Laepitaxia ocrecimiento epitaxial es uno de los procesos en la fabricación decircuitos integrados. La epitaxia se refiere al depósito de una sobrecapa cristalina sobre un sustrato cristalino, donde hay registro entre la sobrecapa y el sustrato.
A partir de una cara de uncristal de materialsemiconductor, o sustrato, se hace crecer una capa uniforme y de poco espesor con la misma estructura cristalina que este.[1] Mediante esta técnica se puede controlar de forma muy precisa el nivel de impurezas en el semiconductor, que son los que definen su carácter (N o P). Para hacer esto se calienta el semiconductor hasta casi su punto defusión y se pone en contacto con el material de base para que, al enfriarse, recristalice con la estructura adecuada.
Hay varios métodos:
