beispielsweise kann der Abstand zwischen dem Maskenhalter und der Beschichtungsmaske, welchen die Verbindungsstruktur begrenzt, derart eingerichtet sein, dass bei dem Abstand die Trennkraft größer ist als die Anziehungskraft.For example, the distance between the mask holder and the coating mask, which limits the connection structure, may be arranged such that at the distance the separation force is greater than the attraction force.

Im getrennten Zustand kann der Substratwechsel erfolgen.In the separated state, the substrate change can take place.

Die Substratausrichtung kann mittels eines Handlersystems (auch als Manipulatorvorrichtung bezeichnet) erfolgen, welches das Substrat unmittelbar über der Maske gegen mehrere (z.B. drei) Pins in Anlage bringt (d.h. daran ausrichtet).Substrate alignment may be accomplished by a handler system (also referred to as a manipulator device) which abuts (i.e., aligns) the substrate immediately above the mask against a plurality of (e.g., three) pins.

Der Verrückungsschutz des Substrates kann mittels über der Maske herausstehenden Gummiauflagen bereitgestellt sein oder werden. Die Gummiauflagen können sich bei Auflage des Substrates und der Gewichtsplatte absenken und/oder komprimiert werden.The anti-rotation protection of the substrate can be provided by means of rubber pads protruding above the mask. The rubber pads can be lowered and / or compressed when the substrate and the weight plate.

Unter der Beschichtungsmaske können noch eine Abschirmstruktur (z.B. eine Wärmeschutzmaske aufweisend oder daraus gebildet) und optional mehrere Profile angeordnet sein oder werden. Diese bewirken eine Reduzierung der Wärmelast auf die Beschichtungsmaske und/oder auf das Substrat.Under the coating mask, a shielding structure (e.g., having or forming a heat shield) and optionally a plurality of profiles may be arranged. These cause a reduction of the heat load on the coating mask and / or on the substrate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Reduzierung der thermischen Belastung des Substrats bereitgestellt.According to various embodiments, a reduction of the thermal load of the substrate is provided.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Querschnittsfläche des Substrats (z.B. eine zu beschichtende Fläche des Substrats), des Aufnahmebereichs und/oder des Beschwerungselements mehr als ungefähr 0,1 m² (Quadratmeter) aufweisen, z.B. mehr als ungefähr 0,2 m², und/oder weniger als 0,5 m². Beispielsweise können das Substrat, das Beschwerungselement und/oder der Aufnahmebereich eine Längserstreckung von mehr als ungefähr 0,1 m (Meter) aufweisen, z.B. mehr als ungefähr 0,2 m, z.B. mehr als ungefähr 0,3 m, z.B. mehr als oder gleich zu ungefähr 0,4 m und/oder kleiner als 1 m.According to various embodiments, a cross-sectional area of the substrate (eg, a surface of the substrate to be coated), the receiving area, and / or the weighting element may be more than about 0.1 m² (square meter), eg, more than about 0.2 m² , and / or less than 0.5 m² . For example, the substrate, the weighting element and / or the receiving area may have a longitudinal extent of more than about 0.1 m (meter), for example more than about 0.2 m, for example more than about 0.3 m, for example more than or equal to to about 0.4 m and / or less than 1 m.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das weichmagnetische Material (z.B. der oder die Beschichtungsmaske) eine Legierung aufweisend Eisen, Nickel und/oder Cobalt, einen Pulverwerkstoff und/oder einen Weichferrit (z.B. Nickelzinn und/oder Manganzinn aufweisend) aufweisen oder daraus gebildet sein. Alternativ oder zusätzlich kann das hartmagnetische Material (z.B. des Maskenhalters oder der Maskenhalter) Kobalt-Samarium, Neodym-Eisen-Bor (NdFeB), eine Aluminium-Nickel-Cobalt-Legierung, einen Hartferrit (z.B. Barium und/oder Strontium aufweisend), eine Platin-Cobalt-Legierung, eine Kupfer-Nickel-Eisen-Legierung, eine Kupfer-Nickel-Cobalt-Legierung, eine Eisen-Cobalt-Chrom-Legierung, einen martensitischen Stahl und/oder eine Mangen-Aluminium-Kohlenstoff-Legierung aufweisen oder daraus gebildet sein. According to various embodiments, the soft magnetic material (eg, the or the coating mask) may include or be formed from an alloy comprising iron, nickel and / or cobalt, a powder material and / or a soft ferrite (eg nickel tin and / or manganese tin). Alternatively or additionally, the hard magnetic material (eg, the mask holder or the mask holder) may include cobalt samarium, neodymium-iron-boron (NdFeB), an aluminum-nickel-cobalt alloy, a hard ferrite (eg, barium and / or strontium) Platinum-cobalt alloy, a copper-nickel-iron alloy, a copper-nickel-cobalt alloy, an iron-cobalt-chromium alloy, a martensitic steel and / or a Mangen aluminum-carbon alloy or from it be formed.

Eine Magnetfeldquelle kann verstanden werden, als ein Element, Material oder Körper, welcher ein Magnetfeld erzeugt und/oder eingerichtet ist, ein Magnetfeld zu erzeugen. Die Magnetfeldquelle kann beispielsweise ein hartmagnetisches Material, welches magnetisiert ist, aufweisen oder daraus gebildet sein. Das hartmagnetische Material kann beispielsweise einen oder mehrere Dauermagneten bereitstellen.A magnetic field source may be understood to be an element, material or body that generates and / or is configured to generate a magnetic field. For example, the magnetic field source may include or may be formed from a hard magnetic material that is magnetized. The hard magnetic material may, for example, provide one or more permanent magnets.

1A veranschaulicht einen Substratträger100a in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. mit Blickrichtung entlang dessen Längserstreckung und/oder Breitenerstreckung. 1A illustrates asubstrate carrier 100a in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments, eg with a view along the longitudinal extent and / or width extension.

Der Substratträger100a kann einen (z.B. flächigen) Aufnahmebereich 113 zum Aufnehmen eines Substrats aufweisen. Ferner kann der Substratträger100a eine (mehrteilige) Beschichtungsmaske-Haltestruktur 104, 106 aufweisen, welche eine Beschichtungsmaske104 und einen Maskenhalter106 aufweist. Die Beschichtungsmaske104 und der Maskenhalter106 können eingerichtet sein, auf gegenüberliegenden Seiten des Aufnahmebereichs 113 angeordnet zu werden.Thesubstrate carrier 100a may comprise a (eg flat) receivingarea 113 for receiving a substrate. Furthermore, thesubstrate carrier 100a a (multi-part) coatingmask holding structure 104, 106 which acoating mask 104 and amask holder 106 having. Thecoating mask 104 and themask holder 106 may be arranged to be arranged on opposite sides of the receivingarea 113.

Ferner kann der Substratträger100a eine Klemmstruktur108 aufweisen, welche eingerichtet ist, eine Klemmkraft auf das Substrat in dem Aufnahmebereich113 zu übertragen, so dass dieses mittels der Klemmkraft in dem Aufnahmebereich113 geklemmt wird und dadurch vorfixiert ist.Furthermore, thesubstrate carrier 100a a clampingstructure 108 which is arranged, a clamping force on the substrate in the receivingarea 113 so that this by means of the clamping force in the receivingarea 113 is clamped and thereby prefixed.

Die Klemmstruktur108 kann eingerichtet sein, zwischen zumindest zwei Konfigurationen verstellt (auch als „Klemmen des Substrats“ und „Aufheben des Klemmens“ bezeichnet) zu werden (z.B. mittels Verstellens der Klemmstruktur108), von denen in einer ersten Konfiguration (auch als Klemm-Konfiguration bezeichnet) das Substrat geklemmt wird und in einer zweiten Konfiguration (auch als Wechsel-Konfiguration bezeichnet) das Substrat im Wesentlichen kräftefrei und/oder verlagerbar ist. In der Wechsel-Konfiguration kann beispielsweise das Substrat in den Aufnahmebereich113 hinein und/oder aus diesem herausgebracht werden, wie später noch genauer beschrieben wird.The clampingstructure 108 may be configured to be displaced between at least two configurations (also referred to as "clamping the substrate" and "releasing the clamp") (eg, by adjusting the clamp structure 108 ), of which in a first configuration (also referred to as clamping configuration) the substrate is clamped and in a second configuration (also referred to as a change configuration) the substrate is substantially free of forces and / or displaceable. In the change configuration, for example, the substrate may be in the receivingarea 113 into and / or out of it, as will be described in more detail later.

Die Beschichtungsmaske104 und der Maskenhalter106 können zum magnetischen Wechselwirken miteinander eingerichtet sein derart, dass der Maskenhalter106 mittels der magnetischen Wechselwirkung 115 an den Aufnahmebereich113 angelegt (z.B. dabei verformt) und dort gehalten werden kann, z.B. entgegen seiner Gewichtskraft. Beispielsweise kann die magnetische Wechselwirkung 115 zwischen der Beschichtungsmaske104 und dem Maskenhalter106 derart stark eingerichtet sein, dass diese mittels der magnetischen Wechselwirkung115 miteinander gekuppelt (z.B. verbunden) und auch wieder voneinander entkuppelt (z.B. gelöst und/oder getrennt) werden können.Thecoating mask 104 and themask holder 106 may be arranged for magnetic interaction with each other such that themask holder 106 by means of themagnetic interaction 115 to the receivingarea 113 created (eg deformed) and can be held there, eg contrary to its weight. For example, themagnetic interaction 115 between thecoating mask 104 and themask holder 106 be set up so strong that these by means of themagnetic interaction 115 coupled together (eg connected) and also decoupled from each other (eg solved and / or separated) can be.

Im Allgemeinen kann die magnetische Wechselwirkung115 auf verschiedene Arten bereitgestellt sein oder werden, z.B. zwischen einer Magnetfeldquelle (auch als Magnet bezeichnet) und einem magnetisierbaren Material oder zwischen zwei Magnetfeldquellen. Beispielsweise können die Beschichtungsmaske 104 und/oder der Maskenhalter106 eine Magnetfeldquelle aufweisen. Alternativ oder zusätzlich kann die Beschichtungsmaske104 oder der Maskenhalter106 ein magnetisierbares Material aufweisen. Die Magnetfeldquelle kann beispielsweise mittels eines magnetisierten Materials bereitgestellt sein oder werden.In general, themagnetic interaction 115 be provided in various ways, for example between a magnetic field source (also referred to as a magnet) and a magnetizable material or between two magnetic field sources. For example, thecoating mask 104 and / or themask holder 106 have a magnetic field source. Alternatively or additionally, thecoating mask 104 or themask holder 106 have a magnetizable material. The magnetic field source may be provided by means of, for example, a magnetized material.

Das magnetisierbare Material und/oder magnetisierte Material kann im Allgemeinen ein Material sein, welches in seiner Magnetisierung (d.h. dessen magnetische Ordnung) einem äußeren Magnetfeld folgt, so dass das Magnetfeld (d.h. dessen Flussdichte) in dessen Inneren stärker ist als außerhalb. Das magnetisierbare Material kann mittels eines externen Magnetfelds und/oder mittels eines Stromflusses magnetisiert werden, so dass sich die magnetische Flussdichte in ihrem Inneren im Vergleich zum Außenraum erhöht, wodurch auf dieses eine Anziehungskraft wirkt, welche das magnetisierbare Material in Richtung der höheren Feldstärke (anschaulich „in das Magnetfeld hinein“) zieht, z.B. zu der Magnetfeldquelle hin.The magnetizable material and / or magnetized material may generally be a material which follows in its magnetization (i.e., its magnetic order) an external magnetic field, so that the magnetic field (i.e., its flux density) is stronger inside than outside. The magnetizable material can be magnetized by means of an external magnetic field and / or by means of a current flow, so that the magnetic flux density increases in its interior compared to the outer space, thereby acting on this an attractive force, the magnetizable material in the direction of the higher field strength (vivid "Into the magnetic field"), eg towards the magnetic field source.

Die magnetische Permeabilität des magnetisierbaren Materials und/oder des magnetisierten Materials kann beispielsweise größer sein als ungefähr 10, z.B. größer als ungefähr 10², z.B. größer als ungefähr 10³, z.B. größer als ungefähr 10⁴, z.B. größer als ungefähr 10⁵, z.B. größer als ungefähr 10⁶.The magnetic permeability of the magnetizable material and / or the magnetized material may for example be greater than about 10, eg greater than about 10² , eg greater than about 10³ , eg greater than about 10⁴ , eg greater than about 10⁵ , eg greater than about 10⁶ .

Beispielsweise kann das magnetisierbare Material ein (z.B. weichmagnetisches) ferromagnetisches Material und/oder ein (z.B. weichmagnetisches) ferrimagnetisches Material aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. ferromagnetischen Stahl. Beispielsweise kann das magnetisierte Material ein (z.B. hartmagnetisches) ferromagnetisches Material und/oder ein (z.B. hartmagnetisches) ferrimagnetisches Material aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. ein Magnetmaterial. By way of example, the magnetizable material may comprise or be formed from a ferromagnetic material (for example soft magnetic) and / or a ferrimagnetic material (for example soft magnetic), for example ferromagnetic steel. For example, the magnetized material may comprise or be formed from a ferromagnetic material (eg, hard magnetic) and / or a ferrimagnetic material (eg, hard magnetic material), eg, a magnetic material.

