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DE102005030946A1 - Semiconductor component for manufacturing switching power supply, has connecting unit with base ball and balls of solder stacked on base ball, where balls of solder have soldering material and electrical connected with contact pin surface - Google Patents

Semiconductor component for manufacturing switching power supply, has connecting unit with base ball and balls of solder stacked on base ball, where balls of solder have soldering material and electrical connected with contact pin surface
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DE102005030946A1DE102005030946ADE102005030946ADE102005030946A1DE 102005030946 A1DE102005030946 A1DE 102005030946A1DE 102005030946 ADE102005030946 ADE 102005030946ADE 102005030946 ADE102005030946 ADE 102005030946ADE 102005030946 A1DE102005030946 A1DE 102005030946A1
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Abstract

The component has a connecting unit (7) including a base ball and balls of solder (6) stacked on the base ball to form external contacts. The balls of solder have a soldering material and stay in electrical connection with a contact pin surface (9) of a wiring substrate. The balls of solder have a protective layer (10) that is not moistenable by the soldering material on a surface of the layer (10). A boundary layer (12) is firmly bonded with the material of the balls of solder. The protective layer has an oxide or nitride or sulphide layer of a material of a base ball. An independent claim is also included for a method for manufacturing a set of semiconductor components.

Description

Translated fromGerman

OberflächenmontierbareHalbleiterbauteile mit einem Verdrahtungssubstrats und Lotkugelnals Außenkontaktehaben den Nachteil, dass die Außenkontakthöhe auf denDurchmesser der Lotkugeln begrenzt ist. Gleichzeitig hängt dieSchrittweite, die auch "Pitch" genannt wird, mitdem die Außenkontakteauf der Unterseite eines Halbleiterbauteils für die Oberflächenmontageauf einer übergeordneten Schaltungsplatineangeordnet werden können,von dem Durchmesser der Lotkugeln ab. Somit kann der Bedarf an größerer Außenkontakthöhe nur mitdem Nachteil einer größeren Schrittweiteerkauft werden.surface mountSemiconductor devices with a wiring substrate and solder ballsas external contactshave the disadvantage that the external contact height on theDiameter of the solder balls is limited. At the same time the hangsIncrement, which is also called "pitch", withthe external contactson the underside of a semiconductor device for surface mountingon a parent circuit boardcan be arrangedfrom the diameter of the solder balls. Thus, the need for greater external contact height only withthe disadvantage of a larger step sizebe bought.

Esbesteht demnach der Bedarf, die Kopplung der Außenkontakthöhe an den Lotkugeldurchmesservon Verbindungselementen und Außenkontakten,insbesondere füroberflächenmontierbare Halbleiterbauteilezu überwinden.ItThere is therefore the need, the coupling of the external contact height to the Lotkugeldurchmesserof connecting elements and external contacts,especially forSurface mount semiconductor devicesto overcome.

Einbekannter Lösungsansatzist die Ausbildung von galvanisch abgeschiedenen Sockeln mit Außenkontaktflächen für die Lotkugeln.Mit derartigen Sockeln kann die Außenkontakthöhe vollständig von dem Durchmesser derLotkugeln entkoppelt werden. Jedoch hat dieser Lösungsansatz den Nachteil, dasser technisch aufwendig und kostenintensiv ist und nicht das vielfältige Angebotan preiswerten Lotkugelvarianten, die auf dem Fertigungssektor von Halbleiterbauteilenzur Verfügungstehen, ausnutzt.Oneknown approachis the formation of galvanically deposited sockets with external contact surfaces for the solder balls.With such sockets, the outer contact height completely from the diameter of theSolder balls are decoupled. However, this approach has the disadvantage thatit is technically complex and costly and not the varied offeron cheap solder ball variants used in the semiconductor device manufacturing sectorto disposalstand, exploited.

Ausder DruckschriftUS 5,956,606 isteine elektrische Verbindungsstruktur bekannt, für die zwei Lotkugeln zwischenzwei zu verbindenden Komponenten angeordnet sind, wozu die Lotkugeln über eineniedrig schmelzende Lotpaste aufeinander gestapelt werden. Die Lotkugelnmüssendazu einen höherenSchmelzpunkt aufweisen, als die Lotpaste.From the publication US 5,956,606 For example, an electrical connection structure is known for which two solder balls are arranged between two components to be connected, for which purpose the solder balls are stacked on one another via a low-melting solder paste. The solder balls must have a higher melting point than the solder paste.

Einederartige Verbindungsstruktur hat den Nachteil, dass die zwei Lotkugelndes Verbindungselementes überGrenzflächeneiner Lotpaste elektrisch in Verbindung stehen, was sowohl den Nachteil derAusbildung zusätzlicherKontaktübergangswiderstände zwischenLotmaterial und Material der Lotpaste hat, als auch den Nachteileiner Einschränkung inder Wahl der Materialien der Lotkugeln, zumal als Material der Lotkugeln,gemäßUS 5,956,606 ausschließlich Materialverwendet werden muss, dass einen deutlich höheren Schmelzpunkt als dasMaterial der Lotpaste aufweist.Such a connection structure has the disadvantage that the two solder balls of the connecting element are electrically connected via interfaces of a solder paste, which has both the disadvantage of forming additional contact resistances between solder material and material of the solder paste, as well as the disadvantage of a restriction in the choice of materials Lotkugeln, especially as a material of the solder balls, according to US 5,956,606 Only material must be used that has a significantly higher melting point than the material of the solder paste.

Aufgabeder Erfindung ist es, ein Halbleiterbauteil mit Verdrahtungssubstratund Lotkugeln als Verbindungselemente anzugeben, bei denen die Höhe der Verbindungselementegrößer ist,als der Außendurchmesserder Lotkugeln, wobei ein derartiges Verbindungselement die Nachteileund Einschränkungenim Stand der Technik überwindensoll, eine kostengünstigeFertigung ermöglichensoll, und sowohl als Außenkontakt,als auch als Verbindungselement in Halbleiterbauteilstapeln einsetzbarsein soll.taskThe invention is a semiconductor device with a wiring substrateand to provide solder balls as connecting elements, in which the height of the connecting elementsis bigger,as the outer diameterthe solder balls, wherein such a connecting element, the disadvantagesand restrictionsovercome in the prior artshould, a cost-effectiveEnable productionshould, and as an external contact,as well as a connecting element in semiconductor device stacks can be usedshould be.

DieseAufgabe wird mit dem Gegenstand der unabhängigen Ansprüche gelöst. VorteilhafteWeiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.TheseThe object is achieved with the subject matter of the independent claims. advantageousFurther developments of the invention will become apparent from the dependent claims.

Erfindungsgemäß wird einHalbleiterbauteil mit Verdrahtungssubstrat und Lotkugeln als Verbindungselementgeschaffen, wobei das Verbindungselement mindestens eine Sockelkugelund eine auf der Sockelkugel gestapelte Lotkugel aufweist. Dabei weistdie Lotkugel mindestens teilweise ein lötbares Lotmaterial auf. Außerdem stehtdie Sockelkugel mit einer Kontaktanschlussfläche des Verdrahtungssubstratselektrisch in Verbindung und weist eine nicht vom Lotmaterial derLotkugel benetzbare Schutzbeschichtung auf ihrer Oberfläche auf.Außerdemweist die Sockelkugel eine Grenzfläche auf, die frei von der Schutzbeschichtungist, wobei die Grenzflächestoffschlüssigmit dem Material der Lotkugel verbunden ist.According to the invention is aSemiconductor device with wiring substrate and solder balls as connecting elementcreated, wherein the connecting element at least one base balland a solder ball stacked on the base ball. It pointsthe solder ball at least partially a solderable solder material. It also standsthe socket ball with a contact pad of the wiring substrateelectrically connected and does not have a soldering material of theLot-ball wettable protective coating on its surface.Furthermorethe base ball has an interface that is free of the protective coatingis, the interfacecohesivelyconnected to the material of the solder ball.

Einderartiges Verbindungselement hat gegenüber dem VerbindungselementgemäßUS 5,956,606 den Vorteil,dass nur eine Grenzflächeden Übergangvon der Sockelkugel zu der Lotkugel definiert, so dass Kontaktübergangswiderstände zu einemZwischenmaterial wie einer Lotpaste vermieden werden. Darüber hinaushat das erfindungsgemäße Halbleiterbauteilden Vorteil, dass eine Schutzbeschichtung die Sockelkugel davorschützt,dass Lotmaterial die geschütztenOberflächenbereicheder Sockelkugel benetzt, wodurch die Gefahr überwunden wird, dass beideKugeln zu einem kugelförmigen gemeinsamenLöttropfenbeim Aufbringen der Lotkugel auf die Sockelkugel zusammenschmelzen,wie es aus der DruckschriftUS6,258,703 B2 bekannt ist. Schließlich hat das erfindungsgemäße Halbleiterbauteilden Vorteil, dass die Wahl des Materials der Lotkugeln in keinerWeise eingeschränktist. Es kann sowohl hochschmelzendes als auch niedrigschmelzendesMaterial fürdie Lotkugeln bzw. Sockelkugeln eingesetzt werden. Darüber hinauskönnenLotkugeln mit unterschiedlichen Schmelzpunkten, ohne dass eine Benetzungsgefahrdes geschütztenOberflächenbe reichsder Sockelkugel beim Ausbilden der Grenzfläche besteht, eingesetzt werden.Such a connecting element has in relation to the connecting element according to US 5,956,606 the advantage that only one interface defines the transition from the base ball to the solder ball, so that contact contact resistances are avoided to an intermediate material such as a solder paste. In addition, the semiconductor device according to the invention has the advantage that a protective coating protects the base ball from that solder material wets the protected surface areas of the base ball, whereby the risk is overcome that both balls melt together to form a spherical common solder drops when applying the solder ball on the base ball, such as it from the publication US 6,258,703 B2 is known. Finally, the semiconductor device according to the invention has the advantage that the choice of the material of the solder balls is in no way limited. Both high-melting and low-melting material can be used for the solder balls or base balls. In addition, solder balls with different melting points, without any risk of wetting the protected surface area of the base ball when forming the interface, can be used.

Ineiner bevorzugten Ausführungsformder Erfindung weist das Verbindungselement mehrere, aufeinandergestapelte Sockelkugeln auf. Das zeigt, dass der erfindungsgemäße Lösungsansatznicht nur auf zwei Kugeln beschränktsein muss, vielmehr könnennacheinander beliebig viele Sockelkugeln mit kleinstem Außendurchmesseraufeinander gelötet werden,wobei lediglich darauf zu achten ist, dass bis auf die Grenzfläche diejeweilige Oberflächeder Sockelkugeln durch eine Schutzbeschichtung geschützt ist.In a preferred embodiment of the invention, the connecting element has a plurality of pedestal balls stacked on one another. This shows that the inventive approach not only must be limited to two balls, but can successively as many base balls are soldered to each other with the smallest outer diameter, only care must be taken that the surface of the base balls is protected by a protective coating except for the interface.

