DieErfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Antireflexschicht-bildendenBeschichtungen auf einem Substrat sowie eine Antireflexbeschichtungauf einem Substrat.TheThe invention relates to a process for the preparation of antireflective coating-formingCoatings on a substrate as well as an antireflective coatingon a substrate.
Esist bekannt, dass heutzutage transparente Kunststoffe und Glas miteiner Antireflex-Schicht versehen werden, um die Verluste durchdie Reflexion an den Oberflächen zu minimieren. Fürz. B. Brillengläser und Fensterscheiben werden dazu hauptsächlichSchichtkombinationen eingesetzt, die mindestens eine hochbrechendeSchicht enthalten. Diese Multilagenschichten werden hauptsächlich über PVD-Prozesse,wie Sputtern oder Aufdampfen, hergestellt (
Umeine wirksame Erhöhung der solaren Transmission zu erreichen,muss der Brechungsindex des Substratmaterials (nS ≅ 1,5)an denjenigen von Luft (nL = 1) überein sehr niedrigbrechendes Dünnschichtsystem (nD < 1,3)angepasst werden. Dies ist mit den klassischen Beschichtungstechnologienals dichte Filme nicht erzielbar. Allerdings sind eine Reihe vonVerfahren für die breitbandige Transmissionserhöhungvon Acrylglas und Floatglas bereits untersucht worden (
ImBereich der Solaranwendungen werden solche Antireflex-Eigenschaftenauf Glas über Sol-Gel-Schichten (Centrosolar,
WennKunststoffe entspiegelt werden sollen, werden dazu häufigStrukturen in die Oberfläche geprägt oder es wirddurch Plasmaätzen die Oberfläche strukturiert(
Injüngster Zeit werden immer häufiger Plasmen eingesetzt,die bei Umgebungsdruck arbeiten. Mit kalten, bei Atmosphärendruckbetriebenen, im technischen Sprachgebrauch auch. als „Corona-Entladungen” bezeichnetendielektrisch behinderten Entladungen („(dielektrische)Barrierenentladungen”) ist es möglich, mittelsPECVD ebenfalls Schichten abzuscheiden. Hierbei könnenebenfalls gezielt poröse Schichten hergestellt werden,die als Antireflex-Schicht eingesetzt werden können. In
Allediese Schichten bzw. porösen Materialien zeigen einen sehr ähnlichen,optisch nahezu gleichen Verlauf der Transmission bzw. Reflexion.Sie können über die Schichtdicke und den Brechungsindexin einem begrenzten spektralen Bereich auf eine gute Transmissionbzw. geringe Reflexion optimiert werden. Eine breitbandige Entspiegelungkann damit aber nicht erreicht werden.Allthese layers or porous materials show a very similar,optically almost the same course of the transmission or reflection.You can about the layer thickness and the refractive indexin a limited spectral range to a good transmissionor low reflection can be optimized. A broadband anti-reflective coatingbut can not be achieved with it.
Ausgehendhiervon ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine kostengünstige,breitbandige Entspiegelung von Substraten zu ermöglichen,wobei auch die Brechungsindices der benachbarten Schichten angepasstsein sollen.outgoingIt is the object of the present invention to provide a cost-effective,to enable broadband antireflective of substrateswherein also the refractive indices of the adjacent layers are adjustedshould be.
DieseAufgabe wird durch das Verfahren mit den Merk malen des Anspruchs1 gelöst. Anspruch 23 betrifft eine Antireflexbeschichtung.Weitere vorteilhafte Ausführungsformen sind in den abhängigen Ansprüchenenthalten.TheseThe object is achieved by the method with the features of the claim1 solved. Claim 23 relates to an antireflective coating.Further advantageous embodiments are in the dependent claimscontain.