Beispielsweise kann das Material des Maskenhalters106 und/oder der Beschichtungsmaske104 zumindest Eisen aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine (z.B. magnetisierbare) Legierung (z.B. Stahl), welche Eisen aufweist.For example, the material of themask holder 106 and / or thecoating mask 104 at least iron or be formed therefrom, for example a (eg magnetizable) alloy (eg steel), which has iron.

Das magnetisierte Material kann eingerichtet sein, ein (z.B. dauerhaftes) Magnetfeld erzeugen, d.h. eine Magnetfeldquelle bereitzustellen. Zwar kann das magnetisierbare Material eine Restmagnetisierung aufweisen, und dadurch ebenfalls selbst ein (anschaulich geringes) Magnetfeld erzeugen. Allerdings kann dessen Magnetisierung mittels des magnetisierten Materials verändert werden. Alternativ kann auch das magnetisierbare Material als Magnetfeldquelle wirken, z.B. indem dieses Teil eines Elektromagnets ist (mit anderen Worten kann die Magnetfeldquelle eine elektrische Magnetfeldquelle) sein.The magnetized material may be configured to generate a (e.g., permanent) magnetic field, i. to provide a magnetic field source. Although the magnetizable material can have a residual magnetization, and thereby also generate a (clearly low) magnetic field itself. However, its magnetization can be changed by means of the magnetized material. Alternatively, the magnetizable material may also act as a magnetic field source, e.g. by being part of an electromagnet (in other words, the magnetic field source may be an electric magnetic field source).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Beschichtungsmaske 104 und der Maskenhalter106 einen voneinander verschiedenen Typ magnetisches Material aufweisen, was die Konstruktion vereinfacht. Beispielsweise kann die Beschichtungsmaske das weichmagnetische und/oder magnetisierbare Material und der Maskenhalter106 kann das hartmagnetische und/oder magnetisierte Material aufweisen oder daraus gebildet sein (oder andersherum).According to various embodiments, thecoating mask 104 and themask holder 106 have a different type of magnetic material, which simplifies the construction. For example, the coating mask may be the soft magnetic and / or magnetizable material and themask holder 106 may include or be formed from the hard magnetic and / or magnetized material (or vice versa).

Ebenso können sowohl die Beschichtungsmaske104 als auch der Maskenhalter 106 denselben Typ magnetisches Material, z.B. das magnetisierte Material oder das magnetisierbare Material, aufweisen oder daraus gebildet sein.Likewise, both thecoating mask 104 and themask holder 106 have the same type of magnetic material, such as the magnetized material or the magnetizable material, or be formed therefrom.

Mittels der magnetischen Wechselwirkung115 kann die Beschichtungsmaske 104 in Richtung des Aufnahmebereichs113 gezogen werden. Mit anderen Worten kann die auf die Beschichtungsmaske 104 wirkende magnetische Anziehungskraft in Richtung des Aufnahmebereichs113 wirken.By means of themagnetic interaction 115 can thecoating mask 104 in the direction of the receivingarea 113 to be pulled. In other words, the magnetic attraction force acting on thecoating mask 104 may be toward the receivingarea 113 Act.

Die Klemmstruktur108 kann eine kleinere magnetische Permeabilität als der Maskenhalter06 und/oder als die Beschichtungsmaske 104 aufweisen, z.B. weniger als ungefähr 10, z.B. in einem Bereich von ungefähr 1 (z.B. größer 0,9) bis ungefähr 10 (auch als unmagnetisch oder amagnetisch bezeichnet).The clampingstructure 108 can have a smaller magnetic permeability than the mask holder 06 and / or as thecoating mask 104, eg, less than about 10, eg, in a range of about 1 (eg, greater than 0.9) to about 10 (also referred to as nonmagnetic or nonmagnetic).

Die Klemmstruktur108 kann beispielsweise ein paramagnetisches Material (wie beispielsweise Aluminium) und/oder ein diamagnetisches Material (wie beispielsweise Kupfer) aufweisen oder daraus gebildet sein. Die Klemmstruktur 108 kann alternativ oder zusätzlich Edelstahl aufweisen oder daraus gebildet sein.The clampingstructure 108 For example, it may comprise or be formed from a paramagnetic material (such as aluminum) and / or a diamagnetic material (such as copper). The clampingstructure 108 may alternatively or additionally comprise or be formed from stainless steel.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Anziehungskraft (z.B. wenn die Beschichtungsmaske104 und der Maskenhalter 106 miteinander gekuppelt sind) kleiner sein als die Klemmkraft (z.B. die Gewichtskraft des Beschwerungselements).According to various embodiments, the attractive force (eg, when thecoating mask 104 and themask holder 106 are coupled together) may be smaller than the clamping force (eg, the weight of the weighting member).

1B veranschaulicht eine Beschichtungsmaske-Haltestruktur100b in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. deren Beschichtungsmaske104 oder deren Maskenhalter106. 1B illustrates a coatingmask holding structure 100b in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments, for example, theircoating mask 104 or theirmask holder 106 ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Beschichtungsmaske 104 und/oder der Maskenhalter106 mehrere Magneten 124 aufweisen, welche das hartmagnetische Material (z.B. das Magnetmaterial) aufweisen oder daraus gebildet sind. Die mehreren Magneten124 können mittels einer Platte gehalten und/oder in diese eingebettet sein oder werden.According to various embodiments, thecoating mask 104 and / or the mask holder 106 a plurality ofmagnets 124, which have the hard magnetic material (eg the magnetic material) or are formed therefrom. Theseveral magnets 124 can be held by means of a plate and / or embedded in this or be.

Beispielsweise kann nur der Maskenhalter106 die mehreren Magneten 124 aufweisen oder daraus gebildet sein. Dann kann die Beschichtungsmaske104 das weichmagnetische Material aufweisen oder daraus gebildet sein (z.B. magnetischer Stahl). Dies vereinfacht die Konstruktion.For example, only themask holder 106 have the plurality ofmagnets 124 or be formed therefrom. Then thecoating mask 104 comprise or be formed from the soft magnetic material (eg magnetic steel). This simplifies the construction.

Die mehreren Magneten124 können beispielsweise eine Koerzitivfeldstärke größer als ungefähr 500 Kiloampere pro Meter (kA/m) aufweisen, z.B. größer als ungefähr 1000 kA/m, und/oder eine Material, welche ein Seltenerdmetall (wie z.B. Neodym, Samarium, Praseodym, Dysprosium, Terbium und/oder Gadolinium), Eisen, Kobalt und/oder Nickel aufweist.Theseveral magnets 124 For example, they may have a coercive force greater than about 500 kiloamperes per meter (kA / m), eg, greater than about 1000 kA / m, and / or a material containing a rare earth metal (such as neodymium, samarium, praseodymium, dysprosium, terbium, and / or or gadolinium), iron, cobalt and / or nickel.

Beispielsweise kann jeder Magnet der mehreren Magneten124 einen Seltenerdmagnet (wie Neodym-Eisen-Bor (NdFeB)) oder Samarium-Kobalt (SmCo)), einen Ferrit-Magnet (z.B. Hartferrit-Magnet), einen Bismanol-Magnet und/oder einen Aluminium-Nickel-Kobalt-Magnet aufweisen oder daraus gebildet sein.For example, each magnet of the plurality of magnets 124 a rare earth magnet (such as neodymium-iron-boron (NdFeB)) or samarium-cobalt (SmCo)), a ferrite magnet (eg, hard ferrite magnet), a bismanol magnet and / or an aluminum-nickel-cobalt magnet, or be formed from it.

Der Substratträger100a kann im Allgemeinen horizontal oder auch verschieden von horizontal (z.B. vertikal oder schräg) ausgerichtet sein oder werden, z.B. während das Substrat beschichtet wird. Die miteinander gekuppelte Beschichtungsmaske 104 und Maskenhalter106 können beispielsweise in jeder Ausrichtung des Substrathalters100a einander festhalten, z.B. entgegen deren Gewichtskraft.Thesubstrate carrier 100a may generally be horizontal or even different from horizontal (eg, vertical or oblique) or, for example, while the substrate is being coated. Theco-coupled coating mask 104 andmask holder 106 For example, in any orientation of thesubstrate holder 100a hold each other, for example, against their weight.

1C veranschaulicht eine Beschichtungsmaske104 in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 1C illustrates acoating mask 104 in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Beschichtungsmaske 104 mehrere (z.B. linienartige) Durchgangsöffnungen 104o aufweisen. Die Durchgangsöffnungen104o können in einem Muster (z.B. äquidistant zueinander) angeordnet sein oder werden. Durch die Durchgangsöffnungen104o hindurch kann ein Beschichtungsmaterial an das Substrat gelangen, mit dem das Substrat (strukturiert) beschichtet wird.According to various embodiments, thecoating mask 104 may include a plurality of (eg, line-like) through openings 104o. The passage openings 104o can be arranged in a pattern (eg equidistant to each other) or be. Through the passage openings 104o Through this, a coating material can reach the substrate with which the substrate is (structured) coated.

Beispielsweise kann die Beschichtungsmaske104 eine Lochmaske aufweisen oder daraus gebildet sein.For example, thecoating mask 104 have a shadow mask or be formed from it.

2A veranschaulicht eine Beschichtungsmaske-Haltestruktur200a in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 2A illustrates a coatingmask holding structure 200a in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments.

Der Aufnahmebereich113 kann, wenn der Maskenhalter106 und die Beschichtungsmaske104 mittels der magnetischen Wechselwirkung 115 miteinander gekuppelt sind oder zum Kuppeln dieser miteinander, zwischen dem Maskenhalter106 und der Beschichtungsmaske104 angeordnet sein oder werden. Die mittels der magnetischen Wechselwirkung115 auf die Beschichtungsmaske bewirkte Anziehungskraft Fa kann beispielsweise größer sein als die Gewichtskraft Fg der Beschichtungsmaske 104, wenn der Maskenhalter106 und die Beschichtungsmaske 104 mittels der magnetischen Wechselwirkung 115 miteinander gekuppelt sind.Therecording area 113 can if themask holder 106 and thecoating mask 104 are coupled together by means of themagnetic interaction 115 or for coupling these together, between themask holder 106 and thecoating mask 104 be arranged or become. The means ofmagnetic interaction 115 For example, the attractive force Fa applied to the coating mask may be greater than the weight Fg of thecoating mask 104 when themask holder 106 and thecoating mask 104 are coupled together by themagnetic interaction 115.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können der Maskenhalter106 und die Beschichtungsmaske104 in Richtung des Aufnahmebereichs 113 (z.B. gegen das Substrat darin) pressen mit der Anziehungskraft Fa.According to various embodiments, themask holder 106 and thecoating mask 104 in the direction of the receiving region 113 (for example, against the substrate therein) press with the attraction Fa.

Die Beschichtungsmaske-Haltestruktur200a kann im Allgemeinen horizontal oder auch verschieden von horizontal (z.B. vertikal oder schräg) ausgerichtet sein oder werden, z.B. während das Substrat beschichtet wird. Die miteinander gekuppelte Beschichtungsmaske104 und Maskenhalter106 können beispielsweise in jeder Ausrichtung des Substrathalters200c einander und/oder das Beschwerungselement204 festhalten.The coatingmask holding structure 200a may generally be horizontal or even different from horizontal (eg, vertical or oblique) or, for example, while the substrate is being coated. The coupledcoating mask 104 andmask holder 106 For example, in any orientation of thesubstrate holder 200c each other and / or theweighting element 204 hold tight.

2B veranschaulicht eine Klemmstruktur108 in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 2 B illustrates a clampingstructure 108 in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments.

Beispielsweise kann die Klemmstruktur108 zwischen dem Maskenhalter 106 und der Beschichtungsmaske104 angeordnet sein oder werden, wenn der Maskenhalter106 und die Beschichtungsmaske 104 miteinander gekuppelt sind oder gekuppelt werden sollen.For example, the clampingstructure 108 between themask holder 106 and thecoating mask 104 be arranged or when themask holder 106 and thecoating mask 104 are coupled together or are to be coupled.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Klemmstruktur eine Substrat-Auflagefläche202 aufweisen, welche den Aufnahmebereich 113 in Richtung der Beschichtungsmaske104 begrenzt. Das in dem Aufnahmebereich113 angeordnete Substrat kann in körperlichem Kontakt mit der Substrat-Auflagefläche202 sein, z.B. auf dieser aufliegend.According to various embodiments, the clamping structure may comprise asubstrate support surface 202 comprising the receivingarea 113 in the direction of thecoating mask 104 limited. That in thereception area 113 arranged substrate may be in physical contact with thesubstrate support surface 202 be, for example, on this superimposed.

Die Substrat-Auflagefläche202 kann mittels mehrerer Auflagesegmente 202a bereitgestellt sein oder werden.Thesubstrate support surface 202 may be provided by a plurality ofsupport segments 202a.

Beispielsweise kann die Substrat-Auflagefläche202 (bzw. die Auflagesegmente 202a) einen größeren Reibungskoeffizienten gegenüber dem Substrat aufweisen als die Beschichtungsmaske104. Damit kann eine Verschiebung des Substrats beim Anlegen der Beschichtungsmaske104 weiter gehemmt werden.For example, the substrate support surface 202 (or thesupport segments 202a) have a greater coefficient of friction with respect to the substrate than thecoating mask 104 , This can be a shift of the substrate when applying thecoating mask 104 be further inhibited.