Ineiner weiteren bevorzugten Ausführungsformder Erfindung weist das Verbindungselement mehrere aufeinander gestapelteLotkugeln auf. In diesem Fall muss jedoch wie im Stand der Technik daraufgeachtet werden, dass die gestapelten Lotkugeln mit einem Lotmaterial,wie einer Lotpaste verbunden werden, dessen Schmelzpunkt niedrigerist, als die aufeinander zu stapelnden Lotkugeln.Ina further preferred embodimentAccording to the invention, the connecting element has a plurality of stacked onesLot balls on. In this case, however, as in the prior art, it mustbe taken care that the stacked solder balls with a solder material,how to join a solder paste whose melting point is loweris than the solder balls to be stacked on each other.

Vorzugsweiseist die Schutzbeschichtung selbsttragend und formstabil und stützt dieSockelkugel. Diese mechanische Stabilität ist von Vorteil, insbesonderedann, wenn die Sockelkugel gegenüber derLotkugel den niedrigeren Schmelzpunkt aufweist und über Benetzungder Schmelze der Sockelkugel die stoffschlüssige Grenzfläche mitder Lotkugel hergestellt wird.PreferablyThe protective coating is self-supporting and dimensionally stable and supports theBase ball. This mechanical stability is advantageous, in particularthen, when the base ball opposite theLotkugel the lower melting point and over wettingthe melt of the base ball with the cohesive interface withthe solder ball is made.

Ineiner bevorzugten Ausführungsformder Erfindung weist die Schutzbeschichtung eine Oxyd- oder Nitrid-oder Sulfidschicht des Materials der Sockelkugel auf. Dieses hatden Vorteil, dass mit einer einfachen Oxidations- oder Nitrierungsanlage sämtlicheSockelkugeln mit einer Schutzschicht überzogen werden können, wobeidie Schutzschicht in einer Oxidations- oder Nitrierungsanlage gleichzeitigfür eine Vielzahlvormontierter Sockelkugeln fürHalbleiterbauteile aufgebracht werden kann.Ina preferred embodimentinvention, the protective coating comprises an oxide or nitrideor sulfide layer of the material of the base ball. This one hasthe advantage that with a simple oxidation or nitration allBase balls can be coated with a protective layer, whereinthe protective layer in an oxidation or nitriding plant at the same timefor a varietypreassembled base balls forSemiconductor components can be applied.

Alternativist es vorgesehen, dass die Schutzbeschichtung eine Metallbeschichtungist, wobei das Metall nicht vom Lotmaterial der Lotkugel benetzbarist. Derartige Metallbeschichtungen zeichnen sich dadurch aus, dasssie in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre eine Oberfläche ausbilden,die ihre Benetzbarkeit mit dem Lotmaterial herabsetzt.alternativeit is envisaged that the protective coating is a metal coatingis, wherein the metal is not wettable by the solder material of the solder ballis. Such metal coatings are characterized in thatthey form a surface in an oxygen-containing atmosphere,which minimizes their wettability with the solder material.

Ineiner weiteren bevorzugten Ausführungsformder Erfindung weist die Schutzbeschichtung eine Polymerbeschichtungauf, die vorzugsweise aus einem hochtemperaturfesten Polyimid besteht.Eine derartige Schutzbeschichtung hat den Vorteil, dass sie durcheinfache Tauchtechnik, oder durch Aufsprühtechnik eine geeignete selbsttragende,das Lotmaterial der Sockelkugel stützende Schutzbeschichtung bilden.Dabei ist von Vorteil, dass vor dem Aushärten derartiger Lacke, sichdie Lackschicht im Fußbereichder Sockelkugel deutlich dicker absetzt, als im Kopfbereich derSockelkugel. Dieser Dickenunterschied kann durch entsprechende Abstimmungder Viskositätdes Lackes noch verstärktwerden.Ina further preferred embodimentAccording to the invention, the protective coating has a polymer coatingon, which preferably consists of a high temperature resistant polyimide.Such a protective coating has the advantage that itsimple immersion technique, or by spraying a suitable self-supporting,form the solder material of the base ball supporting protective coating.It is advantageous that before curing such paints, themselvesthe paint layer in the foot areathe pedestal ball settles much thicker than in the head area ofBase ball. This difference in thickness can by appropriate votethe viscosityof the paint reinforcedbecome.

Vorzugsweiseist die Grenzflächezwischen den beiden Lotkugeln eine sphärische Fläche. Eine sphärische Fläche bildetsich aus, wenn eines der beiden Materialien einen niedrigeren Schmelzpunkt aufweist,als das andere Material. So bildet sich auf der Sockelkugel einekonvexe Flächeaus, wenn der Schmelzpunkt der Lotkugel höher ist als der Schmelzpunktder Sockelkugel und es bildet sich eine konkave Fläche aus,wenn der Schmelzpunkt der Lotkugel geringer ist, als der Schmelzpunktder Sockelkugel. Sind die Schmelzpunkte gleich, so besteht die Möglichkeit,dass sich eine ebene Grenzflächeausbildet. Ferner ist es vorgesehen, dass bei besonders harten Schutzbeschichtungender obere Kugelabschnitt der Sockelkugel durch mechanisches Bearbeitenauch eingeebnet werden kann.Preferablyis the interfacebetween the two solder balls a spherical surface. A spherical surface formswhen one of the two materials has a lower melting point,as the other material. So forms on the base ball oneconvex surfacewhen the melting point of the solder ball is higher than the melting pointthe base ball and it forms a concave surface,when the melting point of the solder ball is lower than the melting pointthe base ball. If the melting points are the same, it is possible tothat is a flat interfaceformed. Furthermore, it is envisaged that with particularly hard protective coatingsthe upper ball portion of the base ball by mechanical machiningcan also be leveled.

Weiterhinist es vorgesehen, dass die Sockelkugel und die Lotkugel ein metallischesKernmaterial aufweisen, dass einen höheren Schmelzpunkt hat, alsder Mantel der Kugeln aufweist. Mit derartigen Kugelmaterialienaus zwei verschiedenen Metallen, einem Mantelmaterial mit niedrigemSchmelzpunkt und einem Kernmaterial mit hohem Schmelzpunkt, können Verbindungselementehergestellt werden, die eine Mindesthöhe, welche durch die Kernmaterialienvorgegeben wird, beim Auflötenauf eine übergeordneteSchaltungsplatine nicht unterschreiten. Dieses kann auch von Vorteilsein, wenn Halbleiterbauteile zu stapeln sind.Fartherit is envisaged that the base ball and the solder ball a metallicHave core material that has a higher melting point thanthe shell of the balls has. With such ball materialsmade of two different metals, a sheath material with lowMelting point and a high melting point core material may be fastenersare made, which have a minimum height, which by the core materialsis given, when solderingto a parentDo not fall below the circuit board. This can also be beneficialbe when semiconductor devices are to be stacked.

Ineiner bevorzugten Ausführungsformder Erfindung weist die Sockelkugel eine Metalllegierung mit einemhöherenSchmelzpunkt als die Lotkugel auf. Wenn die Sockelkugel und dieLotkugel ein Lotmaterial mit dem gleichen Schmelzpunkt aufweisen, umgibtvorzugsweise die Sockelkugel eine selbsttragende und formstabileSchutzbeschichtung. Durch die formstabile, selbsttragende Schutzbeschichtung wirdgewährleistet,dass die beiden Lotkugelmassen nicht eine neue tropfenförmige Lotkugelmit größerem Durchmesserbilden.Ina preferred embodimentthe invention, the base ball has a metal alloy with ahigherMelting point as the solder ball on. If the base ball and theLotkugel a solder material having the same melting point surroundspreferably the base ball a self-supporting and dimensionally stableProtective coating. Due to the dimensionally stable, self-supporting protective coating isguaranteedthat the two Lotkugelmassen not a new drop-shaped solder ballwith a larger diameterform.

Vorzugsweiseweist somit ein Halbleiterbauteil Außenkontakte aus Verbindungselementenmit mindestens einer Sockelkugel und einer auf der Sockelkugel gestapelteLotkugel auf, wobei das Verdrahtungssubstrat beidseitig mit Halbleiterbauelementen bestückt ist.Die Unterseite des Verdrahtungssubstrats weist mindestens ein Halbleiterbauelementund die Außenkontaktedes Halbleiterbauteils auf. Dabei richtet sich die Höhe der Außenkontakte nachder Dicke des auf der Unterseite angeordneten Halbleiterbauelements.Ein derartiges Halbleiterbauteil war bisher auf eine Bestückung mitHalbleiterbauelementen begrenzt, deren Dicke den Kugeldurchmesserder Lotkugeln fürAußenkontaktenicht überschreitet.PreferablyThus, a semiconductor device external contacts of connecting elementswith at least one base ball and one stacked on the base ballLotkugel, wherein the wiring substrate is equipped on both sides with semiconductor devices.The underside of the wiring substrate has at least one semiconductor deviceand the external contactsof the semiconductor device. The height of the external contacts will followthe thickness of the arranged on the bottom semiconductor device.Such a semiconductor device was previously on a placement withSemiconductor devices whose thickness is the ball diameterthe solder balls forexternal contactsdoes not exceed.

Durchdie erfindungsgemäße Stapelungvon Lotkugeln, um damit Außenkontakteund/oder Verbindungselemente herzustellen, ist es nun möglich, Halbleiterbauteileaus der Standardfertigung einzusetzen und damit eine größere Variationsbreitefür dieKonstruktion von Halbleiterbauteilmodulen zur Verfügung zustellen. Darüberhinaus wird die Fertigung durch Einsatz von standardisierten Halbleiterbauelementenkostengünstiger.The inventive stacking of Solder balls in order to produce external contacts and / or connecting elements, it is now possible to use semiconductor components from the standard production and thus to provide a greater range of variation for the construction of semiconductor device modules available. In addition, manufacturing becomes more cost effective by using standardized semiconductor devices.

Ineiner weiteren Ausführungsformder Erfindung weist das Halbleiterbauteil ein Modul aus gestapeltenHalbleiterbauelementen mit mindestens einem Basishalbleiterelementund einem gestapelten Halbleiterelements auf. Das Basishalbleiterelement weistdazu auf einer Oberseite ein von Sockelkugeln umgebenes Halbleiterbauelementauf. Das Basiselement weist darüberhinaus auf seiner Unterseite Standard oberflächenmontierbare Lotkugeln auf.Das gestapelte Halbleiterbauelement weist auf einer Oberseite seinesVerdrahtungssubstrats ebenfalls ein Halbleiterbauelement auf undauf der Unterseite des Substrats Standard-Lotkugelaußenkontakteauf, die derart angeordnet sind, dass sie der Anordnung der Sockelkugelnauf der Oberseite des Verdrahtungssubstrats des Basishalbleiterbauelementsentsprechen. Bei dieser Ausführungsformder Erfindung ist es von Vorteil, dass die Dicke des Gehäuses des Basishalbleiterbauelementesnicht mehr auf den Durchmesser der Lotkugeln beschränkt ist,sondern dass praktisch durch Stapeln von Lotkugel auf Sockelkugelneine vom Lotkugeldurchmesser unabhängige Bauelementhöhe für das Basishalbleiterbauelementeingesetzt werden kann.Ina further embodimentAccording to the invention, the semiconductor device has a stacked moduleSemiconductor devices having at least one base semiconductor elementand a semiconductor stacked element. The base semiconductor element hasfor this purpose, a semiconductor component surrounded by base balls on an upper sideon. The base element points above itThere are also standard surface mount solder balls on its underside.The stacked semiconductor device has on an upper side of itsWiring substrate also a semiconductor device andon the bottom of the substrate standard solder ball outside contactswhich are arranged so that they the arrangement of the base ballson top of the wiring substrate of the base semiconductor devicecorrespond. In this embodimentThe invention is advantageous in that the thickness of the housing of the base semiconductor componentno longer limited to the diameter of the solder balls,but that by practically stacking solder ball on pedestal ballsindependent of Lotkugeldurchmesser device height for the base semiconductor componentcan be used.

