Litografia de raigs X és una tecnologia defotolitografia de pròxima generació que empra llumlongitud d'ona deraigs X (per sota d'1nm). És un procés emprat a la indústria electrònica per a eliminar selectivament parts d'un pel·lícula prima transferint els raigs X a través de la geometria d'un patró i d'una màscara a un material químic sensible a la llum. Llavors mitjançant una sèrie de tractaments químics s'obté el gravat del patró damunt el substracte.[1][2][3][4]