Beispielsweise kann die Substrat-Auflagefläche202 (bzw. die Auflagesegmente 202a) mittels eines Polymers (z.B. eines Elastomers) bereitgestellt sein oder werden, z.B. eines Gummis oder eines Silikons. Beispielsweise können die Auflagesegmente 202a (z.B. Polymerauflagesegmente202a) das Polymer aufweisen oder daraus gebildet sein.For example, the substrate support surface 202 (or thesupport segments 202a) may be provided by means of a polymer (eg, an elastomer), eg, a rubber or a silicone. For example, thesupport segments 202a (eg,polymer support segments 202a ) comprise or be formed from the polymer.

Ferner kann die Klemmstruktur108 ein (z.B. plattenförmiges) Beschwerungselement 204, welches eingerichtet ist, zum Klemmen des Substrats eine Kraft (auch als Klemmkraft bezeichnet) auf das Substrat zu übertragen. Die Klemmkraft kann beispielsweise im Wesentlichen die Gewichtskraft des Beschwerungselements 204 sein. Alternativ oder zusätzlich können andere Krafterzeugungsmechanismen mittels der Klemmstruktur 108 bereitgestellt sein oder werden, z.B. mittels eines Federelements oder ähnlichem. Das gravitativ wirkende Beschwerungselement204 vereinfacht die Mechanik der Klemmstruktur 108.Furthermore, the clamping structure 108 a (eg plate-shaped)weighting element 204 which is adapted to transmit a force (also referred to as a clamping force) to the substrate for clamping the substrate. The clamping force may, for example, be substantially the weight of theweighting element 204. Alternatively or additionally, other force-generating mechanisms may be provided by means of the clampingstructure 108, for example by means of a spring element or the like. Thegravitational weighting element 204 simplifies the mechanics of the clampingstructure 108.

Beispielsweise kann das Beschwerungselement204 den Aufnahmebereich 113 zumindest teilweise abdecken.For example, theweighting element 204 Cover the receivingarea 113 at least partially.

Beispielsweise kann das Beschwerungselement204 ein unmagnetisches Material aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. unmagnetischen Stahl, Aluminium, Kupfer und/oder einen Kunststoff. Alternativ oder zusätzlich kann das Beschwerungselement 204 ein Gewicht (bzw. eine Gewichtskraft bereitstellen) aufweisen, welches zu einer Gewichtskraft korreliert von größer der Trennkraft, z.B. von größer dem 1,3-fachem der Trennkraft, und/oder größer als das Gewicht der Maskenhalter106.For example, theweighting element 204 have a non-magnetic material or be formed therefrom, for example non-magnetic steel, aluminum, copper and / or a plastic. Alternatively or additionally, theweighting member 204 may include a weight that correlates to a weight force greater than the separation force, eg, greater than 1.3 times the release force, and / or greater than the weight of themask holder 106 ,

Dazu kann der Aufnahmebereich113 zum Klemmen horizontal ausgerichtet sein oder werden. Sind die Beschichtungsmaske104 und der Maskenhalter106 miteinander gekuppelt, kann die Ausrichtung verändert werden. Beispielsweise kann das Substrat in dem Aufnahmebereich113 in einer horizontalen Ausrichtung oder aber auch in einer davon verschiedenen (z.B. vertikalen oder schrägen) Ausrichtung transportiert und/oder beschichtet sein oder werden.This can be therecording area 113 be oriented horizontally for clamping. Are thecoating mask 104 and themask holder 106 Coupled with each other, the alignment can be changed. For example, the substrate in the receivingarea 113 be transported in a horizontal orientation or in a different (eg vertical or oblique) orientation and / or be coated or be.

2C veranschaulicht einen Substratträger200c in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen (z.B. mit Blickrichtung entlang dessen Längserstreckung und/oder Breitenerstreckung), z.B. den vorangehend beschriebenen Substratträger100a. 2C illustrates asubstrate carrier 200c in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments (eg, viewed along the longitudinal extent and / or width extension), for example, the substrate carrier described above 100a ,

Der Substratträger200c kann eine Verbindungsstruktur208 aufweisen, welche das Beschwerungselement204 mit dem Maskenhalter 106 (z.B. mechanisch) verbindet, z.B. zu einer zusammenhängenden Baugruppe. Die Verbindungsstruktur208 kann das Beschwerungselement204 und den Maskenhalter106 beweglich relativ zueinander halten, d.h. dass deren Abstand voneinander veränderbar ist, ohne die Verbindung aufheben zu müssen.Thesubstrate carrier 200c can be aconnection structure 208 having theweighting element 204 with the mask holder 106 (eg mechanical) connects, for example, to a coherent assembly. Theconnection structure 208 can theweighting element 204 and themask holder 106 hold movable relative to each other, ie that their distance from each other is changeable without having to cancel the connection.

In einer horizontalen Ausrichtung der Aufnahmebereichs113 während des Klemmens des Substrats (wie vorstehend beschrieben) kann das Beschwerungselement204 mittels der Verbindungsstruktur 208 an den Maskenhalter106 gehangen sein oder werden (z.B. wenn der Maskenhalter106 unterhalb der Verbindungsstruktur 208 angeordnet ist).In a horizontal orientation of therecording area 113 during clamping of the substrate (as described above), theweighting element 204 by means of theconnection structure 208 to themask holder 106 be hung or become (eg when themask holder 106 is arranged below the connection structure 208).

Dies ermöglicht es, in einem Vorgang zuerst nur den Maskenhalter 106 von dem Aufnahmebereich113 weg zu verlagern (z.B. anzuheben, wenn der Substratträger200c horizontal ausgerichtet ist) und, sobald der Abstand208a erreicht ist, mit dem Maskenhalter106 zusammen das Beschwerungselement204 von dem Aufnahmebereich113 weg zu verlagern (z.B. anzuheben). Damit lässt sich die Mechanik noch weiter vereinfachen. Anschaulich erfolgt in einem ersten Schritt, in dem der Maskenhalter106 weg verlagert wird, das Entkuppeln der Beschichtungsmaske104 von dem Maskenhalter106, und in einem zweiten Schritt, in dem das Beschwerungselement204 weg verlagert wird, das Freilegen des Aufnahmebereichs113 (z.B. zum Freigeben des Substrats).This allows, at first, only themask holder 106 from the receiving area in oneoperation 113 shift away (eg, lift when thesubstrate carrier 200c aligned horizontally) and, as soon as thedistance 208a is achieved with themask holder 106 together theweighting element 204 from the receivingarea 113 to relocate (eg lift). This makes the mechanics even easier. Illustratively, in a first step, in which themask holder 106 is decoupled, uncoupling thecoating mask 104 from themask holder 106 , and in a second step, in which theweighting element 204 away, exposing the receiving area 113 (eg to release the substrate).

Die Verbindungsstruktur208 kann den Abstand208a zwischen dem Beschwerungselement204 und dem Maskenhalter106 begrenzen, z.B. formschlüssig. Beispielsweise kann die Verbindungsstruktur ein Gelenk, z.B. ein Schubgelenk wie in2C veranschaulicht ist, aufweisen, welches das Beschwerungselement 204 mit dem Maskenhalter106 verbindet. Das Schubgelenk kann einen Begrenzer (z.B. einen Kopf) aufweisen, welcher eine mittels des Schubgelenks verschiebbare Strecke auf den Abstand208a begrenzt.Theconnection structure 208 can thedistance 208a between theweighting element 204 and themask holder 106 limit, for example, form-fitting. For example, the connecting structure may be a joint, eg a sliding joint as in FIG 2C is illustrated having theweighting element 204 with themask holder 106 combines. The thrust joint may have a limiter (eg a head), which is a displaceable by means of the sliding joint track on thedistance 208a limited.

Im Allgemeinen können auch andere Gelenke verwendet werden. Das Schubgelenk vereinfacht die Mechanik und/oder die Herstellung.In general, other joints can be used. The sliding joint simplifies the mechanics and / or the manufacture.

Beispielsweise kann der Abstand208a in einem Bereich von ungefähr 0,5 cm (Zentimeter) bis ungefähr 5 cm sein, z.B. in einem Bereich von ungefähr 1 cm bis ungefähr 2 cm, z.B. kleiner oder gleich zu 1,6 cm. Je kleiner der Abstand208a ist, desto einfacher kann der Substratträger200c in einer flachen Vakuumkammer eingesetzt werden.For example, thedistance 208a in a range of about 0.5 cm (centimeters) to about 5 cm, for example in a range of about 1 cm to about 2 cm, for example less than or equal to 1.6 cm. The smaller thedistance 208a is, the easier thesubstrate carrier 200c be used in a shallow vacuum chamber.

3A veranschaulicht einen Substratträger300a in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. einen der vorangehend beschriebenen Substratträger100a bis200c. 3A illustrates asubstrate carrier 300a in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments, for example, one of the substrate carrier described above 100a to 200c ,

Der Substratträger300a kann eine Kupplungsstruktur302 zum mechanischen Ankuppeln des Maskenhalters106 aufweisen. Der angekuppelte Maskenhalter106 kann mittels der Kupplungsstruktur 302 in einer ortsfesten Position relativ zu dem Aufnahmebereich113 gehalten sein oder werden. Beispielsweise kann die Kupplungsstruktur302 mehrere Eingriffabschnitte 302 (z.B. Vorsprünge) aufweisen, welche mit entsprechenden Eingriffabschnitten116 (z.B. Vertiefungen oder Durchgangsöffnungen) des Maskenhalters106 zum Ineinandergreifen eingerichtet sind, um die mechanische Kupplung herzustellen.Thesubstrate carrier 300a can be acoupling structure 302 for mechanical coupling of themask holder 106 exhibit. The coupledmask holder 106 can by means of thecoupling structure 302 in a fixed position relative to the receivingarea 113 be or be held. For example, the coupling structure 302 a plurality of engagement portions 302 (eg, projections) having, with corresponding engagement portions 116 (eg depressions or through holes) of themask holder 106 are adapted to intermesh to produce the mechanical coupling.

Beispielsweise kann die Kupplungsstruktur302 eine Führungsstruktur (z.B. eine oder mehrere Linearführungen aufweisend) aufweisen, welche dem Maskenhalter genau einen Translationsfreiheitsgrad 311 bereitstellt. Mittels der Kupplungsstruktur 302 kann das Ankuppeln und/oder Abkuppeln des Maskenhalters106 relativ zu dem Aufnahmebereich113 geführt werden entlang des Translationsfreiheitsgrads311.For example, the coupling structure 302 a guide structure (eg, having one or more linear guides) which provides the mask holder with exactly one translation degree offreedom 311. By means of thecoupling structure 302, the coupling and / or uncoupling of themask holder 106 relative to the receivingarea 113 are guided along the translational degree offreedom 311 ,

Der Translationsfreiheitsgrad311 kann quer zu dem Aufnahmebereich 113 (z.B. der Auflagefläche) sein, z.B. zu dessen Längserstreckung.The translational degree offreedom 311 may be transverse to the receiving area 113 (eg, the support surface), for example, to its longitudinal extent.

Beispielsweise kann die Kupplungsstruktur302 mehrere Stifte302 aufweisen, auf welche der Maskenhalter106 aufgesteckt sein oder werden kann. For example, thecoupling structure 302several pens 302 to which themask holder 106 be or can be plugged.

Die Kupplungsstruktur302 kann beispielsweise Teil eines Rahmens sein oder an diesem befestigt sein, wie später genauer beschrieben wird.Thecoupling structure 302 For example, it may be part of or attached to a frame, as described in more detail below.

Mittels der Kupplungsstruktur302 können auf den Maskenhalter106 wirkende Querkräfte aufgenommen werden, z.B. wenn die Ausrichtung des Substratträgers300a verändert wird, und/oder es kann ein reversibles und/oder reproduzierbares magnetisches Ankuppeln der Beschichtungsmaske106 vereinfacht werden.By means of thecoupling structure 302 can on themask holder 106 acting transverse forces are absorbed, for example, when the orientation of thesubstrate carrier 300a is changed, and / or it may be a reversible and / or reproducible magnetic coupling of thecoating mask 106 be simplified.

3B veranschaulicht einen Substratträger300b in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. einen der vorangehend beschriebenen Substratträger100a bis300a. 3B illustrates asubstrate carrier 300b in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments, for example, one of the substrate carrier described above 100a to 300a ,

Der Substratträger300b kann eine Spannstruktur304 aufweisen, mittels welcher die Beschichtungsmaske104 vorgespant gelagert ist. Damit kann eine Faltenbildung beim Anlegen der Beschichtungsmaske104 an den Aufnahmebereich (bzw. an ein Substrat darin) und/oder aufgrund thermischer Ausdehnung gehemmt werden.Thesubstrate carrier 300b can be atensioning structure 304 by means of which thecoating mask 104 is mounted in a spring-loaded. This can cause wrinkling when applying thecoating mask 104 to the receiving area (or to a substrate therein) and / or inhibited due to thermal expansion.

Die Spannstruktur304 kann beispielsweise ein oder mehrerer federelastische Spannelemente (z.B. Federn, z.B. Tellerfedern) aufweisen, welche entgegen einer Rückstellkraft aus ihrer Ruhelage ausgelenkt sind. Die mittels der Spannstruktur 304 bereitgestellte Rückstellkraft kann die Beschichtungsmaske 104 vorspannen (z.B. deren Durchbiegung entgegenwirken).Thetension structure 304 For example, one or more resilient clamping elements (eg springs, eg disc springs), which are deflected against its rest position from its rest position. The restoring force provided by thetensioning structure 304 may bias the coating mask 104 (eg, counteract its deflection).