EinVerfahren zur Herstellung mehrerer Halbleiterbauteile mit Verdrahtungssubstratenund Lotkugeln als Verbindungselemente weist die nachfolgenden Verfahrensschritteauf. Zunächstwird ein Nutzen mit in Zeilen und Spalten angeordneten Halbleiterbauteilpositionenhergestellt, wobei der Nutzen in den Halbleiterbauteilpositioneneine Verdrahtungsstruktur der Verdrahtungssubstrate mit Bereichenfür Halbleiterbauelementeund außerhalbdieser Bereiche Positionen mit Kontaktanschlussflächen für ein Anbringenvon Sockelkugeln aufweist. Anschließend wird dieser Nutzen inden Halbleiterbauteilpositionen mit den Kontaktanschlussflächen mitSockelkugeln bestückt.OneMethod for producing a plurality of semiconductor components with wiring substratesand solder balls as connecting elements has the following method stepson. Firstbecomes a benefit with semiconductor device locations arranged in rows and columnswith the benefit in the semiconductor device positionsa wiring structure of the wiring substrates with areasfor semiconductor devicesand outsidethese areas positions with contact pads for attachmentof pedestal balls. Subsequently, this benefit is inthe semiconductor device positions with the contact pads withBase balls fitted.

DieseSockelkugeln werden schließlichmit einer von Lotmaterial nicht benetzbaren Schutzbeschichtung beschichtet.Danach erfolgt ein selektives Entfernen der Schutzbeschichtung ineinem füreine Grenzflächezu einer Lotkugel vorgesehenem Bereich der Oberfläche derSockelkugel. Danach wird eine Lotkugel auf die jeweilige Grenzfläche einerSockelkugel aufgebracht und stoffschlüssig verbunden. Anschließend können dieHalbleiterbauteilpositionen mit Halbleiterbauelementen unter Verbindender Halbleiterbauelemente mit der Verdrahtungsstruktur bestückt werden.Schließlichwird der Nutzen in einzelne Halbleiterbauteile aufgetrennt.TheseSkirting balls eventually becomecoated with a non-wettable by soldering protective coating.Thereafter, a selective removal of the protective coating inone foran interfaceto a Lotkugel provided area of the surface ofBase ball. Thereafter, a solder ball on the respective interface of aBase ball applied and bonded cohesively. Subsequently, theSemiconductor device positions with semiconductor devices under bondingthe semiconductor devices are equipped with the wiring structure.After allthe benefit is separated into individual semiconductor components.

DiesesVerfahren hat den Vorteil, das der Nutzen nicht nur Verbindungselementeaus Sockelkugeln und Lotkugeln gemeinsam mit einem Halbleiterbauelementauf seiner Unterseite auf weist, sondern auch den Vorteil, dass dieOberseiten der Halbleiterbauteilpositionen des Nutzen für das Aufbringen vonHalbleiterbauteilelementen genutzt werden können. Damit entstehen aus einemderartigen Nutzen Halbleiterbauteile in Form von Halbleitermodulenfür dieunterschiedlichsten Anwendungen. Eine bevorzugte Anwendung ist dieFertigung von Schaltnetzteilen unter beidseitiger Nutzung einesBGA-Substrats (ball-grid-array), wobei die Bauhöhe der einzelnen Komponentenkeinen Einfluss mehr auf den Kontaktabstand des gesamten Modulsin Form eines gesamten SiP (system-in-package) hat.ThisMethod has the advantage that the benefit not only fastenersfrom base balls and solder balls together with a semiconductor deviceon its underside points to, but also has the advantage that theTops of semiconductor device locations of the benefit for applyingSemiconductor device elements can be used. This results in onesuch benefits semiconductor devices in the form of semiconductor modulesfor thedifferent applications. A preferred application is theProduction of switching power supplies under mutual use of aBGA substrate (ball-grid array), the height of each componentno longer affect the contact distance of the entire modulein the form of an entire SiP (system-in-package).

Damitkönnendie Einzelkomponenten in Standard-Gehäusen oder Standard-Bauhöhen hergestelltwerden, und auch als einzelne Bauelemente verkauft werden. Somitkönnendie Einzelkomponenten in größeren Stückzahlengefertigt werden, und die Herstellkosten für das gesamte SiP-Produkt sinken.Außerdemist die Integrationsdichte derartiger Module nicht mehr von derHöhe derLotkugel abhängigund die Lotkugel-Höhekann auf die notwendige Bauteilhöheauf der Substratunterseite optimiert werden.In order tocanthe individual components are manufactured in standard housings or standard heightsbe sold, and also as individual components. Consequentlycanthe individual components in larger quantitiesbe manufactured, and the production costs for the entire SiP product decline.Furthermorethe integration density of such modules is no longer of theheight ofLot ball dependentand the solder ball heightcan to the necessary component heightbe optimized on the substrate base.

Vorzugsweisewerden die Sockelkugeln auf Positionen mit Kontaktanschlussflächen aufder Unterseite des Nutzens und die Halbleiterbauelemente auf Bereichender Oberseite des Nutzens angeordnet. Diese Aufteilung ist dannvon Vorteil, wenn die vorgesehenen Halbleiterbauteile über einStapeln von Halbleiterbauteilen vorgesehen werden.Preferablythe pedestal balls are placed on positions with contact padsthe bottom of the benefits and the semiconductor devices on areasarranged the top of the benefit. This division is thenadvantageous if the provided semiconductor devices over aStacking of semiconductor devices can be provided.

Weiterhinist es vorgesehen, die Sockelkugel als Außenkontakte der Halbleiterbauteileauf Positionen mit Kontaktanschlussflächen auf der Unterseite desNutzens derart anzuordnen, dass sie mindestens einen Bereich miteinem Halbleiterbauelement umgeben, wobei auf der Oberseite desNutzens wei tere Bereiche fürHalbleiterbauelemente vorgesehen werden können. Bei diesem Durchführungsbeispieldes Verfahrens wird bereits die Stapelbarkeit eines derartigen Halbleiterbauteilsdurch Anordnung der Kontaktanschlussflächen auf der Unterseite desNutzens vorgegeben.Fartherit is provided, the base ball as external contacts of the semiconductor deviceson positions with contact pads on the bottom of theUse to arrange so that they at least one area witha semiconductor device, wherein on the top of theUse other areas forSemiconductor devices can be provided. In this implementation exampleof the method is already the stackability of such a semiconductor deviceby placing the contact pads on the bottom of theBenefit given.

Einderartiges Modul aus gestapelten Halbleiterbauteilen wird mit einemNutzen gefertigt, dessen Verbindungselemente aus Sockelkugeln und Lotkugelnauf Positionen mit Kontaktanschlussflächen auf der Unterseite desNutzens angeordnet sind, wobei die Sockelkugeln mit aufgebrachtenLotkugeln einen Bereich umgeben, in dem Halbleiterbauteilgehäuse einesBasishalbleiterbauelementes angeordnet werden können. Für einen derartigen Stapel istes auch möglich,dass mehrere Sockelkugeln aufeinander gelötet werden, bevor eine Lotkugel alsAnschluss des Verbindungselementes aufgebracht wird.Such a module of stacked semiconductor devices is fabricated with a utility whose base-ball and solder-ball connectors are located at positions with contact pads on the bottom side of the socket, with the socket balls having applied solder balls surrounding an area in the semiconductor Component housing of a base semiconductor component can be arranged. For such a stack, it is also possible that a plurality of base balls are soldered to each other before a solder ball is applied as a connection of the connecting element.

Umeine Schutzbeschichtung auf der Sockelkugel auszubilden, wird dieSockelkugel oxidiert, nitriert oder mit einer Sulfidschicht in einembevorzugten Verfahren versehen. Für die Ausbildung einer selbsttragenden,formstabilen Schutzbeschichtung für die Sockelkugeln aus einerPolymerschicht wird vorzugsweise der mit Sockelkugeln bestückte Nutzenin einen Hochtemperaturlack getaucht, um die Sockelkugeln mit einemderartigen Hochtemperaturlack zu beschichten. Zur Ausbildung einerSchutzbeschichtung kann auch ein Metall auf den Sockelkugel mittelsSputtern oder Aufdampfen abgeschieden werden, das nicht vom Lotmaterialder Lotkugel benetzbar ist.Aroundto form a protective coating on the base ball, theBase ball oxidized, nitrided or with a sulphide layer in onepreferred method provided. For the training of a self-supporting,dimensionally stable protective coating for the base balls of aPolymer layer is preferably the stocked with base balls benefitsdipped in a high temperature varnish to the base balls with ato coat such high temperature paint. To form aProtective coating can also be a metal on the base ball by means ofSputtering or vapor deposition are deposited, not from the solder materialthe solder ball is wettable.

Auchhier ist es von Vorteil, wenn eine derartige Beschichtung auf einemNutzen vorgenommen wird, der bereits mit Sockelkugeln bestückt ist,aber noch keine Halbleiterbauelemente trägt. Für das selektive Entfernen derSchutzbeschichtung in einem füreine Grenzflächefür eineLotkugel vorgesehenen Bereich der Oberfläche der Sockelkugeln wird vorzugsweiseein Laserabtragsverfahren eingesetzt. Ein derartiges Laserabtragsverfahrenhat den Vorteil, dass der Fokus des Laser derart eingestellt werden kann,dass exakt ein Bereich auf dem Kopf bzw. an der Spitze der Sockelkugelvon der Schutzschicht befreit wird. Zum Entfernen der Schutzbeschichtung kannauch ein Trockenätzverfahren,eingesetzt werden, wobei ein gerichtetes Ionenstrahlätzen ohne gleichzeitigenSchutz der nicht zu ätzendenBereiche auskommt, währendein Trockenätzenohne Vorzugsrichtung der Ionen einen gleichzeitigen Schutz der nichtzu ätzendenBereiche erfordert.AlsoHere it is advantageous if such a coating on aBenefit is made, which is already equipped with base balls,but still carries no semiconductor devices. For the selective removal ofProtective coating in one foran interfacefor oneLotkugel provided area of the surface of the base balls is preferablyused a laser ablation process. Such a laser ablation processhas the advantage that the focus of the laser can be adjusted in such a waythat exactly one area on the head or at the top of the base ballis freed from the protective layer. To remove the protective coating canalso a dry etching process,be used, wherein a directed ion beam etching without simultaneousProtection of non-corrosiveAreas gets along whilea dry etchingwithout preferential direction of the ions a simultaneous protection of the nottoo corrosiveAreas required.