Erfindungsgemäß wirdein Verfahren zur Herstellung mindestens einer eine Antireflexschicht bildendenBeschichtung auf einem sich bewegenden Substrat, mittels eines PECVD-Verfahrensbereitgestellt, wobei eine Gasmischung umfassend mindestens einArbeits-, Träger- sowie Balancegas durch mindestens einenzwischen mindestens zwei Hochspannungselektroden bildenden Spaltgeführt wird und mindestens zwischen dem sich bewegenden Substrat,das von mindestens einer Gegenelektrode getragen wird, und den Hochspannungselektroden einPlasma erzeugt wird, das eine Plasmazone vorgibt mit der Maßgabe,dass bei Atmosphärendruck bzw. annäherndem Atmosphärendruckgearbeitet wird und eine Volumendosis des Plasmas von 105 bis 108 Ws/m3 in der Plasmazone eingehalten wird.According to the invention, a process is provided for producing at least one antireflection coating on a moving substrate by means of a PECVD process, wherein a gas mixture comprising at least one working, carrier and balance gas is passed through at least one gap forming between at least two high voltage electrodes and at least between the moving substrate carried by at least one counterelectrode and the high voltage electrodes, a plasma is generated which provides a plasma zone with the proviso that operating at atmospheric pressure or approximately atmospheric pressure and a volume dose of the plasma from 105 to 108 Ws / m3 is maintained in the plasma zone.
Unterannäherndem Atmosphärendruck wird erfindungsgemäß einDruck zwischen 0,9 und 1,1 bar verstanden. Mit dem erfindungsgemäßenVerfahren ist es möglich, über einen PECVD-Prozessbei Atmosphärendruck (bzw. annäherndem Atmosphärendruck)eine sehr breitbandige (mehrere 100 nm) Entspiegelung bzw. Erhöhungder Transmission zu erreichen. Dazu wurde die Anordnung eines Elektrodensystemsmit einem Gaseinlass und mehreren Hochspannungselektroden dahingehendoptimiert, dass die in einem Schritt, d. h. bei nur einer Passageder zu entspiegelnden Scheibe durch eine Beschichtungsvorrichtung,abgeschiedene Schicht unterschiedliche Brechungsindices enthält.Wichtig ist dabei, dass die Anzahl der Elektroden sowie die Gaszufuhrund Gasabfuhr genau auf das Monomer abgestimmt wer den, um die optimalenoptischen Eigenschaften zu erhalten.Under approximate atmospheric pressure is understood according to the invention a pressure between 0.9 and 1.1 bar. With the method according to the invention, it is possible via a PECVD process at atmo Spherical pressure (or approximate atmospheric pressure) to achieve a very broadband (several 100 nm) anti-reflection or increase in the transmission. For this purpose, the arrangement of an electrode system with a gas inlet and a plurality of high-voltage electrodes has been optimized such that the layer deposited in one step, ie, only one passage of the wafer to be coated by a coating apparatus, contains different refractive indices. It is important that the number of electrodes and the gas supply and gas removal matched exactly to the monomer who the, to obtain the optimum optical properties.
Bevorzugtliegt die Volumendosis im Bereich von 2 × 105 bis2 × 107 Ws/m3.Dadurch wird eine optimale Beschichtung des Substrates ermöglicht.So ist es möglich, eine Oberfläche zu erhalten,die möglichst gleichmäßig beschichtetist. Die Volumendosis setzt sich dabei aus der Leistung pro Volumenund der Verweilzeit des Prozessgases in der Plasmazone in dem Volumenzusammen. Sie ist ein Maß für den Umsetzungsgraddes Precursors.Preferably, the volume dose is in the range of 2 × 105 to 2 × 107 Ws / m3 . As a result, an optimum coating of the substrate is made possible. So it is possible to obtain a surface that is coated as evenly as possible. The volume dose is composed of the power per volume and the residence time of the process gas in the plasma zone in the volume. It is a measure of the degree of conversion of the precursor.
Weiterhinkann in dem erfindungsgemäßen Verfahren mit einerdielektrischen Barriereentladung gearbeitet werden.Farthercan in the inventive method with adielectric barrier discharge to be worked.
DieGasgeschwindigkeit der Gasmischung kann dabei so gewähltwerden, dass eine Verweildauer des Plasmas in der Plasmazone von1 ms bis 1000 ms eingehalten wird. Dies ermöglicht einehomogene Beschichtung der Oberfläche in Abhängigkeitvon den eingesetzten Substraten wie auch dem Arbeits-, Träger-sowie Balancegas. Vorteilhaft ist eine Verweildauer von 5 ms bis500 ms.TheGas velocity of the gas mixture can be chosen sobe that a residence time of the plasma in the plasma zone of1 ms to 1000 ms is maintained. This allows ahomogeneous coating of the surface in dependenceof the substrates used as well as the working, carrieras well as balance gas. An advantage is a residence time of 5 ms to500 ms.