Die Spannstruktur304 kann beispielsweise eingerichtet sein, eine aufgrund thermischer Ausdehnung bewirkte Veränderung (z.B. Längenänderung) der Beschichtungsmaske104 aufzunehmen.Thetension structure 304 For example, it is possible to set up a change (eg change in length) of the coating mask caused bythermal expansion 104 take.

Die Spannstruktur304 kann beispielsweise Teil eines Rahmens306 sein oder an diesem befestigt sein, wie später genauer beschrieben wird.Thetension structure 304 For example, it can be part of aframe 306 be or be attached to this, as will be described in more detail later.

Die Spannstruktur304 (z.B. deren Rückstellkraft) kann optional nachspannbar sein, z.B. mittels zumindest eines Stellglieds (z.B. zumindest einer Spannleiste). Damit kann die Vorspannung der Beschichtungsmaske104 justiert werden.The tension structure 304 (For example, their restoring force) can optionally be restressed, for example by means of at least one actuator (eg at least one clamping bar). This allows the bias of thecoating mask 104 to be adjusted.

Die Spannstruktur304 kann optional (z.B. mittels eines ersten Spannelements) eine erste Rückstellkraft entlang einer ersten Richtung auf die Beschichtungsmaske104 übertragen und/oder (z.B. mittels eines zweiten Spannelements) eine zweite Rückstellekraft entlang einer zweiten Richtung auf die Beschichtungsmaske 104 übertragen. Die erste Richtung und die zweite Richtung können quer zueinander sein (beispielsweise eine zweiachsige Spannstruktur304).Thetension structure 304 Optionally (eg, by means of a first clamping element) a first restoring force along a first direction on thecoating mask 104 transferred and / or (eg by means of a second clamping element) a second restoring force along a second direction on thecoating mask 104 transmitted. The first direction and the second direction may be transverse to each other (for example, a biaxial tension structure 304 ).

3C veranschaulicht einen Substratträger300c in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. einen der vorangehend beschriebenen Substratträger100a bis300b. 3C illustrates asubstrate carrier 300c in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments, for example, one of the substrate carrier described above 100a to 300b ,

Der Substratträger300c kann eine Abschirmstruktur308 aufweisen. Die Beschichtungsmaske104 kann zwischen dem Aufnahmebereich 113 und der Abschirmstruktur308 angeordnet sein.Thesubstrate carrier 300c can be a shieldingstructure 308 exhibit. Thecoating mask 104 may be between the receivingarea 113 and the shieldingstructure 308 be arranged.

Die Abschirmstruktur308 kann beispielsweise mehrlagig sein. Die mehrlagige Abschirmstruktur308 kann zumindest eine (d.h. genau eine oder mehr als eine) Abschirmlage308a,308b aufweisen, z.B. z.B. mehrere Abschirmlagen308a,308b.The shieldingstructure 308 can be multi-layered, for example. Themulti-layer shielding structure 308 can at least one (ie exactly one or more than one) shielding 308a . 308b zB, egseveral shielding layers 308a . 308b ,

Die zumindest eine Abschirmlage308a,308b kann beispielsweise thermisch von der Beschichtungsmaske104 isoliert (z.B. mittels eines Abstandes davon und/oder mittels eines thermisch isolierenden Materials) sein oder werden. Alternativ oder zusätzlich können die mehreren Abschirmlagen308a,308b thermisch voneinander isoliert (z.B. mittels eines Abstandes voneinander und/oder mittels eines thermisch isolierenden Materials).The at least oneshielding layer 308a . 308b For example, thermally from thecoating mask 104 be isolated (eg by means of a distance thereof and / or by means of a thermally insulating material) or be. Alternatively or additionally, the plurality of shieldinglayers 308a . 308b thermally isolated from each other (eg by means of a distance from each other and / or by means of a thermally insulating material).

Mittels der thermisch isoliert gehaltenen zumindest einen Abschirmlage 308a, 308b kann jeweils ein Wärmeschild bereitgestellt sein oder werden. Mittels den mehreren thermisch isoliert gehaltenen Abschirmlagen308a,308b kann ein mehrstufiger Wärmeschild bereitgestellt sein oder werden. Dies ermöglicht eine bessere Wärmeabschirmung der Beschichtungsmaske 104 und/oder es Substrats.By means of the thermally insulated at least oneshielding layer 308a, 308b, one respective heat shield can be provided. By means of several thermally insulatedshielding layers 308a . 308b a multi-stage heat shield may or may not be provided. This allows for better thermal shielding of thecoating mask 104 and / or substrate.

Beispielsweise kann die (z.B. mehrlagige) Abschirmstruktur308 (z.B. jede Abschirmlage308a,308b) mehrere Durchgangsöffnung 308o aufweisen, welche mit den Durchgangsöffnungen 104 der Beschichtungsmaske104 fluchten und/oder diese zumindest teilweise freilegen.For example, the (eg multilayer) shielding structure 308 (eg everyshielding layer 308a . 308b ) have a plurality of through-opening 308o, which with the throughopenings 104 of thecoating mask 104 aligned and / or at least partially expose them.

Optional kann die Abschirmstruktur308 unmagnetisch sein. Alternativ kann die Abschirmstruktur308 aber auch magnetisch sein.Optionally, the shieldingstructure 308 be non-magnetic. Alternatively, the shieldingstructure 308 but also be magnetic.

4 veranschaulicht einen Substratträger400 in einer schematischen Draufsicht (mit Blickrichtung auf den Aufnahmebereich 113, z.B. quer zu dessen Längserstreckung und dessen Breitenerstreckung) gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. einen der vorangehend beschriebenen Substratträger 100a bis 300c. 4 illustrates asubstrate carrier 400 in a schematic plan view (with a view towards the receivingregion 113, for example transversely to its longitudinal extent and its width extension) according to various embodiments, for example one of thesubstrate carriers 100a to 300c described above.

Der Substratträger400 kann einen Rahmen306 aufweisen. Der Rahmen 306 kann den Aufnahmebereich113 umgeben. Optional kann der Rahmen306 zumindest einen Teil der Klemmstruktur (z.B. die Auflagefläche) und/oder die Beschichtungsmaske104 tragen. Thesubstrate carrier 400 can aframe 306 exhibit. Theframe 306 may be the receivingarea 113 surround. Optionally, theframe 306 at least a part of the clamping structure (eg the support surface) and / or thecoating mask 104 wear.

Beispielsweise kann die Spannstruktur an dem Rahmen306 befestigt sein. Alternativ oder zusätzlich kann die Kupplungsstruktur an dem Rahmen306 befestigt sein.For example, the tensioning structure on theframe 306 be attached. Alternatively or additionally, the coupling structure on theframe 306 be attached.

Optional kann der Rahmen306 eine Ausrichtungsstruktur902 in dem Aufnahmebereich113 aufweisen. Die Ausrichtungsstruktur902 kann beispielsweise zumindest (d.h. genau oder mehr als) ein Ausrichtungssegment aufweisen. Mittels der Ausrichtungsstruktur 902 kann ein Substrat unabhängig von seiner Größe in dem Aufnahmebereich113 ausgerichtet sein oder werden, z.B. indem das Substrat an die Ausrichtungsstruktur 902 angelegt wird (z.B. mit dieser in körperlichen Kontakt gebracht wird).Optionally, theframe 306 analignment structure 902 in therecording area 113 exhibit. Thealignment structure 902 For example, it may have at least (ie, exactly or more than) an alignment segment. By means of thealignment structure 902, a substrate, regardless of its size in the receivingarea 113 to be aligned, for example, by applying (eg bringing into physical contact with) thealignment structure 902 onto the substrate.

5A veranschaulicht eine Transportanordnung500a in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 5A illustrates atransport arrangement 500a in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments.

Die Transportanordnung500a kann einen Substratträger502 aufweisen, z.B. einen der vorangehend beschriebenen Substratträger 100a bis 400, welcher zum Transportieren eines Substrats darin eingerichtet ist. Ferner kann die Transportanordnung 500a eine Transportvorrichtung504 zum Transportieren des Substratträgers502 entlang eines Transportpfades 111 (z.B. in eine Transportrichtung111) aufweisen.Thetransport arrangement 500a can be asubstrate carrier 502 For example, one of thesubstrate carriers 100a to 400 described above, which is adapted for transporting a substrate therein. Furthermore, thetransport arrangement 500a can be atransport device 504 for transporting thesubstrate carrier 502 along a transport path 111 (eg in a transport direction 111 ) exhibit.

Die Transportvorrichtung504 kann beispielsweise eine horizontal-Transportvorrichtung 504 aufweisen oder daraus gebildet sein, welche eingerichtet ist, den Substratträger502 in einer horizontalen Ausrichtung (d.h. flach liegend, wobei z.B. seine Gewichtskraft im Wesentlichen quer zu seiner Längserstreckung und seiner Breitenerstreckung ist) zu transportieren.Thetransport device 504 For example, it may include or be formed from ahorizontal transport device 504 that is configured to support thesubstrate 502 in a horizontal orientation (ie, lying flat with, for example, its weight being substantially transverse to its longitudinal extent and its widthwise extent).

Die Transportvorrichtung504 kann beispielsweise mehrere drehbar gelagerte Transportrollen504t aufweisen, von denen beispielsweise zumindest eine Transportrolle504t mit einem Antrieb gekuppelt ist.Thetransport device 504 For example, a plurality of rotatably mounted transport rollers 504T of which, for example, at least one transport roller 504T coupled with a drive.

Beispielsweise kann die Transportvorrichtung504 eine Gurtförderer-Transportvorrichtung aufweisen oder daraus gebildet sein. Die Gurtförderer-Transportvorrichtung kann zumindest ein Transportband504b aufweisen, welches mittels der mehreren Transportrollen504t geführt wird. Der Substratträger 502 kann auf dem Transportband504b aufliegend transportiert sein oder werden, wie in5A veranschaulicht ist.For example, thetransport device 504 comprise or be formed from a belt conveyor transport device. The belt conveyor transport device can at least oneconveyor belt 504b which, by means of the plurality of transport rollers 504T to be led. Thesubstrate carrier 502 may be on theconveyor belt 504b be transported on foot or be as in 5A is illustrated.

Alternativ oder zusätzlich kann die Transportvorrichtung504 eine Rollenförderer-Transportvorrichtung (nicht dargestellt) aufweisen oder daraus gebildet sein. Die Rollenförderer-Transportvorrichtung kann mehrere Transportrollen504t aufweisen, auf denen Substratträger502 beim Transportieren aufliegt.Alternatively or additionally, the transport device 504 a roller conveyor transport device (not shown) or be formed therefrom. The roller conveyor transport device may have multiple transport rollers 504T have on whichsubstrate carrier 502 when transporting rests.

Die Transportvorrichtung504 kann allerdings auch eine vertikal-Transportvorrichtung 504 aufweisen oder daraus gebildet sein, welche eingerichtet ist, den Substratträger502 in einer vertikalen Ausrichtung (d.h. aufrecht stehend oder hängend, wobei z.B. seine Gewichtskraft im Wesentlichen parallel zu seiner Längserstreckung oder zu seiner Breitenerstreckung ist) zu transportieren.Thetransport device 504 however, it may also include or be formed from avertical transport device 504, which is arranged, thesubstrate carrier 502 in a vertical orientation (ie upright or hanging, with, for example, its weight being substantially parallel to its longitudinal extent or to its widthwise extent).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportvorrichtung 504 einen in sich geschlossenen Transportpfad 111 bereitstellen, entlang dessen die Substratträger 502 transportiert werden (auch als Carrier-Returnsystem bezeichnet).According to various embodiments, thetransport device 504 may provide a self-containedtransport path 111 along which thesubstrate carriers 502 are transported (also referred to as a carrier return system).

Der in sich geschlossene Transportpfad111 kann beispielsweise einen ersten Abschnitt aufweisen, entlang dessen der Substratträger502 ein Substrat trägt und beispielsweise das Substrat beschichtet wird. Der in sich geschlossene Transportpfad111 kann ferner einen zweiten Abschnitt aufweisen, entlang dessen der Substratträger502 kein Substrat trägt und/oder leer ist. Nach dem zweiten Abschnitt und vor dem ersten Abschnitt kann ein Beladebereich angeordnet sein oder werden, in dem ein Substrat in den Substratträger 502 hineingebracht sein oder werden kann. Nach dem ersten Abschnitt und vor dem zweiten Abschnitt kann ein Entladebereich angeordnet sein oder werden, in welchem das Substrat aus dem Substratträger502 herausgebracht sein oder werden kann.The self-containedtransport path 111 For example, it may have a first portion along which thesubstrate carrier 502 carries a substrate and, for example, the substrate is coated. The self-containedtransport path 111 may further include a second portion along which thesubstrate carrier 502 does not carry any substrate and / or is empty. After the second section and before the first section, a loading area may be or may be arranged in which a substrate may or may be introduced into thesubstrate carrier 502. After the first section and before the second section, a discharge region may be or may be arranged, in which the substrate is removed from thesubstrate carrier 502 be or can be brought out.