Ineinem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispieldes Verfahrens wird das selektive Entfernen der Schutzbeschichtungauf der Sockelkugel zum Ausbilden einer ebenen Grenzfläche mittelsSchleif- und/oder Polierverfahren durchgeführt. Manche der Schleif- und/oderPolierverfahren werden dann eingesetzt, wenn das Material der Sockelkugeleine hohe Härteaufweist und keine andere Möglichkeit besteht,die Schutzschicht auf der Oberseite der Sockelkugel teilweise zuentfernen.Ina further preferred embodimentThe method is the selective removal of the protective coatingon the base ball to form a planar interface by means ofGrinding and / or polishing process performed. Some of the grinding and / orPolishing methods are used when the material of the base balla high hardnessand there is no other possibilitythe protective layer on the top of the base ball partially tooremove.

Beieiner weiteren Ausführungsformdes Verfahrens wird vor dem Aufbringen der Lotkugel auf die Grenzfläche diesevon einem Flussmittel benetzt. Dieses hat den Vorteil, dass diebeiden Lotmaterialien an der Grenzfläche ohne zusätzlichedritte Lotmaterialien miteinander verbunden werden können, so dassder Kontaktübergangswiderstandvernachlässigbarklein wird.ata further embodimentof the method is applied to the interface before applying the solder ballwetted by a flux. This has the advantage that thetwo solder materials at the interface without additionalthird solder materials can be joined together, so thatthe contact transfer resistancenegligiblegets small.

DieErfindung wird nun anhand der beigefügten Figuren näher erläutert.TheThe invention will now be described with reference to the accompanying figures.

1 zeigteinen schematischen Querschnitt durch ein Verbindungselement einerersten Ausführungsformder Erfindung; 1 shows a schematic cross section through a connecting element of a first embodiment of the invention;

2 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine Sockelkugel, die aufeiner Kontaktanschlussflächefixiert ist; 2 shows a schematic cross section through a base ball, which is fixed on a contact pad;

3 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine Sockelkugel, die über einstoffschlüssigesVerbindungsmittel auf einer Kontaktanschlussfläche fixiert ist; 3 shows a schematic cross section through a base ball, which is fixed via a material-locking connection means on a contact pad;

4 bis9 zeigenschematische Querschnitte durch Komponenten bei der Herstellungeines Verbindungselementes gemäß1; 4 to 9 show schematic cross sections through components in the manufacture of a connecting element according to 1 ;

4 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine Sockelkugel, gemäß2,mit aufgebrachter Schutzbeschichtung; 4 shows a schematic cross section through a base ball, according to 2 , with applied protective coating;

5 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine Sockelkugel, gemäß3,mit aufgebrachter Schutzbeschichtung; 5 shows a schematic cross section through a base ball, according to 3 , with applied protective coating;

6 zeigteinen schematischen Querschnitt durch die Sockelkugel, gemäß4,nach selektiver Entfernung der Schutzbeschichtung unter Freilegeneiner Grenzfläche; 6 shows a schematic cross section through the base ball, according to 4 after selectively removing the protective coating to expose an interface;

7 zeigteinen schematischen Querschnitt durch die Sockelkugel, gemäß6,beim Aufbringen eines Flussmittels auf die freigelegte Grenzfläche; 7 shows a schematic cross section through the base ball, according to 6 when applying a flux to the exposed interface;

8 zeigteinen schematischen Querschnitt durch die Sockelkugel, gemäß7,nach Aufbringen einer Lotkugel auf die mit Flussmittel benetzteGrenzfläche; 8th shows a schematic cross section through the base ball, according to 7 after applying a solder ball to the flux wetted interface;

9 zeigteinen schematischen Querschnitt durch die Sockelkugel, gemäß8,nach stoffschlüssigemVerbinden der Lotkugel mit der Sockelkugel an der Grenzfläche zu einemVerbindungselement, gemäß1; 9 shows a schematic cross section through the base ball, according to 8th , after cohesively joining the solder ball with the base ball at the interface to a connecting element, according to 1 ;

10 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine Modifikation des Verbindungselementes; 10 shows a schematic cross section through a modification of the connecting element;

11 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine weitere Modifikationdes Verbindungselementes; 11 shows a schematic cross section through a further modification of the connecting element;

12 zeigteine Prinzipschaltung eines Schaltnetzteils mit zwei MOSFETs undeinem LC-Glied; 12 shows a basic circuit of a Switch mode power supply with two MOSFETs and one LC element;

13 zeigteine schematische Prinzipskizze eines Halbleiterbauteils, gemäß einerersten Ausführungsformder Erfindung; 13 shows a schematic schematic diagram of a semiconductor device, according to a first embodiment of the invention;

14 zeigteine schematische Prinzipskizze eines Halbleiterbauteils, gemäß einerzweiten Ausführungsformder Erfindung; 14 shows a schematic schematic diagram of a semiconductor device, according to a second embodiment of the invention;

15 zeigteinen schematischen Querschnitt durch ein Halbleiterbauteil, gemäß einerdritten Ausführungsformder Erfindung vor einem Stapeln von zwei Halbleiterbauteilen. 15 shows a schematic cross section through a semiconductor device, according to a third embodiment of the invention before stacking two semiconductor devices.

16 zeigtdie Hableiterbauteile der15 nacheinem Stapeln. 16 shows the Hableiterbauteile the 15 after a stack.

1 zeigteinen schematischen Querschnitt durch ein Verbindungselement7,einer ersten Ausführungsformder Erfindung. Das Verbindungselement7 ist auf einer Unterseite17 einesVerdrahtungssubstrats4 angeordnet. Diese Unterseite17 weisteine Kontaktanschlussfläche9 auf,die von einer Lötstopplackschicht24 umgebenist. Auf der metallischen Kontaktanschlussfläche9 ist eine metallischeSockelkugel8 fixiert, die mit der Kontaktanschlussfläche9 einemetallische Verbindung eingeht. Die Sockelkugel8 ist aufihrer Oberfläche11 voneiner Schutzschicht10 umgeben. Diese Schutzbeschichtung10 schützt dieOberfläche11 derSockelkugel8 vor einem Benetzen durch Lotmaterial und bestehtin dieser ersten Ausführungsformder Erfindung aus einem Oxyd des Materials der Sockelkugel8. 1 shows a schematic cross section through a connecting element 7 A first embodiment of the invention. The connecting element 7 is on a bottom 17 a wiring substrate 4 arranged. This bottom 17 has a contact pad 9 on top of a soldermask layer 24 is surrounded. On the metallic contact pad 9 is a metallic base ball 8th fixed with the contact pad 9 a metallic compound is received. The base ball 8th is on her surface 11 from a protective layer 10 surround. This protective coating 10 protects the surface 11 the base ball 8th before wetting by solder material and consists in this first embodiment of the invention of an oxide of the material of the base ball 8th ,

DiesesOxyd ist durch einen Oxidationsvorgang des Materials der Sockelkugel8 entstanden. DerKugelabschnitt an der Spitze der Sockelkugel8 ist zu einerGrenzfläche12 eingeebnet,wobei auf dieser Grenzfläche12 eineLotkugel6 angeordnet ist. Aufgrund der Schutzschicht10 kannbeim Auflöten derLotkugel6 auf die Grenzfläche12 das Lotmaterial derLotkugel6 nicht die Oberfläche11 der Sockelkugel8 benetzen,so dass sich ein Verbindungselement ausbildet, dessen Höhe h größer ist,als der Kugeldurchmesser d der Sockelkugel8 bzw. größer istals der Kugeldurchmesser d der Lotkugel6. Damit kann eineenge Schrittweite fürdie Kontaktanschlussfläche9 beibehaltenwerden, obgleich nun die Höheh des Verbindungselements7 deutlich größer ist als der Durchmesserd der Lotkugeln6 und8. Dieses hat für eine große Anzahlvon Anwendungen, die mit den nachfolgenden Figuren gezeigt werden, Vorteile,die bereits in der Beschreibungseinleitung eingehend diskutiertwurden.This oxide is due to an oxidation process of the material of the base ball 8th emerged. The ball section at the top of the base ball 8th is to an interface 12 leveled, taking on this interface 12 a solder ball 6 is arranged. Due to the protective layer 10 can when soldering the solder ball 6 on the interface 12 the solder material of the solder ball 6 not the surface 11 the base ball 8th wet, so that forms a connecting element whose height h is greater than the ball diameter d of the base ball 8th or larger than the ball diameter d of the solder ball 6 , This allows a narrow step size for the contact pad 9 are maintained, although now the height h of the connecting element 7 is significantly larger than the diameter d of the solder balls 6 and 8th , This has advantages for a large number of applications, which are shown with the following figures, which were already discussed in detail in the introduction to the description.

2 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine Sockelkugel8,die auf einer Kontaktanschlussfläche9 fixiertist. Dabei ist das Material der Sockelkugel8 mit dem Materialder Kontaktanschlussfläche9 direktin elektrischem Kontakt, so dass der Kontaktübergangswiderstand minimiertist. Mit einer strickpunktierten Linie wird angedeutet, dass aufdie Oberfläche11 derSockelkugel8 unterschiedliche Schutzschichten aufgebrachtwerden können,um die Form der Sockelkugel8 bei einem anschließenden Verbindenmit einer Lotkugel6, wie sie in1 gezeigtwird, beibehalten zu können. Komponentenmit gleichen Funktionen wie in1 werdenmit gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet und nicht extra erörtert. 2 shows a schematic cross section through a base ball 8th placed on a contact pad 9 is fixed. Here is the material of the base ball 8th with the material of the contact pad 9 directly in electrical contact, so that the contact resistance is minimized. With a knot-dotted line it is indicated that on the surface 11 the base ball 8th Different protective layers can be applied to the shape of the base ball 8th in a subsequent connection with a solder ball 6 as they are in 1 is shown to be able to maintain. Components with the same functions as in 1 are denoted by like reference numerals and will not be discussed separately.

3 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine Sockelkugel8,die überein stoffschlüssigesVerbindungsmittel wie einem Weichlot29 auf einer Kontaktanschlussfläche9 fixiertist. Dieses Verbindungsmittel kann ein silberhaltiges, bleifreiesWeichlot29 sein, das sowohl die Kontaktanschlussfläche9,als auch die Oberfläche11 derSockelkugel8 im Fußbereichintensiv benetzt. Gleichzeitig sorgt eine die Kontaktfläche9 umgebendeLotstopplackschicht24 auf der Oberseite17 desVerdrahtungssubstrats4 dafür, dass sich das Weichlot29 nichtauf der Unterseite17 beim Auflöten weiter ausbreitet. 3 shows a schematic cross section through a base ball 8th , which via a cohesive connecting means such as a soft solder 29 on a contact pad 9 is fixed. This bonding agent can be a silver-containing, lead-free soft solder 29 be that both the contact pad 9 , as well as the surface 11 the base ball 8th Intensely wetted in the foot area. At the same time, one provides the contact surface 9 surrounding Lotstopplackschicht 24 on the top 17 of the wiring substrate 4 for making the soft solder 29 not on the bottom 17 when dissolving further spreads.