Alternativkann das PECVD-Verfahren so betrieben werden, dass die Plasmazoneeinen Vorionisationsbereich mit verminderter Abscheiderate und einenAbscheidebereich umfasst.alternativeThe PECVD method can be operated so that the plasma zonea Vorionisationsbereich with reduced deposition rate and aSeparation area includes.
Bevorzugtwird das PECVD-Verfahren so betrieben, dass die Vorionisation mindestensteilweise im Spalt erfolgt. Dabei kann die Anordnung fürdas Verfahren aus z. B. einer Gaszufuhr in der Mitte und mindestenseiner oder mehrerer beliebig breiter Elektroden auf je der Seiteder Gaszufuhr bestehen, wodurch auch eine gezielte Absaugung desGases so realisiert werden kann. Durch eine geeignete elektrischeAnordnung kann die Vorionisation auch zwischen den Elektroden erfolgen,so dass auf dem Substrat nur die Abscheidung erfolgt. Im Bereichder Vorionisation wird üblicherweise nur eine geringfügigeSchicht abgeschieden, wohingegen in der Abscheidungszone die eigentlicheAbscheidung erfolgt.Prefersthe PECVD process is operated so that the pre-ionization at leastpartially done in the gap. The arrangement forthe method of z. B. a gas supply in the middle and at leastone or more arbitrarily wide electrodes on each sideconsist of gas supply, whereby a targeted extraction of theGases can be realized. By a suitable electricalArrangement, the preionization can also take place between the electrodes,so that only the deposition takes place on the substrate. In the areaThe preionization is usually only a minorLayer deposited, whereas in the deposition zone, the actualDeposition takes place.
Vorteilhafterweisewird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren pro beschichteterSubstratoberfläche, bezogen auf das unbeschichtete Substrat, eineReflektionsminderung um mindestens 2,5% in einem Wellenlängenbereichvon mindestens 200 nm erreicht. Dieser Bereich kann variabel zwischen200 nm und 1500 nm eingestellt werden und z. B. zwischen 300 nmund 500 nm, 400 nm und 600 nm oder 500 nm und 700 nm liegen.advantageously,is coated with the method according to the invention proSubstrate surface, based on the uncoated substrate, aReflection reduction by at least 2.5% in one wavelength rangeof at least 200 nm. This area can be variable between200 nm and 1500 nm are set and z. B. between 300 nmand 500 nm, 400 nm and 600 nm or 500 nm and 700 nm.
BeimDurchgang eines Lichtstrahls durch eine Scheibe wird das Licht anGrenzflächen reflektiert und in den Materialien absorbiert;aus Gründen der Energieerhaltung ist die transmittierteIntensität, bezogen auf eine einfallende Intensitätvon 100%, gegeben durch T = 100% – R – A, wobeiR und A die „Energieverluste” durch Reflexionund Absorption bezeichnen. Wenn es gelingt, durch Entspiegelungeiner Grenzfläche des ursprünglich unbeschichteten Glasesdie Reflexion um x% zu verringern, steigt T um x% an. Die theoretischmaximal mögliche Entspiegelung einer Grenzflächeeines Materials mit dem Brechungsindex ns beträgtdabei [(ns – 1)/(ns + 1)]2, bei gewöhnlichem Glas mit ns ≈ 1,5 also 4,0%.As a light beam passes through a disk, the light is reflected at interfaces and absorbed in the materials; for energy conservation reasons, the transmitted intensity, based on an incident intensity of 100%, is given by T = 100% - R - A, where R and A denote the "energy losses" by reflection and absorption. If it is possible to reduce the reflection by x% by antireflecting an interface of the originally uncoated glass, T increases by x%. The theoretically maximum possible antireflection of an interface of a material with the refractive index ns is [(ns -1) / (ns + 1)]2 , in the case of ordinary glass with ns ≈ 1.5 that is 4.0%.
DasSubstrat weist bevorzugt im Bereich von 300 bis 1000 nm eine Reflektionsminderungvon mindestens 2,5% auf. Dies umfasst folglich nicht nur den Bereichdes sichtbaren Lichtes, sondern auch einen Teil des nahen Infrarot-Bereichssowie auch des UV-Lichtes. Somit ist das erfindungsgemäßeVerfahren für eine große spektrale Bandbreiteund damit verbundenen, verschiedenen Anforderungen einsetzbar.TheSubstrate preferably has a reflection reduction in the range of 300 to 1000 nmof at least 2.5%. Consequently, this does not only cover the areaof visible light, but also a part of the near infrared rangeas well as the UV light. Thus, the inventionMethod for a large spectral bandwidthand related, various requirements can be used.