Fig.5B und5C veranschaulichen jeweils eine Transportanordnung 500b, 500c in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. die Transportanordnung500a.Fig.5B and 5C each illustrate atransport arrangement 500b, 500c in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments, eg thetransport arrangement 500a ,

Die Transportanordnung500b,500c kann eine Manipulatorvorrichtung 506 aufweisen, z.B. in dem Beladebereich und/oder in dem Entladebereich angeordnet. Die Manipulatorvorrichtung 506 kann eingerichtet sein, das Substrat 102 aus dem Aufnahmebereich113 herauszubringen und/oder in diesen hineinzubringen. Beispielsweise kann die Manipulatorvorrichtung 506 einen Greifarm506a und einen Greifer 506g aufweisen. Alternativ oder zusätzlich zu dem Greifarm 506a kann die Manipulatorvorrichtung506 einen Hubzylinder aufweisen.Thetransport arrangement 500b . 500c may comprise amanipulator device 506, for example arranged in the loading area and / or in the unloading area. Themanipulator device 506 may be configured to remove thesubstrate 102 from the receivingarea 113 bring out and / or bring in these. For example,manipulator device 506 may include agripper arm 506a and agripper 506g. Alternatively or in addition to thegripper arm 506a, themanipulator device 506 have a lifting cylinder.

Beispielsweise kann die Manipulatorvorrichtung506 der Transportanordnung 500b mechanischen Greifer aufweisen oder daraus gebildet sein. Alternativ oder zusätzlich kann die Manipulatorvorrichtung 506 der Transportanordnung500c einen Vakuum-Greifer aufweisen.For example, themanipulator device 506 thetransport assembly 500 b have mechanical gripper or be formed from it. Alternatively or additionally, themanipulator device 506 of the transport arrangement 500c have a vacuum gripper.

Im Allgemeinen kann die Manipulatorvorrichtung506 alternativ oder zusätzlich einen anderen Greifer-Typ aufweisen, beispielsweise einen Rotation-Greifer, wie im Folgenden genauer beschrieben wird.In general, themanipulator device 506 alternatively or additionally comprise a different gripper type, for example a rotary gripper, as will be described in more detail below.

Beispielsweise kann die Manipulatorvorrichtung506 der Transportanordnung 500b zusätzlich eine Anhebevorrichtung aufweisen, welcher durch die Beschichtungsmaske hindurch und/oder an dieser vorbei das Substrat102 aus dem Aufnahmebereich 113 heraushebt. Dies vereinfacht das Greifen des Substrats102. Alternativ oder zusätzlich kann die Anhebevorrichtung eingerichtet sein, die Klemmstruktur108 und/oder die Beschichtungsmaske-Haltestruktur100b zu verstellen, z.B. in deren Konfiguration.For example, themanipulator device 506 thetransport arrangement 500b additionally comprise a lifting device which passes through the coating mask and / or past thesubstrate 102 lifts out of the receivingarea 113. This simplifies the gripping of thesubstrate 102 , Alternatively or additionally, the lifting device can be set up, the clampingstructure 108 and / or the coatingmask holding structure 100b to adjust, eg in their configuration.

Fig.6A und6B veranschaulichen jeweils eine Transportanordnung 600a, 600b in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. einer der Transportanordnungen500a bis500c.Fig.6A and 6B each illustrate atransport arrangement 600a, 600b in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments, eg one of thetransport arrangements 500a to 500c ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Manipulatorvorrichtung 506 eingerichtet sein, die magnetische Wechselwirkung aufzuheben und/oder herzustellen (z.B. wiederherzustellen), mittels welcher die Beschichtungsmaske104 an den Aufnahmebereich113 (bzw. das Substrat102 darin) angelegt wird. Dazu kann die Manipulatorvorrichtung506 beispielsweise eingerichtet sein, zumindest die Beschichtungsmaske-Haltestruktur 100b zu verstellen, z.B. in ihrer Konfiguration. Alternativ oder zusätzlich kann die Manipulatorvorrichtung 506 optional eingerichtet sein, die Klemmstruktur 108 zu verstellen, z.B. in ihrer Konfiguration.According to various embodiments, themanipulator device 506 may be configured to cancel and / or establish (eg, restore) the magnetic interaction by which thecoating mask 104 to the reception area 113 (or thesubstrate 102 in it) is created. For this purpose, themanipulator device 506 For example, it may be configured to adjust at least the coatingmask holding structure 100b, for example in its configuration. Alternatively or additionally, themanipulator device 506 may optionally be configured to adjust the clampingstructure 108, eg in its configuration.

Beispielsweise kann die Manipulatorvorrichtung506 eingerichtet sein, den Maskenhalter106 und/oder das Beschwerungselement 204 (nachfolgend auch bezeichnet als zu verlagerndes Element106,204) zu verlagern. Dazu kann der Greifer 506g der Manipulatorvorrichtung506 eingerichtet sein, mit dem zu verlagernden Element106,204 zu kuppeln.For example, themanipulator device 506 be set up themask holder 106 and / or the weighting element 204 (hereinafter also referred to as an element to be displaced 106 . 204 ) to relocate. For this purpose, thegripper 506g of themanipulator device 506 be set up with the item to be relocated 106 . 204 to couple.

Sind der Maskenhalter106 und das Beschwerungselement204 mittels der Verbindungsstruktur208 miteinander verbunden (vergleiche6B), können diese gemeinsam verlagert werden. Alternativ können diese einzeln und/oder nacheinander verlagert werden.Are themask holder 106 and theweighting element 204 by means of theconnection structure 208 interconnected (compare 6B ), these can be relocated together. Alternatively, these can be moved individually and / or sequentially.

Beispielsweise kann die Manipulatorvorrichtung506 einen Rotation-Greifer 506g (z.B. einen drehbar gelagerten Teller aufweisend) aufweisen, welcher eingerichtet ist, in eine oder mehrere Laschen5061 des zu verlagernden Elements106,204 einzugreifen und/oder diese zu umgreifen, z.B. indem dieser in die Laschen5061 hineingedreht wird. Alternativ oder zusätzlich kann ein anderer Greifer-Typ verwendet werden, beispielsweise einer der vorangehend beschriebenen Greifer-Typen.For example, themanipulator device 506 arotary gripper 506g (eg having a rotatably mounted plate) which is arranged in one ormore tabs 5061 of the item to be relocated 106 . 204 intervene and / or embrace this, for example by putting this in thetabs 5061 is screwed into it. Alternatively or additionally, another type of gripper may be used, for example one of the previously described gripper types.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Manipulatorvorrichtung 506 eingerichtet sein, den Abstand zwischen dem Maskenhalter106 und der Beschichtungsmaske104 zum Aufheben der magnetischen Kupplung zwischen diesen zu vergrößern (d.h. damit die Anziehungskraft zwischen diesen verringern) und/oder zum Herstellen der magnetischen Kupplung zwischen diesen zu verkleinern (d.h. damit die Anziehungskraft zwischen diesen vergrößern). Beispielsweise können der Maskenhalter106 und/oder das Beschwerungselement204 mittels der Manipulatorvorrichtung506 zu dem Aufnahmebereich 113 hingebracht (z.B. an diesen angenähert) sein oder werden, z.B. auf diesen aufgelegt, und/oder von diesem weggebracht (z.B. von diesem entfernt) sein oder werden.According to various embodiments, themanipulator device 506 may be configured to adjust the distance between themask holder 106 and thecoating mask 104 to increase the magnetic coupling between them (ie to reduce the attractive force between them) and / or to make the magnetic coupling between them (ie increase the attractive force between them). For example, themask holder 106 and / or theweighting element 204 by means of themanipulator device 506 be brought to the receiving area 113 (eg approximated to this) or be, for example, placed on this, and / or be taken away from this (eg away from this) or be.

Alternativ kann das Verlagern des Maskenhalters106 und/oder des Beschwerungselements204 auch anders erfolgen, z.B. mittels einer Vorrichtung, welche von unten durch den Aufnahmebereich 113 hindurch oder an diesem vorbei greift.Alternatively, moving themask holder 106 and / or theweighting element 204 also be done differently, for example by means of a device which engages from below through the receivingarea 113 or past this.

7 veranschaulicht eine Vakuumanordnung700 in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 7 illustrates avacuum arrangement 700 in a schematic side view or cross-sectional view according to various embodiments.

Die Vakuumanordnung700 kann eine Vakuumkammer702 aufweisen in welcher der Transportpfad (z.B. dessen erster Abschnitt) angeordnet ist. Die Vakuumkammer702 kann mittels eines Kammergehäuses bereitgestellt sein oder werden. Beispielsweise kann das Kammergehäuse mehrere Vakuumkammern702 aufweisen, z.B. entlang des Transportpfades111 hintereinander angeordnet.Thevacuum arrangement 700 can avacuum chamber 702 in which the transport path (eg the first section) is arranged. Thevacuum chamber 702 may be provided by means of a chamber housing or be. For example, the chamber housing a plurality ofvacuum chambers 702 have, for example, along thetransport path 111 arranged one behind the other.

Der Beladebereich kann beispielsweise in einer zusätzlichen Vakuumkammer angeordnet sein oder werden, in welcher ein Vakuum gebildet ist. Der Entladebereich kann beispielsweise in einer noch zusätzlichen Vakuumkammer angeordnet sein oder werden, in welcher ein Schutzgas (z.B. ein Inertgas, wie Argon oder Stickstoff) angeordnet ist. Beispielsweise kann der zweite Abschnitt des Transportpfades außerhalb der Vakuumkammer 702 angeordnet sein oder werden, z.B. in einem nach außen abgeschlossenen Rückführungsgehäuse, in welchem das Schutzgas angeordnet ist.The loading area can be arranged, for example, in an additional vacuum chamber in which a vacuum is formed. The discharge area may be arranged, for example, in a still additional vacuum chamber in which a shielding gas (e.g., an inert gas such as argon or nitrogen) is disposed. For example, the second portion of the transport path may be located outside thevacuum chamber 702 or may be, e.g. in an outwardly closed return housing, in which the protective gas is arranged.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Kammergehäuse (auch als Vakuumkammergehäuse bezeichnet) eine Kammer (auch als Vakuumkammer bezeichnet) oder mehrere Kammern aufweisen. Das Kammergehäuse kann beispielsweise zum Bereitstellen eines Unterdrucks oder eines Vakuums (d.h. als Vakuumkammergehäuse eingerichtet) mit einer Pumpenanordnung, z.B. einer Vakuumpumpenanordnung, (z.B. gasleitend) gekoppelt sein und derart stabil eingerichtet sein, dass diese dem Einwirken des Luftdrucks im abgepumpten Zustand standhält. Die Pumpenanordnung (aufweisend zumindest eine Vakuumpumpe, z.B. eine Hochvakuumpumpe, z.B. eine Turbomolekularpumpe) kann es ermöglichen, einen Teil des Gases aus dem Inneren der Prozessierkammer, z.B. aus dem Vakuumbereich, abzupumpen, d.h. zu entziehen. Dementsprechend kann eine Vakuumkammer oder können mehrere Vakuumkammern in einem Kammergehäuse bereitgestellt sein. Mit anderen Worten kann das Kammergehäuse als Vakuumkammergehäuse eingerichtet sein. According to various embodiments, the chamber housing (also referred to as a vacuum chamber housing) may comprise a chamber (also referred to as a vacuum chamber) or a plurality of chambers. For example, to provide a negative pressure or a vacuum (ie, configured as a vacuum chamber housing), the chamber housing can be coupled to a pump arrangement, eg, a vacuum pump arrangement (eg, gas-conducting) and can be stably set up to withstand the action of the air pressure in the pumped-down state. The pump arrangement (comprising at least one vacuum pump, eg a high vacuum pump, eg a turbomolecular pump) may make it possible to pump out, ie to extract, some of the gas from the interior of the processing chamber, eg from the vacuum area. Accordingly, one or more vacuum chambers may be provided in a chamber housing. In other words, the chamber housing may be configured as a vacuum chamber housing.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Kammergehäuse, z.B. eine darin bereitgestellte Vakuumkammer702, derart eingerichtet sein, dass darin ein Druck in einem Bereich von ungefähr 10 mbar bis ungefähr 1 mbar (mit anderen Worten Grobvakuum) bereitgestellt werden kann, und/oder ein Druck in einem Bereich von ungefähr 1 mbar bis ungefähr 10^-3 mbar (mit anderen Worten Feinvakuum), und/oder ein Druck in einem Bereich von ungefähr 10^-3 mbar bis ungefähr 10^-7 mbar (mit anderen Worten Hochvakuum) und/oder ein Druck von kleiner als Hochvakuum, z.B. kleiner als ungefähr 10^-7 mbar.According to various embodiments, a chamber housing, eg, a vacuum chamber provided therein 702 adapted to provide a pressure in a range from about 10 mbar to about 1 mbar (in other words, rough vacuum), and / or a pressure ranging from about 1 mbar to about 10^-3 mbar (with In other words, fine vacuum), and / or a pressure in a range of about 10^-3 mbar to about 10^-7 mbar (in other words high vacuum) and / or a pressure of less than high vacuum, for example less than about 10^-7 mbar.