Dienachfolgenden4 bis9 zeigen schematischeQuerschnitte durch Komponenten bei der Herstellung eines Verbindungselementes7 gemäß1.Komponenten mit gleichen Funktionen wie in den vorhergehenden Figurenwerden in den4 bis9 mit gleichenBezugszeichen gekennzeichnet und nicht extra erörtert.The following 4 to 9 show schematic cross sections through components in the manufacture of a connecting element 7 according to 1 , Components having the same functions as in the previous figures are incorporated in the 4 to 9 denoted by the same reference numerals and not discussed separately.

4 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine Sockelkugel8,gemäß2,mit aufgebrachter Schutzbeschichtung10. Nach dem Aufbringender Schutzbeschichtung10 ist diese, wie4 zeigt,geschlossen und bedeckt die Oberseite11 der Sockelkugel8 vollständig. Einederartige geschlossene Schutzschicht10 kann durch Oxidieren, Nitrierenoder durch Sulfidbildung in entsprechenden Oxidations-, Nitrierungs-oder Sulfidbeschichtungsanlagen erreicht werden. Andererseits istes auch möglich,eine derartige geschossene Beschichtung durch Aufdampfen oder Aufsputterneiner Metallschicht zu erreichen, wobei das Material der Metallschichtso gewähltwird, dass diese Metallschicht nicht von dem Lotmaterial der aufzubringendenLotkugel benetzt werden kann. Als Schutzschicht10 können aberauch Polymerschichten abgeschieden werden, wobei bevorzugt Polymerschichteneingesetzt werden, die mit einem Füllstoff aus Keramikpartikelnfür Hochtemperatureinsätze präpariertsind. 4 shows a schematic cross section through a base ball 8th , according to 2 , with applied protective coating 10 , After applying the protective coating 10 is this, how 4 shows, closed and covers the top 11 the base ball 8th Completely. Such a closed protective layer 10 can be achieved by oxidation, nitriding or by sulfide formation in corresponding oxidation, nitriding or sulfide coating plants. On the other hand, it is also possible to achieve such a coated coating by vapor deposition or sputtering of a metal layer, wherein the material of the metal layer is chosen so that this metal layer can not be wetted by the solder material of the solder ball to be applied. As a protective layer 10 however, it is also possible to deposit polymer layers, with preference being given to using polymer layers which have been prepared with a filler of ceramic particles for high-temperature use.

5 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine Sockelkugel8,gemäß3,mit aufgebrachter Schutzbeschichtung10. In dieser Ausführungsformder Sockelkugel8 wird die Schutzschicht10 durcheinen Tauch- oder Sprühprozesseines hochtemperaturfesten Lackes27 aufgebracht, wobeidie Viskositätdes Lackes derart definiert wird, dass sich eine dickere Schutzschicht10 imFußbereichder Sockelkugel8 ausbildet, und eine äußerst dünne Schutzschicht10 aufder Spitze der Sockelkugel8 gebildet wird. Diese Formder Schutzschicht10 hat den Vorteil, dass sie durch diebreite Fußform formstabilund selbsttragend ist, so dass es möglich ist, nach Ausbilden einerGrenzflächeim oberen Kugelabschnitt der So ckelkugel8, eine Lotkugelaufzubringen und anzuschmelzen, welche die gleiche Schmelztemperaturaufweist wie die Sockelkugel8. 5 shows a schematic cross cut through a base ball 8th , according to 3 , with applied protective coating 10 , In this embodiment, the base ball 8th becomes the protective layer 10 by a dipping or spraying process of a high temperature resistant paint 27 applied, wherein the viscosity of the paint is defined such that a thicker protective layer 10 in the foot area of the base ball 8th forms, and an extremely thin protective layer 10 on the top of the base ball 8th is formed. This form of protective layer 10 has the advantage that it is dimensionally stable and self-supporting by the wide foot shape, so that it is possible, after forming an interface in the upper ball portion of the So ckelkugel 8th to apply and melt a solder ball, which has the same melting temperature as the base ball 8th ,

6 zeigteinen schematischen Querschnitt durch die Sockelkugel8,gemäß4,nach selektiver Entfernung der Schutzbeschichtung10 unterFreilegen einer Grenzfläche12.Das Freilegen der Grenzfläche12 kanndurch Laserablation erfolgen und dabei kann sowohl eine sphärische Grenzfläche12,als auch eine, wie hier in6 gezeigte,eingeebnete Grenzfläche12 erzeugtwerden. Die sphärischeGrenzflächeentsteht dann, wenn der Laserabtrag lediglich dafür sorgt,dass die Schutzschicht10 in dem oberen Kugelabschnittder Sockelkugel8 abgetragen wird. 6 shows a schematic cross section through the base ball 8th , according to 4 after selective removal of the protective coating 10 exposing an interface 12 , The exposure of the interface 12 can be done by laser ablation and can be both a spherical interface 12 , as well as one, as here in 6 shown, leveled interface 12 be generated. The spherical interface is created when the laser ablation only ensures that the protective layer 10 in the upper ball portion of the base ball 8th is removed.

7 zeigteinen schematischen Querschnitt durch die Sockelkugel8,gemäß6,beim Aufbringen eines Flussmittels25 auf die freigelegte Grenzfläche12.Dazu wird ein Druckwerkzeug26 eingesetzt, das vorzugsweiseaus einem Druckerstempel besteht, der einen Flussmitteltropfen anseiner Unterseite hält,oder einen Flussmitteltropfen aus einer kapillaren, zentralen Bohrungin dem Druckwerkzeug26 zuführt. Das Flussmittel25 verbreitet sichauf der Grenzfläche12 undbereitet ein direktes Auflöteneines Lotballes vor. 7 shows a schematic cross section through the base ball 8th , according to 6 when applying a flux 25 on the exposed interface 12 , This is a printing tool 26 used, which preferably consists of a printer stamp holding a drop of flux on its underside, or a drop of flux from a capillary, central bore in the pressure tool 26 supplies. The flux 25 spreads on the interface 12 and prepares for a direct soldering of a solder ball.

8 zeigteinen schematischen Querschnitt durch die Sockelkugel8,gemäß7,nach Aufbringen einer Lotkugel6 auf die mit Flussmittel25 benetzteGrenzfläche12.Dabei verdrängtdie Lotkugel6 mit ihrer sphärischen Oberfläche11 dasFlussmittel25, so dass ein unmittelbarer Kontakt zwischen Lotkugel9 undSockelkugel8 entsteht. Beim Aufheizen dieser Anordnung,wie sie in8 gezeigt wird, bildet sichdann das in der nächstenFigur gezeigte Verbindungselement aus. 8th shows a schematic cross section through the base ball 8th , according to 7 after applying a solder ball 6 on the with flux 25 wetted interface 12 , The solder ball displaces 6 with its spherical surface 11 the flux 25 , so that an immediate contact between solder ball 9 and socket ball 8th arises. When heating this arrangement, as in 8th is shown, then forms the connecting element shown in the next figure.

9 zeigteinen schematischen Querschnitt durch die Sockelkugel8,gemäß8,nach stoffschlüssigemVerbinden der Lotkugel6 mit der Sockelkugel8 ander Grenzfläche12 zueinem Verbindungselement7, gemäß1. 9 shows a schematic cross section through the base ball 8th , according to 8th , after material connection of the solder ball 6 with the base ball 8th at the interface 12 to a connecting element 7 , according to 1 ,

10 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine Modifikation des Verbindungselementes7.Bei dieser Modifikation wird von einer Sockelkugel8 miteiner formstabilen, selbsttragenden Schutzbeschichtung10 ausgegangen,wie sie in5 gezeigt ist. Ferner zeigt10 bereitsein weiteres Verdrahtungssubstrat5, das mit der Lotkugel6 durchAuflötenauf eine Kontaktanschlussfläche21 aufder Oberseite22 des Verdrahtungssubstrats5, einerzweiten Komponente einer Schaltung, verbunden wird. Zum Schutz derVerdrahtungsstruktur des Verdrahtungssubstrats5 wird auchhier eine Lötstopplackschicht24,welche die Kontaktanschlussfläche21 vollständig umgibt,eingesetzt. Dabei kann das Verdrahtungssubstrat5 zu einemStandardhalbleiterbauteil gehörenund die Lotkugel6 einen oberflächenmontierbaren Außenkontakteines derartigen Standardbauteils darstellen. 10 shows a schematic cross section through a modification of the connecting element 7 , This modification is made by a base ball 8th with a dimensionally stable, self-supporting protective coating 10 assumed, as in 5 is shown. Further shows 10 already another wiring substrate 5 that with the solder ball 6 by soldering on a contact pad 21 on the top 22 of the wiring substrate 5 , a second component of a circuit. To protect the wiring structure of the wiring substrate 5 Here is a solder mask layer 24 which the contact pad 21 completely surrounds, used. In this case, the wiring substrate 5 belong to a standard semiconductor device and the solder ball 6 represent a surface mount external contact of such a standard component.

11 zeigteinen schematischen Querschnitt durch eine weitere Modifikationdes Verbindungselementes7, wobei für die Lotkugel6 einemetallbeschichtete Polymerkugel14 eingesetzt wird, die einesphärischeGrenzfläche12 indie Sockelkugel8 einprägt,so dass die Sockelkugel8 auf ihrer Oberseite eine konvexeGrenzfläche12 aufweist.Diese metallbeschichtete Polymerkugel14 ist über einWeichlot29 mit der Kontaktanschlussfläche21 des zweiten Verdrahtungssubstrats5 stoffschlüssig verbunden. Einderartiges Verbindungselement7 hat den Vorteil, dass durchdie Polymerkugel eine höhereNachgiebigkeit des Verbindungselementes7 erreicht wird,so dass Abstandstoleranzen zwischen einem Verdrahtungssubstrat4 undeinem Verdrahtungssubstrat5 sowie Höhendifferenzen der Verbindungselemente7 ausgeglichenwerden können.Auch thermische Spannungen könnendurch ein derartiges Verbindungselement7 gepuffert werden. 11 shows a schematic cross section through a further modification of the connecting element 7 , where for the solder ball 6 a metal coated polymer ball 14 is used, which is a spherical interface 12 in the base ball 8th imprints, leaving the base ball 8th on its upper side a convex interface 12 having. This metal-coated polymer ball 14 is about a soft solder 29 with the contact pad 21 of the second wiring substrate 5 cohesively connected. Such a connection element 7 has the advantage that by the polymer ball a higher compliance of the connecting element 7 is achieved, so that distance tolerances between a wiring substrate 4 and a wiring substrate 5 and height differences of the connecting elements 7 can be compensated. Thermal stresses can also be caused by such a connecting element 7 be buffered.