Eskann auch mit dem erfindungsgemäßen Verfahreneine eine Antireflexschicht bildende Beschichtung abgeschieden werden.Itcan also with the method according to the inventiona coating forming an antireflective layer is deposited.
Weiterhinkann auf der mindestens einen Schicht, die eine Antireflexschichtbildet, mindestens eine weitere Schicht abgeschieden werden.Farthercan be on the at least one layer containing an antireflective layerforms, at least one further layer to be deposited.
Vorteilhafterweisekann als mindestens eine weitere Schicht eine die Benetzung derOberfläche beeinflussende Schicht abgeschieden werden.Dies kann eine hydrophobe Schicht sein, die z. B. mittels Hexamethylcyclotrisiloxan,Hexamethyldisiloxan oder einer Fluorverbindung (c-C4F8 oder CF4) unter inertenBedingungen (Ar, He, N2 als Trägergas)abgeschieden werden kann und einen Wasserrandwinkel über90° aufweist.Advantageously, a layer influencing the wetting of the surface can be deposited as at least one further layer. This may be a hydrophobic layer, the z. B. by hexamethylcyclotrisiloxane, hexamethyldisiloxane or a fluorine compound (cC4 F8 or CF4 ) under inert conditions (Ar, He, N2 as a carrier gas) can be deposited and has a water edge angle over 90 °.
Bevorzugtwird als mindestens eine weitere Schicht eine die Kratzfestigkeitder Oberfläche verbessernde Schicht abgeschieden. Diesermöglicht einen Einsatz der Substrate auch unter extremeren Umgebungsbedingungen,wie z. B. im Außenbereich. Dies kann eine glasartige SiOx-Schicht sein, wie sie im Beispiel 3 beschriebenist.Preferably, a layer which improves the scratch resistance of the surface is deposited as at least one further layer. This allows use of the substrates even under extreme environmental conditions, such. B. in the outdoor area. This may be a glassy SiOx layer, as described in Example 3.
AlsArbeitsgas wird bevorzugt mindestens ein Precursor ausgewähltaus Silanen, Organosilanen, Organosiloxanen, Organosilazanen, Alkoxysilanen,fluorhaltigen Monomeren und/oder Mischungen hiervon eingesetzt.As the working gas is preferably at least a precursor selected from silanes, organosilanes, organosiloxanes, organosilazanes, alkoxysilanes, fluorine-containing monomers and / or mixtures thereof used.
Hierbeiist das Organosilan ausgewählt aus Substanzen wie z. B.Tetramethylsilan, Trimethylsilan oder Mischungen hiervon. Hierbeiist das Organosiloxan ausgewählt aus Substanzen wie z.B. Hexamethyldisiloxan, Octamethyltrisiloxan oder Mischungen hiervon.Hierbei ist das Organosilazan ausgewählt aus Substanzenwie z. B. Hexamethyldisilazan, Octamethyltrisilazan oder Mischungenhiervon. Hierbei ist das Alkoxysilan ausgewählt aus Substanzenwie z. B. Tetramethoxysilan, Tetraethoxysilan, Aminopropyltrimethoxysilanoder Mischungen hiervon.in this connectionis the organosilane selected from substances such. B.Tetramethylsilane, trimethylsilane or mixtures thereof. in this connectionis the organosiloxane selected from substances such.Hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane or mixtures thereof.Here, the organosilazane is selected from substancessuch as As hexamethyldisilazane, octamethyltrisilazane or mixtureshereof. Here, the alkoxysilane is selected from substancessuch as For example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, aminopropyltrimethoxysilaneor mixtures thereof.
DerBegriff „Arbeitsgas” beinhaltet eine reaktiveSubstanz, die bei Standard-Bedingungen (Raumtemperatur, Normaldruck)gasförmig sein kann und polymerisierbar ist, so dass sieauf dem Substrat eine Beschichtung bilden kann.Of theTerm "working gas" includes a reactive oneSubstance which under standard conditions (room temperature, normal pressure)may be gaseous and is polymerizable, so theycan form a coating on the substrate.