Die Vakuumkammer702 kann Teil eines Vakuumsystems sein und/oder mit den zusätzlichen Vakuumkammern zu einem Vakuumsystem gekoppelt sein. Im Zusammenhang mit vakuumerzeugenden oder vakuumerhaltenden Vakuumkomponenten (z.B. einer Pumpe, einer Kammer, einer Leitung, einem Ventil, usw.) kann der Begriff „gekoppelt“ oder „Kopplung“ im Sinne einer Verbindung zu einem gemeinsamen Vakuumsystem verstanden werden, beispielsweise im Fall mehrerer Vakuumkammern. Die Komponenten des Vakuumsystems können eingerichtet sein, mittels der Kopplung untereinander ein Gas austauschen, wobei die Kopplung von einem Äußeren des Vakuumsystems und/oder mittels eines Ventils (z.B. einer Ventilanordnung) unterbrochen oder zumindest gassepariert sein oder werden kann.Thevacuum chamber 702 may be part of a vacuum system and / or coupled with the additional vacuum chambers to a vacuum system. In the context of vacuum-producing or vacuum-maintaining vacuum components (eg, a pump, a chamber, a conduit, a valve, etc.), the term "coupled" or "coupling" may be understood to mean a connection to a common vacuum system, for example in the case of multiple vacuum chambers , The components of the vacuum system may be configured to exchange a gas with one another by means of the coupling, wherein the coupling may be interrupted or at least gas-separated by an exterior of the vacuum system and / or by means of a valve (eg a valve arrangement).

Die Vakuumanordnung700 kann ferner eine Transportanordnung704 aufweisen, z.B. eine der Transportanordnungen500a bis600b. Mittels der Transportanordnung704 kann zumindest (d.h. genau oder mehr als) ein Substrat in dem Substratträger502 transportiert sein oder werden. Beispielsweise kann das Substrat ein plattenförmiges Substrat, z.B. eine Glasscheibe, einen Wafer oder einen anderen plattenförmigen Substrattyp aufweisen oder daraus gebildet sein.Thevacuum arrangement 700 can also be atransport arrangement 704 have, for example, one of thetransport arrangements 500a to 600b , By means of thetransport arrangement 704 may at least (ie, exactly or more than) a substrate in thesubstrate carrier 502 be transported or be. For example, the substrate may include or be formed from a plate-shaped substrate, eg, a glass sheet, a wafer, or another plate-shaped substrate type.

Optional kann die Vakuumanordnung ferner eine Beschichtungsmaterialquelle 706 aufweisen, z.B. einen thermischen Verdampfer aufweisend. Die Beschichtungsmaterialquelle 706 kann eingerichtet sein, ein Beschichtungsmaterial in Richtung des Transportpfades111 zu emittieren706e, z.B. zu verdampfen.Optionally, the vacuum assembly may further include a source ofcoating material 706, eg having a thermal evaporator. Thecoating material source 706 may be configured to have a coating material in the direction of thetransport path 111 to emit706e, eg to evaporate.

Beispielsweise kann das Beschichtungsmaterial zumindest ein Material der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: ein Metall; ein Übergangsmetall, ein Oxid (z.B. ein Metalloxid oder ein Übergangsmetalloxid); ein Dielektrikum; ein Polymer (z.B. ein Kohlenstoff-basiertes Polymer oder ein Silizium-basiertes Polymer); ein Oxinitrid; ein Nitrid; ein Karbid; eine Keramik; ein Halbmetall (z.B. Kohlenstoff); ein Perowskit; ein Glas oder glasartiges Material (z.B. ein sulfidisches Glas); einen Halbleiter; ein Halbleiteroxid; ein halborganisches Material, und/oder ein organisches Material. Beispielsweise kann das Beschichtungsmaterial Aluminium (Al) oder Magnesium, Titan, Zinn (Zn), Zink, Indium, Silber, Gold und/oder Zirkon aufweisen oder daraus gebildet sein oder es kann Silizium (Si) Bor oder Germanium aufweisen oder daraus gebildet sein. Optional kann das Beschichtungsmaterial einen Dotierstoff aufweisen, z.B. Al. Beispielsweise kann ein Zn-Beschichtungsmaterial oder Si-Beschichtungsmaterial mit Al dotiert sein.For example, the coating material may comprise or be formed from at least one material of the following materials: a metal; a transition metal, an oxide (e.g., a metal oxide or a transition metal oxide); a dielectric; a polymer (e.g., a carbon-based polymer or a silicon-based polymer); an oxynitride; a nitride; a carbide; a ceramic; a semi-metal (e.g., carbon); a perovskite; a glass or glassy material (e.g., a sulfidic glass); a semiconductor; a semiconductor oxide; a semi-organic material, and / or an organic material. For example, the coating material may comprise or be formed of aluminum (Al) or magnesium, titanium, tin (Zn), zinc, indium, silver, gold and / or zirconium or it may comprise or be formed from silicon (Si) boron or germanium. Optionally, the coating material may comprise a dopant, e.g. Al. For example, a Zn coating material or Si coating material may be doped with Al.

Die Beschichtungsmaterialquelle706 kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen zum Beschichten zumindest eines Substrats (d.h. genau eines Substrats oder mehr als eines Substrats) eingerichtet sein, welches z.B. durch die Vakuumkammer702 (z.B. einen Beschichtungsbereich darin) hindurch transportiert wird. Beispielsweise kann die Beschichtungsmaterialquelle zum Bereitstellen eines gasförmigen Beschichtungsmaterials (z.B. ein Materialdampf) und/oder flüssigen Beschichtungsmaterials eingerichtet sein, welches z.B. auf dem zumindest ein Substrat zum Bilden einer Schicht abgeschieden werden kann. Eine Beschichtungsmaterialquelle kann beispielsweise zumindest eines von Folgendem aufweisen: eine Sputtervorrichtung, eine thermisch-Verdampfen-Vorrichtung (z.B. einen Laserstrahlverdampfer, einen Lichtbogenverdampfer, einen Elektronenstrahlverdampfer und/oder einen thermischen Verdampfer), eine Präkursorgasquelle und/oder einen Flüssigphasenzerstäuber. Eine Sputtervorrichtung kann zum Zerstäuben des Beschichtungsmaterials mittels eines Plasmas eingerichtet sein. Eine thermisch-Verdampfen Vorrichtung kann zum Überführen des Beschichtungsmaterials in einen gasförmigen Aggregatszustand mittels thermischer Energie eingerichtet sein. Je nach der Beschaffenheit des Beschichtungsmaterials können ein Sublimieren und/oder ein Verdampfen des Beschichtungsmaterials erfolgen. Mit anderen Worten kann die thermisch-Verdampfen-Vorrichtung das Beschichtungsmaterial auch sublimieren. Ein Flüssigphasenzerstäuber kann zum Aufbringen eines Beschichtungsmaterials aus der Flüssigphase eingerichtet sein, z.B. einen Farbstoff aufweisend oder daraus gebildet.Thecoating material source 706 For example, according to various embodiments, it may be configured to coat at least one substrate (ie, just one substrate or more than one substrate), such as through the vacuum chamber 702 (For example, a coating area therein) is transported through. For example, the coating material source may be configured to provide a gaseous coating material (eg, a material vapor) and / or liquid coating material, which may be deposited, for example, on the at least one substrate to form a layer. For example, a coating material source may include at least one of a sputtering apparatus, a thermal evaporation apparatus (eg, a laser beam evaporator, an arc evaporator, an electron beam evaporator, and / or a thermal evaporator), a precursor gas source, and / or a liquid phase sprayer. A sputtering apparatus may be arranged to atomize the coating material by means of a plasma. A thermal evaporation device may be configured to transfer the coating material to a gaseous state by means of thermal energy. Depending on the condition of the coating material, a sublimation and / or evaporation of the coating material can take place. In other words, the thermal evaporation device can also sublimate the coating material. A liquid phase sprayer may be adapted to apply a coating material from the liquid phase, eg having a dye or formed therefrom.

Fig.8A und8B veranschaulichen einen Substratträger502 in einer schematischen Perspektivansicht gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen Konfigurationen502a,502b der Beschichtungsmaske-Haltestruktur100b, zwischen denen diese verstellt werden kann.Fig.8A and 8B illustrate asubstrate carrier 502 in a schematic perspective view according to various embodiments invarious configurations 502a . 502b the coatingmask holding structure 100b between which these can be adjusted.

Die Beschichtungsmaske104 und der Maskenhalter106 können zum magnetischen Kuppeln miteinander eingerichtet sein mittels einer magnetischen Wechselwirkung zwischen diesen.Thecoating mask 104 and themask holder 106 may be arranged for magnetic coupling with each other by means of a magnetic interaction between them.

Beispielsweise können die Beschichtungsmaske104 und der Maskenhalter 106 in einer ersten Konfiguration502a (auch als Entkuppelt-Konfiguration 502a bezeichnet) der Beschichtungsmaske-Haltestruktur voneinander entkuppelt (z.B. getrennt) und in zweiten Konfiguration502b (auch als Gekuppelt-Konfiguration 502b bezeichnet) der Beschichtungsmaske-Haltestruktur miteinander gekuppelt (z.B. verbunden) sein. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträgers502 von der Entkuppelt-Konfiguration502a in die Gekuppelt-Konfiguration502b (oder andersherum) gebracht sein oder werden, z.B. mittels der Manipulatorvorrichtung 506.For example, thecoating mask 104 and themask holder 106 in afirst configuration 502a (also referred to as uncoupledconfiguration 502a) of the plating mask holding structure are uncoupled from each other (eg, separated) and in thesecond configuration 502b (also referred to as coupledconfiguration 502b) of the plating mask holding structure may be coupled together (eg connected). According to various embodiments, thesubstrate carrier 502 from the uncoupledconfiguration 502a in the coupledconfiguration 502b (Or vice versa) or be brought, for example by means of the manipulator device 506th

Optional kann sowohl in der Entkuppelt-Konfiguration502a als auch in der Gekuppelt-Konfiguration502b die Klemmstruktur108 in einer Klemm-Konfiguration sein. In der Klemm-Konfiguration kann die Klemmstruktur108 das Substrat klemmen, d.h. eine Klemmkraft auf dieses übertragen.Optionally, both in theuncoupled configuration 502a as well as in the coupledconfiguration 502b the clampingstructure 108 be in a clamp configuration. In the clamp configuration, the clampingstructure 108 clamp the substrate, ie transmit a clamping force on this.

Zum Verstellen502v des Substratträgers502 zwischen den zwei Konfigurationen 502a, 502b kann der Maskenhalter106 verlagert werden, z.B. auf den Aufnahmebereich113 (in der Darstellung verdeckt) zu oder von diesem weg.To adjust 502V of thesubstrate carrier 502 between the twoconfigurations 502a, 502b, themask holder 106 be moved, for example, on the receiving area 113 (hidden in the illustration) to or from this path.

Beispielsweise kann in der Entkuppelt-Konfiguration502a der Maskenhalter 106 in einem Abstand von dem Aufnahmebereich113 und/oder von der Klemmstruktur108 (z.B. deren Beschwerungselement 204) angeordnet sein oder werden. Alternativ oder zusätzlich kann in der Entkuppelt-Konfiguration 502a zwischen der Beschichtungsmaske (in der Ansicht verdeckt) und dem Aufnahmebereich113 (bzw. dem darin angeordneten Substrat) ein Spalt gebildet sein oder werden. Beispielsweise kann die Beschichtungsmaske in der Gekuppelt-Konfiguration 502a durchgebogen sein (anschaulich durchhängen), z.B. von deren Gewichtskraft.For example, in theuncoupled configuration 502a themask holder 106 at a distance from the receivingarea 113 and / or from the clamping structure 108 (Eg the weighting element 204) may be arranged or. Alternatively or additionally, in the decoupledconfiguration 502a, between the coating mask (hidden in the view) and the receiving area 113 (or the substrate disposed therein) may be formed or a gap. For example, the plating mask in the coupledconfiguration 502a may be bowed (clearly sagging), eg, by its weight.

Beispielsweise kann in der Gekuppelt-Konfiguration502b der Maskenhalter 106 an dem Aufnahmebereich113 anliegend und/oder in körperlichen Kontakt mit der Klemmstruktur108 (z.B. deren Beschwerungselement204) angeordnet sein oder werden. Alternativ oder zusätzlich kann in der Gekuppelt-Konfiguration 502b die Beschichtungsmaske an dem Aufnahmebereich (bzw. dem darin angeordneten Substrat) angelegt gehalten werden kann, z.B. entgegen deren Gewichtskraft und/oder spaltfrei.For example, in the coupledconfiguration 502b themask holder 106 at the receivingarea 113 adjacent and / or in physical contact with the clamping structure 108 (eg their weighting element 204 ) or be arranged. Alternatively or additionally, in the coupledconfiguration 502b, the coating mask may be held applied to the receiving area (or the substrate disposed therein), eg, against its weight and / or gap-free.

Optional kann der Maskenhalter106 mit der Klemmstruktur108 (z.B. deren Beschwerungselement204) verbunden sein, z.B. mittels der Verbindungsstruktur208. Die Verbindungsstruktur208 ermöglicht es, die Klemmstruktur108 mittels Verlagerns des Maskenhalters106 zu verstellen, z.B. zwischen der Klemm-Konfiguration und der Wechsel-Konfiguration.Optionally, themask holder 106 with the clamping structure 108 (eg their weighting element 204 ), eg by means of theconnection structure 208 , Theconnection structure 208 allows the clampingstructure 108 by displacing themask holder 106 to adjust, eg between the clamp configuration and the change configuration.