12 zeigteine Prinzipschaltung eines Schaltnetzteils mit zwei MOSFETs31 und32,als Halbleiterelemente16 einer übergeordneten Schaltungsplatine,wobei überden beiden MOSFETs31 und32 die EingangsspannungUEIN abfällt,und wobei der MOSFET31 im Hochspannungsbereich zwischender Eingangsspannung und einem Schaltungsknotenpunkt30 desSchaltungsnetzteils33 angeordnet ist, und der MOSFET32 imNiederspannungsbereich zwischen Schaltungsknoten30 und derMasseleitung arbeitet. Überden Schaltungsknoten30 zur Masseleitung ist ein LC-Gliedals Tiefpass zum Schutz der Ausgangsspannung UAUS geschaltet, wobeiL eine Induktivitätund C eine Kapazitätdefiniert. 12 shows a schematic circuit of a switching power supply with two MOSFETs 31 and 32 , as semiconductor elements 16 a parent circuit board, with over the two mosfets 31 and 32 the input voltage UIN drops, and wherein the MOSFET 31 in the high voltage region between the input voltage and a circuit node 30 of the switching power supply 33 is arranged, and the MOSFET 32 in the low voltage range between circuit nodes 30 and the ground line is working. About the circuit node 30 to the ground line, an LC element is connected as a low-pass filter for protecting the output voltage UOUT , L defining an inductance and C a capacitance.

13 zeigteine schematische Prinzipskizze eines Halbleiterbauteils1,gemäß einerersten Ausführungsformder Erfindung. Dieses Halbleiterbauteil ist ein Modul, das die in12 gezeigtePrinzipschaltung nun in Hardware realisiert. Dazu weist das Halbleitermodulein Verdrahtungssubstrat4 auf, auf dessen Unterseite17 dieoben beschriebenen Verbindungselemente7 als Außenkontakte15 angeordnetsind. Ferner sind auf der Unterseite17 als Halbleiterbauelemente16 dieMOSFETs31 und32 mit dem Verdrahtungssubstrat4 elektrischverbunden. Auf der Oberseite23 des Verdrahtungssubstrats4 sinddie beiden diskreten Bauteile des LC-Tiefpasses angeordnet, undzusätzlichein Halbleiterbauteilelement16 als in tegrierte SchaltungIC zum Steuern der MOSFETs31 und32. Aufgrundder Höheh der Außenkontakte15 können aufder Unterseite17 als MOSFETs31 und32 Standardbauteileeingesetzt werden, was die oben diskutierten Vorteile aufweist. 13 shows a schematic schematic diagram of a semiconductor device 1 , According to a first embodiment of the invention. This semiconductor device is a module that incorporates the in 12 shown principle circuit now realized in hardware. For this purpose, the semiconductor module has a wiring substrate 4 on, on its underside 17 the fasteners described above 7 as external contacts 15 are arranged. Furthermore, on the bottom 17 as semiconductor devices 16 the mosfets 31 and 32 with the wiring substrate 4 electrically connected. On the top 23 of the wiring substrate 4 the two discrete components of the LC low-pass filter are arranged, and additionally a semiconductor device element 16 as in integrated circuit IC for controlling the MOSFETs 31 and 32 , Due to the height h of the external contacts 15 can on the bottom 17 as MOSFETs 31 and 32 Standard components are used, which has the advantages discussed above.

14 zeigteine schematische Prinzipskizze eines Halbleiterbauteils2,gemäß einerzweiten Ausführungsformder Erfindung. Dieses Halbleiterbauteil2 stellt ebenfallseine Hardwareausführung derSchaltung, wie sie in12 gezeigt wird, dar, wobeiin diesem Falle die Außenkontakte15 Verbindungselemente7 aufweisen,bei denen die Sockelkugel8 von einer formstabilen Polymerbeschichtung13 umgebenist, so dass die Sockelkugel8 und die Lotkugel6 derAußenkontakte15 ausgleichem Lotmaterial bestehen können.Die zweite Ausführungsformgemäß14 unterscheidetsich von der ersten Ausführungsformgemäß13 dadurch,dass die integrierte Schaltung IC als Halbleiterbauelement16,in diesem Falle auf der Unterseite17 des Verdrahtungssubstrats4 angeordnetist, und die MOSFETs31 und32, sowie der LC-Tiefpassebenfalls durch diskrete Elemente, die auf der Oberseite23 desVerdrahtungssubstrats4 angeordnet sind, realisiert werden. 14 shows a schematic schematic diagram of a semiconductor device 2 , According to a second embodiment of the invention. This semiconductor device 2 also provides a hardware implementation of the circuit as shown in 12 is shown, in which case the external contacts 15 fasteners 7 have, in which the base ball 8th from a dimensionally stable polymer coating 13 is surrounded, so that the base ball 8th and the solder ball 6 the external contacts 15 can consist of the same soldering material. The second embodiment according to 14 differs from the first embodiment according to 13 in that the integrated circuit IC as a semiconductor device 16 , in this case on the bottom 17 of the wiring substrate 4 is arranged, and the mosfets 31 and 32 , as well as the LC low pass also by discrete elements on the top 23 of the wiring substrate 4 are arranged to be realized.

15 zeigteinen schematischen Querschnitt durch ein Halbleiterbauteil, gemäß einerdritten Ausführungsformder Erfindung vor einem Stapeln von zwei Halbleiterbauteilen18 und19.Bei diesem Halbleiterbauteil werden die erfindungsgemäßen Verbindungselementegenutzt, um einen Halbleiterbauteilstapel zu realisieren, der auseinem Basishalbleiterbauelement18 und einem gestapelten Halbleiterbauelement19 besteht.Beide Halbleiterbauelemente18 und19 weisen bereitsvoll ausgebildete Gehäusemit eigenen Außenkontaktenin Form von Lotkugeln auf. In dem Basishalbleiterbauelement18 istsogar ein Halbleiterstapelchip aus einem Halbleiterchip37 mitFlipchip-Kontakten36 und einem mit Kontaktflächen versehenenHalbleiterchip39 angeordnet, der in einem Gehäuse20 eingegossenist. Dadurch ergibt sich eine Gesamthöhe des Gehäuses20, die mit einemeinzelnen Lotball als Außenkontakt desgestapelten Halbleiterbauelements19 nicht zu überbrücken wäre. 15 shows a schematic cross section through a semiconductor device, according to a third embodiment of the invention before stacking two semiconductor devices 18 and 19 , In this semiconductor device, the connecting elements of the invention are used to realize a semiconductor device stack consisting of a base semiconductor device 18 and a stacked semiconductor device 19 consists. Both semiconductor devices 18 and 19 already have fully trained housing with its own external contacts in the form of solder balls. In the base semiconductor device 18 is even a semiconductor stack chip from a semiconductor chip 37 with flipchip contacts 36 and a semiconductor chip provided with contact surfaces 39 arranged in a housing 20 is poured. This results in an overall height of the housing 20 used with a single solder ball as the external contact of the stacked semiconductor device 19 could not be bridged.

16 zeigtdie Halbleiterbauteile18 und19 der15 nacheinem Stapeln zu einem Bauteil3 einer dritten Ausführungsformdieser Erfindung. Durch das Anbringen von Sockelkugeln mit Stützbeschichtungauf dem Verdrahtungssubstrat des Basishalbleiterelements18 rundum das Gehäuse20 ist derAbstand kein Problem, da sich beim Stapeln die Verbindungselementen7 ausSockelkugeln und Lotkugeln ausbilden und gleichzeitig über dieVerbindungselemente7 Kontakte zu dem gestapelten Halbleiterbauteilen19 miteinem weiteren Halbleiterchip43 herstellen. Die Außenkontakte15 diesesHalbleiterbauteilstapels auf der Unterseite28 des Basishalbleiterbauelements18 können durchStandardlotbällerealisiert werden. Diese Außenkontakte15 stehen über Durchkontakte34 desVerdrahtungssubstrats5 des Basishalbleiterbauelements18 miteiner Verdrahtungsstruktur35 auf der Oberseite23 des Verdrahtungssubstrats5 desBasishalbleiterelements18 in Verbindung, und über dieseVerdrahtungsstruktur35 sind die Außenkontakte15 sowohl mitden Flipchip-Kontakten36 des unteren Halbleiterchips37,als auch überBonddrähte38 desgestapelte Halbleiterchips39 in dem Gehäuse20 desBasishalbleiterbauelements18 elektrisch verbunden. 16 shows the semiconductor devices 18 and 19 of the 15 after stacking into a component 3 a third embodiment of this invention. By attaching base balls with backing coating on the wiring substrate of the base semiconductor element 18 around the case 20 the distance is not a problem, because when stacking the fasteners 7 form of base balls and solder balls and at the same time on the connecting elements 7 Contacts to the stacked semiconductor devices 19 with another semiconductor chip 43 produce. The external contacts 15 this semiconductor component stack on the bottom 28 of the base semiconductor device 18 can be realized by standard solder balls. These external contacts 15 are over contacts 34 of the wiring substrate 5 of the base semiconductor device 18 with a wiring structure 35 on the top 23 of the wiring substrate 5 of the base semiconductor element 18 in connection, and via this wiring structure 35 are the external contacts 15 both with the flipchip contacts 36 of the lower semiconductor chip 37 , as well as over bonding wires 38 of the stacked semiconductor chip 39 in the case 20 of the base semiconductor device 18 electrically connected.

Darüber hinausstehen die Außenkontakte15 über dieerfindungsgemäßen Verbindungselemente7 undKontaktanschlussflächen21 desgestapelten Halbleiterbauelements19 in Verbindung, wobeidie Kontaktanschlussflächen21 über entsprechende Durchkontakte40 undeine Verdrahtungsstruktur41 auf der Oberseite23 desgestapelten Halbleiterbauelements19 und über entsprechende Bondverbindung42 mitdem Halbleiterchip43 des gestapelten Halbleiterbauelements19 elektrischin Verbindung stehen. Dabei kann die Lotkugel6 einen Standardaußenkontaktdes gestapelten Halbleiterbauteils19 darstellen, und dieSockelkugel8 zusätzlichauf der Oberseite22 des Verdrahtungssubstrats5 desBasisbauteilelements18 vorgesehen werden. Beim Stapelndes Standardhalbleiterbauteils19 werden lediglich dieAußenkontaktein Form von Lotkugeln6 des zu stapelnden Halbleiterbauelementes19 aufdie Sockelkugeln8 des Basishalbleiterbauelements18 ausgerichtet,und der in15 gezeigte Halbleiterbauelementstapelaus Standard-Halbleiterbauelementen18 und19 verwirklicht,die auch als einzelne Halbleiterbauteile vermarktet werden können.In addition, the external contacts 15 via the connecting elements according to the invention 7 and contact pads 21 the stacked semiconductor device 19 in conjunction with the contact pads 21 via corresponding vias 40 and a wiring structure 41 on the top 23 the stacked semiconductor device 19 and via appropriate bond connection 42 with the semiconductor chip 43 the stacked semiconductor device 19 communicate electrically. In this case, the solder ball 6 a standard outer contact of the stacked semiconductor device 19 represent, and the base ball 8th additionally on the top 22 of the wiring substrate 5 of the base member element 18 be provided. When stacking the standard semiconductor device 19 only the external contacts in the form of solder balls 6 of the semiconductor device to be stacked 19 on the base balls 8th of the base semiconductor device 18 aligned, and the in 15 shown semiconductor device stack of standard semiconductor devices 18 and 19 which can also be marketed as individual semiconductor devices.