Jenach Precursor können die Hydrophilie der Oberflächeerhöht werden oder hydrophobe Schichten aufgebracht werdenbzw. die Kratzfestigkeit und damit die Stabilität der Schichtenerhöht werden. Ein Maß für den Umsetzungsgraddes Precursors in der Plasmazone ist die bereits genannte Volumendosis.everAfter Precursor, the hydrophilicity of the surfacebe increased or hydrophobic layers are appliedor the scratch resistance and thus the stability of the layersincrease. A measure of the degree of implementationof the precursor in the plasma zone is the volume dose already mentioned.
Bevorzugtist das Balancegas ausgewählt aus Luft, CO2,O2, NH3, N2O, He, N2, Ar. DasBalancegas ist erfindungsgemäß ein reaktives odernicht reaktives Gas, das dem Trägergas und Arbeitsgas vorder Plasmazone beigemischt wird.Preferably, the balance gas is selected from air, CO2 , O2 , NH3 , N2 O, He, N2 , Ar. The balance gas according to the invention is a reactive or non-reactive gas which is added to the carrier gas and working gas in front of the plasma zone.
DasTrägergas ist vorzugsweise ausgewählt aus Edelgasenoder Inertgasen, insbesondere Helium, Argon und Stickstoff. Trägergasesind Gase, die das Arbeitsgas in die Plasmazone trägt.TheCarrier gas is preferably selected from noble gasesor inert gases, in particular helium, argon and nitrogen. carrier gasesare gases that carry the working gas into the plasma zone.
Vorteilhafterweisewird als Substrat Glas, insbesondere Floatglas oder Gussglas, eingesetzt. Somitsind diese Schichten hervorragend u. a. für den Einsatzim Bereich Verglasung und solare Anwendung geeignet. Mit diesemVerfahren können alle möglichen planaren Substrate,wie Folien, Platten oder Scheiben aus Glas, Silizium, Gummi oder Kunststoffbeschichtet werden. Weiterhin kann durch eine dynamische Beschichtung,d. h. durch Bewegung des Substrates oder des Elektrodenkopfes, einebesonders gute Beschichtung und damit eine breitbandige Entspiegelungerreicht werden.advantageously,is used as a substrate glass, in particular float glass or cast glass. ConsequentlyThese layers are excellent u. a. for usesuitable for glazing and solar applications. With thisMethods can be any possible planar substrates,such as foils, plates or discs made of glass, silicon, rubber or plasticbe coated. Furthermore, by means of a dynamic coating,d. H. by movement of the substrate or the electrode head, aparticularly good coating and thus a broadband anti-reflection coatingbe achieved.
AlsSubstrat können ferner auch Polymere, insbesondere optischtransparente Kunststoffe, eingesetzt werden.WhenSubstrate can also polymers, in particular opticallytransparent plastics, are used.
Weiterhinist eine durch eines der bisher beschriebenen Verfahren herstellbareAntireflexbeschichtung auf einem Substrat erfindungsgemäß.Fartheris a producible by one of the methods described so farAntireflection coating on a substrate according to the invention.
Anhandder nachfolgenden
In
In
Dieseverschiedenen Anordnungen sind beliebig kombinierbar in Abhängigkeitvon den Substraten wie auch den gewünschten Oberflächeneigenschaften.Thesevarious arrangements can be combined as desired in dependencefrom the substrates as well as the desired surface properties.
Beispiel 1example 1
Antireflex-Beschichtung eines Floatglases(dynamisch)Antireflective coating of a float glass(dynamic)
EinBeschichtungssystem mit einem zentralen Gaseinlass und je einerHochspannungselektrode auf jeder Seite wird verwendet. Die Gasgeschwindigkeitwird so gewählt, dass eine Verweilzeit von 12 ms erreichtwird, mit einer Mischung aus Helium, Kohlendioxid, Ammoniak undSilan. Es wird eine dielektrische Barrierenentladung betrieben,so dass eine Volumendosis von 6·105 W·s/m3 erreicht wird. Ein sich bewegendes Glassubstratwird so einseitig mit einer Geschwindigkeit von 1 mm/s beschichtet. Danachwird die Probe gedreht und mit den gleichen Parametern auf der Rückseitebeschichtet. Bei der mittels UV-VIS-Spektroskopie vermessenen Probe reduziertsich die Reflexion im Bereich von 300 bis 1000 nm auf etwa 1%.A coating system with a central gas inlet and a high voltage electrode on each side is used. The gas velocity is chosen to achieve a residence time of 12 ms with a mixture of helium, carbon dioxide, ammonia and silane. A dielectric barrier discharge is operated, so that a volume dose of 6 · 105 W · s / m3 is achieved. A moving glass substrate is coated on one side at a speed of 1 mm / s. The sample is then rotated and coated with the same parameters on the back. In the case of the UV-VIS spectroscopy measured sample, the reflection in the range of 300 to 1000 nm reduced to about 1%.