Wird beispielsweise der Maskenhalter106 ausgehend von der Entkuppelt-Konfiguration 502a weiter von dem Aufnahmebereich113 weg verlagert (z.B. entfernt), kann damit die Klemmstruktur 108 von der Klemm-Konfiguration in die Wechsel-Konfiguration gebracht sein oder werden.For example, themask holder 106 from the uncoupledconfiguration 502a farther from thepickup area 113 Displaced away (eg removed), so that the clampingstructure 108 can be brought from the terminal configuration in the interchangeable configuration or.

9 und10 veranschaulichen einen Substratträger502 in verschiedenen schematischen Perspektivansichten (anschaulich von oben und von unten) gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 9 and 10 illustrate asubstrate carrier 502 in various schematic perspective views (illustratively from above and below) according to various embodiments.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Beschichtungsmaske 104 entlang mehrerer Richtungen mittels der Spannstruktur304 vorgespannt sein oder werden. Beispielsweise kann die Spannstruktur304 an zumindest zwei einander angrenzenden Seiten der Beschichtungsmaske104 zumindest ein Spannelement (z.B. eine Spannfeder) aufweisen, welche die Beschichtungsmaske104 mit dem Rahmen306 kuppelt.According to various embodiments, thecoating mask 104 may be along multiple directions by means of thetensioning structure 304 be or become biased. For example, thetensioning structure 304 on at least two adjacent sides of thecoating mask 104 at least one clamping element (eg a tension spring), which thecoating mask 104 with theframe 306 couples.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Ausrichtungsstruktur 902 mehrere Pins (d.h. Stifte) in dem Aufnahmebereich 113 aufweisen.According to various embodiments, thealignment structure 902 may include a plurality of pins (i.e., pins) in the receivingarea 113.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Kupplungsstruktur 302 mehrere von dem Aufnahmebereich hervorstehende und/oder von der Beschichtungsmaske weg gerichtete Pins aufweisen.According to various embodiments, thecoupling structure 302 may include a plurality of pins projecting from the receiving area and / or directed away from the coating mask.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können mehrere Auflagesegmente 202a (auch als Verrückschutz bezeichnet) in dem Aufnahmebereich113 angeordnet sein oder werden.According to various embodiments, a plurality ofsupport segments 202a (also referred to as an offense guard) may be provided in the receivingarea 113 be arranged or become.

11 veranschaulicht einen Substratträger502 in einem Verfahren 1100 gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. einen der vorangehend beschriebenen Substratträger100a bis400. 11 illustrates asubstrate carrier 502 in amethod 1100 according to various embodiments, eg one of the substrate carriers described above 100a to 400 ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Verfahren1100 in 1101 aufweisen: Klemmen eines Substrats102 in einem Aufnahmebereich 113 des Substratträgers502, so dass das Substrat vorfixiert ist. Das Klemmen kann aufweisen, eine Klemmkraft auf das Substrat102 zu übertragen, z.B. mittels der Klemmstruktur108. Beispielsweise kann die Klemmkraft größer sein als die Gewichtskraft des Substrats und/oder größer sein als die Anziehungskraft.According to various embodiments, themethod 1100 in 1101: clamping asubstrate 102 in a receivingregion 113 of thesubstrate carrier 502 so that the substrate is pre-fixed. The clamping may include a clamping force on thesubstrate 102 to transfer, for example by means of the clampingstructure 108 , For example, the clamping force may be greater than the weight of the substrate and / or greater than the force of attraction.

Beispielsweise kann das Klemmen des Substrats102 aufweisen, eine Klemmstruktur108 des Substratträgers502 in eine Klemm-Konfiguration zu bringen. Alternativ oder zusätzlich kann das Klemmen des Substrats102 aufweisen, das Substrat102 mit der Klemmkraft gegen eine Substrat-Auflagefläche202 (z.B. gegen mehrere Auflagesegmente202a) zu pressen.For example, the clamping of thesubstrate 102 have a clampingstructure 108 of thesubstrate carrier 502 into a clamp configuration. Alternatively or additionally, the clamping of thesubstrate 102 have thesubstrate 102 with the clamping force against a substrate support surface 202 (eg againstseveral overlay segments 202a ) to press.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Verfahren1100 in 1103 aufweisen: Anlegen einer Beschichtungsmaske104 an das eingeklemmte Substrat102 mittels einer magnetischen Wechselwirkung, welche auf die Beschichtungsmaske104 bewirkt wird. Die magnetische Wechselwirkung kann eine magnetische Anziehungskraft Fa auf die Beschichtungsmaske104 übertragen, welche in Richtung des Aufnahmebereichs113 bzw. des darin angeordneten Substrats102 gerichtet ist. Das Anlegen kann aufweisen, die Beschichtungsmaske104 mittels der Anziehungskraft Fa gegen das Substrat102 zu pressen.According to various embodiments, themethod 1100 in 1103: applying acoating mask 104 to the clampedsubstrate 102 by means of a magnetic interaction acting on thecoating mask 104 is effected. The magnetic interaction can cause a magnetic attraction Fa on thecoating mask 104 transferred, which towards the receivingarea 113 or of the substrate arranged therein 102 is directed. The application may include thecoating mask 104 by means of the attraction Fa against thesubstrate 102 to squeeze.

Das Verfahren kann optional in 1105 aufweisen: Beschichten des Substrats102 durch die Beschichtungsmaske (z.B. deren Durchgangsöffnungen) hindurch. Das Beschichten kann aufweisen, ein Beschichtungsmaterial in Richtung des Aufnahmebereichs 113 bzw. des darin angeordneten Substrats102 zu emittieren 706e, z.B. zu verdampfen.The method may optionally include 1105: coating thesubstrate 102 through the coating mask (eg the through-openings). The coating may include a coating material in the direction of the receivingregion 113 or the substrate arranged therein 102 to emit 706e, eg to evaporate.

Während des Beschichtens kann die Beschichtungsmaske104 an das Substrat102 angelegt, z.B. gegen dieses gepresst, sein oder werden. Damit kann die Übertragung der Maskenstruktur auf die Struktur der Beschichtung abbildungsschärfer sein.During coating, thecoating mask 104 to thesubstrate 102 created, for example, pressed against this, his or be. Thus, the transfer of the mask structure to the structure of the coating can be sharper.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Anlegen der Beschichtungsmaske aufweisen, einen Maskenhalter an die Beschichtungsmaske anzunähern.According to various embodiments, the application of the coating mask may have the effect of approximating a mask holder to the coating mask.

12 veranschaulicht einen Substratträger502 in einem Verfahren 1200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. einen der vorangehend beschriebenen Substratträger100a bis400. 12 illustrates asubstrate carrier 502 in amethod 1200 according to various embodiments, eg, one of the substrate carriers described above 100a to 400 ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Verfahren in 1201, z.B. vor dem Klemmen1101, aufweisen: Hineinbringen des Substrats 102 in den Aufnahmebereich113 hinein. Das Hineinbringen 1201 kann aufweisen, das Substrat102 auf eine Substrat-Auflagefläche 202 (z.B. auf mehrere Auflagesegmente202a) aufzulegen und/oder an eine Ausrichtungsstruktur902 anzulegen.According to various embodiments, the method may be in 1201, eg, before clamping 1101 , comprising: placing thesubstrate 102 in the receivingarea 113 into it. Theinsert 1201 may comprise thesubstrate 102 on a substrate support surface 202 (eg onseveral support segments 202a ) and / or analignment structure 902 to apply.

Alternativ oder zusätzlich kann das Verfahren in 1201, z.B. nach dem Beschichten1104, aufweisen: Herausbringen des Substrats 102 aus dem Aufnahmebereich113 heraus.Alternatively or additionally, the method in 1201, for example after coating 1104 , comprising: bringing out thesubstrate 102 from the receivingarea 113 out.

Zum Hineinbringen1201 und/oder Herausbringen1201 kann Klemmen 1102 aufgehoben sein oder werden, z.B. indem die auf das Substrat102 übertragene Klemmkraft aufgehoben wird. Beispielsweise kann das Aufheben des Klemmens1102 aufweisen, die Klemmstruktur108 des Substratträgers502 in eine Wechsel-Konfiguration zu bringen.To bring in 1201 and / or bring out 1201 Clamp 1102 may or may not be repealed, eg by placing it on thesubstrate 102 transmitted clamping force is canceled. For example, the removal of the terminals 1102 have, the clampingstructure 108 of thesubstrate carrier 502 to bring in a change configuration.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Verfahren in 1203, z.B. kann das Anlegen der Beschichtungsmaske104, aufweisen: magnetisches Kuppeln der Beschichtungsmaske104 mittels einer magnetischen Wechselwirkung mit einem Maskenhalter 106. Das magnetische Kuppeln der Beschichtungsmaske 104 kann aufweisen, den Maskenhalter106 an die Beschichtungsmaske104 anzunähern, z.B. von einer der Beschichtungsmaske 104 gegenüberliegenden Seite des Aufnahmebereichs 113 bzw. des Substrats102 aus. Beispielsweise kann der Maskenhalter106 auf der der Beschichtungsmaske 104 gegenüberliegenden Seite des Aufnahmebereichs 113 bzw. des Substrats102 angeordnet sein oder werden.According to various embodiments, the method in 1203 may include, for example, applying thecoating mask 104 , comprising: magnetic coupling of thecoating mask 104 by means of a magnetic interaction with amask holder 106. The magnetic coupling of thecoating mask 104 may comprise themask holder 106 to thecoating mask 104 approach, for example, from one of thecoating mask 104 opposite side of the receivingarea 113 and thesubstrate 102 out. For example, themask holder 106 on the side opposite thecoating mask 104 side of the receivingregion 113 and thesubstrate 102 be arranged or become.

Alternativ oder zusätzlich kann das Verfahren in 1203, z.B. vor dem Herausbringen1201 und/oder nach dem Beschichten1105, aufweisen: magnetisches Entkuppeln der Beschichtungsmaske 104 von dem Maskenhalter106. Das magnetische Entkuppeln der Beschichtungsmaske104 kann aufweisen, den Maskenhalter106 von der Beschichtungsmaske104 weg zu verlagern, z.B. von der der Beschichtungsmaske104 gegenüberliegenden Seite des Aufnahmebereichs113 bzw. des Substrats 102 weg.Alternatively or additionally, the method may be in 1203, eg, prior toremoval 1201 and / or after coating 1105 , magnetic decoupling of thecoating mask 104 from themask holder 106 , The magnetic decoupling of thecoating mask 104 may have, themask holder 106 from thecoating mask 104 away, for example from thecoating mask 104 opposite side of the receivingarea 113 or thesubstrate 102 away.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Verfahren in 1205, z.B. kann das Klemmen1101, aufweisen: Auflegen eines Beschwerungselements 204 (z.B. einer Gewichtsplatte) auf das Substrat 102. Das Auflegen1205 des Beschwerungselements204 kann aufweisen, die Klemmkraft zumindest teilweise (d.h. teilweise oder vollständig) mittels des Beschwerungselements204 zu bewirken, z.B. mittels dessen Gewichtskraft.According to various embodiments, the method may be 1205, eg, clamping 1101 , placing a weighting element 204 (eg a weight plate) on thesubstrate 102. The laying on 1205 of theweighting element 204 may have, the clamping force at least partially (ie partially or completely) by means of theweighting element 204 to effect, for example by means of its weight.

Alternativ oder zusätzlich kann das Verfahren in 1205, z.B. nach dem Beschichten1105 und/oder nach oder gemeinsam mit dem Entkoppeln1203, aufweisen: Aufheben des Klemmens (z.B. Freigeben des Substrats102). Das Aufheben des Klemmens kann aufweisen, die Klemmkraft zumindest teilweise (d.h. teilweise oder vollständig) aufzuheben, z.B. indem das Wegverlagern des Beschwerungselements von dem Aufnahmebereich113 bzw. dem Substrat 102 darin erfolgt.Alternatively or additionally, the process may be at 1205, eg after coating 1105 and / or after or together withdecoupling 1203 , have: releasing the clamping (eg releasing the substrate 102 ). The removal of the clamping may comprise at least partially (ie partially or completely) releasing the clamping force, eg by displacing the weighting element away from the receivingarea 113 or thesubstrate 102 therein.

Optional kann das Verfahren, z.B. in 1201, 1203 und/oder in 1205, aufweisen Vor- und/oder Nachspannen der Beschichtungsmaske. Beispielsweise kann das Spannen der Beschichtungsmaske 104 für Ebenheit und/oder ein (z.B. automatisches) Nachspannen der Beschichtungsmaske zum faltenfreien Ausgleich bei Wärmedehnung (d.h. zum Kompensieren von Wärmedehnung) erfolgen. Damit kann ein Abheben der Beschichtungsmaske104 vom Substrat gehemmt und/oder verhindert werden.Optionally, the process, for example in 1201, 1203 and / or in 1205, comprise pre-stretching and / or retightening of the coating mask. For example, clamping thecoating mask 104 for evenness and / or (eg automatic) retightening of the coating mask for wrinkle-free compensation during thermal expansion (ie to compensate for thermal expansion) can take place. This can be a lifting of thecoating mask 104 be inhibited by the substrate and / or prevented.