11
Halbleiterbauteil(erste Ausführungsform)Semiconductor device(first embodiment)
22
Halbleiterbauteil(zweite Ausführungsform)Semiconductor device(second embodiment)
33
Halbleiterbauteil(dritte Ausführungsform)Semiconductor deviceThird Embodiment
44
Verdrahtungssubstratmit gestapelten Lotkugelnwiring substratewith stacked solder balls
55
Verdrahtungssubstratsohne gestapelte Lotkugelnwiring substratewithout stacked solder balls
66
Lotkugel(gestapelt)solder ball(Stacked)
77
Verbindungselementconnecting element
88th
Sockelkugelbase ball
99
Kontaktanschlussfläche desVerdrahtungssubstratContact surface of thewiring substrate
1010
Schutzbeschichtungder Sockelkugelprotective coatingthe base ball
1111
Oberfläche derSockelkugelSurface of thebase ball
1212
Grenzfläche derSockelkugel (frei von SchutzbeschichInterface of theBase ball (free of protective coating
tung)tung)
1313
Polymerbeschichtungpolymer coating
1414
Polymerkugel(metallbeschichtet)polymer ball(Metallized)
1515
Außenkontaktdes Halbleiterbauteilsoutside Contactof the semiconductor device
1616
HalbleiterbauelementSemiconductor device
1717
Unterseitedes Verdrahtungssubstratsbottomof the wiring substrate
1818
BasishalbleiterbauelementBased semiconductor device
1919
gestapeltenHalbleiterbauelementstackedSemiconductor device
2020
Gehäuse desBasishalbleiterbauelementsHousing ofBased semiconductor device
2121
Kontaktanschlussfläche desBasishalbleiterbauelementsContact surface of theBased semiconductor device
2222
Oberseitedes Verdrahtungssubstrats des Basishalbleitertopof the wiring substrate of the base semiconductor
bauelementsconstruction element
2323
Oberseitedes Verdrahtungssubstrats mit gestapelten Lottopof the wiring substrate with stacked solder
kugelnroll
2424
Lötstopplackschichtsolder resist layer
2525
Flussmittelflux
2626
Druckwerkzeugpressure tool
2727
Polyimidpolyimide
2828
Unterseitedes Verdrahtungssubstrats des Basishalbleibottomof the base alkaline lead wiring substrate
terbauelementsterbauelements
2929
Weichlotsolder
3030
Schaltungsknotencircuit node
3131
MOSFETMOSFET
3232
MOSFETMOSFET
3333
SchaltungsnetzteilCircuit power supply
3434
Durchkontaktethrough contacts
3535
Verdrahtungsstrukturwiring structure
3636
Flipchip-KontaktFlip-Contact
3737
untererHalbleiterchiplowerSemiconductor chip
3838
Bonddrahtbonding wire
3939
gestapelterHalbleiterchipstackedSemiconductor chip
4040
Durchkontaktedes gestapelten Halbleiterbauelementsthrough contactsthe stacked semiconductor device
4141
Verdrahtungsstrukturdes gestapelten Halbleiterbauelewiring structureof the stacked semiconductor device
mentsments
4242
Bondverbindungdes gestapelten Halbleiterbauelementsbondthe stacked semiconductor device
4343
Halbleiterchipdes gestapelten HalbleiterbauelementsSemiconductor chipthe stacked semiconductor device
CC
Kondensatorcapacitor
LL
Induktivitätinductance
ICIC
integrierteSchaltungintegratedcircuit
hH
Höhe des VerbindungselementesHeight of the connecting element
dd
Durchmesserder Lotkugeldiameterthe solder ball

Claims (30)