Beispiel 2Example 2
Antireflex-Beschichtung eines Floatglases(statisch)Antireflective coating of a float glass(static)
EinBeschichtungsreaktor mit zwei Glasplatten (10 × 30 cm2) und Kupferband als planare Elektroden(5 × 25 cm2) wird von einer Seitemit einer Gasmischung aus Helium, Distickstoffoxid, Ammoniak undSilan gespült. Die Gesamtverweilzeit im Reaktor beträgt360 ms und die gesamte Volumendosis 2·105 Ws/m3. Es zeigt sich, dass nach einer Verweilzeitvon ca. 5 ms die Schichtabscheidung einer Antireflex-Schicht beginntund aufgrund der gewählten Volumendosis diese bis zu einerVerweilzeit von ca. 140 ms als Antireflex-Schicht reicht. Danachist der Precursor nahezu vollständig abreagiert.A coating reactor with two glass plates (10 × 30 cm2 ) and copper tape as planar electrodes (5 × 25 cm2 ) is rinsed from one side with a gas mixture of helium, nitrous oxide, ammonia and silane. The total residence time in the reactor is 360 ms and the total volume dose 2 × 105 Ws / m3 . It turns out that after a residence time of about 5 ms, the layer deposition of an antireflection layer begins and, due to the selected volume dose, this extends as an antireflection layer up to a residence time of about 140 ms. Thereafter, the precursor is almost completely reacted.
Beispiel 3Example 3
Antireflex und Antikratz-BeschichtungAnti-reflective and anti-scratch coating
EinFloatglas wird zuerst mit den in Beispiel 1 beschriebenen Parameternmit einer Antireflex-Schicht beschichtet. Allerdings wird diese Schichtbei einer Geschwindigkeit von 2 mm/s abgeschieden. Im Anschlusswird mit einer identischen Anordnung mit dem Precursor TMOS (Tetramethoxysilan)sowie Stickstoff und Ammoniak als Prozessgasen die Gasgeschwindigkeitso gewählt, dass eine Verweilzeit von 10 ms und eine Volumendosisvon 5·105 Ws/m3 undeiner Geschwindigkeit von 4 mm/s betrieben. Diese Schichtkombinationzeigt neben der Antireflex-Wirkung auch eine verbesserte Kratzstabilität.A float glass is first coated with the antireflective layer using the parameters described in Example 1. However, this layer is deposited at a speed of 2 mm / s. Subsequently, with an identical arrangement with the precursor TMOS (tetramethoxysilane) and nitrogen and ammonia as process gases, the gas velocity is chosen so that a residence time of 10 ms and a volume dose of 5 × 105 Ws / m3 and a speed of 4 mm / s operated. In addition to the antireflection effect, this layer combination also exhibits improved scratch stability.
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|---|---|
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|---|---|
| DE (1) | DE102009030303A1 (en) |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013079798A1 (en)* | 2011-12-01 | 2013-06-06 | Beneq Oy | Surface treatment apparatus and method |
| AT517694A4 (en)* | 2015-11-12 | 2017-04-15 | Inocon Tech Ges M B H | Apparatus and method for applying a coating |
| CN110716256A (en)* | 2018-07-12 | 2020-01-21 | 采钰科技股份有限公司 | Optical element and method of making the same |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19912737A1 (en) | 1998-03-19 | 2000-06-21 | Henning Nagel | Production of porous silicon oxide film useful as antireflection coating on glass or transparent plastics, involves using self-shading or atoms and molecules in plasma-enhanced chemical vapor deposition |
| EP1206715A1 (en) | 1999-11-17 | 2002-05-22 | Saint-Gobain Glass France | Transparent substrate comprising an antiglare coating |
| EP1342810A1 (en) | 2000-12-12 | 2003-09-10 | Konica Corporation | Method for forming thin film, article having thin film, optical film, dielectric coated electrode, and plasma discharge processor |
| US20040091637A1 (en)* | 2002-02-05 | 2004-05-13 | Gabelnick Aaron M. | Corona-generated chemical vapor deposition on a substrate |
| DE10250564A1 (en) | 2002-10-30 | 2004-05-19 | Schott Glas | Coating products, optics and automobile windows involves preparing substrate, coating with anti-reflective system, then coating with working layer to, e.g., resist scratches |