13 und14 veranschaulichen einen Substratträger502 in einem Verfahren1300 gemäß verschiedenen Ausführungsformen, z.B. einen der vorangehend beschriebenen Substratträger 100a bis 400. 13 and 14 illustrate asubstrate carrier 502 in aprocedure 1300 according to various embodiments, eg one of thesubstrate carriers 100a to 400 described above.

Das Verfahren1300 kann in 1301 bis 1307 aufweisen: Hineinbringen eines Substrats in den Substratträger.Theprocedure 1300 may include in 1301 to 1307: placing a substrate in the substrate carrier.

Das Hineinbringen eines Substrats kann in 1301 aufweisen: Bereitstellen des Substratträgers, welcher eine Beschwerungsplatte 204 aufweist.The introduction of a substrate may include in 1301: providing the substrate support having aweight plate 204.

Das Hineinbringen kann in 1303 aufweisen: Wegverlagern eines Maskenträgers 106 von der Beschwerungsplatte204 (z.B. Anheben davon).The insertion may include in 1303: dislodging amask carrier 106 from the weighting plate 204 (eg lifting it).

Das Hineinbringen kann in 1305 aufweisen: Freilegen eines Aufnahmebereichs des Substratträgers. Das Freilegen kann aufweisen: Wegverlagern (z.B. Anheben) der Beschwerungsplatte204 von dem Aufnahmebereich113, z.B. indem der Maskenträger106 zusammen mit der Beschwerungsplatte204 davon weg verlagert (z.B. davon angehoben) wird. Beispielsweise kann die Beschwerungsplatte204 mittels der Verbindungsstruktur208 an dem Maskenträger106 hängend gelagert sein.The introduction may include in 1305: exposing a receiving area of the substrate carrier. The exposure may include: shifting away (eg, lifting) theweighting plate 204 from the receivingarea 113 , eg by themask wearer 106 together with theweighting plate 204 away from it (eg, raised from it). For example, theweighting plate 204 by means of theconnection structure 208 on themask wearer 106 be stored hanging.

Das Hineinbringen kann in 1307 aufweisen: Anordnen eines Substrats 102 in den Aufnahmebereich113, z.B. Hineinlegen des Substrats102 in einen Rahmen306 des Substratträgers.The placement may include at 1307: placing asubstrate 102 in the receivingarea 113 , eg inserting thesubstrate 102 in aframe 306 of the substrate carrier.

Nach dem Anordnen des Substrats102 in dem Aufnahmebereich113 kann das Klemmen1101 des Substrats und das Anlegen1103 der Beschichtungsmaske104 erfolgen, wie vorstehend beschrieben ist.After placing thesubstrate 102 in therecording area 113 can theterminals 1101 of the substrate and theapplication 1103 thecoating mask 104 take place as described above.

Alternativ oder zusätzlich zu dem Hineinbringen kann das Verfahren 1300 in 1301 bis 1307 aufweisen: Herausbringen des Substrats aus dem Substratträger.Alternatively, or in addition to the introduction, themethod 1300 may include in 1301 to 1307: removing the substrate from the substrate carrier.

Das Verfahren kann in 1301 aufweisen: Bereitstellen des Substratträgers, in welchem beispielsweise das Substrat (in der Ansicht verdeckt) angeordnet ist. Das Substrat kann beispielsweise mittels einer Beschwerungsplatte204 in dem Substratträger geklemmt sein oder werden.The method may comprise in 1301: providing the substrate carrier in which, for example, the substrate (hidden in the view) is arranged. The substrate may be, for example, by means of aweighting plate 204 be clamped in the substrate support or be.

Das Verfahren kann in 1303 und 1305 aufweisen: Freilegen des Substrats.The method may include in 1303 and 1305: exposing the substrate.

Das Verfahren kann in 1303 aufweisen: Wegverlagern einer Beschichtungsmaske (in der Ansicht verdeckt) von dem Aufnahmebereich 113 bzw. dem Substrat. Das Wegverlagern kann aufweisen: Aufheben einer magnetischen Kupplung, mittels deren die Beschichtungsmaske an das Substrat (z.B. in 1301) gepresst wird. Das Aufheben der magnetischen Kupplung kann aufweisen: Wegverlagern (z.B. Anheben) eines Maskenträgers106 von dem Aufnahmebereich113 bzw. dem Substrat.The method may include 1303: Moving away a coating mask (hidden in the view) of the receivingarea 113 and the substrate. The displacement may include: canceling a magnetic coupling, by means of which the coating mask is pressed against the substrate (eg in 1301). The cancellation of the magnetic coupling may include: dislocation (eg, lifting) of amask wearer 106 from the receivingarea 113 or the substrate.

In 1303 kann das Substrat mittels einer der Beschwerungsplatte 204 geklemmt sein oder werden.In 1303, the substrate may be or may be clamped by one of theweighting plate 204.

Das Verfahren kann in 1305 aufweisen: Aufheben des Klemmens. Beispielsweise kann das Aufheben des Klemmens aufweisen, eine Klemmstruktur 108 des Substratträgers502 in eine Wechsel-Konfiguration zu bringen. Das Aufheben kann beispielsweise aufweisen: Wegverlagern (z.B. Anheben) der Beschwerungsplatte204 von dem Substrat102, z.B. indem der Maskenträger106 zusammen mit der Beschwerungsplatte204 wegverlagert (z.B. von dem Substrat angehoben) wird. Beispielsweise kann die Beschwerungsplatte 204 mittels der Verbindungsstruktur208 an dem Maskenträger106 hängend gelagert sein.The method may include in 1305: releasing the clamp. For example, the removal of the clamping may include a clampingstructure 108 of thesubstrate carrier 502 to bring in a change configuration. The cancellation may include, for example: shifting away (eg lifting) theweighting plate 204 from thesubstrate 102 , eg by themask wearer 106 together with theweighting plate 204 wegverlagert (eg lifted from the substrate) is. For example, theweighting plate 204 may be connected by means of theconnection structure 208 on themask wearer 106 be stored hanging.

Das Verfahren kann in 1307 aufweisen: Wegverlagern des Substrats 102 aus dem Substratträger.The method may include at 1307: displacing thesubstrate 102 away from the substrate carrier.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Anlegen der Beschichtungsmaske aufweisen: Heranziehen der Beschichtungsmaske (z.B. magnetischen Edelstahl aufweisend oder daraus gebildet) mittels eines Magnetfelds des Maskenhalters 106 (z.B. eine Magnetplatte106 aufweisend oder daraus gebildet) zum Zwecke einer spaltfreien Anlage der Beschichtungsmaske 104 an der Beschichtungsseite des Substrates 102. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine untergehangene Gewichtsplatte (d.h. unterhalb und an der Maskenhalter 106 hängende Gewichtsplatte204) verwendet werden zum Zwecke einer exakten Auflastung des Substrates102, so dass beim Lösen der Magnetkräfte durch Anheben der Maskenhalters 106 ein Verrücken (z.B. aufgrund Bewegens) des Substrats 102 gehemmt wird, z.B. so dass ein Bewegen des Substrats 102 verhindert wird.According to various embodiments, the application of the coating mask may include: drawing on the coating mask (eg, comprising or formed from magnetic stainless steel) by means of a magnetic field of the mask holder 106 (eg, amagnetic disk 106 to form a gap-free abutment of thecoating mask 104 on the coating side of thesubstrate 102. According to various embodiments, an underlaid weight plate (ie, below and attached to themask holder 106 weight plate 204 ) can be used for the purpose of exact loading of thesubstrate 102 such that when the magnetic forces are released by lifting themask holder 106, dislocation (eg, due to movement) of thesubstrate 102 is inhibited, eg, so that movement of thesubstrate 102 is prevented.

Claims

Translated fromGerman

Substratträger (502, 100a bis 400), aufweisend:• einen Aufnahmebereich (113);• eine Beschichtungsmaske (104), welche eingerichtet ist, mittels einer magnetischen Wechselwirkung an den Aufnahmebereich (113) angelegt zu werden;• einen Maskenhalter (106), welcher zum Bewirken der magnetischen Wechselwirkung eingerichtet ist; und• eine Klemmstruktur (108) zum Klemmen Substrats in dem Aufnahmebereich (113), so dass dieses beim Anlegen der Beschichtungsmaske (104) vorfixiert ist.Substrate Carrier (502, 100a to 400), comprising:A receiving area (113);A coating mask (104) which is arranged to be applied to the receiving area (113) by means of a magnetic interaction;A mask holder (106) arranged to effect the magnetic interaction; andA clamping structure (108) for clamping the substrate in the receiving area (113) so that it is pre-fixed when the coating mask (104) is applied.

Substratträger (502, 100a bis 400) gemäßAnspruch 1, wobei die Beschichtungsmaske (104) ein magnetisierbares oder magnetisiertes Material aufweist; und/oder wobei der Maskenhalter (106) ein magnetisierbares oder magnetisiertes Material aufweist.Substrate carrier (502, 100a to 400) according to Claim 1 wherein the coating mask (104) comprises a magnetizable or magnetized material; and / or wherein the mask holder (106) comprises a magnetizable or magnetized material.

Substratträger (502, 100a bis 400) gemäßAnspruch 2, wobei das Material hartmagnetisch ist.Substrate carrier (502, 100a to 400) according to Claim 2 , wherein the material is hard magnetic.

Substratträger (502, 100a bis 400) gemäß einem derAnsprüche 1 bis3, wobei die Klemmstruktur (108) eine kleinere magnetische Permeabilität als die Beschichtungsmaske (104) aufweist.Substrate carrier (502, 100a to 400) according to one of Claims 1 to 3 wherein the clamping structure (108) has a smaller magnetic permeability than the coating mask (104).

Substratträger (502, 100a bis 400) gemäß einem derAnsprüche 1 bis4, wobei die Klemmstruktur (108) eine Substrat-Auflagefläche (202) aufweist, welche den Aufnahmebereich (113) in Richtung der Beschichtungsmaske (104) begrenzt.Substrate carrier (502, 100a to 400) according to one of Claims 1 to 4 wherein the clamping structure (108) has a substrate support surface (202) which limits the receiving region (113) in the direction of the coating mask (104).

Substratträger (502, 100a bis 400) gemäß einem derAnsprüche 1 bis5, wobei die Klemmstruktur (108) ein Beschwerungselement (204) aufweist, welches eingerichtet ist, zum Klemmen eine Kraft zu bewirken, welche im Wesentlichen die Gewichtskraft des Beschwerungselements (204) ist.Substrate carrier (502, 100a to 400) according to one of Claims 1 to 5 wherein the clamping structure (108) comprises a weighting member (204) arranged to cause a force to be clamped, which is substantially the weight of the weighting member (204).

Substratträger (502, 100a bis 400) gemäßAnspruch 5 oder6, wobei die Substrat-Auflagefläche (202) einen größeren Reibungskoeffizienten gegenüber dem Substrat aufweist als die Beschichtungsmaske (104) und/oder als das Beschwerungselement (204).Substrate carrier (502, 100a to 400) according to Claim 5 or 6 wherein the substrate support surface (202) has a greater coefficient of friction with respect to the substrate than the coating mask (104) and / or as the weighting element (204).

Substratträger (502, 100a bis 400) gemäßAnspruch 7, ferner aufweisend:eine Verbindungsstruktur (208), welche das Beschwerungselement mit dem Maskenhalter (106) derart verbindet, dass deren Abstand voneinander mittels der Verbindungsstruktur (208) begrenzt ist.Substrate carrier (502, 100a to 400) according to Claim 7 , further comprising: a connection structure (208) connecting the weighting member to the mask holder (106) such that their distance from each other is limited by means of the connection structure (208).

Transportanordnung (500a bis 500c, 600a), aufweisend:• einen Substratträger (502, 100a bis 400) gemäß einem derAnsprüche 1 bis8, und• eine Transportvorrichtung (504) zum Transportieren des Substratträgers (502, 100a bis 400) entlang eines Transportpfades (111).Transport arrangement (500a to 500c, 600a), comprising: • a substrate carrier (502, 100a to 400) according to one of Claims 1 to 8th and a transport device (504) for transporting the substrate carrier (502, 100a to 400) along a transport path (111).

Vakuumanordnung, aufweisend:• eine Transportanordnung (500a bis 500c, 600a) gemäßAnspruch 9; und• eine Vakuumkammer, in welcher der Transportpfad (111) angeordnet ist.Vacuum arrangement, comprising: a transport arrangement (500a to 500c, 600a) according to Claim 9 ; and • a vacuum chamber in which the transport path (111) is arranged.

Verfahren (1100), aufweisend:• Klemmen (1101) eines Substrats (102) in einem Aufnahmebereich (113) eines Substratträgers (502, 100a bis 400), so dass das Substrat (102) vorfixiert ist; und• Anlegen (1103) einer Beschichtungsmaske (104) an das eingeklemmte Substrat (102) mittels einer magnetischen Wechselwirkung, welche auf die Beschichtungsmaske (104) bewirkt wird.Method (1100), comprising:Clamping (1101) a substrate (102) in a receiving area (113) of a substrate carrier (502, 100a to 400) so that the substrate (102) is pre-fixed; andApplying (1103) a coating mask (104) to the clamped substrate (102) by means of a magnetic interaction, which is effected on the coating mask (104).

Verfahren (1100) gemäßAnspruch 11, ferner aufweisend:Vor- und/oder Nachspannen der Beschichtungsmaske (104).Method (1100) according to Claim 11 , further comprising: pre-tensioning and / or tensioning of the coating mask (104).