Translated fromGerman
Halbleiterbauteil mit Verdrahtungssubstrat (4) undLotkugeln (6) als Verbindungselement (7), wobei dasVerbindungselement (7) mindestens eine Sockelkugel (8)und eine auf der Sockelkugel (8) gestapelte Lotkugel (6)aufweist, wobei die Lotkugel (6) mindestens teilweise einlötbaresLotmaterial aufweist und wobei die Sockelkugel (8) miteiner Kontaktanschlussfläche(9) des Verdrahtungssubstrats (4) elektrisch inVerbindung steht und eine nicht vom Lotmaterial der Lotkugel (6)benetzbare Schutzbeschichtung (10) auf ihrer Oberfläche (11)aufweist, wobei eine Grenzfläche(12) der Sockelkugel (8) frei von der Schutzbeschichtung(10) ist, und wobei die Grenzfläche (12) stoffschlüssig mitdem Material der Lotkugel verbunden ist.Semiconductor device with a wiring substrate ( 4 ) and solder balls ( 6 ) as a connecting element ( 7 ), wherein the connecting element ( 7 ) at least one base ball ( 8th ) and one on the base ball ( 8th ) stacked solder ball ( 6 ), wherein the solder ball ( 6 ) at least partially comprises a solderable solder material and wherein the base ball ( 8th ) with a contact pad ( 9 ) of the wiring substrate ( 4 ) is electrically connected and one not from the solder material of the solder ball ( 6 ) wettable protective coating ( 10 ) on its surface ( 11 ), wherein an interface ( 12 ) of the base ball ( 8th ) free from the protective coating ( 10 ), and wherein the interface ( 12 ) is materially connected to the material of the solder ball.Halbleiterbauteil mit einem Modul aus gestapeltenHalbleiterbauelementen (18,19) mit mindestenseinem Basishalbleiterelement (18) und einem gestapeltenHalbleiterbauelements (19), das auf seiner Unterseite (17)Lotkugeln aufweist währenddas Basishalbleiterbauelement (19) Sockelkugeln (8)mit Stützbeschichtungen(10) aufweist, die derart angeordnet sind, dass sie einGehäuse(20) des Basishalbleiterbauelements (18) umgeben,und mit den Lotkugeln (6) des gestapelten Halbleiterbauelements (19)stoffschlüssigverbunden sind und Verbindungselemente (7) bilden, welcheden Zwischenraum zwischen den Halbleiterbauelementen überbrücken.Semiconductor device having a module of stacked semiconductor devices ( 18 . 19 ) with at least one base semiconductor element ( 18 ) and a stacked semiconductor device ( 19 ), which on its underside ( 17 ) Has solder balls while the base semiconductor component ( 19 ) Base balls ( 8th ) with backing coatings ( 10 ) which are arranged such that they form a housing ( 20 ) of the base semiconductor component ( 18 ), and with the solder balls ( 6 ) of the stacked semiconductor device ( 19 ) are materially connected and fasteners ( 7 ), which bridge the gap between the semiconductor devices.Halbleiterbauteil nach Anspruch 1 oder Anspruch 2,dadurch gekennzeichnet, dass das Verbindungselement (7)mehrere aufeinander gestapelte Sockelkugeln (8) aufweist.Semiconductor component according to Claim 1 or Claim 2, characterized in that the connecting element ( 7 ) several stacked base balls ( 8th ) having.Halbleiterbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass das Verbindungselement (7) mehrereaufeinander gestapelte Lotkugeln (6) aufweist.Semiconductor component according to one of the preceding claims, characterized in that the connecting element ( 7 ) several stacked solder balls ( 6 ) having.Halbleiterbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass die Schutzbeschichtung (10) selbsttragendund formstabil ist und die Sockelkugel (8) stützt.Semiconductor component according to one of the preceding claims, characterized in that the protective coating ( 10 ) is self-supporting and dimensionally stable and the base ball ( 8th ).Halbleiterbauteil nach Anspruch 1 bis 4, dadurchgekennzeichnet, dass die Schutzbeschichtung (10) eine Oxid-oder Nitrid- oder Sulfidschicht des Materials der Sockelkugel (8)aufweist.Semiconductor component according to Claims 1 to 4, characterized in that the protective coating ( 10 ) an oxide or nitride or sulfide layer of the material of the base ball ( 8th ) having.Halbleiterbauteil nach einem der Ansprüche 1 bis4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schutzbeschichtung (10)eine Metallbeschichtung ist, wobei das Metall nicht vom Lotmaterialder Lotkugel (6) benetzbar ist.Semiconductor component according to one of Claims 1 to 4, characterized in that the protective coating ( 10 ) is a metal coating, wherein the metal is not from the solder material of the solder ball ( 6 ) is wettable.Halbleiterbauteil nach Anspruch 1 bis 4, dadurchgekennzeichnet, dass die Schutzbeschichtung (10) eine Polymerbeschichtung(13) ist und vorzugsweise einen hochtemperaturfesten Lackaufweist.Semiconductor component according to Claims 1 to 4, characterized in that the protective coating ( 10 ) a polymer coating ( 13 ) and preferably has a high temperature resistant paint.Halbleiterbauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass die Grenzfläche(12) eine sphärischeFlächeaufweist.Semiconductor device according to one of the preceding the claims, characterized in that the interface ( 12 ) has a spherical surface.Halbleiterbauteil nach einem der Ansprüche 1 bis8, dadurch gekennzeichnet, dass die Grenzfläche (12) eine ebeneFlächeaufweist.Semiconductor component according to one of claims 1 to 8, characterized in that the interface ( 12 ) has a flat surface.Halbleiterbauteil nach einem der Ansprüche 1 bis8, dadurch gekennzeichnet, dass die Grenzfläche (12) eine konvexeFlächeaufweist.Semiconductor component according to one of claims 1 to 8, characterized in that the interface ( 12 ) has a convex surface.Halbleiterbauteil nach einem der Ansprüche 1 bis8, dadurch gekennzeichnet, dass die Grenzfläche (12) eine konkaveFlächeaufweist.Semiconductor component according to one of claims 1 to 8, characterized in that the interface ( 12 ) has a concave surface.Halbleiterbauteil nach einem der vorhergehendenAnsprüche,dadurch gekennzeichnet, dass die Sockelkugel (8) und/oderdie Lotkugel (6) eine metallbeschichtete Polymerkugel (14)aufweist.Semiconductor component according to one of the preceding claims, characterized in that the base ball ( 8th ) and / or the solder ball ( 6 ) a metal-coated polymer sphere ( 14 ) having.Halbleiterbauteil nach einem der vorhergehendenAnsprüche,dadurch gekennzeichnet, dass die Sockelkugel (8) ein Metallaufweist, das einen höherenSchmelzpunkt als das Lotmaterial aufweist.Semiconductor component according to one of the preceding claims, characterized in that the base ball ( 8th ) has a metal having a higher melting point than the solder material.Halbleiterbauteil nach einem der Ansprüche 1 bis12, dadurch gekennzeichnet, dass die Sockelkugel (8) unddie Lotkugel (6) ein Kernmateri al aufweisen, das einenhöherenSchmelzpunkt als das Lotmaterial aufweist.Semiconductor component according to one of Claims 1 to 12, characterized in that the base ball ( 8th ) and the solder ball ( 6 ) have a Kernmateri al, which has a higher melting point than the solder material.Halbleiterbauteil nach einem der vorhergehendenAnsprüche,dadurch gekennzeichnet, dass die Sockelkugel (8) eine SnAgCu-Metalllegierung unddie Lotkugel (6) eine SnPbAg-Metalllegierung aufweist.Semiconductor component according to one of the preceding claims, characterized in that the base ball ( 8th ) a SnAgCu metal alloy and the solder ball ( 6 ) comprises a SnPbAg metal alloy.Halbleiterbauteil nach einem der Ansprüche 1 bis15, dadurch gekennzeichnet, dass die Sockelkugel (8) unddie Lotkugel (6) ein Lotmaterial mit gleichem Schmelzpunktaufweisen und die Sockelkugel (8) eine selbsttragende undformstabile Schutzbeschichtung (10) aufweist.Semiconductor component according to one of claims 1 to 15, characterized in that the base ball ( 8th ) and the solder ball ( 6 ) have a solder material with the same melting point and the base ball ( 8th ) a self-supporting and dimensionally stable protective coating ( 10 ) having.Halbleiterbauteil nach einem der vorhergehendenAnsprüche,dadurch gekennzeichnet, dass das Halbleiterbauteil Außenkontakte(15) aus Verbindungselementen (7) mit mindestenseiner Sockelkugel (8) und einer auf der Sockelkugel (8)gestapelten Lotkugel (6) aufweist, wobei das Verdrahtungssubstrat(4) beidseitig mit Halbleiterbauelementen (16)bestücktist, und wobei die Unterseite (17) des Verdrahtungssubstrats(4) mindestens ein Halbleiterbauelement (16) unddie Außenkontakte(15) des Halbleiterbauteils (1) aufweist.Semiconductor component according to one of the preceding claims, characterized in that the semiconductor component external contacts ( 15 ) of connecting elements ( 7 ) with at least one base ball ( 8th ) and one on the base ball ( 8th ) stacked solder ball ( 6 ), wherein the wiring substrate ( 4 ) on both sides with semiconductor devices ( 16 ) and the underside ( 17 ) of the wiring substrate ( 4 ) at least one semiconductor device ( 16 ) and the external contacts ( 15 ) of the semiconductor device ( 1 ) having.Verfahren zur Herstellung mehrerer Halbleiterbauteile(1) mit Verdrahtungssubstraten (4) und Lotkugeln(6) als Verbindungselemente (7), wobei das Verfahrenfolgende Verfahrensschritte aufweist: – Herstellen eines Nutzensmit in Zeilen und Spalten angeordneten Halbleiterbauteilpositionen,wobei der Nutzen in den Halbleiterbauteilpositionen eine Verdrahtungsstrukturder Verdrahtungssubstrate (4) mit Bereichen für Halbleiterbauelemente(16) und außerhalbdieser Bereiche Positionen mit Kontaktanschlussflächen (9)für einAnbringen von Sockelkugeln (8) aufweist; – Bestücken derKontaktanschlussflächenmit Sockelkugeln (8); – Beschichten der Sockelkugeln(8) mit einer von Lotmaterial nicht benetzbaren Schutzbeschichtung(10); – selektivesEntfernen der Schutzbeschichtung (10) in einem für eine Grenzfläche (12)zu einer Lotkugel (6) vorgesehenen Bereich der Oberfläche derSockelkugel (8); – Aufbringeneiner Lotkugel (6) auf die Grenzfläche (12); – Bestücken derHalbleiterbauteilpositionen mit Halbleiterbauteilelementen (16)unter Verbinden der Halbleiterbauteilelemente (16) mitder Verdrahtungsstruktur; – Auftrennendes Nutzens in einzelne Halbleiterbauteile (1).Method for producing a plurality of semiconductor components ( 1 ) with wiring substrates ( 4 ) and solder balls ( 6 ) as connecting elements ( 7 ), the method comprising the following method steps: - producing a benefit with semiconductor device positions arranged in rows and columns, the use in the semiconductor device positions comprising a wiring structure of the wiring substrates ( 4 ) with areas for semiconductor devices ( 16 ) and outside these areas positions with contact pads ( 9 ) for attaching base balls ( 8th ) having; - Equipping the contact pads with base balls ( 8th ); - coating the base balls ( 8th ) with a non-wettable by solder material protective coating ( 10 ); Selective removal of the protective coating ( 10 ) in one for an interface ( 12 ) to a solder ball ( 6 ) provided area of the surface of the base ball ( 8th ); - applying a solder ball ( 6 ) on the interface ( 12 ); - populating the semiconductor component positions with semiconductor device elements ( 16 ) with connection of the semiconductor device elements ( 16 ) with the wiring structure; - separating the benefit into individual semiconductor components ( 1 ).Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet,dass die Sockelkugeln (8) auf Positionen mit Kontaktanschlussflächen (9)auf der Unterseite des Nutzens und die Halbleiterbauelemente (16)auf Bereichen der Oberseite des Nutzens angeordnet werden.Method according to claim 19, characterized in that the base balls ( 8th ) on positions with contact pads ( 9 ) on the bottom side of the benefit and the semiconductor devices ( 16 ) are placed on areas of the top of the utility.Verfahren nach Anspruch 19 oder Anspruch 20, dadurchgekennzeichnet, dass die Sockelkugeln (8) als Außenkontakte(15) der Halbleiterbauteile (1) auf Positionenmit Kontaktanschlussflächen(9) auf der Unterseite des Nutzens derart angeordnet werden,dass sie mindestens einen Bereich mit einem Halbleiterbauelement(16) umgeben, und wobei auf der Oberseite des Nutzens weitereBereiche fürHalbleiterbauelemente vorgesehen werden.A method according to claim 19 or claim 20, characterized in that the base balls ( 8th ) as external contacts ( 15 ) of the semiconductor components ( 1 ) on positions with contact pads ( 9 ) are arranged on the underside of the benefit such that they cover at least one area with a semiconductor device ( 16 ), and on the top of the benefit further areas for semiconductor devices are provided.Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 21, dadurch gekennzeichnet,dass fürein Modul gestapelter Halbleiterbauteile (1) ein Nutzenmit Verbindungselementen (7) aus Sockelkugeln (8)auf Positionen mit Kontaktanschlussflächen (9) auf der Unterseitedes Nutzens hergestellt wird, wobei die Sockelkugeln (8)mit aufgebrachten Lotkugeln (6) einen Bereich umgeben,in dem ein Halbleiterbauteilgehäuse (20)eines Basishalbleiterbauelements (18) angeordnet wird.Method according to one of claims 19 to 21, characterized in that for a module stacked semiconductor devices ( 1 ) a benefit with fasteners ( 7 ) of base balls ( 8th ) on positions with contact pads ( 9 ) is made on the underside of the benefit, the base balls ( 8th ) with applied solder balls ( 6 ) surround an area in which a semiconductor device housing ( 20 ) of a base semiconductor device ( 18 ) is arranged.Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 22, dadurch gekennzeichnet,dass mehrere Sockelkugeln (8) aufeinander gelötet werden,bevor eine Lotkugel (9) als Abschluss des Verbindungselementes(7) aufgebracht wird.Method according to one of claims 19 to 22, characterized in that a plurality of base balls ( 8th ) are soldered on each other before a solder ball ( 9 ) as a conclusion of the connecting element ( 7 ) is applied.Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 23, dadurch gekennzeichnet,dass zur Ausbildung einer Schutzbeschichtung (10) die Sockelkugeln(8) oxidiert, nitriert oder mit einer Sulfidschicht versehen werden.Method according to one of claims 19 to 23, characterized in that to form a protective coating ( 10 ) the base balls ( 8th ) are oxidized, nitrided or provided with a sulphide layer.Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 24, dadurch gekennzeichnet,dass zur Ausbildung einer selbsttragenden formstabilen Schutzbeschichtung(10) die Sockelkugeln (8) mit einer Polymerschichtvorzugsweise mit einem hochtemperaturfesten Lack (27) beschichtetwerden.Method according to one of claims 19 to 24, characterized in that to form a self-supporting dimensionally stable protective coating ( 10 ) the base balls ( 8th ) with a polymer layer, preferably with a high-temperature-resistant lacquer ( 27 ) are coated.Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 23, dadurch gekennzeichnet,dass zur Ausbildung einer Schutzbeschichtung (10) auf denSockelkugeln (8) ein Metall abgeschieden wird, das nichtvom Lotmaterial der Lotkugel benetzbar ist.Method according to one of claims 19 to 23, characterized in that to form a protective coating ( 10 ) on the base balls ( 8th ) a metal is deposited, which is not wettable by the solder material of the solder ball.Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 26, dadurch gekennzeichnet,dass zum selektiven Entfernen der Schutzbeschichtung (10)in einem für eineGrenzfläche(12) zu einer Lotkugel (6) vorgesehenen Bereichder Oberfläche(11) der Sockelkugel (8) ein Laserabtragsverfahreneingesetzt wird.Method according to one of claims 19 to 26, characterized in that for the selective removal of the protective coating ( 10 ) in one for an interface ( 12 ) to a solder ball ( 6 ) area of the surface ( 11 ) of the base ball ( 8th ) a laser ablation process is used.Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 26, dadurch gekennzeichnet,dass zum selektiven Entfernen der Schutzbeschichtung (10)in einem für eineGrenzfläche12 zueiner Lotkugel (6) vorgesehenen Bereich der Oberfläche (11)der Sockelkugel (8) ein Trockenätzverfahren unter gleichzeitigemSchutz der nicht zu ätzendenBereiche eingesetzt wird.Method according to one of claims 19 to 26, characterized in that for the selective removal of the protective coating ( 10 ) in one for an interface 12 to a solder ball ( 6 ) area of the surface ( 11 ) of the base ball ( 8th ) a dry etching method is used with simultaneous protection of non-corrosive areas.Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 26, dadurch gekennzeichnet,dass zum selektiven Entfernen der Schutzbeschichtung (10)und zum Ausbilden einer ebenen Grenzfläche (12) ein Schleif- und/oder Polierverfahreneingesetzt wird.Method according to one of claims 19 to 26, characterized in that for the selective removal of the protective coating ( 10 ) and to form a planar interface ( 12 ) a grinding and / or polishing method is used.Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 29, dadurch gekennzeichnet,dass vor dem Aufbringen einer Lotkugel (6) auf vorbereiteteGrenzflächen (12)der Sockelkugeln (8) die Lotkugeln (6) mit einem Flussmittelmindestens teilweise beschichtet werden.Method according to one of claims 19 to 29, characterized in that prior to the application of a solder ball ( 6 ) on prepared interfaces ( 12 ) of the base balls ( 8th ) the solder balls ( 6 ) are at least partially coated with a flux.
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