| DE10318566A1 (en) | 2003-04-15 | 2004-11-25 | Fresnel Optics Gmbh | Process and tool for producing transparent optical elements from polymeric materials |
| EP1328483B1 (en) | 2000-10-18 | 2005-12-28 | Flabeg Solarglas GmbH & Co. KG | Thermally tempered glass comprising a non-abrasive, porous, sio2 antireflection layer |
| EP1181256B1 (en) | 1999-04-26 | 2006-03-29 | CENTROSOLAR Glas GmbH & Co. KG | Tempered safety-glass that is provided with a scratch-resistant, porous sio2 antireflective layer and method for producing the same |
| EP1819843A1 (en) | 2004-10-29 | 2007-08-22 | Dow Gloval Technologies Inc. | Improved deposition rate plasma enhanced chemical vapor process |
| WO2008045226A1 (en) | 2006-10-06 | 2008-04-17 | Dow Global Technologies Inc. | Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating process |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19912737A1 (en) | 1998-03-19 | 2000-06-21 | Henning Nagel | Production of porous silicon oxide film useful as antireflection coating on glass or transparent plastics, involves using self-shading or atoms and molecules in plasma-enhanced chemical vapor deposition |
| EP1181256B1 (en) | 1999-04-26 | 2006-03-29 | CENTROSOLAR Glas GmbH & Co. KG | Tempered safety-glass that is provided with a scratch-resistant, porous sio2 antireflective layer and method for producing the same |
| EP1206715A1 (en) | 1999-11-17 | 2002-05-22 | Saint-Gobain Glass France | Transparent substrate comprising an antiglare coating |
| EP1328483B1 (en) | 2000-10-18 | 2005-12-28 | Flabeg Solarglas GmbH & Co. KG | Thermally tempered glass comprising a non-abrasive, porous, sio2 antireflection layer |
| EP1342810A1 (en) | 2000-12-12 | 2003-09-10 | Konica Corporation | Method for forming thin film, article having thin film, optical film, dielectric coated electrode, and plasma discharge processor |
| US20040091637A1 (en)* | 2002-02-05 | 2004-05-13 | Gabelnick Aaron M. | Corona-generated chemical vapor deposition on a substrate |
| DE10250564A1 (en) | 2002-10-30 | 2004-05-19 | Schott Glas | Coating products, optics and automobile windows involves preparing substrate, coating with anti-reflective system, then coating with working layer to, e.g., resist scratches |
| DE10318566A1 (en) | 2003-04-15 | 2004-11-25 | Fresnel Optics Gmbh | Process and tool for producing transparent optical elements from polymeric materials |
| EP1819843A1 (en) | 2004-10-29 | 2007-08-22 | Dow Gloval Technologies Inc. | Improved deposition rate plasma enhanced chemical vapor process |
| WO2008045226A1 (en) | 2006-10-06 | 2008-04-17 | Dow Global Technologies Inc. | Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating process |
| Title |
|---|
| A. Gombert, M. Rommel, Forschungsverbund Sonnenenergie "Themen 97/98", S. 81 |
| Borra (J. Phys. D: Appl. Phys. 39 (2006) R19-R54) |
| HOPFE,V und SHEEL,D.W.: Atmospheric-Pressure PECVD Coating and Plasma Chemical Etching for Continous Processing. In: IEEE Transactions on plasma Science, Vol.35, No.2, 2007, S.204-214* |
| Jidenko (J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (2007) 4155-4163) |
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013079798A1 (en)* | 2011-12-01 | 2013-06-06 | Beneq Oy | Surface treatment apparatus and method |
| AT517694A4 (en)* | 2015-11-12 | 2017-04-15 | Inocon Tech Ges M B H | Apparatus and method for applying a coating |
| AT517694B1 (en)* | 2015-11-12 | 2017-04-15 | Inocon Tech Ges M B H | Apparatus and method for applying a coating |
| CN110716256A (en)* | 2018-07-12 | 2020-01-21 | 采钰科技股份有限公司 | Optical element and method of making the same |
| CN110716256B (en)* | 2018-07-12 | 2022-03-22 | 采钰科技股份有限公司 | Optical element and method for manufacturing the same |
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| R002 | Refusal decision in examination/registration proceedings | ||
| R003 | Refusal decision now final | Effective date:20110328 |